JPH06170172A - 炭化水素吸着触媒 - Google Patents
炭化水素吸着触媒Info
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- JPH06170172A JPH06170172A JP4321923A JP32192392A JPH06170172A JP H06170172 A JPH06170172 A JP H06170172A JP 4321923 A JP4321923 A JP 4321923A JP 32192392 A JP32192392 A JP 32192392A JP H06170172 A JPH06170172 A JP H06170172A
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- JP
- Japan
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- zeolite
- zsm
- sio
- water
- Prior art date
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Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N2240/00—Combination or association of two or more different exhaust treating devices, or of at least one such device with an auxiliary device, not covered by indexing codes F01N2230/00 or F01N2250/00, one of the devices being
- F01N2240/18—Combination or association of two or more different exhaust treating devices, or of at least one such device with an auxiliary device, not covered by indexing codes F01N2230/00 or F01N2250/00, one of the devices being an adsorber or absorber
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F01—MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
- F01N—GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; GAS-FLOW SILENCERS OR EXHAUST APPARATUS FOR INTERNAL COMBUSTION ENGINES
- F01N2570/00—Exhaust treating apparatus eliminating, absorbing or adsorbing specific elements or compounds
- F01N2570/12—Hydrocarbons
Landscapes
- Catalysts (AREA)
- Exhaust Gas Treatment By Means Of Catalyst (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 自動車等の内燃機関から排出される排ガス中
に、液体状の水が存在する低温域から高温域においても
排ガス中の炭化水素を良好に吸着し、吸着材の下流に配
置される触媒コンバーターの活性化を促進する炭化水素
吸着触媒を得る。 【構成】 モノリス担体の前方部分と後方部分でSiO2／
Al2O3 比の異なる炭化水素の吸着に有効なＺＳＭ−５ゼ
オライトをコーティングしてなる触媒であって、前方部
分のＺＳＭ−５ゼオライトのSiO2／Al2O3 が100 〜700
であり、後方部分のＺＳＭ−５ゼオライトのSiO2／Al2O
3 が10〜40である。
に、液体状の水が存在する低温域から高温域においても
排ガス中の炭化水素を良好に吸着し、吸着材の下流に配
置される触媒コンバーターの活性化を促進する炭化水素
吸着触媒を得る。 【構成】 モノリス担体の前方部分と後方部分でSiO2／
Al2O3 比の異なる炭化水素の吸着に有効なＺＳＭ−５ゼ
オライトをコーティングしてなる触媒であって、前方部
分のＺＳＭ−５ゼオライトのSiO2／Al2O3 が100 〜700
であり、後方部分のＺＳＭ−５ゼオライトのSiO2／Al2O
3 が10〜40である。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、自動車の排ガス浄化装
置に使用される炭化水素（ＨＣ）吸着触媒に関するもの
である。
置に使用される炭化水素（ＨＣ）吸着触媒に関するもの
である。
【０００２】
【従来の技術】自動車等の内燃機関の排ガス浄化用触媒
としては、一酸化炭素（ＣＯ）および炭化水素（ＨＣ）
の酸化と、窒素酸化物（ＮＯx ）の還元を同時に行う触
媒が汎用されている。このような触媒は、例えば特公昭
５８−２０３０７号公報にもみられるように、耐火性担
体上のアルミナコート層に、パラジウム（Ｐｄ），白金
（Ｐｔ），ロジウム（Ｒｈ）等の貴金属、および場合に
より助触媒成分としてセリウム（Ｃｅ），ランタン（Ｌ
ａ）等の希土類金属またはニッケル（Ｎｉ）等のベース
メタル酸化物を添加したものがほとんどである。
としては、一酸化炭素（ＣＯ）および炭化水素（ＨＣ）
の酸化と、窒素酸化物（ＮＯx ）の還元を同時に行う触
媒が汎用されている。このような触媒は、例えば特公昭
５８−２０３０７号公報にもみられるように、耐火性担
体上のアルミナコート層に、パラジウム（Ｐｄ），白金
（Ｐｔ），ロジウム（Ｒｈ）等の貴金属、および場合に
より助触媒成分としてセリウム（Ｃｅ），ランタン（Ｌ
ａ）等の希土類金属またはニッケル（Ｎｉ）等のベース
メタル酸化物を添加したものがほとんどである。
【０００３】かかる触媒は、排ガス温度とエンジンの設
定空燃比の影響を強く受ける。自動車用触媒が浄化能を
発揮する排ガス温度としては、一般に 300℃以上必要で
あり、また空燃料比はＨＣとＣＯの酸化とＮＯx の還元
のバランスがとれる理論空燃比（Ａ／Ｆ＝14.6）付近で
触媒が最も有効に働く。従って、従来の三元触媒を用い
る排ガス浄化装置を取り付けた自動車では、三元触媒が
有効に働くような位置に設置されており、また排気系の
酸素濃度を検出して、混合気を理論空燃比付近に保つよ
うフィードバッグ制御が行われている。
定空燃比の影響を強く受ける。自動車用触媒が浄化能を
発揮する排ガス温度としては、一般に 300℃以上必要で
あり、また空燃料比はＨＣとＣＯの酸化とＮＯx の還元
のバランスがとれる理論空燃比（Ａ／Ｆ＝14.6）付近で
触媒が最も有効に働く。従って、従来の三元触媒を用い
る排ガス浄化装置を取り付けた自動車では、三元触媒が
有効に働くような位置に設置されており、また排気系の
酸素濃度を検出して、混合気を理論空燃比付近に保つよ
うフィードバッグ制御が行われている。
【０００４】従来の三元触媒をエキゾーストマニホール
ド直後に設置しても、排ガス温度が低い（ 300℃以下）
エンジン始動直後には触媒活性が低く、始動直後（コー
ルドスタート時）に大量に排出されるＨＣは浄化されず
にそのまま排出されてしまうという問題がある。従って
かかる問題を解決するため排ガス浄化装置として、触媒
コンバータの排気上流側にコールドＨＣを吸着するため
の吸着材を納めたＨＣトラッパーを配置した装置（特開
平２−７５３２７号公報、特開平２−１３５１２６号公
報）が提案されている。
ド直後に設置しても、排ガス温度が低い（ 300℃以下）
エンジン始動直後には触媒活性が低く、始動直後（コー
ルドスタート時）に大量に排出されるＨＣは浄化されず
にそのまま排出されてしまうという問題がある。従って
かかる問題を解決するため排ガス浄化装置として、触媒
コンバータの排気上流側にコールドＨＣを吸着するため
の吸着材を納めたＨＣトラッパーを配置した装置（特開
平２−７５３２７号公報、特開平２−１３５１２６号公
報）が提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
特開平２−７５３２７号公報に記載されている自動車排
ガス浄化装置では、 １）排気系に排気ガス中の有害成分の浄化触媒を配置
し、この触媒の上流側に吸着材を配置したものである
が、該吸着材として、Ｙ型ゼオライトまたはモルデナイ
トを用いているためＨＣ吸着能力が十分ではない。ま
た、特開平２−１３５１２６号公報に記載されている自
動車排ガス浄化装置に用いられている吸着材では、 ２）銅（Ｃｕ）やパラジウム（Ｐｄ）をＨＣ浄化触媒金
属として部分的に担持しているため、ゼオライトのＨＣ
吸着能力が十分ではない。 ３）ハニカム担体全体に同一種類のゼオライトをコーテ
ィングしているため、水の付着を抑えて有効にＨＣを吸
着したとしても、吸着触媒後方に担持した触媒成分が活
性化する前にゼオライトからのＨＣ脱離がおこってしま
うという問題がある。
特開平２−７５３２７号公報に記載されている自動車排
ガス浄化装置では、 １）排気系に排気ガス中の有害成分の浄化触媒を配置
し、この触媒の上流側に吸着材を配置したものである
が、該吸着材として、Ｙ型ゼオライトまたはモルデナイ
トを用いているためＨＣ吸着能力が十分ではない。ま
た、特開平２−１３５１２６号公報に記載されている自
動車排ガス浄化装置に用いられている吸着材では、 ２）銅（Ｃｕ）やパラジウム（Ｐｄ）をＨＣ浄化触媒金
属として部分的に担持しているため、ゼオライトのＨＣ
吸着能力が十分ではない。 ３）ハニカム担体全体に同一種類のゼオライトをコーテ
ィングしているため、水の付着を抑えて有効にＨＣを吸
着したとしても、吸着触媒後方に担持した触媒成分が活
性化する前にゼオライトからのＨＣ脱離がおこってしま
うという問題がある。
【０００６】本発明は、上記従来技術の問題点を解決す
るために、液体状の水が存在する低温域ではハニカム前
方部分に担持したハイシリカゼオライトがＨＣを有効に
吸着し、高温域では前方部分から脱離してきたＨＣと前
方で吸着されなかったＨＣをSiO2／Al2O3 ＝10〜40のＺ
ＳＭ−５ゼオライトが良好に吸着するような炭化水素吸
着触媒を提供することを目的とする。
るために、液体状の水が存在する低温域ではハニカム前
方部分に担持したハイシリカゼオライトがＨＣを有効に
吸着し、高温域では前方部分から脱離してきたＨＣと前
方で吸着されなかったＨＣをSiO2／Al2O3 ＝10〜40のＺ
ＳＭ−５ゼオライトが良好に吸着するような炭化水素吸
着触媒を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成した本発
明の炭化水素吸着触媒はモノリス担体の前方部分と後方
部分でSiO2／Al2O3 比の異なる炭化水素の吸着に有効な
ＺＳＭ−５ゼオライトをコーティングしてなる触媒であ
って、前方部分のＺＳＭ−５ゼオライトのSiO2／Al2O3
が100 〜700 であり、後方部分のＺＳＭ−５ゼオライト
のSiO2／Al2O3が10〜40であることを特徴とする。
明の炭化水素吸着触媒はモノリス担体の前方部分と後方
部分でSiO2／Al2O3 比の異なる炭化水素の吸着に有効な
ＺＳＭ−５ゼオライトをコーティングしてなる触媒であ
って、前方部分のＺＳＭ−５ゼオライトのSiO2／Al2O3
が100 〜700 であり、後方部分のＺＳＭ−５ゼオライト
のSiO2／Al2O3が10〜40であることを特徴とする。
【０００８】本発明の炭化水素吸着触媒に、炭化水素を
吸着する吸着材として用いるＺＳＭ−５ゼオライトは、
銅（Ｃｕ）およびパラジウム（Ｐｄ）でイオン交換した
ものかまたかまたはＨ型のものが好ましく用いられ、更
に好ましくは担体の前方部分には低温で吸着性能をもつ
SiO2／Al2O3 が100 〜700 のＨ型かまたはＣｕまたはＰ
ｄでイオン交換したＺＳＭ−５が用いられ後方部分には
SiO2／Al2O3 が10〜40のＰｄおよびＣｕの少なくとも１
種以上の金属でイオン交換したＺＳＭ−５が用いられ
る。
吸着する吸着材として用いるＺＳＭ−５ゼオライトは、
銅（Ｃｕ）およびパラジウム（Ｐｄ）でイオン交換した
ものかまたかまたはＨ型のものが好ましく用いられ、更
に好ましくは担体の前方部分には低温で吸着性能をもつ
SiO2／Al2O3 が100 〜700 のＨ型かまたはＣｕまたはＰ
ｄでイオン交換したＺＳＭ−５が用いられ後方部分には
SiO2／Al2O3 が10〜40のＰｄおよびＣｕの少なくとも１
種以上の金属でイオン交換したＺＳＭ−５が用いられ
る。
【０００９】
【作用】本発明の自動車排ガス浄化装置に用いるＨＣ吸
着触媒においては、担体前方部分にコートされたSiO2／
Al2O3 ＝100 〜700 の吸着材からＨＣが脱離し始めて
も、吸着材後方部分にコートされたSiO2／Al2O3 ＝10〜
40の吸着材が、下流側の触媒コンバーター中の触媒が十
分に活性化するまで、ＨＣを良好に吸着する。ここで、
前方部分にコートする吸着材と後方部分にコートする吸
着材の比は１：１〜１：３の間が好ましい。この理由
は、次の２点である。（１）後方部分にコートされたSi
O2／Al2O3 ＝10〜40の比率が全コート量の２分の１より
少ないと、前方部分にコートされた吸着材（SiO2／Al2O
3 ＝100 〜700 ）から脱離したＨＣや、前方部分で吸着
できなかったＨＣを、後方部分の吸着材で吸着しきれな
い。（２）前方部分にコートされた、SiO2／Al2O3 ＝10
0 〜700 の吸着材の比率が全コート量の４分の１より少
ないと、水が液体状で存在する低温域での吸着力が低下
する。
着触媒においては、担体前方部分にコートされたSiO2／
Al2O3 ＝100 〜700 の吸着材からＨＣが脱離し始めて
も、吸着材後方部分にコートされたSiO2／Al2O3 ＝10〜
40の吸着材が、下流側の触媒コンバーター中の触媒が十
分に活性化するまで、ＨＣを良好に吸着する。ここで、
前方部分にコートする吸着材と後方部分にコートする吸
着材の比は１：１〜１：３の間が好ましい。この理由
は、次の２点である。（１）後方部分にコートされたSi
O2／Al2O3 ＝10〜40の比率が全コート量の２分の１より
少ないと、前方部分にコートされた吸着材（SiO2／Al2O
3 ＝100 〜700 ）から脱離したＨＣや、前方部分で吸着
できなかったＨＣを、後方部分の吸着材で吸着しきれな
い。（２）前方部分にコートされた、SiO2／Al2O3 ＝10
0 〜700 の吸着材の比率が全コート量の４分の１より少
ないと、水が液体状で存在する低温域での吸着力が低下
する。
【００１０】
【実施例】以下本発明を実施例、比較例および試験例に
よりさらに詳細に説明する。尚例において、部は特記し
ない限り重量部を表す。
よりさらに詳細に説明する。尚例において、部は特記し
ない限り重量部を表す。
【００１１】実施例１ Ｈ型のＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝700 ）90
部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポッ
トに仕込み、振動ミル装置で２時間もしくは、ユニバー
サルボールミル装置で６時間混合粉砕して、ウォッシュ
コートスラリーを製造した。コーディライト製モノリス
担体の２分の１前方部分のみを含浸したのちエアーブロ
ーして余計なスラリーを除去し、その後、乾燥を行い、
400 ℃で約１時間仮焼成した。これにより、Ｈ型のＺＳ
Ｍ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3＝700 ）が約100 ｇ／
Ｌのコート量で担体にコートされた。上記のウォッシュ
コート、乾燥及び焼成を更に繰り返して合計200 ｇ／Ｌ
をコートし、空気雰囲気中400 ℃で１時間焼成を行っ
た。
部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポッ
トに仕込み、振動ミル装置で２時間もしくは、ユニバー
サルボールミル装置で６時間混合粉砕して、ウォッシュ
コートスラリーを製造した。コーディライト製モノリス
担体の２分の１前方部分のみを含浸したのちエアーブロ
ーして余計なスラリーを除去し、その後、乾燥を行い、
400 ℃で約１時間仮焼成した。これにより、Ｈ型のＺＳ
Ｍ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3＝700 ）が約100 ｇ／
Ｌのコート量で担体にコートされた。上記のウォッシュ
コート、乾燥及び焼成を更に繰り返して合計200 ｇ／Ｌ
をコートし、空気雰囲気中400 ℃で１時間焼成を行っ
た。
【００１２】次に、Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼ
オライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリカゾル（固形
分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込み、上記と同
様の方法でウォッシュコートスラリーを製造し、同様の
コート方法でモノリス担体の２分の１後方部分のみに20
0 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い（吸着触媒−１）
を得た。
オライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリカゾル（固形
分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込み、上記と同
様の方法でウォッシュコートスラリーを製造し、同様の
コート方法でモノリス担体の２分の１後方部分のみに20
0 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い（吸着触媒−１）
を得た。
【００１３】実施例２ Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の２分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−２）を得た。
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の２分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−２）を得た。
【００１４】実施例３ Ｃｕでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の２分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−３）を得た。
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の２分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−３）を得た。
【００１５】実施例４ Ｈ型のＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝700 ）90
部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同様の方法でウォッシュコート
スラリーを製造し、同様のコート方法でモノリス担体の
２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を
行った。次に、Ｃｕでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオラ
イト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリカゾル（固形分20
％）50部、水60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同
様の方法でウォッシュコートスラリーを製造し、同様の
コート方法でモノリス担体の２分の１後方部分のみに20
0 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い（吸着触媒−４）
を得た。
部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同様の方法でウォッシュコート
スラリーを製造し、同様のコート方法でモノリス担体の
２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を
行った。次に、Ｃｕでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオラ
イト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリカゾル（固形分20
％）50部、水60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同
様の方法でウォッシュコートスラリーを製造し、同様の
コート方法でモノリス担体の２分の１後方部分のみに20
0 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い（吸着触媒−４）
を得た。
【００１６】実施例５ Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｃｕでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の２分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−５）を得た。
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｃｕでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の２分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−５）を得た。
【００１７】実施例６ Ｃｕでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｃｕでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の２分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−６）を得た。
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｃｕでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の２分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−６）を得た。
【００１８】実施例７ Ｈ型のＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝700 ）90
部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同様の方法でウォッシュコート
スラリーを製造し、同様のコート方法でモノリス担体の
２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を
行った。次に、Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオラ
イト（SiO2／Al2O3 ＝30）45部、Ｃｕでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）45部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の２分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−７）を得た。
部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同様の方法でウォッシュコート
スラリーを製造し、同様のコート方法でモノリス担体の
２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を
行った。次に、Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオラ
イト（SiO2／Al2O3 ＝30）45部、Ｃｕでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）45部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の２分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−７）を得た。
【００１９】実施例８ Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）45部、Ｃｕ
でイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3
＝30）45部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60部を
磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォッシ
ュコートスラリーを製造し、同様のコート方法でモノリ
ス担体の２分の１後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、
乾燥、焼成を行い（吸着触媒−８）を得た。
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）45部、Ｃｕ
でイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3
＝30）45部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60部を
磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォッシ
ュコートスラリーを製造し、同様のコート方法でモノリ
ス担体の２分の１後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、
乾燥、焼成を行い（吸着触媒−８）を得た。
【００２０】実施例９ Ｃｕでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）45部、Ｃｕ
でイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3
＝30）45部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60部を
磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォッシ
ュコートスラリーを製造し、同様のコート方法でモノリ
ス担体の２分の１後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、
乾燥、焼成を行い（吸着触媒−９）を得た。
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）45部、Ｃｕ
でイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3
＝30）45部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60部を
磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォッシ
ュコートスラリーを製造し、同様のコート方法でモノリ
ス担体の２分の１後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、
乾燥、焼成を行い（吸着触媒−９）を得た。
【００２１】実施例１０ Ｈ型のＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝700 ）90
部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同様の方法でウォッシュコート
スラリーを製造し、同様のコート方法でモノリス担体の
２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を
行った。次に、Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオラ
イト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリカゾル（固形分20
％）50部、水60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同
様の方法でウォッシュコートスラリーを製造し、同様の
コート方法でモノリス担体の４分の３後方部分のみに20
0 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い（吸着触媒−１
０）を得た。
部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同様の方法でウォッシュコート
スラリーを製造し、同様のコート方法でモノリス担体の
２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を
行った。次に、Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオラ
イト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリカゾル（固形分20
％）50部、水60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同
様の方法でウォッシュコートスラリーを製造し、同様の
コート方法でモノリス担体の４分の３後方部分のみに20
0 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い（吸着触媒−１
０）を得た。
【００２２】実施例１１ Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の４分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の４分の３
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−１１）を得た。
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の４分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の４分の３
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−１１）を得た。
【００２３】実施例１２ Ｃｕでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の４分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の４分の３
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−１２）を得た。
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の４分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の４分の３
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−１２）を得た。
【００２４】実施例１３ Ｈ型のＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝700 ）90
部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同様の方法でウォッシュコート
スラリーを製造し、同様のコート方法でモノリス担体の
４分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を
行った。次に、Ｃｕでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオラ
イト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリカゾル（固形分20
％）50部、水60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同
様の方法でウォッシュコートスラリーを製造し、同様の
コート方法でモノリス担体の４分の３後方部分のみに20
0 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い（吸着触媒−１
３）を得た。
部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同様の方法でウォッシュコート
スラリーを製造し、同様のコート方法でモノリス担体の
４分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を
行った。次に、Ｃｕでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオラ
イト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリカゾル（固形分20
％）50部、水60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同
様の方法でウォッシュコートスラリーを製造し、同様の
コート方法でモノリス担体の４分の３後方部分のみに20
0 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い（吸着触媒−１
３）を得た。
【００２５】実施例１４ Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の４分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｃｕでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の４分の３
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−１４）を得た。
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の４分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｃｕでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の４分の３
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−１４）を得た。
【００２６】実施例１５ Ｃｕでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の４分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｃｕでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の４分の３
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−１５）を得た。
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の４分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｃｕでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の４分の３
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−１５）を得た。
【００２７】実施例１６ Ｈ型のＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝700 ）90
部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同様の方法でウォッシュコート
スラリーを製造し、同様のコート方法でモノリス担体の
４分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を
行った。次に、Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオラ
イト（SiO2／Al2O3 ＝30）45部、Ｃｕでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）45部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の４分の３
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−１６）を得た。
部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポッ
トに仕込み、実施例１と同様の方法でウォッシュコート
スラリーを製造し、同様のコート方法でモノリス担体の
４分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を
行った。次に、Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオラ
イト（SiO2／Al2O3 ＝30）45部、Ｃｕでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）45部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の４分の３
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−１６）を得た。
【００２８】実施例１７ Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の４分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）45部、Ｃｕ
でイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3
＝30）45部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60部を
磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォッシ
ュコートスラリーを製造し、同様のコート方法でモノリ
ス担体の４分の３後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、
乾燥、焼成を行い（吸着触媒−１７）を得た。
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の４分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）45部、Ｃｕ
でイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3
＝30）45部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60部を
磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォッシ
ュコートスラリーを製造し、同様のコート方法でモノリ
ス担体の４分の３後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、
乾燥、焼成を行い（吸着触媒−１７）を得た。
【００２９】実施例１８ Ｃｕでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の４分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）45部、Ｃｕ
でイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3
＝30）45部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60部を
磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォッシ
ュコートスラリーを製造し、同様のコート方法でモノリ
ス担体の４分の３後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、
乾燥、焼成を行い（吸着触媒−１８）を得た。
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の４分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）45部、Ｃｕ
でイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3
＝30）45部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60部を
磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォッシ
ュコートスラリーを製造し、同様のコート方法でモノリ
ス担体の４分の３後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、
乾燥、焼成を行い（吸着触媒−１８）を得た。
【００３０】実施例１９ Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝100 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の２分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−１９）を得た。
2O3 ＝100 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の２分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−１９）を得た。
【００３１】実施例２０ Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝300 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の２分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−２０）を得た。
2O3 ＝300 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の２分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−２０）を得た。
【００３２】実施例２１ Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝10）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の２分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−２１）を得た。
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝10）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の２分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−２１）を得た。
【００３３】実施例２２ Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝100 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝10）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の２分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−２２）を得た。
2O3 ＝100 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝10）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の２分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−２２）を得た。
【００３４】実施例２３ Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝300 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝10）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の２分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−２３）を得た。
2O3 ＝300 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の２分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝10）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の２分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−２３）を得た。
【００３５】比較例１ Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体全体に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を
行い（吸着触媒−２４）を得た。
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体全体に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を
行い（吸着触媒−２４）を得た。
【００３６】比較例２ Ｃｕでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体全体に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を
行い（吸着触媒−２５）を得た。
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体全体に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を
行い（吸着触媒−２５）を得た。
【００３７】比較例３ Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝30）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60
部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォ
ッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法でモ
ノリス担体全体に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行
い（吸着触媒−２６）を得た。
2O3 ＝30）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60
部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォ
ッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法でモ
ノリス担体全体に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行
い（吸着触媒−２６）を得た。
【００３８】比較例４ Ｃｕでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝30）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60
部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォ
ッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法でモ
ノリス担体全体に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行
い（吸着触媒−２７）を得た。
2O3 ＝30）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水60
部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウォ
ッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法でモ
ノリス担体全体に200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行
い（吸着触媒−２７）を得た。
【００３９】比較例５ Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の３分の２前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の３分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−２８）を得た。
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の３分の２前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の３分の１
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−２８）を得た。
【００４０】比較例６ Ｐｄでイオン交換したＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の６分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の６分の５
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−２９）を得た。以上の実施例の担体として
は、モノリス担体、メタル担体等任意のものを使用する
ことがてきる。
2O3 ＝700 ）90部、シリカゾル（固形分20％）50部、水
60部を磁器ポットに仕込み、実施例１と同様の方法でウ
ォッシュコートスラリーを製造し、同様のコート方法で
モノリス担体の６分の１前方部分に200 ｇ／Ｌコート
し、乾燥、焼成を行った。次に、Ｐｄでイオン交換した
ＺＳＭ−５ゼオライト（SiO2／Al2O3 ＝30）90部、シリ
カゾル（固形分20％）50部、水60部を磁器ポットに仕込
み、実施例１と同様の方法でウォッシュコートスラリー
を製造し、同様のコート方法でモノリス担体の６分の５
後方部分のみに200 ｇ／Ｌコートし、乾燥、焼成を行い
（吸着触媒−２９）を得た。以上の実施例の担体として
は、モノリス担体、メタル担体等任意のものを使用する
ことがてきる。
【００４１】試験例 実施例１〜２３および、比較例１〜６の各吸着触媒に付
き下記条件で評価を行い、ＨＣ吸着浄化率を測定し、得
た結果を表１に示す。 触媒容量 １２０cm3(SV： 40000／ｈ） 評価エンジン ６気筒2000ｃｃエンジン（ＲＢ20Ｅ） 評価モードは、コールド状態（水温25℃）からエンジン
始動し、アイドル状態（ 700rpm)に20秒間保持（図１）
し、その後2000rpm 、−200mmHg に加速、保持する。吸
着率は、ガス流入後 100秒間の積算値（１−吸着触媒出
口／吸着触媒入口）より求めた。図１にエンジン入口温
度の経時変化とこれに伴う炭化水素の基準温度変化を示
す。
き下記条件で評価を行い、ＨＣ吸着浄化率を測定し、得
た結果を表１に示す。 触媒容量 １２０cm3(SV： 40000／ｈ） 評価エンジン ６気筒2000ｃｃエンジン（ＲＢ20Ｅ） 評価モードは、コールド状態（水温25℃）からエンジン
始動し、アイドル状態（ 700rpm)に20秒間保持（図１）
し、その後2000rpm 、−200mmHg に加速、保持する。吸
着率は、ガス流入後 100秒間の積算値（１−吸着触媒出
口／吸着触媒入口）より求めた。図１にエンジン入口温
度の経時変化とこれに伴う炭化水素の基準温度変化を示
す。
【００４２】
【表１】
【００４３】
【発明の効果】本発明の排ガス浄化用触媒において、担
体の前方部分が低温で吸着性能をもつSiO2／Al2O3 ＝10
0 〜700 のＺＳＭ−５がコートされ、後部部分がSiO2／
Al2O3＝10〜40のＺＳＭ−５ゼオライトでコートされて
いるため、液体状の水が存在する低温域ではハニカム前
方部分に担持したハイシリカゼオライトがＨＣを有効に
吸着し、高温域では前方部分から脱離してきたＨＣと前
方で吸着されなかったＨＣを良好に吸着する。しかも、
ＨＣが吸着される際の吸着熱により、吸着材の下流に配
置された触媒コンバーターの活性化が促進される。
体の前方部分が低温で吸着性能をもつSiO2／Al2O3 ＝10
0 〜700 のＺＳＭ−５がコートされ、後部部分がSiO2／
Al2O3＝10〜40のＺＳＭ−５ゼオライトでコートされて
いるため、液体状の水が存在する低温域ではハニカム前
方部分に担持したハイシリカゼオライトがＨＣを有効に
吸着し、高温域では前方部分から脱離してきたＨＣと前
方で吸着されなかったＨＣを良好に吸着する。しかも、
ＨＣが吸着される際の吸着熱により、吸着材の下流に配
置された触媒コンバーターの活性化が促進される。
【図１】試験例におけるエンジン入口温度の経時変化と
これに伴う炭化水素の基準濃度変化を示すグラフであ
る。
これに伴う炭化水素の基準濃度変化を示すグラフであ
る。
フロントページの続き (72)発明者 増田 剛司 神奈川県横浜市神奈川区宝町２番地 日産 自動車株式会社内
Claims (2)
- 【請求項１】 モノリス担体の前方部分と後方部分でSi
O2／Al2O3 比の異なる炭化水素の吸着に有効なＺＳＭ−
５ゼオライトをコーティングしてなる触媒であって、前
方部分のＺＳＭ−５ゼオライトのSiO2／Al2O3 が100 〜
700 であり、後方部分のＺＳＭ−５ゼオライトのSiO2／
Al2O3 が10〜40であることを特徴とする炭化水素吸着触
媒。 - 【請求項２】 炭化水素を吸着する吸着材として用いる
ＺＳＭ−５ゼオライトが、銅およびパラジウムでイオン
交換したものか、またはＨ型のＺＳＭ−５ゼオライトで
あることを特徴とする請求項１記載の炭化水素吸着触
媒。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4321923A JPH06170172A (ja) | 1992-12-01 | 1992-12-01 | 炭化水素吸着触媒 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4321923A JPH06170172A (ja) | 1992-12-01 | 1992-12-01 | 炭化水素吸着触媒 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06170172A true JPH06170172A (ja) | 1994-06-21 |
Family
ID=18137925
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4321923A Pending JPH06170172A (ja) | 1992-12-01 | 1992-12-01 | 炭化水素吸着触媒 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06170172A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100489135B1 (ko) * | 2002-09-02 | 2005-05-17 | 현대자동차주식회사 | 촉매컨버터의 매트 |
| KR100496069B1 (ko) * | 2002-11-13 | 2005-06-16 | 희성엥겔하드주식회사 | 탄화수소 흡착용 촉매 조성물 |
| JP2020517456A (ja) * | 2017-04-24 | 2020-06-18 | ジョンソン、マッセイ、パブリック、リミテッド、カンパニーＪｏｈｎｓｏｎ Ｍａｔｔｈｅｙ Ｐｕｂｌｉｃ Ｌｉｍｉｔｅｄ Ｃｏｍｐａｎｙ | 受動的ＮＯｘ吸着体 |
-
1992
- 1992-12-01 JP JP4321923A patent/JPH06170172A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100489135B1 (ko) * | 2002-09-02 | 2005-05-17 | 현대자동차주식회사 | 촉매컨버터의 매트 |
| KR100496069B1 (ko) * | 2002-11-13 | 2005-06-16 | 희성엥겔하드주식회사 | 탄화수소 흡착용 촉매 조성물 |
| JP2020517456A (ja) * | 2017-04-24 | 2020-06-18 | ジョンソン、マッセイ、パブリック、リミテッド、カンパニーＪｏｈｎｓｏｎ Ｍａｔｔｈｅｙ Ｐｕｂｌｉｃ Ｌｉｍｉｔｅｄ Ｃｏｍｐａｎｙ | 受動的ＮＯｘ吸着体 |
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