JPH02250311A - 電子ビーム描画方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野〕 本発明は電子ビーム描画装置に係り、特に周期性のある
パターンを高速に描画する電子ビーム描画方法に関する
。

〔従来の技術〕

電子ビーム描画のスループットを向上させる手段として
１例えば、特開昭６１−１８３９２６号公報に記載され
ているような、キャラクタ−プロジェクション方式を用
いた描画装置の開発が、最近１行われてきている。該方
式は、繰返して現れるパターンを、予めアパーチャ上に
形成し、そのアパーチャ像を試料上に形成していく方式
である。

例えば、第２図（ａ）に示すが如き開口部を有するアパ
ーチャを設け、該アパーチャ像を、試料上に連続的に形
成することにより、同図（ｂ）の如きパターンを描くこ
とができる。この方式によれば、複雑な図形を一回の照
射で描画できるため、従来の矩形ビームに比較して、数
倍のスループットを得ることが出来る。

〔発明が解決しようとする課題〕

キャラクタープロジェクシ罵ン方式は、アパーチャ上の
パターンを試料上に所定の倍率で投影する方式であり、
このため、用いる倍率がパターン精度に重要な影響を及
ぼす０例えば、第２図（ａ）に示すキャラクタ−パター
ンの寸法が小さいと、同図（ｃ）のごとく不良パターン
を描画することになる。このため、従来においては、少
なくとも一つ以上のパターンに対してテスト描画を繰返
し行い、その結果を目視により＃価することによって調
整を行ってきており、高精度描画を行うには調整に多大
の時間を要するという問題があった。

本発明の目的は、キャラクタプロジェクション方式にお
けるかかる問題点を解決し、自動的に電子光学系を調整
する情報として、試料上のパターン寸法、回転、形状歪
などを検出し、高速高精度な描画を可能とする電子ビー
ム描画方法を提供することにある。

〔課題を解決するための手段〕

上記問題点を解決するためは、キャラクタプロジェクシ
ョンに用いるパターンの一部で微小ビームを形成し、試
料上でのパターンの位置検出を行うことにより可能とな
る。

第１図は本発明に基づくパターン調整方法を説明したも
のである。同図においては、電子光学系を構成する電磁
レンズなどは省略しである。電子銃１から放射された電
子ビームは第１のアパーチャ３を通る。第１のアパーチ
ャの下には偏向器４が有り、これにより第１のアパーチ
ャの像を第２のアパーチャ５上の任意の位置へ偏向する
ことができる。第２のアパーチャ上には、繰返しの基本
であるキャラクタ−パターンが複数個設けられている。

第１図には、簡単のため、そのうちの１個のみを示しで
ある。第１のアパーチャ像をＡのごとく偏向して投影す
ることにより微ｔ’ｓビーム６を形成することができる
。

一方、Ｂのごとく偏向すると、微小ビーム７を形成する
ことができる。この６，７の二本の微小ビームは、キャ
ラクタパターンの両端の位置情報を含んでいる。従って
、この二本の微小ビームにより基準パターン位置を検出
し、該パターンの原点位置、寸法（倍率）、回転などの
情報を得、その後補正量を求める１本操作をキャラクタ
−パターンごとに行い、補正量を求め、記憶する６キヤ
ラクターパターンにより描画する際にには、上記補正量
から得られた補正データを第２アパーチヤ以後の電子光
学系に自動的にフィードバックして、高速、高精度に描
画することが出来る。

〔作用〕

キャラクタ−パターンの一部を用いて該パターンの原点
位置、寸法（倍率）、回転などの情報を求めるので、正
確なパターン調整が可能である。

〔実施例〕

以下、本発明の実施例を図を用いて説明する。

第３図は１本発明に基づく電子ビーム描画装置の概略構
成を示したものである。同図において、処理装置は偏向
回路１４、及び偏向器４により第１のアパーチャ３の像
を偏向することにより、第２のアパーチャ５上に形成さ
れている複数個のキャラクタ−パターンのうち一種を選
択し、さらに、第１図Ａに示すような状態を実現し、微
小ビーム６を得た０次に、偏向回路１６．及び偏向器１
０により該ビームをステージ１２に設けられた標準パタ
ーン１３上を走査した。その後、検出器１１及び信号変
換回路１７により標準パターンからの信号を求め、これ
を処理して２選択したキャラクタ−パターンの基準位置
（Ｘ１１．　Ｙ□□）を決定した。

次に、偏向器４を用いて第１図Ｂの状態を実現して、微
小ビーム７を形成し、先と同様に標準試料上を走査する
ことにより、第２のパターン座標（Ｘｚａ＊　Ｙ１２）
を得た。処理装置は、（Ｘ　１ｘ　　Ｘ　１ｔ　）から
試料上のパターン寸法（倍率）を求めるとともに、Ｘユ
、、ｘｌ、座標から、パターンの回転量を求めた。これ
らの値に基づき第２アパーチヤ以後の電子光学系を調整
し、該寸法、及び、回転量が許容値以下になるようにし
た。最後に、処理装置は第１図Ａ状態による微小ビーム
６を再び形成し、該ビームの走査により選択したキャラ
クタ−パターンの基準位置（Ｘｉ−２Ｙ１ｍ）を求め、
その値を補正回路１５に格納した。

第２のアパーチャには、キャラクタ−パターンとして合
計９個のパターンが設けられていたので、これらの全て
のパターンにたいして同様にパターン基準位置 （（ｘｔ、、ｙｉ□）　　　　（ｉ＝１〜９　））を求
め、それを補正回路１５に記憶させた。描画時には、第
２のアパーチャから所定のパターンを選び描画を行った
が、その際、偏向データ（Ｘ。

Ｙ）にたいして ｘ’＝ｘ−ｘ飯。

Ｙ′＝Ｙ−Ｙｔ、 の補正を行って描画した。

以上の手順により、キャラクタ−パターン描画を行い、
所定の精度を有する結果を得ることができた。

〔発明の効果〕

本発明によれば、描画に用いるキャラクタ−パターンそ
のものを用いて、パターン調整を容易に行うことができ
るので、寸法精度の良好なパターンを得ることが出来る
。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に基づくパターン調整の方法を説明する
図、第２図はキャラクタ−パターン描画を説明する図、
第３図は本発明に基づく電子ビーム描画装置の概略構成
図である。 １・・・電子銃、２・・・電子ビーム、３・・・第１の
アパーチャ、４・・・偏向器、５・・・第２のアパーチ
ャ、６・・・微小ビーム、７・・・微小ビーム、１ｏ・
・・偏向器、１１・・・検出器、１２・・・ステージ、
１３・・・標準試料。 １４・・・偏向回路、１５・・・補正回路、１６・・・
偏向回路、１７・・・信号変換回路。 第１犯 亨　３　図 第　２品 （α） ＋ｂ） ｗ、１１．１１．ニー４

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １、描画パターン内に繰返し現れる図形を、一括して描
   画するための開口を複数種類有するアパーチャと、前記
   アパーチャより電子ビーム発生源側に設けられた、パタ
   ーン選択用のアパーチャを具備する電子ビーム描画装置
   において、前記２枚のアパーチャを用いて微小ビームを
   形成し、該微小ビームを用いて、少なくとも、一つ以上
   の上記アパーチャ上に形成したパターンに対し、該パタ
   ーンの試料上での位置座標、寸法（倍率）、回転など情
   報を求め、該情報に基づき電子光学系を調整する方法を
   有することを特徴とする電子ビーム描画方法。