JPH06155494A - 溶液製膜方法 - Google Patents
溶液製膜方法Info
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- JPH06155494A JPH06155494A JP4333861A JP33386192A JPH06155494A JP H06155494 A JPH06155494 A JP H06155494A JP 4333861 A JP4333861 A JP 4333861A JP 33386192 A JP33386192 A JP 33386192A JP H06155494 A JPH06155494 A JP H06155494A
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Abstract
を防止する溶液製膜方法を提供する。 【構成】 減圧室の巾方向の両端部から全幅に対して各
0〜0.3倍の範囲内の位置に減圧用の吸引配管の開口
部を配設して押出ダイの押出部背部近傍の空気を減圧に
しつつ前記高分子液を押出すか、又は、前記と併せて、
押出ダイ背部の減圧室内の吸引配管開口の開口部を含む
範囲と、該開口部を含まない範囲とを区画する仕切り板
を設け、該仕切り板と前記連続走行する支持体との間隙
を0.5〜20mmとしたものを用いて、押出ダイの押
出部背部近傍の空気を減圧にしつつ前記高分子液を押出
すか、又は、減圧室の幅方向の両端部近傍に複数枚のラ
ビリンス型シール板を配置し、該押出ダイの押出部背部
近傍の空気を減圧用の吸引配管開口部より吸引しつつ、
該高分子液を押出す。
Description
出ダイから連続走行する支持体の上に押出して膜を形成
する製膜方法に関するものであり、より詳しくは、減圧
吸引法を採用する場合に生ずる波状ムラを解決する方法
に関するものである。
ダイアセテートのフィルム又はシートの製膜方法とし
て、図4(A)(B)に示すように、有機溶剤に溶かし
た高分子溶液を押出しダイ1より支持体(エンドレスバ
ンド5、又はドラム6)上に流延し、支持体上に形成さ
れた膜4aとし、支持体上で剥離ができる程度に乾燥を
行ない、次いで支持体から剥離された膜4bとして後の
乾燥工程(図示せず)に送り込み、充分乾燥した後フィ
ルム又はシートを完成させる溶液製膜方法が使用されて
いる。この際、押出ダイ1より支持体5又は6上に流延
する流延部分2の雰囲気を乱さないために押出ダイ1の
前後にラビリンスシール3aを、又四周には囲い3bが
設けてある。このような溶液製膜工程において流延速度
を上げていくと、ある流延速度以上で流延フィルム又は
シートと支持体の間に空気が補足される現象(以下空気
同伴現象という)が起き、流延部分2が乱され、支持体
5又は6上に形成された膜44aに不均一を生ずる。空
気同伴現象に起因する不均一は、製品の外観故障となる
だけでなく、中間品の変形から後工程のフィルム搬送に
重大な支障をきたす原因となる。これを防止する方法と
して、押出ダイ1よりの流延部分2の背面の空気を減圧
吸引して流延部分2を支持体に引つけ、空気を同伴させ
ない所謂減圧吸引法が知られている。(特公昭49−3
6946号公報、特公昭62−38133号公報、特開
平3−193316号公報等参照)。
引法を製膜工程に用いた場合、空気同伴現象を軽減する
効果はあるが、図5において、流延部分2と支持体5又
は6の合流点付近の両側面から空気(端部流入空気)が
入り込み、減圧室9内に向かって空気の流れを生じ、フ
ィルム端部に波状のムラ(以後波状ムラという)を発生
させるという新たな問題を生ずる。
し、減圧室への端部流入空気に起因する波状ムラを防止
する溶液製膜方法を提供することにある。
る支持体の上に押出して膜を形成する際、該膜の背面に
該押出ダイの全幅に対して減圧室を設け減圧にする製膜
方法において、該減圧室の幅方向の両端部から全幅に対
して各0〜0.3倍の範囲内の位置に減圧用の吸引配管
の開口部を配設して、押出ダイの押出部背部近傍の空気
を吸引しつつ前記高分子液を押出すことを特徴とする溶
液製膜方法。 (2) 前記押出ダイ背部の減圧室内の、前記吸引配管
の開口部を含む範囲と、該開口部を含まない範囲とを区
画する仕切り板を設け、該仕切り板と前記連続走行する
支持体との間隙を0.5〜20mmとしたものを用いる
ことを特徴とする上記(1)記載の溶液製膜方法。 (3) 溶液状の高分子液を、押出ダイから連続走行す
る支持体の上に押出して膜を形成する際、該膜の背面に
該押出ダイの全巾に対して減圧室を設け、減圧する製膜
方法において、該減圧室の幅方向の両端部近傍に複数枚
のラビリンス型シール板を配置し、該押出ダイの押出部
背部近傍の空気を減圧用の吸引配管の開口部より吸引し
つつ該高分子液を押出すことを特徴とする溶液製膜方
法。 によって達成される。
(A)(B)に示すように、押出ダイ1を連続走行する
支持体エンドレスバンド5、又はドラム6の上に配置
し、押出ダイ1に対して支持体の上流側に押出ダイ1と
支持体5又は6に近接して図5のように囲い3bの部分
に減圧室9を設ける。図5において、押出ダイ1と支持
体5又は6の間隙bは通常1〜20mm、減圧室9と支
持体5又は6の間隙cは通常0.3〜3mmである。減
圧室9の減圧度は通常−3〜−25mmAqである。
の2箇所に設定する場合、減圧室の全巾をWcとする
と、図1に示すように吸引配管開口部11の位置は両端
部から各(0〜0.3)×Wcの範囲内が好ましい範囲
である。
い範囲と区画する仕切板を用いる場合、減圧室9内の吸
引配管開口部11の位置を、前記のように減圧室9の両
端部から各(0〜0.3)×Wcの範囲内に設定すると
ともに、吸引配管開口部11を含む範囲と含まない範囲
とを区画する仕切り板12を設け、両側の端部に部屋
(端部室13)を形成する(図2(A)参照)。端部室
13を区画する仕切り板12は、減圧室9の全奥行にわ
たる必要はなくダイ1に近い方から吸引配管開口部11
を含みさえすれば減圧室9の全奥行の2/3程度であれ
ば良好な結果が得られる(図2(B)参照)。端部室1
3を区画する仕切り板12と支持体5、又は6との間隙
は概して小さい程良く、0.5〜20mmの範囲が望ま
しい。
板を用いる場合減圧室9の幅方向の端部近傍に、複数枚
のラビリンス型シール板14を配置する。(図3(A)
参照)本発明のラビリンス型シール板14とは減圧室9
の両端から等間隔でもよく、又は段階的に狭めても良
い。(図3(B)参照)。この場合請求項1,2と異な
り、吸引配管開口部11が(0〜0.3)×Wcの範囲
内になるよう限定する必要はなく、図3(A)に示すよ
うに減圧室9の中央部にあってもよい。ラビリンスシー
ル板14の長さ(流延方向)は、減圧室9の全奥行の中
間点付近に達する長さ以上、或いは30mm以上あれば
良い。(図3(B)参照)。ラビリンス型シール板14
の向きは、概して支持体5又は6の進行方向に対して平
行の向きが良いが、0〜45度の角度の範囲であれば良
好な結果が得られる。ラビリンス型シール板14と支持
体5又は6との間隙は、概して小さい程良く、2mm以
下、望ましくは1mm以下が良い。ラビリンス型シール
板14の材質、厚みは特に限定されず、1〜3mmの厚
みのステンレス鋼又はプラスチックの板が好ましく用い
られる。
において、溶質としてセルローストリアセテートに微量
の可塑剤を加えたものを、メチレンクロライド+メタノ
ール+ブタノールの混合溶媒に濃度21〜25重量%で
溶かしたものを用いた。減圧吸引法による図4(B)
(ドラム)の装置を用いて、仕上がりのフィルム厚みが
80〜210μmの範囲に入る条件で製膜した。減圧室
内の減圧度は─20mmAqとした。
部を中央に設けた。流延フィルムの巾をWf とした場
合、波状ムラの発生領域はフィルムの両端部から0.4
×Wf の範囲であった。
減圧室9内の吸引配管開口部11の位置は、減圧室9の
全巾Wcとすると、図2に示すように両端部から各0.
2×Wcの点に設定した。波状ムラの発生範囲は両端部
から0.25×Wf の範囲であり、比較例−1に対して
改良効果が見られた。ムラの程度も実用的に許容できる
程度であった。
減圧室9内の吸引配管開口部11の位置を0.1×Wc
の点に設定した他は、実施例−1と同条件とした。波状
ムラの発生範囲は両端部から0.2×Wf の範囲であ
り、比較例−1に対して改良効果が見られた。ムラの程
度も実用的に許容できる程度であった。
法を用いた。図2(A)に示すように、減圧室9内の吸
引配管開口部11の位置を、両端部近傍の2個とし、吸
引配管開口部11を含む部分を含まない部分と仕切り板
12で隔離するように端部室13を設けた。端部室13
の範囲は、減圧室9両端から0.04×Wc、減圧室9
全奥行にわたって仕切った。仕切り板12と支持体5と
の間隙は1mmとした。波状ムラの発生範囲は両端部か
ら0.01×Wf の範囲であり、又ムラの程度も弱く、
実用的にも充分な品質であった。
減圧室9内の吸引配管開口部11の位置を、両端部近傍
の2個とし、吸引配管開口部11を含む部分と含まない
部分を仕切り板12で隔離するように端部室13を設け
た。端部室13の範囲は、減圧室9両端から0.3×W
c、又減圧室9全奥行のダイ1側から2/3の長さで仕
切った。仕切り板12と支持体5との間隙は5mmとし
た。波状ムラの発生範囲は両端部から0.1×Wf の範
囲であり、又ムラの程度も弱く、実用的に許容できる品
質であった。
圧室9内の中央部付近の一箇所に吸引配管開口部11
を、減圧室9の幅方向の両端部近傍に、複数枚のラビリ
ンス型シール板14を等間隔で配設した。ラビリンス型
シール板14は、2mm厚のフッ素系樹脂の板を用い、
片側各3枚とし、流延方向に平行に50mm間隔で3枚
ずつ配置した。ラビリンス型シール板14と支持体5の
間隔は1.5mmとした。波状ムラの発生範囲は両端部
から0.1×Wf の範囲であり、ムラの程度も実用的に
許容できる程度であった。
減圧室9内の両端部から約100mmの2箇所に吸引開
口部11を設け、ラビリンス型シール板14は、2mm
厚のフッ素系樹脂の板を用い、片側4枚とし、流延方向
に平行に両端部から2枚を50mm間隔で、続いて2枚
を25mm間隔で配置した。ラビリンス型シール板14
と支持体5の間隙は1mmとした。波状ムラの発生範囲
は両端部から0.03×Wf の範囲であり、ムラの程度
も弱く、実用的に充分な品質であった。
引法の採用に伴って端部流入空気に起因して生ずる波状
ムラを防止することができ、製品としても均質なフィル
ムが得られる。
の正面概略図
施例の平面概略図
施例の平面概略図
図、エンドレスバンド方式(A)、ドラム方式(B)
の構成を示す側面概略図。
Claims (3)
- 【請求項1】 溶液状の高分子液を、押出ダイから連続
走行する支持体の上に押出して膜を形成する際、該膜の
背面に該押出ダイの全幅に対して減圧室を設け減圧にす
る製膜方法において、該減圧室の幅方向の両端部から全
幅に対して各0〜0.3倍の範囲の位置に減圧用の吸引
配管の開口部を配設して、押出ダイの押出部背部近傍の
空気を減圧にしつつ該高分子液を押出すことを特徴とす
る溶液製膜方法。 - 【請求項2】 前記押出ダイ背部の減圧室内の、前記吸
引配管の開口部を含む範囲と、該開口部を含まない範囲
とを区画する仕切り板を設け、該仕切り板と前記連続走
行する支持体との間隙を0.5〜20mmとしたものを
用いることを特徴とする請求項1に記載の溶液製造方
法。 - 【請求項3】 溶液状の高分子液を、押出ダイから連続
走行する支持体の上に押出して膜を形成する際、該膜の
背面に該押出ダイの全幅に対して減圧室を設け減圧する
製膜方法において、該減圧室の幅方向の両端部近傍に複
数枚のラビリンス型シール板を配置し、押出ダイの押出
部背部近傍の空気を減圧用の吸引配管の開口部より吸引
しつつ該高分子液を押出すことを特徴とする溶液製膜方
法。
Priority Applications (1)
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---|---|---|---|
JP4333861A JP3066684B2 (ja) | 1992-11-20 | 1992-11-20 | 溶液製膜方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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JPH06155494A true JPH06155494A (ja) | 1994-06-03 |
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ID=18270771
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JP4333861A Expired - Lifetime JP3066684B2 (ja) | 1992-11-20 | 1992-11-20 | 溶液製膜方法 |
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- 1992-11-20 JP JP4333861A patent/JP3066684B2/ja not_active Expired - Lifetime
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