JPH08332444A - 塗布方法 - Google Patents
塗布方法Info
- Publication number
- JPH08332444A JPH08332444A JP14051395A JP14051395A JPH08332444A JP H08332444 A JPH08332444 A JP H08332444A JP 14051395 A JP14051395 A JP 14051395A JP 14051395 A JP14051395 A JP 14051395A JP H08332444 A JPH08332444 A JP H08332444A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- coating
- bead
- decompression chamber
- pressure
- decompression
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 スライドビード塗布装置を用いて、支持体上
に、塗布ムラのない高品質の乳剤塗布がなされ、高速度
でしかも薄膜の塗布においても、また、単層だけでなく
多層の塗布においても、十分満足できる塗布が達成でき
る塗布方法を提供する。 【構成】 スライドホッパー上の塗布液のビードを維持
する手段として、連続的に走行する支持体の上流側を減
圧する塗布方法において、減圧室の塗布幅方向の両側に
有する側壁を二重構造にした減圧装置を設け、前記減圧
室の前記ビードを維持する中央部のビード減圧室と、両
側の二重構造部の二つの壁に挟まれて形成される端部減
圧室との各減圧度の間の差圧を小さくして塗布を行うこ
とを特徴とする塗布方法。
に、塗布ムラのない高品質の乳剤塗布がなされ、高速度
でしかも薄膜の塗布においても、また、単層だけでなく
多層の塗布においても、十分満足できる塗布が達成でき
る塗布方法を提供する。 【構成】 スライドホッパー上の塗布液のビードを維持
する手段として、連続的に走行する支持体の上流側を減
圧する塗布方法において、減圧室の塗布幅方向の両側に
有する側壁を二重構造にした減圧装置を設け、前記減圧
室の前記ビードを維持する中央部のビード減圧室と、両
側の二重構造部の二つの壁に挟まれて形成される端部減
圧室との各減圧度の間の差圧を小さくして塗布を行うこ
とを特徴とする塗布方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はスライドホッパーを用い
て支持体上に塗布液を塗布する塗布方法に関する。
て支持体上に塗布液を塗布する塗布方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】スライドホッパーによるスライドビード
塗布については、ＵＳＰ２，６８１，６９４号公報、同
２，７６１，４１９号公報、同２，７６１，１７９号公
報及びＢＰ８３７，０９５号公報に開示されたものがあ
る。
塗布については、ＵＳＰ２，６８１，６９４号公報、同
２，７６１，４１９号公報、同２，７６１，１７９号公
報及びＢＰ８３７，０９５号公報に開示されたものがあ
る。
【０００３】また、減圧装置の減圧室の両側構造に関し
ては特公昭５９−２７２３２号、特開昭５９−１８３８
５９号、特開昭６１−１１１７３号、特開平３−２４２
２５８号の各公報に開示されたものがある。
ては特公昭５９−２７２３２号、特開昭５９−１８３８
５９号、特開昭６１−１１１７３号、特開平３−２４２
２５８号の各公報に開示されたものがある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】スライドホッパー型に
代表されるビード塗布は、単層又は多層の塗布液が塗布
機エッジのリップ部においてビードと称するリボン状液
溜まりを介して支持体上に塗布する方法である。したが
って、このようなビード塗布においてはビードの安定性
が塗布に対して非常に重要である。ビードは塗布液物
性、塗布速度等の塗布条件の影響を受け易く、特に、高
速薄膜塗布においてはビードは不安定になりやすい。
代表されるビード塗布は、単層又は多層の塗布液が塗布
機エッジのリップ部においてビードと称するリボン状液
溜まりを介して支持体上に塗布する方法である。したが
って、このようなビード塗布においてはビードの安定性
が塗布に対して非常に重要である。ビードは塗布液物
性、塗布速度等の塗布条件の影響を受け易く、特に、高
速薄膜塗布においてはビードは不安定になりやすい。
【０００５】このようなビードの安定性に対しては、Ｕ
ＳＰ２，６８１，６９４号公報に開示されているように
ビードの上下に圧力差、具体的にはビードの下部に減圧
室を設けることによって、ビードを下方に引っ張り安定
させる方法が一般にとられている。
ＳＰ２，６８１，６９４号公報に開示されているように
ビードの上下に圧力差、具体的にはビードの下部に減圧
室を設けることによって、ビードを下方に引っ張り安定
させる方法が一般にとられている。
【０００６】しかし、このような従来技術としては、前
掲の特公昭５９−２７２３２のように減圧室の両端を二
重構造にして両端部の減圧度を中央部のそれよりも強く
したり、特開昭５９−１８３８５９のように減圧室の三
方を二重構造とする方法があるが、ビード近傍のエアー
流れは吸引される方向、つまり幅方向の流れになってし
まい、幅手の減圧変動等の原因となり塗布ムラを発生す
ることが本発明者によって分かって来た。また、特開昭
６１−１１１７３のように減圧室側壁を非接触なラビリ
ンスシール構造とする技術が開示されているが完全には
幅方向の流れを抑さえきれていない。更に、特開平３−
２４２２５８に開示されている方法では、塗布開始前に
隔壁上に塗布液が付着して支持体を汚したり、塗布ビー
ドに直に幅手圧力分布ができてしまい、好ましくない。
掲の特公昭５９−２７２３２のように減圧室の両端を二
重構造にして両端部の減圧度を中央部のそれよりも強く
したり、特開昭５９−１８３８５９のように減圧室の三
方を二重構造とする方法があるが、ビード近傍のエアー
流れは吸引される方向、つまり幅方向の流れになってし
まい、幅手の減圧変動等の原因となり塗布ムラを発生す
ることが本発明者によって分かって来た。また、特開昭
６１−１１１７３のように減圧室側壁を非接触なラビリ
ンスシール構造とする技術が開示されているが完全には
幅方向の流れを抑さえきれていない。更に、特開平３−
２４２２５８に開示されている方法では、塗布開始前に
隔壁上に塗布液が付着して支持体を汚したり、塗布ビー
ドに直に幅手圧力分布ができてしまい、好ましくない。
【０００７】本発明は、このような問題点を解決して、
高速塗布においても塗布ムラを起こすことのない安定し
た高品質の塗布仕上がりのできる塗布方法を提供するこ
とを課題目的にする。
高速塗布においても塗布ムラを起こすことのない安定し
た高品質の塗布仕上がりのできる塗布方法を提供するこ
とを課題目的にする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】この目的は次の技術手段
（１）又は（２）によって達成される。
（１）又は（２）によって達成される。
【０００９】（１） スライドホッパー上の塗布液のビ
ードを維持する手段として、連続的に走行する支持体の
上流側を減圧する塗布方法において、減圧室の塗布幅方
向の両側に有する側壁を二重構造にした減圧装置を設
け、前記減圧室の前記ビードを維持する中央部のビード
減圧室と、両側の二重構造部の二つの壁に挟まれて形成
される端部減圧室との各減圧度の間の差圧を小さくして
塗布を行うことを特徴とする塗布方法。
ードを維持する手段として、連続的に走行する支持体の
上流側を減圧する塗布方法において、減圧室の塗布幅方
向の両側に有する側壁を二重構造にした減圧装置を設
け、前記減圧室の前記ビードを維持する中央部のビード
減圧室と、両側の二重構造部の二つの壁に挟まれて形成
される端部減圧室との各減圧度の間の差圧を小さくして
塗布を行うことを特徴とする塗布方法。
【００１０】（２） 前記減圧室の中央部のビード減圧
室の減圧度は−１０〜−１００ｍｍＡｑであり、前記両
側の二重構造部の端部減圧室の減圧度との差圧は±１０
ｍｍＡｑ以内であることを特徴とする（１）項に記載の
塗布方法。
室の減圧度は−１０〜−１００ｍｍＡｑであり、前記両
側の二重構造部の端部減圧室の減圧度との差圧は±１０
ｍｍＡｑ以内であることを特徴とする（１）項に記載の
塗布方法。
【００１１】
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を作用と共に詳
細に説明するが、本発明の態様はこれに限定されるもの
ではない。
細に説明するが、本発明の態様はこれに限定されるもの
ではない。
【００１２】先ず、本発明の塗布方法に用いる塗布装置
を図１の斜視図及び図２の側断面図を用いて説明する。
単層又は重層の塗布がなされる写真感光材料の各乳剤塗
布液はスライドビード塗布装置３のスリット５を通って
流下面４上に送られ、該流下面４上を、両側の塗布幅規
制板８によって流下幅を規制されながら流下し、リップ
部６でビード１８を形成し、該ビード１８はバックアッ
プローラ１に巻回して搬送される連続支持体２上に接液
して塗布される。
を図１の斜視図及び図２の側断面図を用いて説明する。
単層又は重層の塗布がなされる写真感光材料の各乳剤塗
布液はスライドビード塗布装置３のスリット５を通って
流下面４上に送られ、該流下面４上を、両側の塗布幅規
制板８によって流下幅を規制されながら流下し、リップ
部６でビード１８を形成し、該ビード１８はバックアッ
プローラ１に巻回して搬送される連続支持体２上に接液
して塗布される。
【００１３】また、図３の部分正面断面図に示すよう
に、リップ部６の下方には減圧室１０が設けられてい
る。減圧室１０は隔壁１３で中央部のビード減圧室１５
と両側の端部減圧室１４に仕切られている。即ち、両側
部が二重構造になっている。このようにビード減圧室１
５と端部減圧室１４が完全に区切られている場合は両室
を別々のブロアーからのパイプ１８，１９で減圧するよ
うにしてある。この実施例の変形例としては図４の部分
正面断面図に示すようにビード減圧室を単独のブロック
のビード減圧室１５Ａとして中央部に設け、該ビード減
圧室の両側の外壁にそれぞれ端部減圧室を単独のブロッ
クの端部減圧室１４Ａとして取り付けたものであり、両
室とも別々のブロアーからのパイプ１８，１９で減圧さ
れるようにしてある。
に、リップ部６の下方には減圧室１０が設けられてい
る。減圧室１０は隔壁１３で中央部のビード減圧室１５
と両側の端部減圧室１４に仕切られている。即ち、両側
部が二重構造になっている。このようにビード減圧室１
５と端部減圧室１４が完全に区切られている場合は両室
を別々のブロアーからのパイプ１８，１９で減圧するよ
うにしてある。この実施例の変形例としては図４の部分
正面断面図に示すようにビード減圧室を単独のブロック
のビード減圧室１５Ａとして中央部に設け、該ビード減
圧室の両側の外壁にそれぞれ端部減圧室を単独のブロッ
クの端部減圧室１４Ａとして取り付けたものであり、両
室とも別々のブロアーからのパイプ１８，１９で減圧さ
れるようにしてある。
【００１４】一方、図５の部分正面断面図に示すもの
は、図３における隔壁１３のリップ部６から離れた位置
に開口１７が設けられていてビード減圧室１５と端部減
圧室１４とは連通されている。そして両室は一つのブロ
アーで減圧されていて殆ど同じ減圧度に保持される。
は、図３における隔壁１３のリップ部６から離れた位置
に開口１７が設けられていてビード減圧室１５と端部減
圧室１４とは連通されている。そして両室は一つのブロ
アーで減圧されていて殆ど同じ減圧度に保持される。
【００１５】また、図６の部分正面断面図に示すものは
ビード減圧室と端部減圧室の区切りのない従来の減圧室
１５Ａを示し、このビード減圧室内は減圧室側壁１６と
バックアップローラ１との隙間Ｓからの流入エアーによ
り渦状の乱れたエアー流れとなっている。このことはト
レーサ法による可視化手段によって確認できた。このよ
うな減圧室をもつ従来の塗布装置では幅手方向のエアー
流れがビード位置まで達する程の強い渦状の流れになっ
ていることも確認できた。そして、これによって塗布ム
ラの生ずることも確かめられた。
ビード減圧室と端部減圧室の区切りのない従来の減圧室
１５Ａを示し、このビード減圧室内は減圧室側壁１６と
バックアップローラ１との隙間Ｓからの流入エアーによ
り渦状の乱れたエアー流れとなっている。このことはト
レーサ法による可視化手段によって確認できた。このよ
うな減圧室をもつ従来の塗布装置では幅手方向のエアー
流れがビード位置まで達する程の強い渦状の流れになっ
ていることも確認できた。そして、これによって塗布ム
ラの生ずることも確かめられた。
【００１６】そこで本発明の塗布方法では前述の図１、
図３に示したような両側部の壁を二重構造にした減圧装
置を用い、ビードを保持する中央部のビード減圧室１５
と両端部の端部減圧室１４との減圧度の差圧を小さくし
て塗布を行うことにより前述の幅手エアー流れをビード
手前で抑制でき塗布ムラを低減することができた。
図３に示したような両側部の壁を二重構造にした減圧装
置を用い、ビードを保持する中央部のビード減圧室１５
と両端部の端部減圧室１４との減圧度の差圧を小さくし
て塗布を行うことにより前述の幅手エアー流れをビード
手前で抑制でき塗布ムラを低減することができた。
【００１７】中央部のビード減圧室１５と両端部の端部
減圧室１４との減圧度の差圧は±１０ｍｍＡｑ以内、好
ましくは±５ｍｍＡｑ以内、更に好ましくは０ｍｍＡｑ
となる条件を得た。尚、前述のように両端部の各端部減
圧室の減圧度の確保の仕方は図３、図４のようにビード
減圧室１５に対して端部減圧室１４の減圧をそれぞれ独
立のブロアーで行ってもよく、図５のように両室の隔壁
１３に前述の開口１７を設け共通のブロアーで吸引する
ことによってもできる。即ち、どちらの構造の減圧室に
よっても前記本発明の塗布方法の条件が確保できる。
減圧室１４との減圧度の差圧は±１０ｍｍＡｑ以内、好
ましくは±５ｍｍＡｑ以内、更に好ましくは０ｍｍＡｑ
となる条件を得た。尚、前述のように両端部の各端部減
圧室の減圧度の確保の仕方は図３、図４のようにビード
減圧室１５に対して端部減圧室１４の減圧をそれぞれ独
立のブロアーで行ってもよく、図５のように両室の隔壁
１３に前述の開口１７を設け共通のブロアーで吸引する
ことによってもできる。即ち、どちらの構造の減圧室に
よっても前記本発明の塗布方法の条件が確保できる。
【００１８】次に本発明の塗布方法の具体的実施結果を
例示する。
例示する。
【００１９】実施例１ 比較例Ｎｏ．４を除き図４に示す減圧装置を有する２層
用のスライドホッパー塗布装置を用いて、下記の条件で
塗布を行い塗布性の比較をした。
用のスライドホッパー塗布装置を用いて、下記の条件で
塗布を行い塗布性の比較をした。
【００２０】 塗布液 上層：界面活性剤含有５％ゼラチン水溶液 ウエット膜厚２５μｍ 粘度１５ｍＰａ・ｓ（＝ｃｐ） 下層：ハロゲン化銀含有７％ゼラチン水溶液 ウエット膜厚５０μｍ 粘度２０ｍＰａ・ｓ（＝ｃｐ） 塗布速度 １００ｍ／ｍｉｎ 結果は表１のようになる。
【００２１】
【表１】
【００２２】表１においてＮｏ．４は比較例であり図６
に示すように減圧室の形状がビード減圧室だけのもので
あり、従って、減圧室の端部近傍と中央部のビード形成
部との差圧が殆ど減圧室の減圧量そのものになってい
る。
に示すように減圧室の形状がビード減圧室だけのもので
あり、従って、減圧室の端部近傍と中央部のビード形成
部との差圧が殆ど減圧室の減圧量そのものになってい
る。
【００２３】Ｎｏ．４の比較例が塗布幅方向全面に塗布
ムラを発生したのに対して、本発明の実施例であるＮ
ｏ．１〜２の場合には塗布ムラの無い良好な塗布結果が
得られた。両室間の差圧が大きくなって本発明の実施態
様の範囲外になったＮｏ．３の場合には、塗布幅方向端
部に若干の塗布ムラの発生が認められた。
ムラを発生したのに対して、本発明の実施例であるＮ
ｏ．１〜２の場合には塗布ムラの無い良好な塗布結果が
得られた。両室間の差圧が大きくなって本発明の実施態
様の範囲外になったＮｏ．３の場合には、塗布幅方向端
部に若干の塗布ムラの発生が認められた。
【００２４】実施例２ 実施例１と同じ塗布装置（但し、Ｎｏ．３の比較例は図
６に示す減圧室を使用した）と塗布液を用いて、塗布速
度を上げることによりトータル膜厚を２０％薄くした条
件で、同様に塗布性を比較した。
６に示す減圧室を使用した）と塗布液を用いて、塗布速
度を上げることによりトータル膜厚を２０％薄くした条
件で、同様に塗布性を比較した。
【００２５】このときの膜厚は、上層：２０μｍ 下
層：４０μｍであり、塗布速度は１２５ｍ／ｍｉｎであ
る。
層：４０μｍであり、塗布速度は１２５ｍ／ｍｉｎであ
る。
【００２６】この結果を表２に示す。
【００２７】
【表２】
【００２８】この場合でもＮｏ．３の比較例では塗布幅
方向全面に塗布ムラが発生したり、両室間の差圧が大き
くなって本発明の実施態様の範囲外になったＮｏ．２の
例では、塗布幅方向端部に若干の塗布ムラの発生が認め
られた。これに対して、本発明の実施例であるＮｏ．１
では塗布ムラの無い良好な塗布結果が得られた。
方向全面に塗布ムラが発生したり、両室間の差圧が大き
くなって本発明の実施態様の範囲外になったＮｏ．２の
例では、塗布幅方向端部に若干の塗布ムラの発生が認め
られた。これに対して、本発明の実施例であるＮｏ．１
では塗布ムラの無い良好な塗布結果が得られた。
【００２９】実施例３ 実施例１と同じ塗布装置（但し、Ｎｏ．３の比較例は図
６に示す減圧室を使用した）と塗布液を用いて、ビード
の減圧度を強くすることにより、トータル膜厚を実施例
２よりも更に４０％薄くした条件で、同様に塗布性を比
較した。
６に示す減圧室を使用した）と塗布液を用いて、ビード
の減圧度を強くすることにより、トータル膜厚を実施例
２よりも更に４０％薄くした条件で、同様に塗布性を比
較した。
【００３０】このときの膜厚は、上層：１２μｍ 下
層：２４μｍであり、塗布速度は１２５ｍ／ｍｉｎであ
る。
層：２４μｍであり、塗布速度は１２５ｍ／ｍｉｎであ
る。
【００３１】この結果を表３に示す。
【００３２】
【表３】
【００３３】この場合でもＮｏ．３の比較例では塗布幅
方向全面に塗布ムラが発生したり、両室間の差圧が大き
くなって本発明の実施態様の範囲外になったＮｏ．２の
例では、塗布幅方向端部に若干の塗布ムラの発生が認め
られた。これに対して、本発明の実施例であるＮｏ．１
では塗布ムラの無い良好な塗布結果が得られた。
方向全面に塗布ムラが発生したり、両室間の差圧が大き
くなって本発明の実施態様の範囲外になったＮｏ．２の
例では、塗布幅方向端部に若干の塗布ムラの発生が認め
られた。これに対して、本発明の実施例であるＮｏ．１
では塗布ムラの無い良好な塗布結果が得られた。
【００３４】
【発明の効果】本発明の塗布方法により、スライドホッ
パー上の塗布液のビードが塗布全幅にわたって安定して
一様均一に維持され、支持体上に、塗布ムラのない高品
質の乳剤塗布がなされるようになった。そして、普通の
塗布も勿論のこと、普通のものよりも高速度でしかも薄
膜の塗布においても、また、単層だけでなく多層の塗布
においても、十分満足できる塗布が達成できるようにな
った。
パー上の塗布液のビードが塗布全幅にわたって安定して
一様均一に維持され、支持体上に、塗布ムラのない高品
質の乳剤塗布がなされるようになった。そして、普通の
塗布も勿論のこと、普通のものよりも高速度でしかも薄
膜の塗布においても、また、単層だけでなく多層の塗布
においても、十分満足できる塗布が達成できるようにな
った。
【図１】本発明に用いるスライドホッパー型塗布装置の
部分斜視図。
部分斜視図。
【図２】本発明に用いるスライドホッパー型塗布装置の
側断面図。
側断面図。
【図３】本発明に用いるスライドホッパー型塗布装置の
減圧室の一例の部分正面断面図。
減圧室の一例の部分正面断面図。
【図４】本発明に用いるスライドホッパー型塗布装置の
減圧室の他の一例の部分正面断面図。
減圧室の他の一例の部分正面断面図。
【図５】本発明に用いるスライドホッパー型塗布装置の
減圧室の別の一例の部分正面断面図。
減圧室の別の一例の部分正面断面図。
【図６】本発明の比較例に用いるスライドホッパー型塗
布装置の減圧室の一例の部分正面断面図。
布装置の減圧室の一例の部分正面断面図。
１ バックアップローラ ２ 支持体 ３ スライドビード塗布装置 ４ 流下面 ５ スリット ６ リップ部 ８ 塗布幅規制板 １０ 減圧室 １３ 隔壁 １４，１４Ａ 端部減圧室 １５，１５Ａ ビード減圧室 １６ 側壁 １８ ビード
Claims (2)
- 【請求項１】 スライドホッパー上の塗布液のビードを
維持する手段として、連続的に走行する支持体の上流側
を減圧する塗布方法において、減圧室の塗布幅方向の両
側に有する側壁を二重構造にした減圧装置を設け、前記
減圧室の前記ビードを維持する中央部のビード減圧室
と、両側の二重構造部の二つの壁に挟まれて形成される
端部減圧室との各減圧度の間の差圧を小さくして塗布を
行うことを特徴とする塗布方法。 - 【請求項２】 前記減圧室の中央部のビード減圧室の減
圧度は−１０〜−１００ｍｍＡｑであり、前記両側の二
重構造部の端部減圧室の減圧度との差圧は±１０ｍｍＡ
ｑ以内であることを特徴とする請求項１に記載の塗布方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14051395A JPH08332444A (ja) | 1995-06-07 | 1995-06-07 | 塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14051395A JPH08332444A (ja) | 1995-06-07 | 1995-06-07 | 塗布方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08332444A true JPH08332444A (ja) | 1996-12-17 |
Family
ID=15270403
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14051395A Pending JPH08332444A (ja) | 1995-06-07 | 1995-06-07 | 塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08332444A (ja) |
-
1995
- 1995-06-07 JP JP14051395A patent/JPH08332444A/ja active Pending
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