JPH06163377A - 電子線描画方法 - Google Patents
電子線描画方法Info
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- JPH06163377A JPH06163377A JP4309121A JP30912192A JPH06163377A JP H06163377 A JPH06163377 A JP H06163377A JP 4309121 A JP4309121 A JP 4309121A JP 30912192 A JP30912192 A JP 30912192A JP H06163377 A JPH06163377 A JP H06163377A
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
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- H01J2237/31776—Shaped beam
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 一括露光成形絞り内の基本開口群を一括露光
する電子線描画方法における基本開口群の位置ずれを迅
速、経済的に補正する。 【構成】 矩形成形絞りと一括露光成形絞りの基本開口
群に含まれる矩形開口により矩形ビームを形成して試料
台上の基準マークに照射し、その反射電子を反射電子検
出器により検出して矩形ビームの形状誤差と位置誤差と
を算出し、形状誤差を成形偏向器にフィードバックして
補正し、位置誤差を位置決め偏向器にフィードバックし
て補正する。また、一括露光成形絞りを機械的に走査し
て基本開口群の配列を検出し、一括露光成形絞りの回転
誤差を補正する。
する電子線描画方法における基本開口群の位置ずれを迅
速、経済的に補正する。 【構成】 矩形成形絞りと一括露光成形絞りの基本開口
群に含まれる矩形開口により矩形ビームを形成して試料
台上の基準マークに照射し、その反射電子を反射電子検
出器により検出して矩形ビームの形状誤差と位置誤差と
を算出し、形状誤差を成形偏向器にフィードバックして
補正し、位置誤差を位置決め偏向器にフィードバックし
て補正する。また、一括露光成形絞りを機械的に走査し
て基本開口群の配列を検出し、一括露光成形絞りの回転
誤差を補正する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は電子線描画装置に係り、
とくに矩形電子ビームを一括露光成形絞りの複数の基本
開口群の中の一つに照射して複雑な繰返しパターンを一
括転写する電子線描画装置の基本開口群の位置決め精度
を向上する電子線描画方法に関する。
とくに矩形電子ビームを一括露光成形絞りの複数の基本
開口群の中の一つに照射して複雑な繰返しパターンを一
括転写する電子線描画装置の基本開口群の位置決め精度
を向上する電子線描画方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】最近の電子線描画装置においては、矩形
成形絞りにより成形した電子ビームを一括露光成形絞り
の複数の基本開口群の中の一つに照射してメモリセルの
ような複雑な繰返しパターンを一括転写するようにし
て、描画図形時における成形絞りの交換頻度を低め、成
形絞りの寿命を伸ばし、描画速度を高速化することが行
われている。
成形絞りにより成形した電子ビームを一括露光成形絞り
の複数の基本開口群の中の一つに照射してメモリセルの
ような複雑な繰返しパターンを一括転写するようにし
て、描画図形時における成形絞りの交換頻度を低め、成
形絞りの寿命を伸ばし、描画速度を高速化することが行
われている。
【０００３】また、上記の転写法において、基本開口群
の中に矩形開口を設け、上記矩形の電子ビームを基本開
口群の矩形開口にオ−バ−ラップして照射し、矩形の電
子ビームの照射位置を変えて描画する矩形の大きさや縦
横比等を可変にすることも行なわれている。上記基本開
口群の一括転写方式においては、矩形成形絞りを通過し
た電子ビームに対する偏向範囲が狭いため、機械的な移
動機構や位置決め機構により、一括露光成形絞り移動し
て所要の基本開口群を選択するようにしていた。
の中に矩形開口を設け、上記矩形の電子ビームを基本開
口群の矩形開口にオ−バ−ラップして照射し、矩形の電
子ビームの照射位置を変えて描画する矩形の大きさや縦
横比等を可変にすることも行なわれている。上記基本開
口群の一括転写方式においては、矩形成形絞りを通過し
た電子ビームに対する偏向範囲が狭いため、機械的な移
動機構や位置決め機構により、一括露光成形絞り移動し
て所要の基本開口群を選択するようにしていた。
【０００４】図２は上記電子線描画装置の構成図であ
る。電子源１が発生する電子ビームは矩形成形絞り２に
より矩形に成形された後、成形レンズ４により一括露光
成形絞り６上に結像され、その結像は成形偏向制御回路
１７により成形偏向器３を駆動して一括露光成形絞り６
の基本開口群を通過するように移動される。
る。電子源１が発生する電子ビームは矩形成形絞り２に
より矩形に成形された後、成形レンズ４により一括露光
成形絞り６上に結像され、その結像は成形偏向制御回路
１７により成形偏向器３を駆動して一括露光成形絞り６
の基本開口群を通過するように移動される。
【０００５】この結果、一括露光成形絞り６を通過後の
ビーム形状はその基本開口群に応じて変化する。例え
ば、一括露光成形絞り６が単一な矩形の場合には、二つ
の矩形の重なり方により任意の矩形形状のビームが得ら
れる。また、一括露光成形絞り６の繰返し図形の基本開
口群を選択した場合には一括転写ビームが得られる。一
括露光成形絞り６を通過した成形ビーム１１は縮小レン
ズ９と対物レンズ１２により試料面上に縮小投影され、
位置決め偏向器１０と試料台１５により試料面の所望位
置に微細パターンを露光する。
ビーム形状はその基本開口群に応じて変化する。例え
ば、一括露光成形絞り６が単一な矩形の場合には、二つ
の矩形の重なり方により任意の矩形形状のビームが得ら
れる。また、一括露光成形絞り６の繰返し図形の基本開
口群を選択した場合には一括転写ビームが得られる。一
括露光成形絞り６を通過した成形ビーム１１は縮小レン
ズ９と対物レンズ１２により試料面上に縮小投影され、
位置決め偏向器１０と試料台１５により試料面の所望位
置に微細パターンを露光する。
【０００６】また、試料または試料台１５上には基準マ
ーク１４が配置され、これを位置決め偏向器１０により
走査してその反射電子を反射電子検出器１３により検出
し、試料に対する成形ビーム１１の位置を位置決めす
る。すなわち、マーク検出回路２２の出力波形から成形
ビーム１１の位置ずれ量を算出して位置決め偏向制御回
路２１にフィードバックし、成形ビーム１１を正しい照
射位置に振り戻すようにする。これらの一連の補正動作
は制御計算機２４により高速に実行される。
ーク１４が配置され、これを位置決め偏向器１０により
走査してその反射電子を反射電子検出器１３により検出
し、試料に対する成形ビーム１１の位置を位置決めす
る。すなわち、マーク検出回路２２の出力波形から成形
ビーム１１の位置ずれ量を算出して位置決め偏向制御回
路２１にフィードバックし、成形ビーム１１を正しい照
射位置に振り戻すようにする。これらの一連の補正動作
は制御計算機２４により高速に実行される。
【０００７】図３は一括露光用成形絞り６の平面図の一
例である。図３（ａ）に示すように、一括露光用成形絞
り６には電子線描画の種類に応じる複数の基本開口群６
１〜６ｎが設けられる。また、同図（ｂ）に示すよう
に、各基本開口群は中心部の少なくとも１個の矩形開口
２６と、その周辺部の複数の一括露光開口２８により構
成され、これらは成形偏向器３により選択される。
例である。図３（ａ）に示すように、一括露光用成形絞
り６には電子線描画の種類に応じる複数の基本開口群６
１〜６ｎが設けられる。また、同図（ｂ）に示すよう
に、各基本開口群は中心部の少なくとも１個の矩形開口
２６と、その周辺部の複数の一括露光開口２８により構
成され、これらは成形偏向器３により選択される。
【０００８】図２に示すように、成形絞り移動機構７に
より一括露光成形絞り６を機械的に移動して所要の基本
開口群２７を選択する。試料面上の所要位置決め精度を
ｘ、一括露光成形絞りから試料面までのビーム縮小率を
Ｍとすると、成形絞り移動機構７の位置決め精度Ｘはｘ
／Ｍとなるので、ｘ＝０．１ｕｍ、Ｍ＝１／２５とする
と、成形絞り移動機構７の位置決め精度Ｘは２．５ｕｍ
となる。従来装置では、成形絞り移動機構７をパルスモ
ータにより駆動して一括露光成形絞り６を数μｍ程度の
精度で移動して、試料面における基本開口群の位置決め
誤差ｘを０．１μｍ程度に納めるようにしていた。
より一括露光成形絞り６を機械的に移動して所要の基本
開口群２７を選択する。試料面上の所要位置決め精度を
ｘ、一括露光成形絞りから試料面までのビーム縮小率を
Ｍとすると、成形絞り移動機構７の位置決め精度Ｘはｘ
／Ｍとなるので、ｘ＝０．１ｕｍ、Ｍ＝１／２５とする
と、成形絞り移動機構７の位置決め精度Ｘは２．５ｕｍ
となる。従来装置では、成形絞り移動機構７をパルスモ
ータにより駆動して一括露光成形絞り６を数μｍ程度の
精度で移動して、試料面における基本開口群の位置決め
誤差ｘを０．１μｍ程度に納めるようにしていた。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記従来方法
では基本開口群の位置決め誤差Ｘを上記の０．１μｍ程
度以下にすることは困難であった。例えば、試料面上の
所要位置決め精度ｘが０．０１μｍになると、Ｘ＝０．
２５μｍが要求されるので、これに合わせて上記パルス
モータの制御精度を向上する必要あり、機械的な機構が
過度に複雑化して実際的ではなかった。また、基本開口
群の位置を精緻に検出する必要もあった。
では基本開口群の位置決め誤差Ｘを上記の０．１μｍ程
度以下にすることは困難であった。例えば、試料面上の
所要位置決め精度ｘが０．０１μｍになると、Ｘ＝０．
２５μｍが要求されるので、これに合わせて上記パルス
モータの制御精度を向上する必要あり、機械的な機構が
過度に複雑化して実際的ではなかった。また、基本開口
群の位置を精緻に検出する必要もあった。
【００１０】また、交換した成形絞りに設定誤差がある
場合や、開口群の配列が不規則な場合等には開口の位置
や配列を検知する必要があるので、機械的な機構が複雑
化し、位置決めに要する時間が増大するなどの問題もあ
った。本発明の目的は、一括露光成形絞りの開口位置を
検知して成形絞りの移動または交換時の位置決め誤差を
自動的に、また、電子的に補正してその位置決め精度を
向上することのできる電子線描画方法を提供することに
ある。
場合や、開口群の配列が不規則な場合等には開口の位置
や配列を検知する必要があるので、機械的な機構が複雑
化し、位置決めに要する時間が増大するなどの問題もあ
った。本発明の目的は、一括露光成形絞りの開口位置を
検知して成形絞りの移動または交換時の位置決め誤差を
自動的に、また、電子的に補正してその位置決め精度を
向上することのできる電子線描画方法を提供することに
ある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、矩形の電子ビームを一括露光成形絞りの基本開口矩
群内の矩形開口に部分的にオ−バ−ラップするように照
射して所定形状の矩形ビームを得、この矩形ビ−ムを上
記基準マークに走査して、マ−ク検出用反射電子検出器
の反射信号と矩形ビ−ムの形状および位置の基準値とに
より矩形ビ−ムの形状誤差と位置ずれ量を算出し、矩形
ビームの形状誤差を成形偏向器にフィードバックして形
状補正し、位置ずれ量を位置決め偏向器にフィードバッ
クして位置補正するようにする。
に、矩形の電子ビームを一括露光成形絞りの基本開口矩
群内の矩形開口に部分的にオ−バ−ラップするように照
射して所定形状の矩形ビームを得、この矩形ビ−ムを上
記基準マークに走査して、マ−ク検出用反射電子検出器
の反射信号と矩形ビ−ムの形状および位置の基準値とに
より矩形ビ−ムの形状誤差と位置ずれ量を算出し、矩形
ビームの形状誤差を成形偏向器にフィードバックして形
状補正し、位置ずれ量を位置決め偏向器にフィードバッ
クして位置補正するようにする。
【００１２】さらに、マ−ク検出用反射電子検出器の反
射信号波形を表示するようにする。さらに、上記一括露
光成形絞り内の複数の基本開口群を走査して得られるマ
−ク検出用反射電子検出器の複数の反射信号から一括露
光成形絞りの回転位置誤差を検出してこれを補正するよ
うにする。
射信号波形を表示するようにする。さらに、上記一括露
光成形絞り内の複数の基本開口群を走査して得られるマ
−ク検出用反射電子検出器の複数の反射信号から一括露
光成形絞りの回転位置誤差を検出してこれを補正するよ
うにする。
【００１３】
【作用】マ−ク検出用反射電子検出器の反射信号は試料
台上の基準マークの位置信号を与える。また、上記反射
信号の二つのエッジの一方は矩形成形絞りの一方のエッ
ジに対応するので、矩形成形絞りの位置を補正すること
により矩形ビームの形状（幅）が補正される。
台上の基準マークの位置信号を与える。また、上記反射
信号の二つのエッジの一方は矩形成形絞りの一方のエッ
ジに対応するので、矩形成形絞りの位置を補正すること
により矩形ビームの形状（幅）が補正される。
【００１４】また、上記反射信号の二つのエッジ間の中
心位置が矩形ビ−ムの位置を与えるので、位置決め偏向
器によりその位置誤差を補正する。また、上記矩形ビ−
ムの形状誤差は上記反射信号のエッジ間隔を予め記憶し
ている形状の基準値と比較することにより得られる。同
様に、矩形ビ−ムの位置ずれ量も反射信号の二つのエッ
ジ間の中心位置を予め記憶している位置基準値と比較す
ることにより得られる。また、マ−ク検出用反射電子検
出器の反射信号波形を表示することにより上記矩形ビ−
ムの基準マ−ク照射状態が監視される。さらに、上記一
括露光成形絞り内の複数の基本開口群を走査してその配
列の傾きを知ることにより、一括露光成形絞りの平面内
回転誤差が検出される。
心位置が矩形ビ−ムの位置を与えるので、位置決め偏向
器によりその位置誤差を補正する。また、上記矩形ビ−
ムの形状誤差は上記反射信号のエッジ間隔を予め記憶し
ている形状の基準値と比較することにより得られる。同
様に、矩形ビ−ムの位置ずれ量も反射信号の二つのエッ
ジ間の中心位置を予め記憶している位置基準値と比較す
ることにより得られる。また、マ−ク検出用反射電子検
出器の反射信号波形を表示することにより上記矩形ビ−
ムの基準マ−ク照射状態が監視される。さらに、上記一
括露光成形絞り内の複数の基本開口群を走査してその配
列の傾きを知ることにより、一括露光成形絞りの平面内
回転誤差が検出される。
【００１５】
【実施例】図１は本発明による基本開口群の位置決め手
順を示すフロ−チャ−トである。一括露光成形絞り６を
交換した場合には、成形絞り移動機構７により一括露光
成形絞り６を機械的に走査し、一括露光成形絞り６上の
成形絞り反射電子検出器５、またはマーク検出用反射電
子検出器１３により各基本開口群６１〜６ｎの位置を検
出する。
順を示すフロ−チャ−トである。一括露光成形絞り６を
交換した場合には、成形絞り移動機構７により一括露光
成形絞り６を機械的に走査し、一括露光成形絞り６上の
成形絞り反射電子検出器５、またはマーク検出用反射電
子検出器１３により各基本開口群６１〜６ｎの位置を検
出する。
【００１６】図４は上記基本開口群６１〜６ｎの走査像
の一例である。３０は上記機械的走査範囲を示し、通常
は全基本開口群６１〜６ｎを含むが、目的によっては特
定の開口群、または一括露光成形絞り６面に設けた合わ
せマークとその周辺部のみを走査したりする。なお、成
形絞り移動機構７にロータリエンコーダを取付け、その
出力に同期して信号を検出すれば高速に画像信号を取り
込むことができる。また、上記反射電子検出器出力波形
のピーク位置から各基本開口群の位置を求めて記憶する
ようにし、開口群選択時の参照デ−タとする。
の一例である。３０は上記機械的走査範囲を示し、通常
は全基本開口群６１〜６ｎを含むが、目的によっては特
定の開口群、または一括露光成形絞り６面に設けた合わ
せマークとその周辺部のみを走査したりする。なお、成
形絞り移動機構７にロータリエンコーダを取付け、その
出力に同期して信号を検出すれば高速に画像信号を取り
込むことができる。また、上記反射電子検出器出力波形
のピーク位置から各基本開口群の位置を求めて記憶する
ようにし、開口群選択時の参照デ−タとする。
【００１７】図１において、図４の基本開口群の位置か
ら一括露光成形絞り６の回転角θを計算し、この情報を
回転レンズ制御回路２０を介して回転補正レンズ８に入
力して成形ビーム１１の回転誤差を補正する。
ら一括露光成形絞り６の回転角θを計算し、この情報を
回転レンズ制御回路２０を介して回転補正レンズ８に入
力して成形ビーム１１の回転誤差を補正する。
【００１８】図１の後半は本発明による基本開口群選択
時の位置誤差補正手順を示している。本発明では、基本
開口群６１〜６ｎのすべてに図３に示したような矩形開
口２６を設け、これに矩形成形絞り２により成形された
矩形ビームを部分的にオ−バ−ラップするように照射し
て所定形状の矩形ビームを得、この矩形ビ−ムを位置決
め偏向器１０により試料面の基準マークに走査して、マ
−ク検出用反射電子検出器１３の反射信号より矩形ビ−
ムの形状誤差と位置ずれ量を算出して補正するようにす
る。
時の位置誤差補正手順を示している。本発明では、基本
開口群６１〜６ｎのすべてに図３に示したような矩形開
口２６を設け、これに矩形成形絞り２により成形された
矩形ビームを部分的にオ−バ−ラップするように照射し
て所定形状の矩形ビームを得、この矩形ビ−ムを位置決
め偏向器１０により試料面の基準マークに走査して、マ
−ク検出用反射電子検出器１３の反射信号より矩形ビ−
ムの形状誤差と位置ずれ量を算出して補正するようにす
る。
【００１９】すなわち、制御用計算機２４は矩形開口２
６を通過する矩形ビームの形状値と基準マーク照射位置
の設定値とを基準値として予め記憶し、上記マ−ク検出
用反射電子検出器１３の反射信号より実際の矩形ビーム
の形状値と基準マーク照射位置とを算出し、さらに、こ
れらをそれぞれ上記各基準値と比較して矩形ビームの形
状誤差と位置ずれ量を算出し、矩形ビームの形状誤差を
成形偏向器３にフィードバックして補正し、位置ずれ量
を位置決め偏向器１０にフィードバックして補正する。
６を通過する矩形ビームの形状値と基準マーク照射位置
の設定値とを基準値として予め記憶し、上記マ−ク検出
用反射電子検出器１３の反射信号より実際の矩形ビーム
の形状値と基準マーク照射位置とを算出し、さらに、こ
れらをそれぞれ上記各基準値と比較して矩形ビームの形
状誤差と位置ずれ量を算出し、矩形ビームの形状誤差を
成形偏向器３にフィードバックして補正し、位置ずれ量
を位置決め偏向器１０にフィードバックして補正する。
【００２０】上記本発明の方法においては、一括露光開
口群２８の中で最も形状が単純な矩形開口２６を用いて
位置合わせするので、マ−ク検出用反射電子検出器１３
の反射信号は対称な台形波形となり、この台形波形のエ
ッジ部から基準マークの中心位置を容易に算出して０．
０１μｍ以下の精度で矩形ビーム、すなわち一括露光成
形絞り６の位置決めを行うことができる。また、上記本
発明では一括露光成形絞り６の位置決めを電子的に行う
ので、成形絞り移動機構７を機械的に高精度化する必要
がなく、従来のものをそのまま用いることができる。
口群２８の中で最も形状が単純な矩形開口２６を用いて
位置合わせするので、マ−ク検出用反射電子検出器１３
の反射信号は対称な台形波形となり、この台形波形のエ
ッジ部から基準マークの中心位置を容易に算出して０．
０１μｍ以下の精度で矩形ビーム、すなわち一括露光成
形絞り６の位置決めを行うことができる。また、上記本
発明では一括露光成形絞り６の位置決めを電子的に行う
ので、成形絞り移動機構７を機械的に高精度化する必要
がなく、従来のものをそのまま用いることができる。
【００２１】なお、上記本発明の方法は矩形成形絞り２
に多数の開口がある場合も同様に適用することができ
る。また、マ−ク検出用反射電子検出器の反射信号波形
を表示することにより上記矩形ビ−ムの基準マ−ク照射
状態を監視することができる。一方、一括露光開口群２
８の中の一括露光開口２８を用いると、マ−ク検出用反
射電子検出器１３の反射信号波形は非対称で複雑なもの
となるため、基準マーク位置の計算手順が複雑化し、誤
差が伴いやすくなる。
に多数の開口がある場合も同様に適用することができ
る。また、マ−ク検出用反射電子検出器の反射信号波形
を表示することにより上記矩形ビ−ムの基準マ−ク照射
状態を監視することができる。一方、一括露光開口群２
８の中の一括露光開口２８を用いると、マ−ク検出用反
射電子検出器１３の反射信号波形は非対称で複雑なもの
となるため、基準マーク位置の計算手順が複雑化し、誤
差が伴いやすくなる。
【００２２】
【発明の効果】本発明では、上記マ−ク検出用反射電子
検出器１３の反射信号を用いて成形偏向器３により矩形
ビームの形状誤差を電子的に補正し、また、位置決め偏
向器１０により位置誤差を電子的に補正するので、成形
絞り移動機構７を高精度化することなく、一括露光成形
絞り６の位置決めを０．０１μｍ以下の精度で行うこと
ができる。
検出器１３の反射信号を用いて成形偏向器３により矩形
ビームの形状誤差を電子的に補正し、また、位置決め偏
向器１０により位置誤差を電子的に補正するので、成形
絞り移動機構７を高精度化することなく、一括露光成形
絞り６の位置決めを０．０１μｍ以下の精度で行うこと
ができる。
【００２０】また、試料または試料台上の基準マ−クを
単純な矩形ビ−ムにより検出するので、基準マークの中
心位置の算定を簡単化することができる。さらに、一括
露光成形絞り６の交換後の開口選択が容易になる。ま
た、マ−ク検出用反射電子検出器１３が検出する一括露
光成形絞り６内の基本開口群の配列から成形絞りの回転
誤差を容易に計算できるため、これを迅速に補正するこ
とができる。以上により、一括露光成形絞り６の位置決
めを経済的に迅速に行うことのできる電子線描画方法を
提供することができる。
単純な矩形ビ−ムにより検出するので、基準マークの中
心位置の算定を簡単化することができる。さらに、一括
露光成形絞り６の交換後の開口選択が容易になる。ま
た、マ−ク検出用反射電子検出器１３が検出する一括露
光成形絞り６内の基本開口群の配列から成形絞りの回転
誤差を容易に計算できるため、これを迅速に補正するこ
とができる。以上により、一括露光成形絞り６の位置決
めを経済的に迅速に行うことのできる電子線描画方法を
提供することができる。
【図１】本発明による電子線描画方法のフロ−チャ−ト
である。
である。
【図２】電子線描画装置の構成図である。
【図３】一括露光成形絞りの平面図である。
【図４】一括露光成形絞り内の複数の基本開口群の走査
パタ−ン図である。
パタ−ン図である。
１…電子源、２…矩形成形絞り、３…成形偏向器、４…
成形レンズ、５…成形絞り反射電子検出器、６…一括露
光成形絞り、７…成形絞り移動機構、８…回転補正レン
ズ、９…縮小レンズ、１０…位置決め偏向器、１１…成
形ビーム、１２…対物レンズ、１３…マーク検出用反射
電子検出器、１４…基準マーク、１５…試料台、１６…
試料台位置決め機構、１７…成形偏向制御回路、１８…
絞り位置検出回路、１９…成形絞り位置決め回路、２０
…回転レンズ制御回路、２１…位置決め偏向制御回路、
２２…マーク検出回路、２３…試料台位置制御回路、２
４…制御計算機、２６…矩形開口、２８…一括露光開
口、２９…開口像、３０…機械走査領域、６１〜６ｎ…
各基本開口群。
成形レンズ、５…成形絞り反射電子検出器、６…一括露
光成形絞り、７…成形絞り移動機構、８…回転補正レン
ズ、９…縮小レンズ、１０…位置決め偏向器、１１…成
形ビーム、１２…対物レンズ、１３…マーク検出用反射
電子検出器、１４…基準マーク、１５…試料台、１６…
試料台位置決め機構、１７…成形偏向制御回路、１８…
絞り位置検出回路、１９…成形絞り位置決め回路、２０
…回転レンズ制御回路、２１…位置決め偏向制御回路、
２２…マーク検出回路、２３…試料台位置制御回路、２
４…制御計算機、２６…矩形開口、２８…一括露光開
口、２９…開口像、３０…機械走査領域、６１〜６ｎ…
各基本開口群。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中山 義則 東京都国分寺市東恋ケ窪１丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 電子線描画方法において、矩形の電子ビ
ームを成形偏向器により一括露光成形絞りの基本開口矩
群内の一括露光開口に照射し、上記一括露光開口を通過
した電子ビームを位置決め偏向器により試料台上に設け
た基準マ−クに上記電子ビームを走査して基準マ−クか
らの反射電子を検出して一括露光成形絞りの位置合わせ
を行う電子線描画方法において、上記矩形の電子ビーム
を一括露光成形絞りの基本開口矩群内の矩形開口に部分
的にオ−バ−ラップするように照射して所定形状の矩形
ビームを得、この矩形ビ−ムを上記基準マークに走査し
て、マ−ク検出用反射電子検出器の反射信号と矩形ビ−
ムの形状および位置の基準値とにより矩形ビ−ムの形状
誤差と位置ずれ量を算出し、矩形ビームの形状誤差を成
形偏向器にフィードバックして形状補正し、位置ずれ量
を位置決め偏向器にフィードバックして位置補正するよ
うにしたことを特徴とする電子線描画方法。 - 【請求項２】 請求項１において、上記マ−ク検出用反
射電子検出器の反射信号波形を表示するようにしたこと
を特徴とする電子線描画方法。 - 【請求項３】 請求項１または２において、上記一括露
光成形絞り内の複数の基本開口群を走査して得られるマ
−ク検出用反射電子検出器の複数の反射信号から一括露
光成形絞りの回転位置誤差を検出してこれを補正するよ
うにしたことを特徴とする電子線描画方法。
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|---|---|---|---|
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|---|---|---|---|
| JP30912192A JP3192500B2 (ja) | 1992-11-19 | 1992-11-19 | 電子線描画方法および電子線描画装置 |
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| WO2011107564A1 (en) * | 2010-03-03 | 2011-09-09 | Micronic Mydata AB | Pattern generators comprising a calibration system |
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1992
- 1992-11-19 JP JP30912192A patent/JP3192500B2/ja not_active Expired - Fee Related
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1993
- 1993-11-17 US US08/153,157 patent/US5468969A/en not_active Expired - Lifetime
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| US6441383B1 (en) | 1997-05-30 | 2002-08-27 | Hitachi, Ltd. | Charged particle beam lithography apparatus for forming pattern on semi-conductor |
| US6509572B2 (en) | 1997-05-30 | 2003-01-21 | Hitachi, Ltd. | Charged particle beam lithography apparatus for forming pattern on semi-conductor |
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| JP2008084626A (ja) * | 2006-09-27 | 2008-04-10 | Hitachi High-Technologies Corp | 荷電粒子ビームの走査方法及び荷電粒子線装置 |
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
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| US5468969A (en) | 1995-11-21 |
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