JPH08332444A - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
- Publication number
- JPH08332444A JPH08332444A JP14051395A JP14051395A JPH08332444A JP H08332444 A JPH08332444 A JP H08332444A JP 14051395 A JP14051395 A JP 14051395A JP 14051395 A JP14051395 A JP 14051395A JP H08332444 A JPH08332444 A JP H08332444A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- bead
- decompression chamber
- pressure
- decompression
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 スライドビード塗布装置を用いて、支持体上
に、塗布ムラのない高品質の乳剤塗布がなされ、高速度
でしかも薄膜の塗布においても、また、単層だけでなく
多層の塗布においても、十分満足できる塗布が達成でき
る塗布方法を提供する。 【構成】 スライドホッパー上の塗布液のビードを維持
する手段として、連続的に走行する支持体の上流側を減
圧する塗布方法において、減圧室の塗布幅方向の両側に
有する側壁を二重構造にした減圧装置を設け、前記減圧
室の前記ビードを維持する中央部のビード減圧室と、両
側の二重構造部の二つの壁に挟まれて形成される端部減
圧室との各減圧度の間の差圧を小さくして塗布を行うこ
とを特徴とする塗布方法。
に、塗布ムラのない高品質の乳剤塗布がなされ、高速度
でしかも薄膜の塗布においても、また、単層だけでなく
多層の塗布においても、十分満足できる塗布が達成でき
る塗布方法を提供する。 【構成】 スライドホッパー上の塗布液のビードを維持
する手段として、連続的に走行する支持体の上流側を減
圧する塗布方法において、減圧室の塗布幅方向の両側に
有する側壁を二重構造にした減圧装置を設け、前記減圧
室の前記ビードを維持する中央部のビード減圧室と、両
側の二重構造部の二つの壁に挟まれて形成される端部減
圧室との各減圧度の間の差圧を小さくして塗布を行うこ
とを特徴とする塗布方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はスライドホッパーを用い
て支持体上に塗布液を塗布する塗布方法に関する。
て支持体上に塗布液を塗布する塗布方法に関する。
【0002】
【従来の技術】スライドホッパーによるスライドビード
塗布については、USP2,681,694号公報、同
2,761,419号公報、同2,761,179号公
報及びBP837,095号公報に開示されたものがあ
る。
塗布については、USP2,681,694号公報、同
2,761,419号公報、同2,761,179号公
報及びBP837,095号公報に開示されたものがあ
る。
【0003】また、減圧装置の減圧室の両側構造に関し
ては特公昭59−27232号、特開昭59−1838
59号、特開昭61−11173号、特開平3−242
258号の各公報に開示されたものがある。
ては特公昭59−27232号、特開昭59−1838
59号、特開昭61−11173号、特開平3−242
258号の各公報に開示されたものがある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】スライドホッパー型に
代表されるビード塗布は、単層又は多層の塗布液が塗布
機エッジのリップ部においてビードと称するリボン状液
溜まりを介して支持体上に塗布する方法である。したが
って、このようなビード塗布においてはビードの安定性
が塗布に対して非常に重要である。ビードは塗布液物
性、塗布速度等の塗布条件の影響を受け易く、特に、高
速薄膜塗布においてはビードは不安定になりやすい。
代表されるビード塗布は、単層又は多層の塗布液が塗布
機エッジのリップ部においてビードと称するリボン状液
溜まりを介して支持体上に塗布する方法である。したが
って、このようなビード塗布においてはビードの安定性
が塗布に対して非常に重要である。ビードは塗布液物
性、塗布速度等の塗布条件の影響を受け易く、特に、高
速薄膜塗布においてはビードは不安定になりやすい。
【0005】このようなビードの安定性に対しては、U
SP2,681,694号公報に開示されているように
ビードの上下に圧力差、具体的にはビードの下部に減圧
室を設けることによって、ビードを下方に引っ張り安定
させる方法が一般にとられている。
SP2,681,694号公報に開示されているように
ビードの上下に圧力差、具体的にはビードの下部に減圧
室を設けることによって、ビードを下方に引っ張り安定
させる方法が一般にとられている。
【0006】しかし、このような従来技術としては、前
掲の特公昭59−27232のように減圧室の両端を二
重構造にして両端部の減圧度を中央部のそれよりも強く
したり、特開昭59−183859のように減圧室の三
方を二重構造とする方法があるが、ビード近傍のエアー
流れは吸引される方向、つまり幅方向の流れになってし
まい、幅手の減圧変動等の原因となり塗布ムラを発生す
ることが本発明者によって分かって来た。また、特開昭
61−11173のように減圧室側壁を非接触なラビリ
ンスシール構造とする技術が開示されているが完全には
幅方向の流れを抑さえきれていない。更に、特開平3−
242258に開示されている方法では、塗布開始前に
隔壁上に塗布液が付着して支持体を汚したり、塗布ビー
ドに直に幅手圧力分布ができてしまい、好ましくない。
掲の特公昭59−27232のように減圧室の両端を二
重構造にして両端部の減圧度を中央部のそれよりも強く
したり、特開昭59−183859のように減圧室の三
方を二重構造とする方法があるが、ビード近傍のエアー
流れは吸引される方向、つまり幅方向の流れになってし
まい、幅手の減圧変動等の原因となり塗布ムラを発生す
ることが本発明者によって分かって来た。また、特開昭
61−11173のように減圧室側壁を非接触なラビリ
ンスシール構造とする技術が開示されているが完全には
幅方向の流れを抑さえきれていない。更に、特開平3−
242258に開示されている方法では、塗布開始前に
隔壁上に塗布液が付着して支持体を汚したり、塗布ビー
ドに直に幅手圧力分布ができてしまい、好ましくない。
【0007】本発明は、このような問題点を解決して、
高速塗布においても塗布ムラを起こすことのない安定し
た高品質の塗布仕上がりのできる塗布方法を提供するこ
とを課題目的にする。
高速塗布においても塗布ムラを起こすことのない安定し
た高品質の塗布仕上がりのできる塗布方法を提供するこ
とを課題目的にする。
【0008】
【課題を解決するための手段】この目的は次の技術手段
(1)又は(2)によって達成される。
(1)又は(2)によって達成される。
【0009】(1) スライドホッパー上の塗布液のビ
ードを維持する手段として、連続的に走行する支持体の
上流側を減圧する塗布方法において、減圧室の塗布幅方
向の両側に有する側壁を二重構造にした減圧装置を設
け、前記減圧室の前記ビードを維持する中央部のビード
減圧室と、両側の二重構造部の二つの壁に挟まれて形成
される端部減圧室との各減圧度の間の差圧を小さくして
塗布を行うことを特徴とする塗布方法。
ードを維持する手段として、連続的に走行する支持体の
上流側を減圧する塗布方法において、減圧室の塗布幅方
向の両側に有する側壁を二重構造にした減圧装置を設
け、前記減圧室の前記ビードを維持する中央部のビード
減圧室と、両側の二重構造部の二つの壁に挟まれて形成
される端部減圧室との各減圧度の間の差圧を小さくして
塗布を行うことを特徴とする塗布方法。
【0010】(2) 前記減圧室の中央部のビード減圧
室の減圧度は−10〜−100mmAqであり、前記両
側の二重構造部の端部減圧室の減圧度との差圧は±10
mmAq以内であることを特徴とする(1)項に記載の
塗布方法。
室の減圧度は−10〜−100mmAqであり、前記両
側の二重構造部の端部減圧室の減圧度との差圧は±10
mmAq以内であることを特徴とする(1)項に記載の
塗布方法。
【0011】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を作用と共に詳
細に説明するが、本発明の態様はこれに限定されるもの
ではない。
細に説明するが、本発明の態様はこれに限定されるもの
ではない。
【0012】先ず、本発明の塗布方法に用いる塗布装置
を図1の斜視図及び図2の側断面図を用いて説明する。
単層又は重層の塗布がなされる写真感光材料の各乳剤塗
布液はスライドビード塗布装置3のスリット5を通って
流下面4上に送られ、該流下面4上を、両側の塗布幅規
制板8によって流下幅を規制されながら流下し、リップ
部6でビード18を形成し、該ビード18はバックアッ
プローラ1に巻回して搬送される連続支持体2上に接液
して塗布される。
を図1の斜視図及び図2の側断面図を用いて説明する。
単層又は重層の塗布がなされる写真感光材料の各乳剤塗
布液はスライドビード塗布装置3のスリット5を通って
流下面4上に送られ、該流下面4上を、両側の塗布幅規
制板8によって流下幅を規制されながら流下し、リップ
部6でビード18を形成し、該ビード18はバックアッ
プローラ1に巻回して搬送される連続支持体2上に接液
して塗布される。
【0013】また、図3の部分正面断面図に示すよう
に、リップ部6の下方には減圧室10が設けられてい
る。減圧室10は隔壁13で中央部のビード減圧室15
と両側の端部減圧室14に仕切られている。即ち、両側
部が二重構造になっている。このようにビード減圧室1
5と端部減圧室14が完全に区切られている場合は両室
を別々のブロアーからのパイプ18,19で減圧するよ
うにしてある。この実施例の変形例としては図4の部分
正面断面図に示すようにビード減圧室を単独のブロック
のビード減圧室15Aとして中央部に設け、該ビード減
圧室の両側の外壁にそれぞれ端部減圧室を単独のブロッ
クの端部減圧室14Aとして取り付けたものであり、両
室とも別々のブロアーからのパイプ18,19で減圧さ
れるようにしてある。
に、リップ部6の下方には減圧室10が設けられてい
る。減圧室10は隔壁13で中央部のビード減圧室15
と両側の端部減圧室14に仕切られている。即ち、両側
部が二重構造になっている。このようにビード減圧室1
5と端部減圧室14が完全に区切られている場合は両室
を別々のブロアーからのパイプ18,19で減圧するよ
うにしてある。この実施例の変形例としては図4の部分
正面断面図に示すようにビード減圧室を単独のブロック
のビード減圧室15Aとして中央部に設け、該ビード減
圧室の両側の外壁にそれぞれ端部減圧室を単独のブロッ
クの端部減圧室14Aとして取り付けたものであり、両
室とも別々のブロアーからのパイプ18,19で減圧さ
れるようにしてある。
【0014】一方、図5の部分正面断面図に示すもの
は、図3における隔壁13のリップ部6から離れた位置
に開口17が設けられていてビード減圧室15と端部減
圧室14とは連通されている。そして両室は一つのブロ
アーで減圧されていて殆ど同じ減圧度に保持される。
は、図3における隔壁13のリップ部6から離れた位置
に開口17が設けられていてビード減圧室15と端部減
圧室14とは連通されている。そして両室は一つのブロ
アーで減圧されていて殆ど同じ減圧度に保持される。
【0015】また、図6の部分正面断面図に示すものは
ビード減圧室と端部減圧室の区切りのない従来の減圧室
15Aを示し、このビード減圧室内は減圧室側壁16と
バックアップローラ1との隙間Sからの流入エアーによ
り渦状の乱れたエアー流れとなっている。このことはト
レーサ法による可視化手段によって確認できた。このよ
うな減圧室をもつ従来の塗布装置では幅手方向のエアー
流れがビード位置まで達する程の強い渦状の流れになっ
ていることも確認できた。そして、これによって塗布ム
ラの生ずることも確かめられた。
ビード減圧室と端部減圧室の区切りのない従来の減圧室
15Aを示し、このビード減圧室内は減圧室側壁16と
バックアップローラ1との隙間Sからの流入エアーによ
り渦状の乱れたエアー流れとなっている。このことはト
レーサ法による可視化手段によって確認できた。このよ
うな減圧室をもつ従来の塗布装置では幅手方向のエアー
流れがビード位置まで達する程の強い渦状の流れになっ
ていることも確認できた。そして、これによって塗布ム
ラの生ずることも確かめられた。
【0016】そこで本発明の塗布方法では前述の図1、
図3に示したような両側部の壁を二重構造にした減圧装
置を用い、ビードを保持する中央部のビード減圧室15
と両端部の端部減圧室14との減圧度の差圧を小さくし
て塗布を行うことにより前述の幅手エアー流れをビード
手前で抑制でき塗布ムラを低減することができた。
図3に示したような両側部の壁を二重構造にした減圧装
置を用い、ビードを保持する中央部のビード減圧室15
と両端部の端部減圧室14との減圧度の差圧を小さくし
て塗布を行うことにより前述の幅手エアー流れをビード
手前で抑制でき塗布ムラを低減することができた。
【0017】中央部のビード減圧室15と両端部の端部
減圧室14との減圧度の差圧は±10mmAq以内、好
ましくは±5mmAq以内、更に好ましくは0mmAq
となる条件を得た。尚、前述のように両端部の各端部減
圧室の減圧度の確保の仕方は図3、図4のようにビード
減圧室15に対して端部減圧室14の減圧をそれぞれ独
立のブロアーで行ってもよく、図5のように両室の隔壁
13に前述の開口17を設け共通のブロアーで吸引する
ことによってもできる。即ち、どちらの構造の減圧室に
よっても前記本発明の塗布方法の条件が確保できる。
減圧室14との減圧度の差圧は±10mmAq以内、好
ましくは±5mmAq以内、更に好ましくは0mmAq
となる条件を得た。尚、前述のように両端部の各端部減
圧室の減圧度の確保の仕方は図3、図4のようにビード
減圧室15に対して端部減圧室14の減圧をそれぞれ独
立のブロアーで行ってもよく、図5のように両室の隔壁
13に前述の開口17を設け共通のブロアーで吸引する
ことによってもできる。即ち、どちらの構造の減圧室に
よっても前記本発明の塗布方法の条件が確保できる。
【0018】次に本発明の塗布方法の具体的実施結果を
例示する。
例示する。
【0019】実施例1 比較例No.4を除き図4に示す減圧装置を有する2層
用のスライドホッパー塗布装置を用いて、下記の条件で
塗布を行い塗布性の比較をした。
用のスライドホッパー塗布装置を用いて、下記の条件で
塗布を行い塗布性の比較をした。
【0020】 塗布液 上層:界面活性剤含有5%ゼラチン水溶液 ウエット膜厚25μm 粘度15mPa・s(=cp) 下層:ハロゲン化銀含有7%ゼラチン水溶液 ウエット膜厚50μm 粘度20mPa・s(=cp) 塗布速度 100m/min 結果は表1のようになる。
【0021】
【表1】
【0022】表1においてNo.4は比較例であり図6
に示すように減圧室の形状がビード減圧室だけのもので
あり、従って、減圧室の端部近傍と中央部のビード形成
部との差圧が殆ど減圧室の減圧量そのものになってい
る。
に示すように減圧室の形状がビード減圧室だけのもので
あり、従って、減圧室の端部近傍と中央部のビード形成
部との差圧が殆ど減圧室の減圧量そのものになってい
る。
【0023】No.4の比較例が塗布幅方向全面に塗布
ムラを発生したのに対して、本発明の実施例であるN
o.1〜2の場合には塗布ムラの無い良好な塗布結果が
得られた。両室間の差圧が大きくなって本発明の実施態
様の範囲外になったNo.3の場合には、塗布幅方向端
部に若干の塗布ムラの発生が認められた。
ムラを発生したのに対して、本発明の実施例であるN
o.1〜2の場合には塗布ムラの無い良好な塗布結果が
得られた。両室間の差圧が大きくなって本発明の実施態
様の範囲外になったNo.3の場合には、塗布幅方向端
部に若干の塗布ムラの発生が認められた。
【0024】実施例2 実施例1と同じ塗布装置(但し、No.3の比較例は図
6に示す減圧室を使用した)と塗布液を用いて、塗布速
度を上げることによりトータル膜厚を20%薄くした条
件で、同様に塗布性を比較した。
6に示す減圧室を使用した)と塗布液を用いて、塗布速
度を上げることによりトータル膜厚を20%薄くした条
件で、同様に塗布性を比較した。
【0025】このときの膜厚は、上層:20μm 下
層:40μmであり、塗布速度は125m/minであ
る。
層:40μmであり、塗布速度は125m/minであ
る。
【0026】この結果を表2に示す。
【0027】
【表2】
【0028】この場合でもNo.3の比較例では塗布幅
方向全面に塗布ムラが発生したり、両室間の差圧が大き
くなって本発明の実施態様の範囲外になったNo.2の
例では、塗布幅方向端部に若干の塗布ムラの発生が認め
られた。これに対して、本発明の実施例であるNo.1
では塗布ムラの無い良好な塗布結果が得られた。
方向全面に塗布ムラが発生したり、両室間の差圧が大き
くなって本発明の実施態様の範囲外になったNo.2の
例では、塗布幅方向端部に若干の塗布ムラの発生が認め
られた。これに対して、本発明の実施例であるNo.1
では塗布ムラの無い良好な塗布結果が得られた。
【0029】実施例3 実施例1と同じ塗布装置(但し、No.3の比較例は図
6に示す減圧室を使用した)と塗布液を用いて、ビード
の減圧度を強くすることにより、トータル膜厚を実施例
2よりも更に40%薄くした条件で、同様に塗布性を比
較した。
6に示す減圧室を使用した)と塗布液を用いて、ビード
の減圧度を強くすることにより、トータル膜厚を実施例
2よりも更に40%薄くした条件で、同様に塗布性を比
較した。
【0030】このときの膜厚は、上層:12μm 下
層:24μmであり、塗布速度は125m/minであ
る。
層:24μmであり、塗布速度は125m/minであ
る。
【0031】この結果を表3に示す。
【0032】
【表3】
【0033】この場合でもNo.3の比較例では塗布幅
方向全面に塗布ムラが発生したり、両室間の差圧が大き
くなって本発明の実施態様の範囲外になったNo.2の
例では、塗布幅方向端部に若干の塗布ムラの発生が認め
られた。これに対して、本発明の実施例であるNo.1
では塗布ムラの無い良好な塗布結果が得られた。
方向全面に塗布ムラが発生したり、両室間の差圧が大き
くなって本発明の実施態様の範囲外になったNo.2の
例では、塗布幅方向端部に若干の塗布ムラの発生が認め
られた。これに対して、本発明の実施例であるNo.1
では塗布ムラの無い良好な塗布結果が得られた。
【0034】
【発明の効果】本発明の塗布方法により、スライドホッ
パー上の塗布液のビードが塗布全幅にわたって安定して
一様均一に維持され、支持体上に、塗布ムラのない高品
質の乳剤塗布がなされるようになった。そして、普通の
塗布も勿論のこと、普通のものよりも高速度でしかも薄
膜の塗布においても、また、単層だけでなく多層の塗布
においても、十分満足できる塗布が達成できるようにな
った。
パー上の塗布液のビードが塗布全幅にわたって安定して
一様均一に維持され、支持体上に、塗布ムラのない高品
質の乳剤塗布がなされるようになった。そして、普通の
塗布も勿論のこと、普通のものよりも高速度でしかも薄
膜の塗布においても、また、単層だけでなく多層の塗布
においても、十分満足できる塗布が達成できるようにな
った。
【図1】本発明に用いるスライドホッパー型塗布装置の
部分斜視図。
部分斜視図。
【図2】本発明に用いるスライドホッパー型塗布装置の
側断面図。
側断面図。
【図3】本発明に用いるスライドホッパー型塗布装置の
減圧室の一例の部分正面断面図。
減圧室の一例の部分正面断面図。
【図4】本発明に用いるスライドホッパー型塗布装置の
減圧室の他の一例の部分正面断面図。
減圧室の他の一例の部分正面断面図。
【図5】本発明に用いるスライドホッパー型塗布装置の
減圧室の別の一例の部分正面断面図。
減圧室の別の一例の部分正面断面図。
【図6】本発明の比較例に用いるスライドホッパー型塗
布装置の減圧室の一例の部分正面断面図。
布装置の減圧室の一例の部分正面断面図。
1 バックアップローラ 2 支持体 3 スライドビード塗布装置 4 流下面 5 スリット 6 リップ部 8 塗布幅規制板 10 減圧室 13 隔壁 14,14A 端部減圧室 15,15A ビード減圧室 16 側壁 18 ビード
Claims (2)
- 【請求項1】 スライドホッパー上の塗布液のビードを
維持する手段として、連続的に走行する支持体の上流側
を減圧する塗布方法において、減圧室の塗布幅方向の両
側に有する側壁を二重構造にした減圧装置を設け、前記
減圧室の前記ビードを維持する中央部のビード減圧室
と、両側の二重構造部の二つの壁に挟まれて形成される
端部減圧室との各減圧度の間の差圧を小さくして塗布を
行うことを特徴とする塗布方法。 - 【請求項2】 前記減圧室の中央部のビード減圧室の減
圧度は−10〜−100mmAqであり、前記両側の二
重構造部の端部減圧室の減圧度との差圧は±10mmA
q以内であることを特徴とする請求項1に記載の塗布方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14051395A JPH08332444A (ja) | 1995-06-07 | 1995-06-07 | 塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14051395A JPH08332444A (ja) | 1995-06-07 | 1995-06-07 | 塗布方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH08332444A true JPH08332444A (ja) | 1996-12-17 |
Family
ID=15270403
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14051395A Pending JPH08332444A (ja) | 1995-06-07 | 1995-06-07 | 塗布方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH08332444A (ja) |
-
1995
- 1995-06-07 JP JP14051395A patent/JPH08332444A/ja active Pending
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