JPH06144963A - 薄型グレーズ基板 - Google Patents

薄型グレーズ基板

Info

Publication number
JPH06144963A
JPH06144963A JP31664392A JP31664392A JPH06144963A JP H06144963 A JPH06144963 A JP H06144963A JP 31664392 A JP31664392 A JP 31664392A JP 31664392 A JP31664392 A JP 31664392A JP H06144963 A JPH06144963 A JP H06144963A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
glaze
thickness
thin
thermal expansion
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP31664392A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaji Tsuzuki
正詞 都築
Masahiko Okuyama
雅彦 奥山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Niterra Co Ltd
Original Assignee
NGK Spark Plug Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NGK Spark Plug Co Ltd filed Critical NGK Spark Plug Co Ltd
Priority to JP31664392A priority Critical patent/JPH06144963A/ja
Publication of JPH06144963A publication Critical patent/JPH06144963A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/009After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B41/00After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
    • C04B41/45Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
    • C04B41/50Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials
    • C04B41/5022Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with inorganic materials with vitreous materials
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B2111/00Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
    • C04B2111/10Compositions or ingredients thereof characterised by the absence or the very low content of a specific material

Abstract

(57)【要約】 【目的】 0.5mm以下の厚みの薄型グレーズ基板の
反りを低減させる。 【構成】 アルカリ金属及び鉛を含まなく、室温からガ
ラス転移点までの平均熱膨張係数がアルミナ基板の−1
5%〜+5%の範囲にあるグレーズ材質からなるグレー
ズペーストを用いて、厚さ0.5mm以下のアルミナ基
板表面全面に焼成後の厚みが20μm以下になるように
グレーズ層を形成する。これにより、薄型グレーズ基板
の反りを従来のグレーズ基板の反り以下にすることがで
きる。また、グレーズ層がアルカリ金属及び鉛を含まな
いので電気的化学的に安定である。従って、この薄型グ
レーズ基板は小型,高密度かつ高精度なチップ部品用等
に適している。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、薄型グレーズ基板に係
り、特に小型かつ高精度のチップ部品用として適した薄
型グレーズ基板に関する。
【0002】
【従来の技術】電子機器の小型化の要請に応じて、抵
抗、コンデンサ等のチップ部品の小型化薄型化の要求が
益々高まってきており、これらチップ部品用のセラミッ
ク基板に対する薄型化の要求も高まってきている。ちな
みに、従来これらチップ部品用のセラミック基板は、量
産化の要請から、大型基板の表面に複数個の回路素子を
形成した後に個々のチップ部品に分割する多数個取り基
板である。また、セラミック基板としては、基板平滑性
を向上させるために高純度で微細な原料を用いた厚み
0.6mm以上のアルミナ基板が用いられているが、基
板平滑性はまだ十分とは言えず、また原料が高価なため
基板価格も高価になるという問題が残されている。一
方、表面平滑性の優れた基板については、サーマルプリ
ントヘッド用のグレーズ基板が知られており、このグレ
ーズ基板は基板厚みが0.6μm以上でありかつ蓄熱効
果を得るために40〜60μmの厚みのグレーズ層を設
けている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上記チップ
部品用等のセラミック基板に対する薄型化の要求からす
ると、セラミック基板は、表面平滑性に加えて大型で薄
くしかも反りが小さいことが必要になり、この為に、薄
型のグレーズ基板の採用を考慮する必要がある。しか
し、従来のグレーズ基板に用いられていた40〜60μ
mの厚みのグレーズ層を厚み0.5mm以下の薄いセラ
ミック基板に形成しようとすると、グレーズ層とセラミ
ック基板の熱膨張係数の差によりセラミック基板の反り
が大きくなり過ぎた。このため、セラミック基板表面へ
の回路素子形成時に、露光用マスク等と基板表面との間
に隙間が生じて精密な回路パターンの形成が困難にな
り、高精度なチップ部品を高歩留りで製造することが出
来ないという問題が生じた。本発明は、上記した問題を
解決しようとするもので、チップ部品用等に適した反り
の小さい薄型グレーズ基板を提供することを目的とす
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に上記請求項1に係る発明の構成上の特徴は、基板厚み
0.5mm以下のセラミック基板表面に、厚み20μm
以下のグレーズ層を設けたことにある。
【0005】また、上記請求項2に係る発明の構成上の
特徴は、前記請求項1に記載のグレーズ層を構成する材
質の室温からガラス転移点までの平均熱膨張係数を、セ
ラミック基板の熱膨張係数の−15%〜+5%の範囲内
としたことにある。なお、熱膨張係数が−15%より小
さいとセラミック基板の反りが大きくなりすぎ、又+5
%より大きいとグレーズのセラミック基板面からの剥が
れが発生する。
【0006】また、上記請求項3に係る発明の構成上の
特徴は、前記請求項1または請求項2に記載のグレーズ
層を構成する材質がアルカリ金属及び鉛を含まないよう
にしたことにある。
【0007】
【発明の作用・効果】上記のように構成した請求項1に
係る発明においては、セラミック基板との熱膨張差によ
り基板を反らせるグレーズ層の厚みを20μm以下とす
ることにより、セラミック基板の厚みを0.5mm以下
にしても、反りの発生を実用上問題のない程度に抑える
ことが可能になった。すなわち、例えば、100mm×
100mmのセラミック基板を平板上に載置したとき
に、平板面からの最大隙間を0.6mm以下にすること
が可能になった。
【0008】また、上記のように構成した請求項2に係
る発明においては、グレーズ層を構成する材質の室温か
らガラス転移点までの平均熱膨張係数を、セラミック基
板の熱膨張係数の−15%〜+5%の範囲内としたこと
により、請求項1の効果に合わせてセラミック基板にか
かる応力をより低減させることができ、厚み0.5mm
以下のセラミック基板に発生する反りをより一層小さく
することができるようになった。
【0009】また、上記のように構成した請求項3に係
る発明においては、グレーズ層を構成する材質にアルカ
リ金属及び鉛を含まないようにしたことにより、グレー
ズ層の化学的耐久性を高めるとともに電気的絶縁性に優
れたチップ部品用として適した薄型グレーズ基板を提供
することができる。
【0010】
【実施例】以下、本発明の一実施例を具体的に説明す
る。下記表1に示す熱膨張係数を備えたグレーズ組成物
を得るために、SiO2,Al(OH)3,H3BO3,MgCO3,CaCO3,SrC
O3,BaCO3を各適正量秤量し、擂潰器にて混合した混合物
を、白金−ロジウム坩堝中で1450°Cで4時間熔融
し、急水冷してグレーズ組成物とした。これら6種類の
グレーズ組成物を、各々湿式粉砕して微粉末とし、エチ
ルセルロース系バインダ及び有機溶媒と混合して6種類
の印刷用のグレーズペーストとした。
【0011】
【表1】
【0012】実施例1.まず、面形状が100mm×1
00mmで基板厚みが0.4mm及び0.635mmの
2種類の純度97%で熱膨張係数7.8×10-6/°C
のアルミナ基板を用意する。つぎに、上記表1のNo.
2のグレーズ組成物(熱膨張係数6.6×10-6/°
C、アルミナ基板との熱膨張差は−15%)からなるグ
レーズペーストを用いて、上記2種類のアルミナ基板の
表面全面に印刷法により、焼成後の厚みが15μm,2
0μm,30μm,60μmになるような4種類の厚み
のグレーズ層を形成し、これを1190°Cで約2時間
焼成することにより、9種類のグレーズ基板試料を得
た。このグレーズ基板試料を平坦な台板上に載せ、試料
と台板間の最大距離を測定することにより試料の反りを
求める。そして、グレーズ基板試料の反りを測定した結
果を下記表2に示す。
【0013】
【表2】
【0014】上記表2から明らかなように、グレーズ厚
みを薄くすることにより基板の反りを低減させることが
でき、グレーズ層とアルミナ基板との熱膨張差が−15
%のときには、厚み0.4mmのアルミナ基板に形成す
るグレーズ層の厚みを20μm以下にすれば、アルミナ
基板の反りを従来のグレーズ基板並にすることができ
る。
【0015】実施例2.つぎに、基板厚みが0.4mm
の上記形状及び材質のアルミナ基板を用意する。このア
ルミナ基板の表面全面に、上記表1に示すNo.1及び
No.3〜No.6の5種類のグレーズ組成物(熱膨張
係数及びアルミナ基板との熱膨張差は表1を参照)から
なるグレーズペーストを用いて、印刷法により焼成後の
厚みが15μm,20μm,30μm,60μmになる
ような4種類の厚みのグレーズ層を形成し、これを表1
に記載の焼付温度により約2時間焼成することにより、
20種類のグレーズ基板試料を得た。このグレーズ基板
試料の反りを測定した結果を下記表3に示す。なお、上
記表2の結果の一部も併記する。
【0016】
【表3】
【0017】上記表3から、アルミナ基板の厚みが0.
4mmの場合に、グレーズ層の熱膨張係数がアルミナ基
板の熱膨張係数の−15%〜+1%の範囲においてグレ
ーズ厚みが20μmであれば、基板の反りは従来のグレ
ーズ基板の反り以下になっている。グレーズ層とアルミ
ナ基板の熱膨張差が−15%のときのアルミナ基板厚み
とグレーズ厚みとの関係は上述した通りである。また、
グレーズ厚みを30μm程度に増加させても、グレーズ
層とアルミナ基板の熱膨張差が−10%〜+1%の範囲
においては、基板の反りは従来品以下である。この結果
から、グレーズ厚みを20μm以下にすることにより、
基板の厚みが0.5mm程度であっても基板の反りを従
来のグレーズ基板の反り以下にすることができる。ま
た、グレーズ層とアルミナ基板の熱膨張差が+9%以上
になると、グレーズ層とアルミナ基板間に亀裂が生じる
が、かかる亀裂を生じないようにするためには両者間の
熱膨張差が+5%以下であれば十分である。そして、こ
の熱膨張差においてアルミナ基板厚みが0.5mm以下
でグレーズ厚みが20μm以下であれば、基板の反りを
従来のグレーズ基板の反り以下にすることができる。
【0018】以上に説明したように、0.5mm以下の
厚みのアルミナ基板表面に基板との熱膨張差が−15%
〜+5%の範囲のグレーズ層を20μm以下の厚みに形
成することにより、従来のグレーズ基板以下の反りの薄
型グレーズ基板を得ることが出来る。また、上記グレー
ズ材質は、アルカリ金属及び鉛を含んでいないので、グ
レーズ層上に形成した金属がグレーズ層にしみ込んだ
り、グレーズ層上に設けた金属配線間にエレクトロマイ
グレーションを生じたりすることもなく、従って、この
薄型グレーズ基板は電気的化学的に安定であるという特
性を備えている。これら種々の利点を有することによ
り、上記薄型グレーズ基板は、小型かつ高精度のチップ
部品用の基板として極めて好適である。
【0019】なお、上記実施例においては、セラミック
基板としてアルミナ基板を用いた場合について説明して
いるが、窒化アルミニウム基板等の他の種類の基板に対
し本発明を適用してもよい。また、上記薄型グレーズ基
板は、上記チップ部品用に限るものでなく、膜部品等に
加えてチップ部品、半導体チップ等を搭載した小型の混
成集積回路基板用として用いることもできる。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年1月7日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0002
【補正方法】変更
【補正内容】
【0002】
【従来の技術】電子機器の小型化の要請に応じて、抵
抗、コンデンサ等のチップ部品の小型化薄型化の要求が
益々高まってきており、これらチップ部品用のセラミッ
ク基板に対する薄型化の要求も高まってきている。ちな
みに、従来これらチップ部品用のセラミック基板は、量
産化の要請から、大型基板の表面に複数個の回路素子を
形成した後に個々のチップ部品に分割する多数個取り基
板である。また、セラミック基板としては、基板平滑性
を向上させるために高純度で徴細な原料を用いた厚み
0.6mm以上のアルミナ基板が用いられているが、基
板平滑性はまだ十分とは言えず、また原料が高価なため
基板価格も高価になるという問題が残されている。一
方、表面平滑性の優れた基板については、サーマルプリ
ントヘッド用のグレーズ基板が知られており、このグレ
ーズ基板は基板厚みが0.6m以上でありかつ蓄熱効
果を得るために40〜60μmの厚みのグレーズ層を設
けている。

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 基板厚み0.5mm以下のセラミック基
    板表面に、厚み20μm以下のグレーズ層を設けたこと
    を特徴とする薄型グレーズ基板。
  2. 【請求項2】 前記請求項1に記載のグレーズ層を構成
    する材質の室温からガラス転移点までの平均熱膨張係数
    を、前記セラミック基板の熱膨張係数の−15%〜+5
    %の範囲内としたことを特徴とする薄型グレーズ基板。
  3. 【請求項3】 前記請求項1または請求項2に記載のグ
    レーズ層を構成する材質がアルカリ金属及び鉛を含まな
    いことを特徴とする薄型グレーズ基板。
JP31664392A 1992-10-30 1992-10-30 薄型グレーズ基板 Pending JPH06144963A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31664392A JPH06144963A (ja) 1992-10-30 1992-10-30 薄型グレーズ基板

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP31664392A JPH06144963A (ja) 1992-10-30 1992-10-30 薄型グレーズ基板

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH06144963A true JPH06144963A (ja) 1994-05-24

Family

ID=18079314

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP31664392A Pending JPH06144963A (ja) 1992-10-30 1992-10-30 薄型グレーズ基板

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPH06144963A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU710878B2 (en) * 1994-10-31 1999-09-30 Dainippon Printing Co. Ltd. Decorative material having abrasion resistance
WO2008018357A1 (fr) * 2006-08-07 2008-02-14 Ikebukuro Horo Kogyo Co., Ltd. composition de vitrage pour vitrification
WO2012023470A1 (ja) * 2010-08-17 2012-02-23 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU710878B2 (en) * 1994-10-31 1999-09-30 Dainippon Printing Co. Ltd. Decorative material having abrasion resistance
WO2008018357A1 (fr) * 2006-08-07 2008-02-14 Ikebukuro Horo Kogyo Co., Ltd. composition de vitrage pour vitrification
US8168551B2 (en) 2006-08-07 2012-05-01 Ikebukuro Horo Kogyo Co., Ltd. Cover coating composition for glass lining
US8278229B2 (en) 2006-08-07 2012-10-02 Ikebukuro Horo Kogyo Co., Ltd. Cover coating composition for glass lining
JP5191384B2 (ja) * 2006-08-07 2013-05-08 池袋琺瑯工業株式会社 グラスライニング用上ぐすり組成物
WO2012023470A1 (ja) * 2010-08-17 2012-02-23 日本電気硝子株式会社 無アルカリガラス
CN103068758A (zh) * 2010-08-17 2013-04-24 日本电气硝子株式会社 无碱玻璃
EP2607326A1 (en) * 2010-08-17 2013-06-26 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass
EP2607326A4 (en) * 2010-08-17 2014-10-08 Nippon Electric Glass Co ALKALIFREE GLASS
US9023744B2 (en) 2010-08-17 2015-05-05 Nippon Electric Glass Co., Ltd. Alkali-free glass

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4649070A (en) Substrate for an integrated circuit
JPS6238299B2 (ja)
JPS6025398B2 (ja) グレ−ズドセラミック基板
KR940006543B1 (ko) 화학적으로 안정화된 홍연석
JPH06144963A (ja) 薄型グレーズ基板
US6280829B1 (en) Ceramic composition for use in forming electronic components
US7354652B2 (en) Corrosion-resistant member and producing method thereof
JP2000025259A (ja) サーマルヘッド用グレーズ基板及びその製造方法
JP2760541B2 (ja) セラミック組成物
JP2624147B2 (ja) 低温焼成基板用組成物
JP3153690B2 (ja) グレーズドセラミック基板
JPH07108793B2 (ja) セラミック基板用グレーズ組成物
JPH0471857B2 (ja)
JPS6021829A (ja) ガラス組成物
JPH05301760A (ja) アルミナ基板の製造方法
JPH0478572B2 (ja)
JPH03290382A (ja) 高耐熱性グレーズド基板
JPS60155550A (ja) セラミツク基板用グレ−ズ組成物
JPS60170286A (ja) ガラスセラミツク基板の製造方法
JPH028977B2 (ja)
JPH06340480A (ja) グレーズ用ガラス組成物
JPH0658841B2 (ja) 抵抗体を有する電子回路基板
JPS586283B2 (ja) グレ−ズドセラミツクス基板
JPH07267762A (ja) 薄膜用グレーズ基板及びその製造方法
JPH03232784A (ja) グレーズド基板の製造法