JPS63240964A - 塗布方法及び塗布装置 - Google Patents
塗布方法及び塗布装置Info
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- JPS63240964A JPS63240964A JP3104187A JP3104187A JPS63240964A JP S63240964 A JPS63240964 A JP S63240964A JP 3104187 A JP3104187 A JP 3104187A JP 3104187 A JP3104187 A JP 3104187A JP S63240964 A JPS63240964 A JP S63240964A
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
Landscapes
- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
- Coating Apparatus (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野)
本発、明はスライドビード塗布に関し、更に詳しくはビ
ード安定のrこめの減圧手段を用いる塗布に関する。
ード安定のrこめの減圧手段を用いる塗布に関する。
(従来の技vPj )
写真材料は一般にハロゲン化銀粒子及び写真特性、生産
性を整える添加剤を含有した親水性コロイド(例えばゼ
ラチン)液を、ポリエチレンテレ7タンーF或はバライ
タ紙の如き可撓性艮尺支持体(以下ウェブという)に連
続的に塗設、乾燥して製造される。
性を整える添加剤を含有した親水性コロイド(例えばゼ
ラチン)液を、ポリエチレンテレ7タンーF或はバライ
タ紙の如き可撓性艮尺支持体(以下ウェブという)に連
続的に塗設、乾燥して製造される。
写真材料を構成する写真層をウェブに塗設する方法とし
て初期にはディップ法、グプルロール法、エアドクタ法
等が用いられたが、多層同時高速塗布の要、lηの下に
カーテン塗布法及びスライドビード塗布法等が開発され
、現在スライドビード塗布法が主流を占めるに到ってい
る。
て初期にはディップ法、グプルロール法、エアドクタ法
等が用いられたが、多層同時高速塗布の要、lηの下に
カーテン塗布法及びスライドビード塗布法等が開発され
、現在スライドビード塗布法が主流を占めるに到ってい
る。
前記スライドビード塗布法については、米国特許2,6
81,294号、同2,761,419号、同2,76
1.179号及び英国特許837,095号に開示され
ている。
81,294号、同2,761,419号、同2,76
1.179号及び英国特許837,095号に開示され
ている。
スライドビード塗布法は前記特許に記載の如く、1液以
上の塗布液を塗布液流延供給器(スライドホッパ)に設
けられたスリットから連続した幅広リボンとして押出し
、塗布液流延面(スライド面)の終!(す・ンブ部)に
接近して走行するウェブ面に前記塗布液の単層もしくは
積層リボンを張渡してビードを形成し、塗布液の流延速
度と該リボンをビードより持去るウェブの走行速度とを
整合させてウェブ上に単層もしくは積層の塗膜を塗設す
るものである。尚一般に走行するウェブはリップ部に接
近して設けられた塗布パックアップローラに張架される
。
上の塗布液を塗布液流延供給器(スライドホッパ)に設
けられたスリットから連続した幅広リボンとして押出し
、塗布液流延面(スライド面)の終!(す・ンブ部)に
接近して走行するウェブ面に前記塗布液の単層もしくは
積層リボンを張渡してビードを形成し、塗布液の流延速
度と該リボンをビードより持去るウェブの走行速度とを
整合させてウェブ上に単層もしくは積層の塗膜を塗設す
るものである。尚一般に走行するウェブはリップ部に接
近して設けられた塗布パックアップローラに張架される
。
従りてこの様に構成されたスライドビード塗布法では塗
布液供給量とウェブの走行速度(塗布速度)とは完全に
整合していることが必須条件であるが、更にウェブとリ
ップ部間に張渡された塗布?lt 17ボンの作るビー
ドの形状安定性は塗膜の均一性乾燥仕上りに大きな影響
を及ぼす。
布液供給量とウェブの走行速度(塗布速度)とは完全に
整合していることが必須条件であるが、更にウェブとリ
ップ部間に張渡された塗布?lt 17ボンの作るビー
ドの形状安定性は塗膜の均一性乾燥仕上りに大きな影響
を及ぼす。
例えばウェブの走行方向に関してビードの追従、遅退即
ちウェブの縦方向にビードのa勤が起れば単純には横縞
(肋状むら)、塗布切れの発生、更に該振動でビード位
置の気−液一固相部分に乱れが生ずれば縦筋むらを生じ
る。
ちウェブの縦方向にビードのa勤が起れば単純には横縞
(肋状むら)、塗布切れの発生、更に該振動でビード位
置の気−液一固相部分に乱れが生ずれば縦筋むらを生じ
る。
これらの不都合はビード自身にビード形状安定化に対す
る積極的な自己復元力がない限り避けることはできない
。
る積極的な自己復元力がない限り避けることはできない
。
米国特許2,681,294号では減圧室を付設してビ
ードをウェブの走行方向とは逆方向に減圧によって吸引
しビードの安定化を図った。以下図を用いて工(体的に
説明する。
ードをウェブの走行方向とは逆方向に減圧によって吸引
しビードの安定化を図った。以下図を用いて工(体的に
説明する。
第4図は従来行われている減圧室を有するスライドビー
ド塗布機の側断面図であって、スライドビード塗布機2
0のスライド面を流れる塗布液M3は、リップ部23と
塗布バックアップローラ1を抱いて走行するウェブ2と
の間で、リボン状液溜り叩ちビード4を形成する。この
ビードを減圧ポンプ33により吸引減圧されている減圧
室30により下方に吸引することにより、ビードの安定
化をはかっているのである。
ド塗布機の側断面図であって、スライドビード塗布機2
0のスライド面を流れる塗布液M3は、リップ部23と
塗布バックアップローラ1を抱いて走行するウェブ2と
の間で、リボン状液溜り叩ちビード4を形成する。この
ビードを減圧ポンプ33により吸引減圧されている減圧
室30により下方に吸引することにより、ビードの安定
化をはかっているのである。
しかし乍らこの場合塗布以前のウェブと減圧室壁との間
の間隙より空気が減圧室30内に流入し、この空気によ
り、減圧室内に渦が発生し、ビードを不安定にする。
の間隙より空気が減圧室30内に流入し、この空気によ
り、減圧室内に渦が発生し、ビードを不安定にする。
これに対して、米国特許4,335,672号には減圧
室を2室とする方法が開示されている。Pt55図(a
)は、該米国特許に示す塗布機の概略側断面図を示した
ものである。同図において、減圧室は塗布機側の内域圧
室32と外側の外域圧室31に分れており外域圧室31
は減圧ポンプ33により減圧吸引される。
室を2室とする方法が開示されている。Pt55図(a
)は、該米国特許に示す塗布機の概略側断面図を示した
ものである。同図において、減圧室は塗布機側の内域圧
室32と外側の外域圧室31に分れており外域圧室31
は減圧ポンプ33により減圧吸引される。
内域圧室32は、塗布バックアップローラ1を抱いて走
行するウェブ2と両減圧富の隔壁との間隙を介して、外
減圧室側に吸引減圧される。これによりビード部を含む
内域圧室32の減圧度を安定させる方法である。
行するウェブ2と両減圧富の隔壁との間隙を介して、外
減圧室側に吸引減圧される。これによりビード部を含む
内域圧室32の減圧度を安定させる方法である。
しかし乍ら、該方法によっても、塗布ムラに対して充分
な対策にはなりえていない。その原因として考えられる
ことは、例えば該塗布機において、ビードが形成される
と、内域圧室32には空気の流入が′極少になるため、
内域圧室32より外域圧室31に向かう空気の流れがな
くなり、第5図(b)に示すA、B点は同じ減圧度とな
る。第5図(b)は該米国特許の方法の減圧室拡大断面
図である。このため外域圧室31内に発生する渦の影響
が尚疎密波として内域圧室32に伝わり、これがビート
の安定に影響するものと考えられる。
な対策にはなりえていない。その原因として考えられる
ことは、例えば該塗布機において、ビードが形成される
と、内域圧室32には空気の流入が′極少になるため、
内域圧室32より外域圧室31に向かう空気の流れがな
くなり、第5図(b)に示すA、B点は同じ減圧度とな
る。第5図(b)は該米国特許の方法の減圧室拡大断面
図である。このため外域圧室31内に発生する渦の影響
が尚疎密波として内域圧室32に伝わり、これがビート
の安定に影響するものと考えられる。
(発明が解決しようとする問題点)
上記のごとき、問題に対して本発明の目的はスライドビ
ード塗布機において、減圧方法の改良により、塗布ビー
ドの安定をはかり、塗布むら等の無い、優れた塗布性を
有する塗布方法及び塗布装置を提f共することである。
ード塗布機において、減圧方法の改良により、塗布ビー
ドの安定をはかり、塗布むら等の無い、優れた塗布性を
有する塗布方法及び塗布装置を提f共することである。
(問題点を解決するための手段)
前記した本発明の目的は、連続的に走行する支持体に、
スライドビード塗布v装置を用いて、少くとも1層以上
に塗布液を塗布する方法に於て、ビードを維持するため
ビードに直接減圧をかけるビード減圧室に大気に直結す
る疎通手段を設け、更に面記ビード滅工室の外側に吸引
減圧する吸引減圧室を接続させたことを特徴とするスラ
イドビード塗布方法及び該方法に則った塗布装置によっ
て達成される。
スライドビード塗布v装置を用いて、少くとも1層以上
に塗布液を塗布する方法に於て、ビードを維持するため
ビードに直接減圧をかけるビード減圧室に大気に直結す
る疎通手段を設け、更に面記ビード滅工室の外側に吸引
減圧する吸引減圧室を接続させたことを特徴とするスラ
イドビード塗布方法及び該方法に則った塗布装置によっ
て達成される。
更に本発明の態様としてはiiq記大気に直結する疎通
手段に空気の流入量を、111ffIiする調節手段を
有することが好しい。
手段に空気の流入量を、111ffIiする調節手段を
有することが好しい。
以下本発明の方法について図面を用いて詳細に説明する
。第1図(a)は本発明による1実施態様を示す概略側
断面図である。同図におけるスライドビード塗布(fi
20において、塗布液用ポンプ21より送られる1又は
複数の塗布液5は各塗布スリット22を通ってスライド
面を単層又は複数の層が重層となって流れ、塗布バック
アップローラ1を抱いて走行するウェブとの間に塗布撮
りノブg23においてビードと称するリボン状液溜まり
を形成する。このビードを下方に減圧により引っ張るこ
とにより安定させるのであるが、本発明の減圧室はrj
S1図(a)に示すごとく、塗布機側よりビード減圧室
32と吸引減圧室31の2室よりなっており、吸引減圧
室31は減圧ポンプ33により吸引減圧される。
。第1図(a)は本発明による1実施態様を示す概略側
断面図である。同図におけるスライドビード塗布(fi
20において、塗布液用ポンプ21より送られる1又は
複数の塗布液5は各塗布スリット22を通ってスライド
面を単層又は複数の層が重層となって流れ、塗布バック
アップローラ1を抱いて走行するウェブとの間に塗布撮
りノブg23においてビードと称するリボン状液溜まり
を形成する。このビードを下方に減圧により引っ張るこ
とにより安定させるのであるが、本発明の減圧室はrj
S1図(a)に示すごとく、塗布機側よりビード減圧室
32と吸引減圧室31の2室よりなっており、吸引減圧
室31は減圧ポンプ33により吸引減圧される。
f51図(b)は減圧室の構造を示す斜視断面図である
。同図においてビード減圧室32は吸引減圧室31の内
、に入れこんだ溝近になっており、画室は塗布バックア
ップローラ1を抱いたウェブと減圧室との間隙を介して
流通している。すなはちビード減圧室32も吸引減圧室
の減圧を介して減圧される6更に該ビード減圧室32に
は、大気制w弁35を有する1つまたは複数の大気疎通
パイプ34により大気に直結、疎通することが出来る構
造となっている。第2図は本発明における減圧室の拡大
側断面図で鴻々の実施態様を示す図であって、吸引減圧
室31を介して減圧されているビード減圧室32は適当
な減圧状態を維持しつつ、しかも若干の大気流入により
均一な空気の流れをつくることにより、ビードに不安定
な影響を与えることを防いでいるのである。第2図は上
記大気の流れによる渦をつくること無く安定した流れと
するための方法であって、同図(α)は大気疎通バイブ
34より大気をビード減圧室32に導入する場合、大気
整流板36を使用した例である。以下同図(b)はフィ
ルタ37を使用し幅手にわたってフィルタを設ける事に
より幅手均一に、かつ、大気の流速をより遅(、渦の発
生を抑える効果がある。同図(c)は渦流防止板38、
例えば断面が曲率の大きい半円状のものを設置した例で
あり、同図(d)では部域圧室の隔壁39の形状を抵抗
の小さい形とした例である0以上の例を単独で用いても
併用してら良く、またこの実施態様に限定されるもので
もない。
。同図においてビード減圧室32は吸引減圧室31の内
、に入れこんだ溝近になっており、画室は塗布バックア
ップローラ1を抱いたウェブと減圧室との間隙を介して
流通している。すなはちビード減圧室32も吸引減圧室
の減圧を介して減圧される6更に該ビード減圧室32に
は、大気制w弁35を有する1つまたは複数の大気疎通
パイプ34により大気に直結、疎通することが出来る構
造となっている。第2図は本発明における減圧室の拡大
側断面図で鴻々の実施態様を示す図であって、吸引減圧
室31を介して減圧されているビード減圧室32は適当
な減圧状態を維持しつつ、しかも若干の大気流入により
均一な空気の流れをつくることにより、ビードに不安定
な影響を与えることを防いでいるのである。第2図は上
記大気の流れによる渦をつくること無く安定した流れと
するための方法であって、同図(α)は大気疎通バイブ
34より大気をビード減圧室32に導入する場合、大気
整流板36を使用した例である。以下同図(b)はフィ
ルタ37を使用し幅手にわたってフィルタを設ける事に
より幅手均一に、かつ、大気の流速をより遅(、渦の発
生を抑える効果がある。同図(c)は渦流防止板38、
例えば断面が曲率の大きい半円状のものを設置した例で
あり、同図(d)では部域圧室の隔壁39の形状を抵抗
の小さい形とした例である0以上の例を単独で用いても
併用してら良く、またこの実施態様に限定されるもので
もない。
また本発明は前記したビード塗布方法、即ちウェブの裏
面に回転するバックアップローラを直接抱かせて密着張
架し搬送の向きを反転走行させバックアップローラで作
られる滑かな塗布面に乳剤をビード塗布する形態のみな
らず、ウェブに接触することなくウェブ走行の向きを反
転させる張架機構部材を設け、ウェブに反転走行する滑
かな塗布面を作リウェブを浮かせた状態で乳剤をビード
塗布する浮遊塗布方法にも適用される。
面に回転するバックアップローラを直接抱かせて密着張
架し搬送の向きを反転走行させバックアップローラで作
られる滑かな塗布面に乳剤をビード塗布する形態のみな
らず、ウェブに接触することなくウェブ走行の向きを反
転させる張架機構部材を設け、ウェブに反転走行する滑
かな塗布面を作リウェブを浮かせた状態で乳剤をビード
塗布する浮遊塗布方法にも適用される。
浮遊塗布方法に於る前記無接触張架8!構部材は、第3
図に示すようにウェブな反転走行させる部分にウェブの
裏面に向って気体(一般に空気)を噴出させる多数の微
細な気体噴出口11′を有する静圧支持面10′を設け
、ウェブの張力に拮抗するだけの気体を噴出させ、ウェ
ブ裏面と前記静圧支持面10’の間に、好しくは20〜
500μlの静圧気体層12′を設けるものである。
図に示すようにウェブな反転走行させる部分にウェブの
裏面に向って気体(一般に空気)を噴出させる多数の微
細な気体噴出口11′を有する静圧支持面10′を設け
、ウェブの張力に拮抗するだけの気体を噴出させ、ウェ
ブ裏面と前記静圧支持面10’の間に、好しくは20〜
500μlの静圧気体層12′を設けるものである。
ビード塗布は前記ひ圧支持された滑かなウェブ表面に先
に述べた密着張架の場合と同様な塗布撮20′及びビー
ド4′を作って行われる。
に述べた密着張架の場合と同様な塗布撮20′及びビー
ド4′を作って行われる。
尚第3図に於て荷出の記号と同記号は同義を表し、6は
冷却・乾燥室、1′は無接触張架FI11構部材、3′
は新たに塗られた乳剤層である。また本発明に係る二重
の減圧室の図示は省略しである。
冷却・乾燥室、1′は無接触張架FI11構部材、3′
は新たに塗られた乳剤層である。また本発明に係る二重
の減圧室の図示は省略しである。
この浮″l!L塗布方法は前記密着張架でビード塗布し
たウェブ面の反対側面に乳剤を同時塗布することができ
生産技術上甚だ有用な方法である。
たウェブ面の反対側面に乳剤を同時塗布することができ
生産技術上甚だ有用な方法である。
この浮遊塗布の態様に於てもビードを作る塗布撮り・ノ
ブ部とウェブの間隙の変動、即ち浮遊塗布に於る前記I
′rPI′E′A本層のJ7み変動は致命的に塗布品位
の1氏下を来す。待に浮遊塗布方法に於る靜圧気体層の
厚みは午えられた静圧度に完全に依存しており、且つ減
圧室の減圧度とウェブを介して拮抗しており、ビードに
作用する減圧室の圧力脈動或は不安定は最も禁忌される
所であって、浮遊塗布方法は本発明に最通の適用討宋で
ある。
ブ部とウェブの間隙の変動、即ち浮遊塗布に於る前記I
′rPI′E′A本層のJ7み変動は致命的に塗布品位
の1氏下を来す。待に浮遊塗布方法に於る靜圧気体層の
厚みは午えられた静圧度に完全に依存しており、且つ減
圧室の減圧度とウェブを介して拮抗しており、ビードに
作用する減圧室の圧力脈動或は不安定は最も禁忌される
所であって、浮遊塗布方法は本発明に最通の適用討宋で
ある。
(実施例)
以下具体的に実施例により、本発明について説明するが
本発明はこれらの例に限定されるものではない。
本発明はこれらの例に限定されるものではない。
実施例1.下記条件で塗布を行った。
重層塗布液:所定の添加剤、ゼラチンを含むハロゲン化
銀乳剤で35℃において10cpの粘度を有し、weL
厚みは約0.05zzである。
銀乳剤で35℃において10cpの粘度を有し、weL
厚みは約0.05zzである。
上層塗布液:所定の添加剤、ゼラチン、界面活性剤を含
む溶液で、35℃において1lcpの粘度を有し、we
t厚みは約0.02jxである。
む溶液で、35℃において1lcpの粘度を有し、we
t厚みは約0.02jxである。
ウェブ:下引きtAみポリエチレンテレフタレートフィ
ルム。
ルム。
減圧度:吸引減圧室 −34z峰q
ビード減圧室 −17zzAq
上記2層を同時に第1図に示rV装置を用いて塗布を行
った。尚火気疎通パイプは左右2ケ所に設けた。
った。尚火気疎通パイプは左右2ケ所に設けた。
この結果塗布ムラの無い良好な塗布性であった。
実施例2.減圧度以外は実施例1と同じ。
減圧度:@引圧室 −33JJIAQビード減圧室
−24膚ν八q で塗布を行った。
−24膚ν八q で塗布を行った。
この結果は良好な塗布性を示し、実施例1より優れてい
た。
た。
実施例3.減圧度以外は実施例1と同じ減圧度:@引減
圧室 −4011AQビード減圧室 −3111^q この結果も実施例2と同様良好であった。
圧室 −4011AQビード減圧室 −3111^q この結果も実施例2と同様良好であった。
比較例
比較例として第4図にしめす従来の装置を用い、減圧度
: −21zzAq及び−34zzAqの2例につき他
の条件は実施例1と同じとして塗布した。結果はいずれ
も実施例1より劣る塗布性であった。
: −21zzAq及び−34zzAqの2例につき他
の条件は実施例1と同じとして塗布した。結果はいずれ
も実施例1より劣る塗布性であった。
また本発明を浮遊塗布方法に適用した結果も前記従来の
ビード塗布方法に適用した結果と同様に良好な塗布品位
かえられたゆ (発明の効果) 本発明によって、スライドビード塗布における、減圧方
法の改良により、塗布ビードの安定をはかり、塗布むら
等の無い優れた塗布性を有する塗布方法及び装置を提供
することが出来な。
ビード塗布方法に適用した結果と同様に良好な塗布品位
かえられたゆ (発明の効果) 本発明によって、スライドビード塗布における、減圧方
法の改良により、塗布ビードの安定をはかり、塗布むら
等の無い優れた塗布性を有する塗布方法及び装置を提供
することが出来な。
第1図(a)は本発明によるスライドビード塗布機の実
施態様をしめす概略側断面図であり、同図(b)は本発
明による減圧室の概略斜視図である。 第2図は本発明による減圧室の種々な実施態様を示す側
断面図である。第3図は浮遊塗布法に用いる装置の側面
概要図である。第4図は従来の減圧方法を有するスライ
ドビード塗布装置の概略側断面図である。第5図(、)
は内外減圧室を有するビード塗布機の側断面図、Pr5
5図(1))は同図(a)の減圧室の拡大断面図である
。 1:塗布バックアップローラ 2:ウエブ3:塗布液層
4:ビード20ニスライドビード塗布
機 21:塗布液用ポンプ 22:塗布スリット 23: リップ部
30:減圧室 31:吸引減圧室32
: ビード減圧室 33:減圧ポンプ34:
大気疎通パイプ 35:大気制御弁出願人
小西六写真工業体式会社 第2図 第4 図 30:う八工室 第5図 (a) (b) 手続補正器 1、事件の表示 昭和62年特許願fjS31041号 2、発明の名称 塗布方法及び塗布装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号〒191 東京都日野市さくら町1番地 小西六写真工業株式会社(電話0425−83−152
1)特 許 部 4、補正命令の日付 “2 ゾ’L ’+1 ’+−=、 5、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄。 6、補正の内容 発明の詳細な説明を次の如く補正する。
施態様をしめす概略側断面図であり、同図(b)は本発
明による減圧室の概略斜視図である。 第2図は本発明による減圧室の種々な実施態様を示す側
断面図である。第3図は浮遊塗布法に用いる装置の側面
概要図である。第4図は従来の減圧方法を有するスライ
ドビード塗布装置の概略側断面図である。第5図(、)
は内外減圧室を有するビード塗布機の側断面図、Pr5
5図(1))は同図(a)の減圧室の拡大断面図である
。 1:塗布バックアップローラ 2:ウエブ3:塗布液層
4:ビード20ニスライドビード塗布
機 21:塗布液用ポンプ 22:塗布スリット 23: リップ部
30:減圧室 31:吸引減圧室32
: ビード減圧室 33:減圧ポンプ34:
大気疎通パイプ 35:大気制御弁出願人
小西六写真工業体式会社 第2図 第4 図 30:う八工室 第5図 (a) (b) 手続補正器 1、事件の表示 昭和62年特許願fjS31041号 2、発明の名称 塗布方法及び塗布装置 3、補正をする者 事件との関係 特許出願人 住所 東京都新宿区西新宿1丁目26番2号〒191 東京都日野市さくら町1番地 小西六写真工業株式会社(電話0425−83−152
1)特 許 部 4、補正命令の日付 “2 ゾ’L ’+1 ’+−=、 5、補正の対象 明細書の「発明の詳細な説明」の欄。 6、補正の内容 発明の詳細な説明を次の如く補正する。
Claims (3)
- (1)連続的に走行する支持体に、スライドビード塗布
装置を用いて、少くとも1層以上に塗布液を塗布する方
法に於て、ビードを維持するためビードに直接減圧をか
けるビード減圧室に大気に直結する疎通手段を設け、更
に前記ビード減圧室の外側に吸引減圧する吸引減圧室を
接続させたことを特徴とするスライドビード塗布方法。 - (2)連続的に走行する支持体に、スライドビード塗布
装置を用いて、少くとも1層以上に塗布液を塗布する方
法に於て、ビードを維持するためビードに直接減圧をか
けるビード減圧室に大気に直結する疎通手段を設け、更
に前記ビード減圧室の外側に吸引減圧する吸引減圧室を
接続させたことを特徴とするスライドビード塗布装置。 - (3)前記大気に直結する疎通手段に空気の流入量を調
節する調節手段を有することを特徴とする特許請求の範
囲第2項記載のスライドビード塗布装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27762286 | 1986-11-19 | ||
JP61-277622 | 1986-11-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS63240964A true JPS63240964A (ja) | 1988-10-06 |
JPH0822410B2 JPH0822410B2 (ja) | 1996-03-06 |
Family
ID=17585984
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP62031041A Expired - Fee Related JPH0822410B2 (ja) | 1986-11-19 | 1987-02-12 | 塗布方法及び塗布装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0822410B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007268383A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Fujifilm Corp | 塗布装置、塗布方法、および光学フィルムの製造方法 |
JP2008023405A (ja) * | 2006-07-18 | 2008-02-07 | Toray Eng Co Ltd | 塗工装置 |
-
1987
- 1987-02-12 JP JP62031041A patent/JPH0822410B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007268383A (ja) * | 2006-03-30 | 2007-10-18 | Fujifilm Corp | 塗布装置、塗布方法、および光学フィルムの製造方法 |
JP2008023405A (ja) * | 2006-07-18 | 2008-02-07 | Toray Eng Co Ltd | 塗工装置 |
JP4673261B2 (ja) * | 2006-07-18 | 2011-04-20 | 東レエンジニアリング株式会社 | 塗工装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0822410B2 (ja) | 1996-03-06 |
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Legal Events
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S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
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S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
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R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
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LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |