JPH06132062A - 超電導厚膜成形体の接合方法 - Google Patents

超電導厚膜成形体の接合方法

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JPH06132062A
JPH06132062A JP4300650A JP30065092A JPH06132062A JP H06132062 A JPH06132062 A JP H06132062A JP 4300650 A JP4300650 A JP 4300650A JP 30065092 A JP30065092 A JP 30065092A JP H06132062 A JPH06132062 A JP H06132062A
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JP
Japan
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thick film
superconducting
superconducting thick
joining
metal base
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Pending
Application number
JP4300650A
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English (en)
Inventor
Yasumasa Nakanishi
保正 中西
Minoru Tagami
稔 田上
Ryoichi Katsuya
涼一 勝谷
Kenji Matsui
健治 松井
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IHI Corp
Original Assignee
IHI Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 超電導厚膜成形体の接合部のシールド効果を
高める。 【構成】 接合しようとする2つの超電導厚膜成形体1
aと1bの接合面を突き合わせる。両超電導厚膜成形体
1a,1bの各超電導厚膜3aと3bの接合面間に、超
電導材粉末ペースト4を塗布して充填する。次にCIP
処理をした後、焼成温度で焼成し、上記超電導材粉末ペ
ースト4からバインダーを抜いて超電導厚膜に成形す
る。上記超電導厚膜3aと3bの接合面が接合用の超電
導厚膜で継がれて接合される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は金属基材上に超電導厚膜
を一体成形してなる超電導厚膜成形体同士を接合する方
法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、超電導材に関する研究は盛んに行
われ、イットリウム系、ビスマス系、タリウム系等のい
わゆるセラミックス系の超電導材の開発が進められてい
るが、超電導材を種々の用途に使用できるようにするた
め、超電導材を任意の形状として実機に適用できるよう
にする技術が要求されており、更に、かかる要求に応え
るためには、強度部材としての金属基材上に、超電導厚
膜を一体成形してなる超電導厚膜成形体を作り、この超
電導厚膜成形体同士を接合する必要がある。
【0003】特に、用途の1つとして磁気シールドを考
えた場合、たとえば、新しい医療診断装置として注目さ
れているNMR−CT(核磁気共鳴コンピューター断層
撮影法)装置等では、超電導厚膜を内面に形成して外部
磁気を遮断し得るようにした容器が必要となるが、かか
る容器を作るためには、超電導厚膜成形体同士を、磁気
の漏洩がないように接合することが必要である。
【0004】一般に、超電導厚膜成形体同士を接合する
場合には、超電導厚膜成形体同士の接合面を突き合わせ
て接合することが考えられるが、この場合、2つの超電
導厚膜成形体の超電導厚膜同士と金属基材同士を別々に
接合する必要がある。
【0005】しかし、金属基材上に成形された超電導厚
膜は所定温度以上に加熱されると超電導性を喪失する性
質があるため、金属基材同士を通常の金属の接合のよう
に溶接やろう付け等の接合方法を採用することができ
ず、仮りに金属基材同士を溶接で接合した場合にも、周
辺温度が上昇して既に成膜してある超電導厚膜が過熱状
態になると、超電導性を失うおそれがあることから、こ
れまで、超電導厚膜成形体同士を接合する有効な方法が
なかった。
【0006】そのため、従来では、図5に概略を示す如
く、超電導厚膜成形体aが板状のものであるときは、該
超電導厚膜成形体aの端部同士を重ね合わせる方法、あ
るいは、超電導厚膜成形体aがパイプ状のものであると
きは、図5の応用として、図6に示す如くパイプ状の超
電導厚膜成形体a同士の接合側を対向させ、その外側に
接合材bを重ねて、2つの超電導厚膜成形体aの端部同
士を合わせるようにしている。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】ところが、上記いずれ
の方法も、端部の重ね合わせ部分の隙間から磁気が漏洩
するため、所定のシールド効果を得るためには、材質を
厚くする必要があった。
【0008】そこで、本発明は、超電導厚膜成形体を突
き合わせて接合するとき、金属基材を溶接で接合しても
表面の超電導厚膜の超電導性を損うことがないようにし
て、磁気の漏洩のおそれのないような接合方法を提供し
ようとするものである。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、金属基材上に超電導厚膜を一体成形して
なる超電導厚膜成形体同士を接合する方法において、2
つの超電導厚膜成形体の突き合わせ接合しようとする接
合面側端部で金属基材の表面を露出させておき、次い
で、両超電導厚膜成形体の金属基材同士を突き合わせ
て、超電導厚膜同士の接合面間の金属基材上に、超電導
材粉末ペーストを塗布して超電導厚膜同士を継ぎ、次
に、CIP装置内で上記超電導材粉末ペーストをCIP
処理した後、大気又は酸素中で焼成して接合する方法と
する。
【0010】
【作用】2つの超電導厚膜成形体の超電導厚膜同士を超
電導材粉末ペーストで継いで接合すると、部材同士を重
ね合わせる場合に比して軽量化が図れると共に、シール
ド効果を高めることができる。
【0011】
【実施例】以下、本発明の実施例を図面を参照して説明
する。
【0012】図1は本発明の接合方法の実施工程を示す
もので、Iは接合しようとする超電導厚膜成形体の超電
導厚膜同士の間に超電導材の粉末をバインダーで溶いて
なる超電導材粉末ペーストの塗布工程、IIは必要に応じ
て行う超電導厚膜成形体の金属基材同士の接合工程、II
I はCIP処理工程、IVは焼成工程である。
【0013】上記工程IとIIでは、図2(イ)及び
(ロ)に一例を示す如く、接合すべき2つの完成された
パイプ状の超電導厚膜成形体1aと1bを突き合わせ
て、該各超電導厚膜成形体1aと1bの金属基材2aと
2bの接合と、超電導厚膜3aと3b間への超電導材粉
末ペースト4の塗布とを行う。すなわち、接合すべき超
電導厚膜成形体1aと1bの接合面側の端部を、予め金
属基材2a,2bの表面が露出するように該金属基材2
a,2bの端が超電導厚膜3a,3bの端よりも出張っ
ているようにし、金属基材2a,2b同士を突き合わせ
て接触させた状態で超電導厚膜3aと3b同士の接合面
間の金属基材2a,2b上に、超電導材粉末ペースト4
を図2(ロ)の如く全周にわたり塗布して、該超電導材
粉末ペースト4にて超電導厚膜3a,3bの接合面を継
ぐようにする。このとき、必要に応じて金属基材2a,
2bの突き合わせ部の裏側を接合線に沿って超電導厚膜
3a,3bに熱による悪影響を及ぼさないよう必要に応
じて突き合わせ部近傍を冷却しつつ点溶接5等により金
属基材2a,2b同士を接合する。
【0014】CIP処理工程III では、図3に示す如
く、上記突き合わされて超電導厚膜3a,3b間に超電
導材粉末ペースト4が塗布された超電導厚膜成形体1a
と1bを、ゴム製の袋6内に入れて密封し、外部より水
圧を等圧かけてプレス処理し、超電導材粉末ペースト4
にCIP処理を施こす。
【0015】CIP処理の条件は、圧力を1トン以上、
好ましくは3トン以上とし、保持時間を3分以上とす
る。圧力を1トン以下とすると、超電導の臨界電流が不
十分であるからである。又、保持時間を3分以上とする
のは、3分保持すれば充分だからである。
【0016】CIP処理工程III でCIP処理が施され
ると、次に、焼成工程IVに移るが、焼成工程IVでは、超
電導厚膜成形体1a,1bの各超電導厚膜3aと3bの
接合面間に充填されている超電導材粉末ペースト4を、
各超電導厚膜3a,3bの超電導性を損わないように、
Y系材料の場合には大気及び酸素中で、焼成温度を93
0℃〜1050℃、保持時間を0.5〜24時間とする
条件で焼成し、上記超電導材粉末ペースト4に含まれる
バインダーを抜き出して、超電導材粉末ペースト4を超
電導厚膜に成形し、該成形された超電導厚膜を、超電導
厚膜3a及び3bと一体にすることにより接合を行う。
【0017】上記において、焼成温度は、材料により決
定されるが、最適な焼成温度は950℃であり、焼成温
度は低過ぎると焼成が進まず、又、高過ぎると、性能が
低下して来るので、前記した条件の焼成温度とする。
又、焼成温度の保持時間は、0.5〜24時間でも可能
であるが、今、バインダー量:1.0cc/g、CIP圧
力:98MPa、昇温時間:7.8℃/分、冷却時間:
40℃/時間の条件のときは、図4に示す如く、最適保
持時間は40分であった。
【0018】
【発明の効果】以上述べた如く、本発明の超電導厚膜成
形体の接合方法によれば、2つの完成された超電導厚膜
成形体の接合面側となる超電導厚膜同士の接合面間に、
超電導材粉末をバインダーで溶いてなる超電導材粉末ペ
ーストを充填し、次いで、CIP処理した後、焼成し、
上記超電導材粉末ペーストを超電導厚膜に成形して、上
記接合しようとする2つの超電導厚膜成形体の各超電導
厚膜同士を一体接合させるようにするので、超電導厚膜
同士を同じ材質の超電導厚膜で継いで接合することか
ら、磁気を漏洩させることのない接合を行うことがで
き、従来の重ね合わせの方法と比較して軽量化が図れる
だけでなくシールド効果を高めることができ、又、超電
導厚膜成形体同士を接合して行くことにより、大型で複
雑な形状のセラミックス系超電導材を部分ごとに分けて
製作することが可能となり、更に、本発明の方法は超電
導厚膜成形体の接合部の補修としても採用できる、等の
優れた効果を奏し得る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の接合方法の実施工程を示す図である。
【図2】2つの完成された超電導厚膜成形体の接合を行
う状態を示すもので、(イ)は斜視図、(ロ)は(イ)
のA部の断面図である。
【図3】CIP処理するときの状態を示す概略図であ
る。
【図4】焼成工程における焼成温度の保持時間の選定の
一例を示す図である。
【図5】従来の接合方法の一例を示す概略図である。
【図6】従来のパイプ状の超電導厚膜成形体の接合方法
を示す図である。
【符号の説明】
1a,1b 超電導厚膜成形体 2a,2b 金属基材 3a,3b 超電導厚膜 4 超電導材粉末ペースト 5 点溶接 6 袋 I 超電導材粉末ペーストの塗布工程 II 金属基材同士の接合工程 III CIP処理工程 IV 焼成工程
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 松井 健治 神奈川県横浜市磯子区新中原町1番地 石 川島播磨重工業株式会社技術研究所内

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 金属基材上に超電導厚膜を一体成形して
    なる超電導厚膜成形体同士を接合する方法において、2
    つの完成された超電導厚膜成形体の突き合わせ接合面側
    端部で金属基材表面を露出させておき、次いで、両超電
    導厚膜成形体の金属基材同士を突き合わせて、超電導厚
    膜同士の接合面間の金属基材上に、超電導材粉末ペース
    トを塗布して超電導厚膜同士を継ぎ、次に、CIP装置
    内でCIP処理をした後、焼成して接合することを特徴
    とする超電導厚膜成形体の接合方法。
JP4300650A 1992-10-14 1992-10-14 超電導厚膜成形体の接合方法 Pending JPH06132062A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4886720A (en) * 1987-08-31 1989-12-12 Minolta Camera Kabushiki Kaisha Photosensitive medium having a styryl charge transport material
US4891289A (en) * 1987-04-27 1990-01-02 Minolta Camera Kabushiki Kaisha Photosensitive member
US4900645A (en) * 1987-04-27 1990-02-13 Minolta Camera Kabushiki Kaisha Electrophotographic photosensitive member comprises styryl compound as transport material

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4891289A (en) * 1987-04-27 1990-01-02 Minolta Camera Kabushiki Kaisha Photosensitive member
US4900645A (en) * 1987-04-27 1990-02-13 Minolta Camera Kabushiki Kaisha Electrophotographic photosensitive member comprises styryl compound as transport material
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