JPH11179261A - 塗布装置、塗布方法及びその塗布方法により製造した写真感光材料 - Google Patents
塗布装置、塗布方法及びその塗布方法により製造した写真感光材料Info
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- JPH11179261A JPH11179261A JP35305697A JP35305697A JPH11179261A JP H11179261 A JPH11179261 A JP H11179261A JP 35305697 A JP35305697 A JP 35305697A JP 35305697 A JP35305697 A JP 35305697A JP H11179261 A JPH11179261 A JP H11179261A
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- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 高速、薄膜塗布においても塗布ムラの発生を
著しく減少できる塗布装置、塗布方法およびその塗布方
法により製造した写真感光材料を提供する。 【解決手段】 ウェブ状の支持体を走行可能に保持する
保持手段と、前記支持体に塗布液を塗布するビード塗布
装置と、当該ビード塗布装置の塗布部に減圧を付与すべ
く前記支持体の走行方向において前記ビード塗布装置の
手前側に設けた減圧室とを有する塗布装置において、前
記減圧室を構成する１つの壁面に、塗布巾方向に沿った
減圧吸引口を設けた事を特徴とする塗布装置。
著しく減少できる塗布装置、塗布方法およびその塗布方
法により製造した写真感光材料を提供する。 【解決手段】 ウェブ状の支持体を走行可能に保持する
保持手段と、前記支持体に塗布液を塗布するビード塗布
装置と、当該ビード塗布装置の塗布部に減圧を付与すべ
く前記支持体の走行方向において前記ビード塗布装置の
手前側に設けた減圧室とを有する塗布装置において、前
記減圧室を構成する１つの壁面に、塗布巾方向に沿った
減圧吸引口を設けた事を特徴とする塗布装置。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は改良した減圧室とビ
ード塗布装置とを含む塗布装置、塗布方法およびその塗
布方法により製造した写真感光材料に関する。
ード塗布装置とを含む塗布装置、塗布方法およびその塗
布方法により製造した写真感光材料に関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、写真感光材料はハロゲン化銀粒
子、および、写真特性を整える添加剤を含有した親水性
コロイド（例えば、ゼラチン）液をポリエチレンテレフ
タレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥ
Ｎ）、トリアニルセルロース（ＴＡＣ）等の高分子フィ
ルム、或いは、バライタ紙等からなるウェブ状の支持体
に連続的に塗布（塗設）し、乾燥する事により得られ
る。
子、および、写真特性を整える添加剤を含有した親水性
コロイド（例えば、ゼラチン）液をポリエチレンテレフ
タレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥ
Ｎ）、トリアニルセルロース（ＴＡＣ）等の高分子フィ
ルム、或いは、バライタ紙等からなるウェブ状の支持体
に連続的に塗布（塗設）し、乾燥する事により得られ
る。
【０００３】前記塗布に関しては種々の方法が知られて
おり、スライドビード塗布、あるいは、減圧押出塗布
等、ビード塗布と呼称される方法が主として採用されて
いる。
おり、スライドビード塗布、あるいは、減圧押出塗布
等、ビード塗布と呼称される方法が主として採用されて
いる。
【０００４】スライドビード塗布法は、１液以上の塗布
液を塗布液供給機（スライドホッパ）に設けられたスリ
ットから連続的に送り出し、塗布液流延面（スライド
面）の終端（リップ部）に近接して走行する支持体に前
記塗布液の単層もしくは積層リボンを張り渡してビード
（液溜まり）を形成し、塗布液の流延速度と支持体の走
行速度とを整合させて前記支持体上に単層もしくは積層
の塗膜を形成するものである。
液を塗布液供給機（スライドホッパ）に設けられたスリ
ットから連続的に送り出し、塗布液流延面（スライド
面）の終端（リップ部）に近接して走行する支持体に前
記塗布液の単層もしくは積層リボンを張り渡してビード
（液溜まり）を形成し、塗布液の流延速度と支持体の走
行速度とを整合させて前記支持体上に単層もしくは積層
の塗膜を形成するものである。
【０００５】前記塗布方法においては、上述のように塗
布液供給量と支持体の走行速度（塗布速度と同義）との
整合を図る事が必須条件であるが、更に、前記リップ部
におけるビードの形状を安定に保つ事が塗膜の均一性を
得るために重要である。
布液供給量と支持体の走行速度（塗布速度と同義）との
整合を図る事が必須条件であるが、更に、前記リップ部
におけるビードの形状を安定に保つ事が塗膜の均一性を
得るために重要である。
【０００６】例えば、何らかの要因によりビードの形状
が乱れると横縞（肋状むら）、縦筋むら等を生じたり、
塗布切れを発生させる。
が乱れると横縞（肋状むら）、縦筋むら等を生じたり、
塗布切れを発生させる。
【０００７】このビード形状の安定化のため、支持体の
走行方向と逆方向に前記ビードを吸引するように減圧手
段に繋がる減圧室を塗布装置の手前側に設けた提案がさ
れている。
走行方向と逆方向に前記ビードを吸引するように減圧手
段に繋がる減圧室を塗布装置の手前側に設けた提案がさ
れている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
減圧室の構成は、支持体に対する塗布膜厚の不均一化、
所謂ムラについて十分な効果があるとは言えず、塗布を
高速化すると、前記ムラの発生も多くなり、特に、塗布
の薄膜化においては更なる品質の低下を招くという問題
があった。
減圧室の構成は、支持体に対する塗布膜厚の不均一化、
所謂ムラについて十分な効果があるとは言えず、塗布を
高速化すると、前記ムラの発生も多くなり、特に、塗布
の薄膜化においては更なる品質の低下を招くという問題
があった。
【０００９】高速塗布、あるいは、薄膜塗布時に不安定
になるビードの形状を安定にするためには、減圧の程度
をさらに大きくする事が必要である。ところが、減圧手
段に繋がる小さな吸引口を１つ、もしくは、２つ有する
従来の減圧室の構成であると、吸引口形状により、減圧
室内の塗布巾方向における空気流れ（吸引風）に乱れが
発生し、塗布ムラの発生を阻止することは出来ない。
になるビードの形状を安定にするためには、減圧の程度
をさらに大きくする事が必要である。ところが、減圧手
段に繋がる小さな吸引口を１つ、もしくは、２つ有する
従来の減圧室の構成であると、吸引口形状により、減圧
室内の塗布巾方向における空気流れ（吸引風）に乱れが
発生し、塗布ムラの発生を阻止することは出来ない。
【００１０】本発明は、高速、および／または、薄膜塗
布においても塗布ムラの発生を著しく減少できる塗布装
置、および、当該塗布装置を使用して、高速薄膜塗布を
行う塗布方法及びその塗布方法により製造した写真感光
材料を提供する事を目的とする。
布においても塗布ムラの発生を著しく減少できる塗布装
置、および、当該塗布装置を使用して、高速薄膜塗布を
行う塗布方法及びその塗布方法により製造した写真感光
材料を提供する事を目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記構
成によって達成された。
成によって達成された。
【００１２】（１）ウェブ状の支持体を走行可能に保持
する保持手段と、前記支持体に塗布液を塗布するビード
塗布装置と、当該ビード塗布装置の塗布部に減圧を付与
すべく前記支持体の走行方向において前記ビード塗布装
置の手前側に設けた減圧室とを有する塗布装置におい
て、前記減圧室を構成する１つの壁面に塗布巾方向に沿
った減圧吸引口を設けた事を特徴とする塗布装置。
する保持手段と、前記支持体に塗布液を塗布するビード
塗布装置と、当該ビード塗布装置の塗布部に減圧を付与
すべく前記支持体の走行方向において前記ビード塗布装
置の手前側に設けた減圧室とを有する塗布装置におい
て、前記減圧室を構成する１つの壁面に塗布巾方向に沿
った減圧吸引口を設けた事を特徴とする塗布装置。
【００１３】（２）前記減圧吸引口は連続的に形成した
開口からなる（１）に記載の塗布装置。
開口からなる（１）に記載の塗布装置。
【００１４】（３）前記減圧吸引口は面積が１ｃｍ2以
下の小孔の集合体で構成されている（１）に記載の塗布
装置。
下の小孔の集合体で構成されている（１）に記載の塗布
装置。
【００１５】（４）前記減圧吸引口は塗布巾方向に設け
た複数の開口からなる（１）に記載の塗布装置。
た複数の開口からなる（１）に記載の塗布装置。
【００１６】（５）ビード塗布装置を用いるとともに、
塗布部におけるビードの状態を安定化させるべく塗布巾
方向に沿った減圧吸引口を設けてなる減圧室内の減圧度
を３０ｍｍＡｑ以上に保つとともに、支持体を速度１１
０ｍ／ｍｉｎ以上で連続して走行させ、かつ、塗布時の
総膜厚が５０μｍ以下となるように塗布液を塗布する事
を特徴とする塗布方法。
塗布部におけるビードの状態を安定化させるべく塗布巾
方向に沿った減圧吸引口を設けてなる減圧室内の減圧度
を３０ｍｍＡｑ以上に保つとともに、支持体を速度１１
０ｍ／ｍｉｎ以上で連続して走行させ、かつ、塗布時の
総膜厚が５０μｍ以下となるように塗布液を塗布する事
を特徴とする塗布方法。
【００１７】（６）ビード塗布装置を用いるとともに、
塗布巾方向に沿った減圧吸引口を設けてなる減圧室内の
減圧度を３０ｍｍＡｑ以上に保つとともに、支持体を速
度１１０ｍ／ｍｉｎ以上で連続走行させ、塗布時の総膜
厚が５０μｍ以下となるように塗布液を塗布し、乾燥し
て得られた写真感光材料。
塗布巾方向に沿った減圧吸引口を設けてなる減圧室内の
減圧度を３０ｍｍＡｑ以上に保つとともに、支持体を速
度１１０ｍ／ｍｉｎ以上で連続走行させ、塗布時の総膜
厚が５０μｍ以下となるように塗布液を塗布し、乾燥し
て得られた写真感光材料。
【００１８】
【発明の実施の形態】本発明に係わる実施の形態の一例
を図面を用いて説明する。
を図面を用いて説明する。
【００１９】図１はマルチスライド型と呼ばれるビード
塗布装置の主要部、および、減圧室を断面で示した塗布
装置概略図である。図中、１はバックアップローラで、
モータ等の駆動源を含む適宜の動力系に接続され、動作
時は矢印方向に回転されて、後述する支持体の走行速度
を精度よく保つべく機能する。前記動力系は制御手段に
より速度可変であり、その構成は公知技術が利用できる
のでここでの詳細な説明は省略する。
塗布装置の主要部、および、減圧室を断面で示した塗布
装置概略図である。図中、１はバックアップローラで、
モータ等の駆動源を含む適宜の動力系に接続され、動作
時は矢印方向に回転されて、後述する支持体の走行速度
を精度よく保つべく機能する。前記動力系は制御手段に
より速度可変であり、その構成は公知技術が利用できる
のでここでの詳細な説明は省略する。
【００２０】２は前述したＴＡＣ，ＰＥＴ，ＰＥＮ等の
高分子フィルム、或いは紙等の可撓性を有するウェブ状
の支持体で、元巻きロールから引き出された先端は前記
バックアップローラ１をはじめとする多くのローラに掛
け回され、塗布後、乾燥室を経て前記とは別の元巻き用
の巻き芯に巻き取られる。
高分子フィルム、或いは紙等の可撓性を有するウェブ状
の支持体で、元巻きロールから引き出された先端は前記
バックアップローラ１をはじめとする多くのローラに掛
け回され、塗布後、乾燥室を経て前記とは別の元巻き用
の巻き芯に巻き取られる。
【００２１】２０はビード塗布装置で、本実施の形態に
おいては３層の重層塗布ができる構成を有するが、この
数は適宜決定できる。２１は塗布液を送りだすための塗
布液用ポンプ、２２はスライド面（参照記号なし）の直
前に設けた、塗布液の供給路であるスリット、２３は前
記支持体２に近接する前記スライド面の終端部（リップ
部）、３は塗布液層、４は前記リップ部に形成されるビ
ードを示す。
おいては３層の重層塗布ができる構成を有するが、この
数は適宜決定できる。２１は塗布液を送りだすための塗
布液用ポンプ、２２はスライド面（参照記号なし）の直
前に設けた、塗布液の供給路であるスリット、２３は前
記支持体２に近接する前記スライド面の終端部（リップ
部）、３は塗布液層、４は前記リップ部に形成されるビ
ードを示す。
【００２２】この種構成は良く知られる所である。３０
は前記ビードの形状を安定化すべく機能する減圧室で、
前記ビード塗布装置２０と一体的に設けてある。
は前記ビードの形状を安定化すべく機能する減圧室で、
前記ビード塗布装置２０と一体的に設けてある。
【００２３】前記減圧室は特に一体的である必要はな
い。
い。
【００２４】また、バックアップローラ１の周面一部に
対抗する部分は開口とされ、塗布巾方向に延びる壁面と
両側壁の上部との間に僅かな間隙を有する。
対抗する部分は開口とされ、塗布巾方向に延びる壁面と
両側壁の上部との間に僅かな間隙を有する。
【００２５】前記減圧室３０を構成し、少なくとも、塗
布液が塗布される前記支持体の最大塗布巾に対応する長
さをその塗布巾方向に有する１つの壁３１には、後記す
るように、塗布巾方向に沿った長い領域に減圧吸引口３
２を設けてある。
布液が塗布される前記支持体の最大塗布巾に対応する長
さをその塗布巾方向に有する１つの壁３１には、後記す
るように、塗布巾方向に沿った長い領域に減圧吸引口３
２を設けてある。
【００２６】３３は減圧ポンプである。前記吸引口と減
圧ポンプ３３とは空気流通路で接続されている。なお、
塗布液の流量制御、および、減圧ポンプの制御のための
制御手段が備えられている事は言うまでもない。
圧ポンプ３３とは空気流通路で接続されている。なお、
塗布液の流量制御、および、減圧ポンプの制御のための
制御手段が備えられている事は言うまでもない。
【００２７】次に、塗布操作時の説明を行う。支持体の
走行速度、塗布時の膜厚とそれに伴う塗布液流量、減圧
室内の気圧等を含む環境条件が整った後の塗布液用ポン
プ２１により送られる３種の塗布液は、それぞれに対応
するスリット２２を介してスライド面上を流れ、最終的
に積層状態でリップ部２３に達し、走行する支持体２と
前記リップ部２３との間にビード（液溜まり）４を形成
する。
走行速度、塗布時の膜厚とそれに伴う塗布液流量、減圧
室内の気圧等を含む環境条件が整った後の塗布液用ポン
プ２１により送られる３種の塗布液は、それぞれに対応
するスリット２２を介してスライド面上を流れ、最終的
に積層状態でリップ部２３に達し、走行する支持体２と
前記リップ部２３との間にビード（液溜まり）４を形成
する。
【００２８】一方、支持体上には塗膜が形成される。前
記ビードは、前記支持体２の走行方向からみて前記ビー
ド塗布装置２０よりも上流側（手前側）に配設された減
圧室３０を介して付与される減圧により図の下方に引っ
張られ、形状の安定が保たれる。
記ビードは、前記支持体２の走行方向からみて前記ビー
ド塗布装置２０よりも上流側（手前側）に配設された減
圧室３０を介して付与される減圧により図の下方に引っ
張られ、形状の安定が保たれる。
【００２９】塗布後の支持体は乾燥室において乾燥さ
れ、所定の巻き芯上に巻き回される。
れ、所定の巻き芯上に巻き回される。
【００３０】前記ビード形状の安定化には、塗布巾方向
に沿った長い領域に設けた減圧吸引口３２の存在が大き
く影響している。
に沿った長い領域に設けた減圧吸引口３２の存在が大き
く影響している。
【００３１】特に、塗布速度（支持体の走行速度に一
致）を１００ｍ／ｍｉｎ以上に高速にした場合、減圧も
今まで以上に大きくする必要がある。従来装置の場合
は、前述のように減圧を上げると減圧室内の吸引風乱れ
が増大し、これが原因でビードの形状が不安定となり、
塗布ムラにつながるが、実施態様のごとくの減圧吸引口
を設ける事により塗布ムラを著しく改善できる。
致）を１００ｍ／ｍｉｎ以上に高速にした場合、減圧も
今まで以上に大きくする必要がある。従来装置の場合
は、前述のように減圧を上げると減圧室内の吸引風乱れ
が増大し、これが原因でビードの形状が不安定となり、
塗布ムラにつながるが、実施態様のごとくの減圧吸引口
を設ける事により塗布ムラを著しく改善できる。
【００３２】また、例えば、塗布時の総膜厚（ウェット
膜厚）が５０μｍ、または、それ以下の薄膜塗布の場
合、ビードの不安定さは高速塗布時よりも増すが、この
ような場合にも十分に対応が可能であり、より大きな効
果が奏せられる。
膜厚）が５０μｍ、または、それ以下の薄膜塗布の場
合、ビードの不安定さは高速塗布時よりも増すが、この
ような場合にも十分に対応が可能であり、より大きな効
果が奏せられる。
【００３３】勿論、高速薄膜塗布のような厳しい条件下
においても、塗布ムラは大きく改善できる。
においても、塗布ムラは大きく改善できる。
【００３４】前記効果の理論的解明は未だされていない
が、多分、減圧室内の塗布巾方向における吸引風の流れ
が、ビードに影響を与える前に整流され、室外に除去さ
れるものと推測できる。
が、多分、減圧室内の塗布巾方向における吸引風の流れ
が、ビードに影響を与える前に整流され、室外に除去さ
れるものと推測できる。
【００３５】図２は本発明に係わる減圧室の構造を示
す。図２（ａ）の減圧室は、塗布巾方向の長い領域にス
リット状開口３２を壁３１に有し、（ｂ）の減圧室は矩
形状の開口を複数個、塗布巾方向の長い領域に有し、
（ｃ）の減圧室は面積が１ｃｍ2以下の多数の小孔を塗
布巾方向の長い領域に有してなる。（ｄ）は従来例で壁
３１に１つの矩形開口を有する減圧室を示す。
す。図２（ａ）の減圧室は、塗布巾方向の長い領域にス
リット状開口３２を壁３１に有し、（ｂ）の減圧室は矩
形状の開口を複数個、塗布巾方向の長い領域に有し、
（ｃ）の減圧室は面積が１ｃｍ2以下の多数の小孔を塗
布巾方向の長い領域に有してなる。（ｄ）は従来例で壁
３１に１つの矩形開口を有する減圧室を示す。
【００３６】なお、吸引口の形状については前記態様に
止まらず、例えば、前記図２のスリット状開口の巾（図
における上下方向の間隙）を狭くするとともに、その数
を複数としてもよい。また、塗布巾方向において、中央
部の巾が広く、端部に行くに従って巾狭になる、所謂、
クラウン型形状でもよい。更に、中央部の巾が狭く、端
部に行くに従って広巾になる、逆クラウン型形状でもよ
く、また、上記の適宜の組み合わせにする事もできる。
止まらず、例えば、前記図２のスリット状開口の巾（図
における上下方向の間隙）を狭くするとともに、その数
を複数としてもよい。また、塗布巾方向において、中央
部の巾が広く、端部に行くに従って巾狭になる、所謂、
クラウン型形状でもよい。更に、中央部の巾が狭く、端
部に行くに従って広巾になる、逆クラウン型形状でもよ
く、また、上記の適宜の組み合わせにする事もできる。
【００３７】
【実施例】実施例１．下記条件で塗布を行った。
【００３８】下層塗布液：所定の添加剤、ゼラチンを含
むハロゲン化銀乳剤で、３５℃において１０ｃｐの粘度
を有し、ｗｅｔ膜厚は４５μｍである。
むハロゲン化銀乳剤で、３５℃において１０ｃｐの粘度
を有し、ｗｅｔ膜厚は４５μｍである。
【００３９】表面張力６０ｄｙｎ／ｃｍ 上層塗布液：所定の添加剤、ゼラチン、界面活性剤を含
む溶液で、３５℃において１０ｃｐの粘度を有し、ｗｅ
ｔ膜厚は２５μｍである。
む溶液で、３５℃において１０ｃｐの粘度を有し、ｗｅ
ｔ膜厚は２５μｍである。
【００４０】表面張力３０ｄｙｎ／ｃｍ 支持体 ：下引き済ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム。
ルム。
【００４１】減圧度 ：２０ｍｍＡｑ ビードギャップ：１００μｍ 塗布速度 ：１００ｍ／ｍｉｎ 上記２層を同時に図１に示す装置を用いて塗布を行っ
た。この結果、塗布ムラが大幅に改善された塗布性であ
った。
た。この結果、塗布ムラが大幅に改善された塗布性であ
った。
【００４２】実施例２．塗布速度、ｗｅｔ膜厚以外は実
施例１と同じ条件で塗布を行った。
施例１と同じ条件で塗布を行った。
【００４３】 実施例１よりも塗布ムラが改善された塗布性であった。
【００４４】実施例３．下記条件で塗布を行った。
【００４５】下層塗布液：所定の添加剤、ゼラチンを含
む溶液で、３５℃において２５ｃｐの粘度を有し、ｗｅ
ｔ膜厚は１３μｍである。
む溶液で、３５℃において２５ｃｐの粘度を有し、ｗｅ
ｔ膜厚は１３μｍである。
【００４６】表面張力５０ｄｙｎ／ｃｍ 中間層塗布液：所定の添加剤、ゼラチンを含むハロゲン
化銀乳剤で、３５℃において２５ｃｐの粘度を有し、ｗ
ｅｔ膜厚は２５μｍである。
化銀乳剤で、３５℃において２５ｃｐの粘度を有し、ｗ
ｅｔ膜厚は２５μｍである。
【００４７】表面張力は６０ｄｙｎ／ｃｍ 上層塗布液：所定の添加剤、ゼラチン、界面活性剤を含
む溶液で、３５℃において１５ｃｐの粘度を有し、ｗｅ
ｔ膜厚は１２μｍである。
む溶液で、３５℃において１５ｃｐの粘度を有し、ｗｅ
ｔ膜厚は１２μｍである。
【００４８】表面張力３０ｄｙｎ／ｃｍ 支持体 ：下引き済ポリエチレンテレフタレートフィ
ルム。
ルム。
【００４９】減圧度 ：３０ｍｍＡｑ ビードギャップ：１００μｍ 塗布速度 ：１１０ｍ／ｍｉｎ 層数が増えても実施例１と同様の塗布性が得られた。
【００５０】以下に、比較例（図２（ｄ）に示す構造の
減圧室を同一条件で使用した例）を含めた実験結果を表
２、表３、表４で示す。
減圧室を同一条件で使用した例）を含めた実験結果を表
２、表３、表４で示す。
【００５１】なお、効果は塗布ムラ発生を指標とし、下
表を利用して視評価した。
表を利用して視評価した。
【００５２】
【表１】
【００５３】評価方法Ａ：塗布乾燥後の試料をそのまま
目視評価。
目視評価。
【００５４】評価方法Ｂ：塗布乾燥後の試料を、１７５
線の網点露光現像処理し、その試料を目視評価。
線の網点露光現像処理し、その試料を目視評価。
【００５５】評価方法Ｃ：塗布乾燥後の試料を、濃度が
１．０になるように全面露光及び現像処理を行い、その
試料を目視評価。
１．０になるように全面露光及び現像処理を行い、その
試料を目視評価。
【００５６】以上の３つの評価を行い、その都度何処に
ランクされるかをプロットし、総合ランクを決定し、か
つ、製品としての問題の有無を評価した。
ランクされるかをプロットし、総合ランクを決定し、か
つ、製品としての問題の有無を評価した。
【００５７】実施例１の結果
【００５８】
【表２】
【００５９】実施例２の結果
【００６０】
【表３】
【００６１】実施例３の結果
【００６２】
【表４】
【００６３】
【発明の効果】本発明によって、スライドビード塗布に
おける減圧室の構造を改良する事により、高速塗布、薄
膜塗布、あるいは、高速薄膜塗布時においてもビードの
形状を安定に保つことができ、塗布の自由度を広げる事
ができる。また、すぐれた塗布性を有する材料を提供で
きる。
おける減圧室の構造を改良する事により、高速塗布、薄
膜塗布、あるいは、高速薄膜塗布時においてもビードの
形状を安定に保つことができ、塗布の自由度を広げる事
ができる。また、すぐれた塗布性を有する材料を提供で
きる。
【図面の簡単な説明】
【図１】塗布装置の概略を示す。
【図２】減圧室の構造を示し、（ａ）（ｂ）（ｃ）は本
発明に係わる実施態様であり、（ｄ）は従来例である。
発明に係わる実施態様であり、（ｄ）は従来例である。
１ バックアップローラ ２ 支持体 ３ 塗布液層 ４ ビード ２０ ビード塗布装置 ２１ 塗布液用ポンプ ２２ スリット ２３ リップ部 ３０ 減圧室 ３１ 壁 ３２ 吸引口 ３３ 減圧ポンプ
Claims (6)
- 【請求項１】 ウェブ状の支持体を走行可能に保持する
保持手段と、前記支持体に塗布液を塗布するビード塗布
装置と、当該ビード塗布装置の塗布部に減圧を付与すべ
く前記支持体の走行方向において前記ビード塗布装置の
手前側に設けた減圧室とを有する塗布装置において、前
記減圧室を構成する１つの壁面に塗布巾方向に沿った減
圧吸引口を設けた事を特徴とする塗布装置。 - 【請求項２】 前記減圧吸引口は連続的に形成した開口
からなる請求項１に記載の塗布装置。 - 【請求項３】 前記減圧吸引口は面積が１ｃｍ2以下の
小孔の集合体で構成されている請求項１に記載の塗布装
置。 - 【請求項４】 前記減圧吸引口は塗布巾方向に設けた複
数の開口からなる請求項１に記載の塗布装置。 - 【請求項５】 ビード塗布装置を用いるとともに、塗布
部におけるビードの状態を安定化させるべく塗布巾方向
に沿った減圧吸引口を設けてなる減圧室内の減圧度を３
０ｍｍＡｑ以上に保つとともに、支持体を速度１１０ｍ
／ｍｉｎ以上で連続して走行させ、かつ、塗布時の総膜
厚が５０μｍ以下となるように塗布液を塗布する事を特
徴とする塗布方法。 - 【請求項６】 ビード塗布装置を用いるとともに、塗布
巾方向に沿った減圧吸引口を設けてなる減圧室内の減圧
度を３０ｍｍＡｑ以上に保つとともに、支持体を速度１
１０ｍ／ｍｉｎ以上で連続走行させ、塗布時の総膜厚が
５０μｍ以下となるように塗布液を塗布し、乾燥して得
られた写真感光材料。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35305697A JPH11179261A (ja) | 1997-12-22 | 1997-12-22 | 塗布装置、塗布方法及びその塗布方法により製造した写真感光材料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35305697A JPH11179261A (ja) | 1997-12-22 | 1997-12-22 | 塗布装置、塗布方法及びその塗布方法により製造した写真感光材料 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11179261A true JPH11179261A (ja) | 1999-07-06 |
Family
ID=18428273
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35305697A Pending JPH11179261A (ja) | 1997-12-22 | 1997-12-22 | 塗布装置、塗布方法及びその塗布方法により製造した写真感光材料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11179261A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008023405A (ja) * | 2006-07-18 | 2008-02-07 | Toray Eng Co Ltd | 塗工装置 |
| JP2017006835A (ja) * | 2015-06-19 | 2017-01-12 | 東レフィルム加工株式会社 | 塗布装置、塗布方法、及びそれを用いた積層フィルムの製造方法 |
-
1997
- 1997-12-22 JP JP35305697A patent/JPH11179261A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008023405A (ja) * | 2006-07-18 | 2008-02-07 | Toray Eng Co Ltd | 塗工装置 |
| JP4673261B2 (ja) * | 2006-07-18 | 2011-04-20 | 東レエンジニアリング株式会社 | 塗工装置 |
| JP2017006835A (ja) * | 2015-06-19 | 2017-01-12 | 東レフィルム加工株式会社 | 塗布装置、塗布方法、及びそれを用いた積層フィルムの製造方法 |
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