JPH029779A - セラミックス金属複合体の製造方法 - Google Patents

セラミックス金属複合体の製造方法

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JPH029779A
JPH029779A JP15829988A JP15829988A JPH029779A JP H029779 A JPH029779 A JP H029779A JP 15829988 A JP15829988 A JP 15829988A JP 15829988 A JP15829988 A JP 15829988A JP H029779 A JPH029779 A JP H029779A
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JP
Japan
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insert
ceramic
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metal
ceramic member
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JP15829988A
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Inventor
Yoichiro Yoneda
陽一郎 米田
Yoshitsune Kaname
要 善恒
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Kobe Steel Ltd
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Kobe Steel Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野] 本発明は、セラミックス部材と金属部材とを接合したセ
ラミックス金属複合体の製造方法に関し、更に詳述すれ
ば、加熱炉の内壁部材、航空機f)エンジン部材及びロ
ケット又は宇宙往還機の機体用部材等に使用するのに好
適のセラミ・ソクス金属複合体を製造する方法に関する
[従来の技術] セラミックスは軽量で耐熱性が高く、また化学的に安定
であって耐食性も高いが、靭性に乏し6>ため単独では
使用しにくい。このため、金属を使用できない高温部の
みをセラミックスとし、それに続く低温部には金属を配
置し、両者を接合した複合体として使用に供することが
試みられている。
而して、このようなセラミックと金属とを接合した複合
体を上述の用途に供し得るか否かは、両者を高信頼性で
接合できるか否かにかかつている。
従来、これらのセラミックスと金属とを高信頼度で接合
するために、Cu −T iのアモルファス金属のろう
材又はCuとTiとの混合粉末からなるろう材等が使用
されてきた。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、上述のCu−Tiアモルファス金風のろ
う材を使用する場合は、広幅のアモルファスろう材の製
作が困難であるため、大型のセラミ・・Iクス部材と金
属部材とを接合することが難しい。また、アモルファス
ろう材が高価であるため、製造=1ストが高くなるとい
う問題点がある6また、CuとTiとの混合粉末からな
るろう材ではCuとTiとが均一・に混合しに<<、ま
たバインダを使用する必要があるため接合部に欠陥が発
生しやすいという難点がある。
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであって、
接合面積が大きい場合でも、欠陥がなく高信頼性で接合
することができる健全な複合体を製造できるセラミック
ス金属複合体の製造方法を提1共することを目的とする
[課題を解決するための手段] 本発明に係るセラミックス金属複合体の製造方法は、先
ず、セラミックス部材と金属部材との間に、Ti材、C
u材及びTi材をこの順序に積層したインサート材を介
装する。次いで、加熱して前記インサート材を全量溶融
させるか、又はCu材の一部を残存させて他の部分を溶
融させることにより、固化後に前記セラミックス部材と
金属部材との間に、Ti3有呈が0,5乃至20原子?
≦の領域を少なくとも一部に含むインサー1〜領域を形
成して前記セラミックス部材と金属部材とを接合する。
[作用コ 本発明においては、セラミックス部材と金属部材との間
に介装するインサート材として、Til、Cu材及びT
i材の積層体を使用する。そして、加熱によりTi材及
び少なくとも一部のCu材を溶融させる。これにより、
その溶融領域が固化した後に、セラミックス部材と金属
部材との間に、Ti含有量が0.5乃至20原子%の領
域をその全域に形成し、又はこの領域を前記残存したC
u材の領域を挾む領域に形成して、前記セラミックス部
材と金属部材とを接合する。
これにより、被接合材が大型であっても容易に且つ低コ
ストで接合することができる。また、インサート材か一
旦溶融した領域はCu及びTiが均一に混合されており
、更にバインダが不要であるから接合部の欠陥の発生が
回避される。
また、Cu材の両面にはTi材が配設されており、この
Ti材はセラミックス部材及び&属部材との間のぬれ性
が良好であるため、接合強度が高い 更に、インサート材中のCu材の一部を未溶解のまま残
存させれば、この残存Cu領域によりセラミ・ソクス部
材と金属部材との間の応力を緩和させることができる。
なお、接合される金属部材としては、金属及び合金をい
い、これらの金属又は合金とセラミックスとの複合材は
含まない。
[実施例] 以下、本発明の実施例について添付の図面を参照して具
体的に説明する。
本実施例方法においては、先ず、第1図に示すように、
セラミックス部材1と金属部材2との間に、インサート
材3を介装する。このインサート材3は、Cu箔5の両
面に夫々Ti箔4及び′■゛1箔6を重ねた3層構造を
有している。
このように、Ti箔4、Cu箔5及びT” i箔6の積
層体からなるインサート材3を、セラミックス部材1と
金属部材2との間に介装した後、セラミックス部材1と
金属部材2との間に適度の締付力を印加し、これらの部
材を雰囲気調整可能の加熱炉に装入して真空中又は不活
性ガス雰囲気下におく、そして、炉内でこれらのセラミ
ックス部(・(1、インサート材3及び金属部材2を9
00乃至1100℃の接合温度に加熱し、1乃至60分
間保持してインサート材3の少なくとも一部を溶融させ
てセラミックス部材1と金属部材2とを接合する。なお
、この接合時間(1乃至60分)は、第4図にインサー
ト材3を加熱したときの温度変化を示すように、室温が
ら加熱していって900乃至i、 100℃の接合温度
に到達し7た時点からこの接合温度に保持すべき時間を
いう。
真空中又は不活性ガス雰囲気下で加熱するのはインサー
1〜材3及び金属部材2の酸化を防止するためである。
また、接合温度が900乃至1100℃であるのは、9
00°C未満ではインサート材が溶融しないためであり
、1100℃を超える場合は脆弱な金属間化合物が大量
に発生するからである。いずれも上記温度範囲から外れ
ると健全な接合部を得ることができない虞がある。
接合時間が1乃至60分であるのは、1分未満の場合は
ぬれ性が悪く、60分を超える場合は脆羽な金属間化合
物が大量に発生するからである。
こめ場合も、健全な接合部を得にくい。
上述の如<−インサート材3を加熱することにより、イ
ンサート材3が全て溶融した場合には、第2図に示すよ
うに各省4.5.6が混合した後凝固した溶融インサー
ト領域7が形成され、この溶融インサート領域7により
セラミックス部材1と金属部材2とが接合される。また
、Cu箔5の一部か未溶解で残存した場合には、第3図
に示すように、残存Cu領域9を間に挟んで溶融インサ
ート領域8,10が形成される。そして、この残存Cu
領域9とセラミックス部材1又は金属部材2との間に存
在する溶融インサート領域8.10により、セラミック
ス部材1、金属部N2及び残存Cu領域9が相互に接合
される。
・インサート材3の外面にTi箔を配設したのは以下の
理由による。先ず、Tiはセラミックスとの間のぬれ性
及び反応性が良好であるため、セラミックス部材1との
接触面にTi箔4を配設することにより、セラミックス
部材1との間の接合強度を高めることができるからであ
る。また、Tiは金属との間のぬれ性も良好であるため
、金属部材2との接触面にTi箔6を配置することによ
りその接合強度を高めることができる。
このような効果を得るためには、インサート材3が加熱
溶融し、次いで固化した後に、セラミックス部材1又は
金属部材3との界面に形成される溶融インサート領域7
(第2図参照)又は溶融インサート領域8.10(第3
図参照)におけるTiの含有量を0.5乃至20原子%
にすることが好ましい。Ti含有量が0.5原子%未満
の場合は、ぬれ性の向上効果が得られず、逆にTi含有
量が20原子%を超える場合は、Tiを含有する金属間
化合物が大量に発生し、健全な接合が困難になる虞れが
あるからである。
また、インサート材3等の加熱条件を選択することによ
り、第3図に示すように、C[1領域9を未溶解のまま
残存させることができる。これにより、接合領域におい
ては、Ti箔4,6の全領域とCu箔5の一部領域とが
溶融して形成される溶融インサート領域8.10の相互
間にCLl領域9が介在することになり、この展延性が
優れたCu領域9によりセラミックス部材1と金属部材
2どの間の熱膨張差による残留応力を有効に緩和するこ
とができる。
インサート材3の各省4,5.6の厚さは、溶融インサ
ー)・領域7の厚さが10乃至300μmになるように
設定することが好ましい。また、Cu領域9が残存する
場合には、その両面に形成される溶融インサート領域8
.10の厚さが10乃至300μmになるようにインサ
ート材3の各省4,5.6の厚さを設定することが好ま
しい。
溶融インサート領域7,8.10の厚さが10μm未満
の場合は、このインサート領域にて未溶着部が発生しや
すい。また、インサート領域は一般的に低強度であるな
め、溶融インサー1〜領域78.10の厚さが300t
tmを超える場合は、この低強度インサート領域の占め
る領域が多くなり過ぎ、接合強度の低下が顕著になる。
このような理由で溶融インサート領域7,8.10の厚
さが10乃至300μmになるようにインサート材3の
各省4,5.6の厚さを設定することが好ましい。
また、第3図に示すように、Cu領域9が残存する場合
には、このCu領域9の厚さが100乃至2000μr
nになるように、インサート材3のCu箔5の厚さ及び
加熱条件等を選択することが好ましい。残存Cu領域9
の厚さが100μm未溝の場合は応力緩和効果が少なく
、逆に2000μmを超える場合は、Cuが低強度であ
ることに起因する接合強度の低下が問題になる。
なお、本発明は種々の品種のセラミックス部材及び金属
部材に適用することが可能であるが、特に、セラミック
ス部材1としては、例えばSiC又はSi3N4等の品
種のものを接合するのに極めて有効である。また、金属
部材2としては、ステンレス鋼、Ti基合金又はNi基
合金等があり、本発明はこれらの金属の接合に好適であ
る。
なお、本発明においては、金属部材2としてはセラミッ
クスど金属との複合材は含まない、Ti箔/Cu箔/T
i箔からなるインサート材3を使用してセラミックス部
材1と、H2複合材とを接合しようとすると、複合材中
のセラミックスとマトリックスである金属との間でイン
サート材3中のC11による金属間化合物が発生し、複
合材が劣化する。このため、金属又は合金とセラミック
スとの複合材は本発明の適用対象外である。
次に、本発明の実施例方法により、セラミックス金属複
合体を製造し、その接合部の特性を調べた結果について
説明する。
セラミックス部材1として、接合面が1辺12amの正
方形であるSiC製ブロックを使用し、金属部材2とし
て、接合面が1辺12mmの正方形であるNi基合金の
ブロックを使用した。
そして、これらのセラミックス部材1と金属部材2との
間に、下記第1表に示すインサート材を介装し、同様に
この第1表に示す接合温度及び接合時間の条件でインサ
ート材を真空炉中で加熱してセラミックス部材1と金属
部材2とを接合した。
但し、インサート材欄中の()内は各省の厚さ(μm)
を示す。また、この接合条件においては、インサート材
3は全て溶融し、溶融インサート領域7が形成された。
この溶融インサート領域7のTi含有量を第1表に併せ
て示す。
この第1表から明らかなように、実施例1乃至5の場合
はTi含有量が0.5乃至20原子%の範囲内であるた
め、セラミックス部材1と金属部材2とは十分に接合さ
れており、この接合部の超音波探傷試験においても欠陥
が認められず、良好な接合部が得られた。
これに対し、比較例1乃至4の場合はTi含有量が前述
の範囲を超えるため、また比較例5はCLl箔ではな(
Ni箔を使用しているため、いずれもセラミックス部材
1と金属部材2とは接合面で剥離が生じ、接合すること
ができなかった。
また、インサート材として、従来のようにTi粉末とC
u粉末とをTi含有量が12原子%になるように混合し
た混合粉末を使用した比較例6の場合には、接合はされ
るものの、バインダから発生したガスによりボイドが発
生し、超音波探傷の結果、多くの欠陥が認められて実用
には供し得なかった。
次に、Cu箔の一部を未溶解のまま残存させたセラミッ
クス金属複合体を製造した結果について説明する。セラ
ミックス部材1は接合面が1辺50m11の正方形であ
るSi3N4のブロックであり、金属部材2は同様の接
合面を有する5US430ブロツクである。このセラミ
ックス部材1と金属部材2との間に下記第2表に示すイ
ンサート材を介在させ、同じく第2表に示す加熱条件で
真空炉中で加熱してセラミックス部材1と金属部材2と
を接合させた。この加熱条件ではCu箔は一部未溶解の
まま残存した。溶融インサート領域8,10におけるT
i含有量は第2表に示す通りである。
第2表 この第2表から明らかなように、Ti含有量が0.5乃
至20原子%に適合する実施例6.7の場合は、いずれ
も良好に接合し、超音波探傷試験の結果も良好であった
一方、比較例7,8はTi含有量が前述の範囲から外れ
るため、接合界面で剥離が生じ、接合することができな
かった。
また、比較例9はTi箔の両面にCu箔を配置した積層
体であるため、溶融領域がインサート領域の中央に出現
し、全く接合しなかった。
[発明の効果] 以上説明したように、本発明によれば、セラミックス部
材と金属部材とを良好に接合することができ、健全な接
合部が得られる。また、インサート材は低廉であるため
低コストでセラミックス金属複合体を製造することがで
き、更にバインダを使用しないため接合部の欠陥発生が
回避される。
このように、本発明はセラミックス部材と金属部材とを
高信頼度で接合することができ、信頼性が高いセラミッ
クス金属複合体を提供することができるので、宇宙及び
航空分野等のように高温強度が必要とされる分野に対し
て、極めて有益な素材を供給することができるという優
れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
第1図乃至第3図は本発明の実施例方法を示す側面図、
第・・1図は接合条件を説明するためのグラフ図である
。 1:セラミックス部材、2;金属部材、3;インサート
材、4,6;Ti箔、5:Cu箔、7゜8.10;溶融
インサート領域、9;残存C11領域 出願ξ 株式会社神戸製鋼所

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)セラミックス部材と金属部材との間に、Ti材、
    Cu材及びTi材をこの順序に積層したインサート材を
    介装した後、加熱して前記インサート材を全量溶融させ
    、固化後にTi含有量が0.5乃至20原子%のインサ
    ート領域を形成して前記セラミックス部材と金属部材と
    を接合することを特徴するセラミックス金属複合体の製
    造方法。
  2. (2)セラミックス部材と金属部材との間に、Ti材、
    Cu材及びTi材をこの順序に積層したインサート材を
    介装した後、加熱して前記インサート材のTi材及び一
    部のCu材を溶融させ、固化後にCu材の一部が残存し
    た領域とTi含有量が0.5乃至20原子%の一旦溶融
    した領域とからなるインサート領域を形成して前記セラ
    ミックス部材と金属部材とを接合することを特徴とする
    セラミックス金属複合体の製造方法。
JP15829988A 1988-06-27 1988-06-27 セラミックス金属複合体の製造方法 Pending JPH029779A (ja)

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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN100434224C (zh) * 2005-06-09 2008-11-19 山东大学 一种添加活性中间合金扩散连接陶瓷与钢的方法
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US9052127B2 (en) 2011-12-21 2015-06-09 Lg Electronics Inc. Refrigerator having auxiliary cooling device
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JP2022056203A (ja) * 2020-09-29 2022-04-08 株式会社フェローテックホールディングス 接合基板および接合方法

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