JPH054063A - 塗布装置 - Google Patents
塗布装置Info
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- JPH054063A JPH054063A JP15470891A JP15470891A JPH054063A JP H054063 A JPH054063 A JP H054063A JP 15470891 A JP15470891 A JP 15470891A JP 15470891 A JP15470891 A JP 15470891A JP H054063 A JPH054063 A JP H054063A
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- coating
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- labyrinth seal
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 ビード塗布装置において、ビードの上流側を
減圧し、塗布する際、減圧室を多段とし、かつ減圧室の
間及び／又は両サイドにラビリンスシールを設け、各減
圧室より独立に減圧することを特徴とする塗布装置によ
り達成。 【効果】 減圧チャンバーを有するビード塗布装置にお
いて、100mmAq以下のような高減圧にしても安定なビー
ド形成を可能とし、塗布故障を抑制できる塗布装置の提
供。
減圧し、塗布する際、減圧室を多段とし、かつ減圧室の
間及び／又は両サイドにラビリンスシールを設け、各減
圧室より独立に減圧することを特徴とする塗布装置によ
り達成。 【効果】 減圧チャンバーを有するビード塗布装置にお
いて、100mmAq以下のような高減圧にしても安定なビー
ド形成を可能とし、塗布故障を抑制できる塗布装置の提
供。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はビード塗布装置における
減圧装置に関する。
減圧装置に関する。
【０００２】
【発明の背景】ビード塗布装置の例としては、スライド
ビード塗布あるいは押し出しビード塗布装置が知られて
いる。一般にビード塗布においては、その塗布機先端
（リップ部）とウェブ（可撓性長尺支持体）との間に形
成されるビードと称する塗布液溜まりを介して、ウェブ
上に１層あるいは複数の塗布液層が同時に塗布される。
ビード塗布あるいは押し出しビード塗布装置が知られて
いる。一般にビード塗布においては、その塗布機先端
（リップ部）とウェブ（可撓性長尺支持体）との間に形
成されるビードと称する塗布液溜まりを介して、ウェブ
上に１層あるいは複数の塗布液層が同時に塗布される。
【０００３】このようなビード塗布においてはビードの
安定性が塗布の安定性に大きな影響をもつ。ビードの安
定性は種々な因子、例えば塗布液物性（濃度、粘度、表
面張力等）、塗布条件（速度、コーター間隙、流量等）
等により影響される。
安定性が塗布の安定性に大きな影響をもつ。ビードの安
定性は種々な因子、例えば塗布液物性（濃度、粘度、表
面張力等）、塗布条件（速度、コーター間隙、流量等）
等により影響される。
【０００４】このようなビード塗布装置、例えばスライ
ドビード塗布装置は、ハロゲン化銀写真感光材料の塗布
装置として広く使用されている。
ドビード塗布装置は、ハロゲン化銀写真感光材料の塗布
装置として広く使用されている。
【０００５】このようなビード安定のために、ビードの
上流側と下流側に圧力差、具体的には下流側を減圧する
方法が広く用いられている。このためにビード塗布にお
いては上流側（塗布前側）に減圧室を設ける。このよう
な減圧室はビード安定のため非常に有効であるが、減圧
室はウェブまたはバックロールとの間に接触を防ぐた
め、通常300〜400μmの隙間があり、このためにこの隙
間から空気が流入し、減圧状態が乱され、したがってビ
ードが乱される。例えばウェブ進行方向では筋故障が発
生し、サイド方向ではアバラむらの発生があり、場合に
よってはサイドより液切れが発生することがある。
上流側と下流側に圧力差、具体的には下流側を減圧する
方法が広く用いられている。このためにビード塗布にお
いては上流側（塗布前側）に減圧室を設ける。このよう
な減圧室はビード安定のため非常に有効であるが、減圧
室はウェブまたはバックロールとの間に接触を防ぐた
め、通常300〜400μmの隙間があり、このためにこの隙
間から空気が流入し、減圧状態が乱され、したがってビ
ードが乱される。例えばウェブ進行方向では筋故障が発
生し、サイド方向ではアバラむらの発生があり、場合に
よってはサイドより液切れが発生することがある。
【０００６】このため例えば実開昭60-193269号にはウ
ェブの進行方向の前部（塗布上流側）のバックロールと
減圧室との間に、巾方向にロールを設けることによりこ
の隙間を実質的に無くす方法が開示されている。
ェブの進行方向の前部（塗布上流側）のバックロールと
減圧室との間に、巾方向にロールを設けることによりこ
の隙間を実質的に無くす方法が開示されている。
【０００７】また、特開昭61-11173号には減圧室の上流
側にラビリンスシールを設けることにより安定な高減圧
を得る方法が開示されている。
側にラビリンスシールを設けることにより安定な高減圧
を得る方法が開示されている。
【０００８】サイドについては例えば特開昭55-3860号
には減圧室を塗布巾手に３分割し、両サイドの減圧を強
めビードのサイドからの切れを防ぎ、ビードの安定をは
かる方法が開示されているさらに特開昭59-183859号に
は、減圧室をバックロールに対して同心円状とし、減圧
室を２分割し、それぞれの室は連通している方法が開示
されている。
には減圧室を塗布巾手に３分割し、両サイドの減圧を強
めビードのサイドからの切れを防ぎ、ビードの安定をは
かる方法が開示されているさらに特開昭59-183859号に
は、減圧室をバックロールに対して同心円状とし、減圧
室を２分割し、それぞれの室は連通している方法が開示
されている。
【０００９】以上の技術はいずれも主としてハロゲン化
銀写真感光材料を対象としその減圧度も50mmAq程度で十
分な効果が得られる。しかしながら、さらに高粘度での
塗布、薄膜高速での塗布を必要とする場合、例えばハロ
ゲン化銀写真感光材料の下引層、あるいはＰＳ版等の塗
布においては、100mmAq以上のような高減圧が必要とな
るが、このような高減圧度で安定なビードを得るために
は、上記のような方法では充分に対応することはできな
い。
銀写真感光材料を対象としその減圧度も50mmAq程度で十
分な効果が得られる。しかしながら、さらに高粘度での
塗布、薄膜高速での塗布を必要とする場合、例えばハロ
ゲン化銀写真感光材料の下引層、あるいはＰＳ版等の塗
布においては、100mmAq以上のような高減圧が必要とな
るが、このような高減圧度で安定なビードを得るために
は、上記のような方法では充分に対応することはできな
い。
【００１０】
【発明の目的】上記のような問題に対し、本発明の目的
は減圧室を有するビード塗布装置において、減圧度100m
mAq以上のような高減圧にしても安定なビード形成を可
能とし、塗布故障を抑制できる塗布装置を提供すること
である。
は減圧室を有するビード塗布装置において、減圧度100m
mAq以上のような高減圧にしても安定なビード形成を可
能とし、塗布故障を抑制できる塗布装置を提供すること
である。
【００１１】
【発明の構成】本発明の上記目的は、ビード塗布装置に
おいて、ビードの上流側を減圧し、塗布する際、減圧室
を多段とし、かつ減圧室の間、又は両サイドにラビリン
スシールを設け、各減圧室より独立に減圧することを特
徴とする塗布装置により達成される。
おいて、ビードの上流側を減圧し、塗布する際、減圧室
を多段とし、かつ減圧室の間、又は両サイドにラビリン
スシールを設け、各減圧室より独立に減圧することを特
徴とする塗布装置により達成される。
【００１２】以下、本発明について具体的に説明する。従
来のビード塗布における減圧度は、前記のとおり概ね50
mmAq以下であるが、減圧度が本発明におけるように100m
mAq以上になるとバックロールと減圧室との隙間より吸
引される風速はかなりの速さになる。例えば減圧室内外
の圧力差が100mmAqであるとほぼ40m/secになり、ビード
に対する影響は格段に大きくなるため従来とは異なる対
策が必要である。
来のビード塗布における減圧度は、前記のとおり概ね50
mmAq以下であるが、減圧度が本発明におけるように100m
mAq以上になるとバックロールと減圧室との隙間より吸
引される風速はかなりの速さになる。例えば減圧室内外
の圧力差が100mmAqであるとほぼ40m/secになり、ビード
に対する影響は格段に大きくなるため従来とは異なる対
策が必要である。
【００１３】したがって図８に示すような多段であって
も、従来のタイプでは対応が不充分である。図８は従来
の２段減圧室の１例を備えたビード塗布装置の断面図で
ある。同図にみられるように吸引口が１つで各室の間が
連通している。このような減圧室のタイプで高減圧条件
に対応するためには大容量の減圧源、減圧室が必要とな
る。図１は、本発明における減圧室間にラビリンスシー
ルを備えたビード塗布装置の１例を示す断面図である。
同図において減圧室10は３室11,12,13に分割され、ラビ
リンスシール４は減圧室11,13の間の12に設けられ、減
圧室11,13はそれぞれ独立に減圧する方式になってい
る。さらに減圧室11，及びラビリンスシール４は減圧室
13をかこむ様に配置されている。図２は同じく上面図で
あって塗布幅に相当するビード直下の減圧室13を囲んで
ラビリンスシール４を配し、その外側に減圧室11を設け
ている。
も、従来のタイプでは対応が不充分である。図８は従来
の２段減圧室の１例を備えたビード塗布装置の断面図で
ある。同図にみられるように吸引口が１つで各室の間が
連通している。このような減圧室のタイプで高減圧条件
に対応するためには大容量の減圧源、減圧室が必要とな
る。図１は、本発明における減圧室間にラビリンスシー
ルを備えたビード塗布装置の１例を示す断面図である。
同図において減圧室10は３室11,12,13に分割され、ラビ
リンスシール４は減圧室11,13の間の12に設けられ、減
圧室11,13はそれぞれ独立に減圧する方式になってい
る。さらに減圧室11，及びラビリンスシール４は減圧室
13をかこむ様に配置されている。図２は同じく上面図で
あって塗布幅に相当するビード直下の減圧室13を囲んで
ラビリンスシール４を配し、その外側に減圧室11を設け
ている。
【００１４】図３は、本発明の減圧室サイドにラビリン
スシールを備えたビード塗布装置の１例を示す断面図で
ある。図４は同じく減圧室の上面図である。同図におい
て、塗布装置３に対して13室がビード直下の減圧室で上
流側に順次減圧室12,13が設置され、それぞれ独立に減
圧条件を設定することができる。これらの減圧室の側面
にラビリンスシール４が設置されている。図５は同じく
ラビリンスシールの設置状態を示す斜視図である。
スシールを備えたビード塗布装置の１例を示す断面図で
ある。図４は同じく減圧室の上面図である。同図におい
て、塗布装置３に対して13室がビード直下の減圧室で上
流側に順次減圧室12,13が設置され、それぞれ独立に減
圧条件を設定することができる。これらの減圧室の側面
にラビリンスシール４が設置されている。図５は同じく
ラビリンスシールの設置状態を示す斜視図である。
【００１５】本発明でいうラビリンスシールとは、一般
に回転軸に対する気体の軸封装置に用いられているもの
と考え方は同じである。すなわち圧力差によりバックロ
ールと減圧室との隙間から吸引される空気は何回も狭い
隙間を通り抜け、その都度圧力降下をうけ風速を減ずる
のである。図６は減圧室の側面に設けられる全長ｌのラ
ビリンスシールの１例である。ラビリンスシール４は厚
みk、高さｈ、ピッチｐでバックロール２の軸に対向し
て設けられたシール片41,42,43,及び44で内法幅ｗに仕
切られた気室Ｇ1，Ｇ2及びＧ3を有し、各シール片の上
縁とバックロール２の円筒面との間隙をｍに保って減圧
室10の側面に固定されている。
に回転軸に対する気体の軸封装置に用いられているもの
と考え方は同じである。すなわち圧力差によりバックロ
ールと減圧室との隙間から吸引される空気は何回も狭い
隙間を通り抜け、その都度圧力降下をうけ風速を減ずる
のである。図６は減圧室の側面に設けられる全長ｌのラ
ビリンスシールの１例である。ラビリンスシール４は厚
みk、高さｈ、ピッチｐでバックロール２の軸に対向し
て設けられたシール片41,42,43,及び44で内法幅ｗに仕
切られた気室Ｇ1，Ｇ2及びＧ3を有し、各シール片の上
縁とバックロール２の円筒面との間隙をｍに保って減圧
室10の側面に固定されている。
【００１６】気室の数、厚み、高さ、内法幅等は塗布条
件に合わせて設定される。
件に合わせて設定される。
【００１７】本発明においては
１≧10mm 20mm≧ｍ≧0.1mm 30≧ｈ≧0.2
5.0mm≧ｋ
等が一般的塗布条件において好ましく選ばれるが、必ず
しもこれに限定されない。
しもこれに限定されない。
【００１８】またシール片の上縁部の形状は、図７に種
々な形の断面図を挙げたがこれらに限定されず、いかな
る形でもよいが成型加工が簡単で汚れが少なく、洗浄し
易いものが好ましい。ラビリンスシールの材質として
は、テフロン、ポリエチレン、ナイロン、ポリプロピレ
ン等が好ましい。
々な形の断面図を挙げたがこれらに限定されず、いかな
る形でもよいが成型加工が簡単で汚れが少なく、洗浄し
易いものが好ましい。ラビリンスシールの材質として
は、テフロン、ポリエチレン、ナイロン、ポリプロピレ
ン等が好ましい。
【００１９】本発明では高減圧を目的としており、前記
のように従来の減圧室ではバックロールと減圧室の隙間
から流入する風速はかなりの大きさになるが、本発明の
方法では、図１においてまず第１段の減圧室11で減圧
し、さらにラビリンスシール４を通過させ、しかも減圧
室11及びラビリンスシール４は減圧室13を囲む様に配置
することにより減圧室13と11との間の流入風速を大幅に
減ずることによりビードに対する流入風による乱れをな
くす効果がでてくるのである。
のように従来の減圧室ではバックロールと減圧室の隙間
から流入する風速はかなりの大きさになるが、本発明の
方法では、図１においてまず第１段の減圧室11で減圧
し、さらにラビリンスシール４を通過させ、しかも減圧
室11及びラビリンスシール４は減圧室13を囲む様に配置
することにより減圧室13と11との間の流入風速を大幅に
減ずることによりビードに対する流入風による乱れをな
くす効果がでてくるのである。
【００２０】上記のような隙間からの流入はビードの側
面についても起こり、あばらむらあるいは液切れの原因
となる。図３における方法では減圧室の側面にラビリン
スシール４を配することにより同様な効果を期待してい
る。
面についても起こり、あばらむらあるいは液切れの原因
となる。図３における方法では減圧室の側面にラビリン
スシール４を配することにより同様な効果を期待してい
る。
【００２１】
【実施例】以下、実施例により本発明の効果を例証す
る。
る。
【００２２】実施例１
（塗布条件）図１、図２に示す減圧室を有する押し出し
塗布装置 塗布幅 1200mm、 塗布速度 80mm/min、 塗布膜厚 30μm 塗布間隙 100μm、 減圧度 -300mmAq、 第３減圧室11 -300mmAq、 第１減圧室13 -100mmAq、 ラビリンスシール４ 全長ｌ l20mm、 内法幅ｗ 5.5mm、 間隙ｍ 0.2mm 厚みＫ ３mm、 高さｈ ４mm、 （塗布液） クレゾール樹脂 15重量部 メチルセロソルブ 32.6重量部 エチルセロソルブ 52.2重量部 ビクトリアルピュアブルーＢＯＨ 0.1重量部 粘度 10cp、 表面張力 30dyne/cm 問題なく塗布を行うことができた。
塗布装置 塗布幅 1200mm、 塗布速度 80mm/min、 塗布膜厚 30μm 塗布間隙 100μm、 減圧度 -300mmAq、 第３減圧室11 -300mmAq、 第１減圧室13 -100mmAq、 ラビリンスシール４ 全長ｌ l20mm、 内法幅ｗ 5.5mm、 間隙ｍ 0.2mm 厚みＫ ３mm、 高さｈ ４mm、 （塗布液） クレゾール樹脂 15重量部 メチルセロソルブ 32.6重量部 エチルセロソルブ 52.2重量部 ビクトリアルピュアブルーＢＯＨ 0.1重量部 粘度 10cp、 表面張力 30dyne/cm 問題なく塗布を行うことができた。
【００２３】実施例２
塗布装置として側面にラビリンスシールを有する図３、
図４の装置を用いた他は実施例１と同様の条件で塗布を
行った。
図４の装置を用いた他は実施例１と同様の条件で塗布を
行った。
【００２４】その結果特に問題なく塗布を行うことがで
きた。
きた。
【００２５】比較例
（塗布条件）図８に示す減圧室を有する押し出し塗布装
置下記減圧条件以外は実施例と同じ第２減圧室を-300mm
Aqとするためには第１減圧室を-1000mmAqとすることが
必要であった。また、側面の減圧度が不充分であるために
塗布途中でストリップ状となってしまった。 結果 前記のとおり比較例では高減圧源を必要とし、しかも塗
布途中でストリップ状になってしまった。
置下記減圧条件以外は実施例と同じ第２減圧室を-300mm
Aqとするためには第１減圧室を-1000mmAqとすることが
必要であった。また、側面の減圧度が不充分であるために
塗布途中でストリップ状となってしまった。 結果 前記のとおり比較例では高減圧源を必要とし、しかも塗
布途中でストリップ状になってしまった。
【００２６】図９に減圧室13におけるビード近くの塗布
幅方向に対する減圧度の状態を示す。同図において、点
線は比較例で実線は本発明の実施例１，２を示す。縦軸
は減圧度を示し、横軸は塗布幅センターを中心に左右の
幅方向の距離を示す。この結果から比較例では左右の減
圧度が低下し、本発明の実施例では幅方向における減圧
状態も良好であることがわかる。
幅方向に対する減圧度の状態を示す。同図において、点
線は比較例で実線は本発明の実施例１，２を示す。縦軸
は減圧度を示し、横軸は塗布幅センターを中心に左右の
幅方向の距離を示す。この結果から比較例では左右の減
圧度が低下し、本発明の実施例では幅方向における減圧
状態も良好であることがわかる。
【００２７】
【発明の効果】本発明により、減圧室を有するビード塗
布装置において、減圧度100mmAq以上のような高減圧に
しても安定なビード形成を可能とし、塗布故障を抑制で
きる塗布装置を提供することができた。
布装置において、減圧度100mmAq以上のような高減圧に
しても安定なビード形成を可能とし、塗布故障を抑制で
きる塗布装置を提供することができた。
【図１】本発明の多段減圧室および減圧室間にラビリン
スシールを備えた塗布装置の断面図。
スシールを備えた塗布装置の断面図。
【図２】図１の装置の上面図。
【図３】本発明の多段減圧室および側面にラビリンスシ
ールを備えた塗布装置の断面図。
ールを備えた塗布装置の断面図。
【図４】図３の装置の上面図。
【図５】減圧室側面に設けたラビリンスシールの斜視
図。
図。
【図６】減圧室側面に設けたラビリンスシールの断面
図。
図。
【図７】ラビリンスシール片の種々な形状の断面図。
【図８】従来の減圧室の断面図。
【図９】塗布幅位置と減圧度の関係を示すグラフ。
１ ウェブ
２ バックロール
３ 塗布装置
４ ラビリンスシール10
減圧装置
11 第３減圧室
12 第２減圧室
13 第１減圧室
Claims (2)
- 【請求項１】 ビード塗布装置において、ビードの上流
側を減圧し、塗布する際、減圧室を多段とし、かつ減圧
室間にラビリンスシールを設け、各減圧室より独立に減
圧することを特徴とする塗布装置。 - 【請求項２】 ビード塗布装置において、ビードの上流
側を減圧し、塗布する際、減圧室を多段とし、かつ減圧
室の両サイドにラビリンスシールを設け、各減圧室より
独立に減圧することを特徴とする塗布装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15470891A JPH054063A (ja) | 1991-06-26 | 1991-06-26 | 塗布装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15470891A JPH054063A (ja) | 1991-06-26 | 1991-06-26 | 塗布装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH054063A true JPH054063A (ja) | 1993-01-14 |
Family
ID=15590223
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15470891A Pending JPH054063A (ja) | 1991-06-26 | 1991-06-26 | 塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH054063A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003053233A (ja) * | 2001-08-22 | 2003-02-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 塗工装置 |
| JP2008023405A (ja) * | 2006-07-18 | 2008-02-07 | Toray Eng Co Ltd | 塗工装置 |
| JP2011067768A (ja) * | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 塗布装置および塗布方法 |
| CN105983511A (zh) * | 2015-03-19 | 2016-10-05 | 东丽薄膜先端加工有限公司 | 涂布装置和涂布方法 |
| JP2020175639A (ja) * | 2019-04-17 | 2020-10-29 | イーエスイージャパン株式会社 | 真空スキージ機構を具備したスクリーン印刷機 |
-
1991
- 1991-06-26 JP JP15470891A patent/JPH054063A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003053233A (ja) * | 2001-08-22 | 2003-02-25 | Dainippon Printing Co Ltd | 塗工装置 |
| JP2008023405A (ja) * | 2006-07-18 | 2008-02-07 | Toray Eng Co Ltd | 塗工装置 |
| JP4673261B2 (ja) * | 2006-07-18 | 2011-04-20 | 東レエンジニアリング株式会社 | 塗工装置 |
| JP2011067768A (ja) * | 2009-09-25 | 2011-04-07 | Dainippon Printing Co Ltd | 塗布装置および塗布方法 |
| CN105983511A (zh) * | 2015-03-19 | 2016-10-05 | 东丽薄膜先端加工有限公司 | 涂布装置和涂布方法 |
| CN105983511B (zh) * | 2015-03-19 | 2019-07-23 | 东丽薄膜先端加工有限公司 | 涂布装置和涂布方法 |
| JP2020175639A (ja) * | 2019-04-17 | 2020-10-29 | イーエスイージャパン株式会社 | 真空スキージ機構を具備したスクリーン印刷機 |
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