JPH06119059A - マスフローコントローラ流量検定システム - Google Patents
マスフローコントローラ流量検定システムInfo
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- JPH06119059A JPH06119059A JP4286986A JP28698692A JPH06119059A JP H06119059 A JPH06119059 A JP H06119059A JP 4286986 A JP4286986 A JP 4286986A JP 28698692 A JP28698692 A JP 28698692A JP H06119059 A JPH06119059 A JP H06119059A
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- mass flow
- flow rate
- flow controller
- gas
- pressure
- Prior art date
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- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01F—MEASURING VOLUME, VOLUME FLOW, MASS FLOW OR LIQUID LEVEL; METERING BY VOLUME
- G01F1/00—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow
- G01F1/05—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects
- G01F1/34—Measuring the volume flow or mass flow of fluid or fluent solid material wherein the fluid passes through a meter in a continuous flow by using mechanical effects by measuring pressure or differential pressure
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- General Physics & Mathematics (AREA)
- Flow Control (AREA)
- Pipeline Systems (AREA)
- Measuring Volume Flow (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 配管中に組み込んだままの状態でのマスフロ
ーコントローラの流量計測精度の検定を可能としたマス
フローコントローラ流量検定システムを提供すること。 【構成】 遮断弁３を閉じ、遮断弁９、４、２を開く
と、配管内からプロセスガスが掃気され、所定圧の窒素
ガスで充填される。次に、遮断弁９を閉じ、配管内の窒
素ガスはマスフローコントローラを通して放出する。圧
力計１０の指示値が所定値となる時間を計測し、マスフ
ローコントローラの実流量を求める。これにより、マス
フローコントローラの異常を検出することができる。
ーコントローラの流量計測精度の検定を可能としたマス
フローコントローラ流量検定システムを提供すること。 【構成】 遮断弁３を閉じ、遮断弁９、４、２を開く
と、配管内からプロセスガスが掃気され、所定圧の窒素
ガスで充填される。次に、遮断弁９を閉じ、配管内の窒
素ガスはマスフローコントローラを通して放出する。圧
力計１０の指示値が所定値となる時間を計測し、マスフ
ローコントローラの実流量を求める。これにより、マス
フローコントローラの異常を検出することができる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体製造プロセスに
おけるガスシステムに使用するマスフローコントローラ
の流量検定に関し、さらに詳細にはシステム中に組み込
んだ状態でのマスフローコントローラの流量計測精度の
検定が可能な流量検定システムに関するものである。
おけるガスシステムに使用するマスフローコントローラ
の流量検定に関し、さらに詳細にはシステム中に組み込
んだ状態でのマスフローコントローラの流量計測精度の
検定が可能な流量検定システムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造工程中の成膜装置、乾式エッ
チング装置等においては、例えばシランやホスフィン等
のいわゆる特殊材料ガスや塩素ガス等の腐食性ガスおよ
び水素ガス等の強燃性ガス等を使用する。これらのガス
の使用に当たっては、次に述べる理由によりその流量を
極めて厳格に管理しなければならない。
チング装置等においては、例えばシランやホスフィン等
のいわゆる特殊材料ガスや塩素ガス等の腐食性ガスおよ
び水素ガス等の強燃性ガス等を使用する。これらのガス
の使用に当たっては、次に述べる理由によりその流量を
極めて厳格に管理しなければならない。
【０００３】第一の理由として、ガス流量の多寡がプロ
セスの良否に直接影響することが挙げられる。すなわ
ち、成膜プロセスにおいては膜質が、エッチングプロセ
スにおいては回路加工の良否が、ガス流量の精度により
多大な影響を受けるのである。別の理由として、この種
のガスの多くは人体や環境に対する有害性あるいは爆発
性等を有することが挙げられる。このため使用後のこれ
らのガスは、直接大気に排気することは許されず、ガス
種に応じた除害手段を備えなければならない。かかる除
害手段は通例処理能力が限られていて、許容値以上の流
量が流れると有害ガスの環境への流出や除害手段の破損
につながることがある。さらに、これらのガス、特に半
導体製造プロセスにて使用しうる高純度かつ無塵のもの
は高価な上、ガス種によっては自然劣化による使用期限
があるため大量保管ができないことも理由となる。
セスの良否に直接影響することが挙げられる。すなわ
ち、成膜プロセスにおいては膜質が、エッチングプロセ
スにおいては回路加工の良否が、ガス流量の精度により
多大な影響を受けるのである。別の理由として、この種
のガスの多くは人体や環境に対する有害性あるいは爆発
性等を有することが挙げられる。このため使用後のこれ
らのガスは、直接大気に排気することは許されず、ガス
種に応じた除害手段を備えなければならない。かかる除
害手段は通例処理能力が限られていて、許容値以上の流
量が流れると有害ガスの環境への流出や除害手段の破損
につながることがある。さらに、これらのガス、特に半
導体製造プロセスにて使用しうる高純度かつ無塵のもの
は高価な上、ガス種によっては自然劣化による使用期限
があるため大量保管ができないことも理由となる。
【０００４】一方、プロセス機器が要求するこれらのガ
スの実際の流量は、多くても５００ｓｃｃｍ程度と小さ
いので、従来より配管中に公知のマスフローコントロー
ラを配して、ガス種ごとに最適の流量を流すようにして
いる。かかるマスフローコントローラは、印加電圧を変
更することにより、設定流量を変更してプロセスレシピ
の変更に対応できるようになっている。
スの実際の流量は、多くても５００ｓｃｃｍ程度と小さ
いので、従来より配管中に公知のマスフローコントロー
ラを配して、ガス種ごとに最適の流量を流すようにして
いる。かかるマスフローコントローラは、印加電圧を変
更することにより、設定流量を変更してプロセスレシピ
の変更に対応できるようになっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】この種のガスプロセス
におけるマスフローコントローラは、小流量をコントロ
ールすることを目的とするものであるため内部に細管を
有し、該細管の作用により流量のモニター等を行ってい
る。一方マスフローコントローラを流れるガスのうち特
に成膜用材料ガスは、その特性上配管内でも固形物を析
出する可能性があり、配管の流量容量を変化させること
がある。かかる変化が起こればそのマスフローコントロ
ーラにおける印加電圧と実流量との関係は当然変化し、
印加電圧の設定に変化がなくても実流量が変化するの
で、プロセスの安定性を阻害することになる。現実にこ
のような変化が起こった場合には、正しいガス流量を流
すべく印加電圧の設定を修正しなければならない。この
とき、マスフローコントローラの実流量を計測する必要
が生ずる。
におけるマスフローコントローラは、小流量をコントロ
ールすることを目的とするものであるため内部に細管を
有し、該細管の作用により流量のモニター等を行ってい
る。一方マスフローコントローラを流れるガスのうち特
に成膜用材料ガスは、その特性上配管内でも固形物を析
出する可能性があり、配管の流量容量を変化させること
がある。かかる変化が起こればそのマスフローコントロ
ーラにおける印加電圧と実流量との関係は当然変化し、
印加電圧の設定に変化がなくても実流量が変化するの
で、プロセスの安定性を阻害することになる。現実にこ
のような変化が起こった場合には、正しいガス流量を流
すべく印加電圧の設定を修正しなければならない。この
とき、マスフローコントローラの実流量を計測する必要
が生ずる。
【０００６】さらに析出固形物が蓄積すると、印加電圧
設定の修正では対処しきれなくなる。細管のつまりによ
り流量のモニターが不可能になるからである。それ以前
にこのようなマスフローコントローラを使用し続けるこ
とは、半導体製造上最も嫌うべきパーティクルをプロセ
ス機器に送り込むことになり、好ましくない。したがっ
てこのような場合には、マスフローコントローラを新品
に交換しなければならない。ここでマスフローコントロ
ーラの印加電圧と実流量との関係は、同一機種であって
も個体差を無視できず、また配管系とのジョイントの締
め付け具合も実流量に影響するので、交換した新しいマ
スフローコントローラにおいて実流量を計測する必要が
ある。
設定の修正では対処しきれなくなる。細管のつまりによ
り流量のモニターが不可能になるからである。それ以前
にこのようなマスフローコントローラを使用し続けるこ
とは、半導体製造上最も嫌うべきパーティクルをプロセ
ス機器に送り込むことになり、好ましくない。したがっ
てこのような場合には、マスフローコントローラを新品
に交換しなければならない。ここでマスフローコントロ
ーラの印加電圧と実流量との関係は、同一機種であって
も個体差を無視できず、また配管系とのジョイントの締
め付け具合も実流量に影響するので、交換した新しいマ
スフローコントローラにおいて実流量を計測する必要が
ある。
【０００７】しかしながら、マスフローコントローラの
実流量を計測することは、過去ほとんど行われていな
い。その理由は、配管系に組み込んだ状態でのマスフロ
ーコントローラの実流量の計測が困難なことにある。そ
こで、実流量を計測するかわりに作業者の勘と経験とに
より暫定的に印加電圧を設定し、プロセスを実行してそ
の良否により暫定値の良否を判断し、これを繰り返して
最適設定値を決定しているのである。このため最適値決
定までに時間がかかるためプロセス装置の実稼動率が低
くなるばかりでなく、その過程で消費する各種ガスやテ
ストウェハ等のコストも軽視し得ない。
実流量を計測することは、過去ほとんど行われていな
い。その理由は、配管系に組み込んだ状態でのマスフロ
ーコントローラの実流量の計測が困難なことにある。そ
こで、実流量を計測するかわりに作業者の勘と経験とに
より暫定的に印加電圧を設定し、プロセスを実行してそ
の良否により暫定値の良否を判断し、これを繰り返して
最適設定値を決定しているのである。このため最適値決
定までに時間がかかるためプロセス装置の実稼動率が低
くなるばかりでなく、その過程で消費する各種ガスやテ
ストウェハ等のコストも軽視し得ない。
【０００８】本発明は、上述した問題点を解決するため
になされたものであり、配管系に組み込んだ状態でのマ
スフローコントローラの実流量の計測を可能とすること
により、マスフローコントローラの個体差や経時変化に
適切に対応して、正しいガス流量を与える電圧設定値を
迅速に知り、もってガスを使用するプロセスの安定運転
と高稼動率操業とを可能とするマスフローコントローラ
流量検定システムを提供することを目的とする。
になされたものであり、配管系に組み込んだ状態でのマ
スフローコントローラの実流量の計測を可能とすること
により、マスフローコントローラの個体差や経時変化に
適切に対応して、正しいガス流量を与える電圧設定値を
迅速に知り、もってガスを使用するプロセスの安定運転
と高稼動率操業とを可能とするマスフローコントローラ
流量検定システムを提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するため
に本発明のマスフローコントローラ流量検定システム
は、プロセスガス源から第１遮断弁およびマスフローコ
ントローラを順次経由してプロセスチャンバに該プロセ
スガスを供給するガス配管系において、計測用ガスを供
給する計測用ガス源と、入口側が前記計測用ガス源に接
続し、出口側が前記ガス配管系の前記マスフローコント
ローラの入口側に接続する計測開始用遮断弁と、前記計
測用開始遮断弁の出口側の圧力を計測する圧力計とを有
し、前記マスフローコントローラへの前記プロセスガス
の供給を前記第一遮断弁により遮断し、前記計測開始用
遮断弁を開いて前記圧力計を所定の圧力にした後、前記
計測開始用遮断弁を閉じて、前記圧力計により時間経過
に伴う圧力低下を計測することによりマスフローコント
ローラの計測精度を検定する。
に本発明のマスフローコントローラ流量検定システム
は、プロセスガス源から第１遮断弁およびマスフローコ
ントローラを順次経由してプロセスチャンバに該プロセ
スガスを供給するガス配管系において、計測用ガスを供
給する計測用ガス源と、入口側が前記計測用ガス源に接
続し、出口側が前記ガス配管系の前記マスフローコント
ローラの入口側に接続する計測開始用遮断弁と、前記計
測用開始遮断弁の出口側の圧力を計測する圧力計とを有
し、前記マスフローコントローラへの前記プロセスガス
の供給を前記第一遮断弁により遮断し、前記計測開始用
遮断弁を開いて前記圧力計を所定の圧力にした後、前記
計測開始用遮断弁を閉じて、前記圧力計により時間経過
に伴う圧力低下を計測することによりマスフローコント
ローラの計測精度を検定する。
【００１０】また、上記するマスフローコントローラ流
量検定システムであって、前記配管系にマスフローコン
トローラを取り付けた時に前記検定を行い、前記時間経
過に伴う圧力低下の初期データを記憶する記憶手段と、
前記プロセスが稼働した後、前記検定を行って計測した
圧力低下のデータと前記初期データとを比較してマスフ
ローコントローラの異常を検定する制御手段とを有して
いる。また、上記するマスフローコントローラ流量検定
システムであって、前記計測開始用遮断弁の出口側に２
以上の前記マスフローコントローラが並列に接続してい
る。
量検定システムであって、前記配管系にマスフローコン
トローラを取り付けた時に前記検定を行い、前記時間経
過に伴う圧力低下の初期データを記憶する記憶手段と、
前記プロセスが稼働した後、前記検定を行って計測した
圧力低下のデータと前記初期データとを比較してマスフ
ローコントローラの異常を検定する制御手段とを有して
いる。また、上記するマスフローコントローラ流量検定
システムであって、前記計測開始用遮断弁の出口側に２
以上の前記マスフローコントローラが並列に接続してい
る。
【００１１】
【作用】前記構成を有する本発明の検定システムでは、
配管系にマスフローコントローラを取り付けた時に、マ
スフローコントローラの実流量を計測を行う。すなわ
ち、プロセスガスの供給を停止した状態で、一定圧力の
窒素ガスで配管系内を充填する。次に、計測開始用遮断
弁を閉じて、計測しようとするマスフローコントローラ
を介して充填した窒素ガスを排気側に放出する。このと
きの大気圧になるまでの放出時間を初期データとして記
憶手段であるマイクロコンピータに記憶する。
配管系にマスフローコントローラを取り付けた時に、マ
スフローコントローラの実流量を計測を行う。すなわ
ち、プロセスガスの供給を停止した状態で、一定圧力の
窒素ガスで配管系内を充填する。次に、計測開始用遮断
弁を閉じて、計測しようとするマスフローコントローラ
を介して充填した窒素ガスを排気側に放出する。このと
きの大気圧になるまでの放出時間を初期データとして記
憶手段であるマイクロコンピータに記憶する。
【００１２】その後、実際の稼働に入り、マスフローコ
ントローラの細管が詰まる恐れがある時期より適宜検定
を行う。すなわち、プロセスガスの供給を停止した後、
一定圧力の窒素ガスで配管系内を充填する。次に、計測
開始用遮断弁を閉じて、計測しようとするマスフローコ
ントローラを介して充填した窒素ガスを排気側に放出す
る。このときの大気圧になるまでの放出時間をデータと
して採り、マイクロコンピータに記憶されている初期デ
ータと比較して、マスフローコントローラの異常の発生
の有無を制御手段であるマイクロコンピータが判断し、
警報を出す。また、この計測値により、必要な実流量を
得るためのマスフローコントローラへの印加電圧設定を
修正することも可能である。
ントローラの細管が詰まる恐れがある時期より適宜検定
を行う。すなわち、プロセスガスの供給を停止した後、
一定圧力の窒素ガスで配管系内を充填する。次に、計測
開始用遮断弁を閉じて、計測しようとするマスフローコ
ントローラを介して充填した窒素ガスを排気側に放出す
る。このときの大気圧になるまでの放出時間をデータと
して採り、マイクロコンピータに記憶されている初期デ
ータと比較して、マスフローコントローラの異常の発生
の有無を制御手段であるマイクロコンピータが判断し、
警報を出す。また、この計測値により、必要な実流量を
得るためのマスフローコントローラへの印加電圧設定を
修正することも可能である。
【００１３】
【実施例】以下、本発明のガス実流量検定システムを具
体化してガス配管系に組み込んだ一実施例を図面を参照
して説明する。図２は本発明にかかるガス実流量検定シ
ステムを組み込んだガスシステムのブロック図である。
図２においては、５種類のプロセスガス（Ａ〜Ｅ）がそ
れぞれマスフローコントローラ（１Ａ〜１Ｅ）を挟む第
１の遮断弁（３Ａ〜３Ｅ）と第２の遮断弁（２Ａ〜２
Ｅ）とを通してプロセスチャンバ５に供給されるように
なっている。さらに、共通の流量計測用高圧窒素源６か
ら、フィルタ７、減圧弁８を経て所定の圧力に減圧され
た窒素ガスが、計測開始用の遮断弁９を経た後分岐さ
れ、連結用の遮断弁（４Ａ〜４Ｅ）を経て各ガスライン
に合流している。
体化してガス配管系に組み込んだ一実施例を図面を参照
して説明する。図２は本発明にかかるガス実流量検定シ
ステムを組み込んだガスシステムのブロック図である。
図２においては、５種類のプロセスガス（Ａ〜Ｅ）がそ
れぞれマスフローコントローラ（１Ａ〜１Ｅ）を挟む第
１の遮断弁（３Ａ〜３Ｅ）と第２の遮断弁（２Ａ〜２
Ｅ）とを通してプロセスチャンバ５に供給されるように
なっている。さらに、共通の流量計測用高圧窒素源６か
ら、フィルタ７、減圧弁８を経て所定の圧力に減圧され
た窒素ガスが、計測開始用の遮断弁９を経た後分岐さ
れ、連結用の遮断弁（４Ａ〜４Ｅ）を経て各ガスライン
に合流している。
【００１４】圧力計１０は、遮断弁９と遮断弁（４Ａ〜
４Ｅ）との間における窒素ガスの圧力を計測するもので
ある。プロセスチャンバ５は、ドライエッチング、気相
成膜、熱酸化等を行うためのものである。なお、流量計
測用高圧窒素源６はプロセスチャンバ５を大気開放する
とき等に用いるパージ用ガス源と共用されていてもよ
い。
４Ｅ）との間における窒素ガスの圧力を計測するもので
ある。プロセスチャンバ５は、ドライエッチング、気相
成膜、熱酸化等を行うためのものである。なお、流量計
測用高圧窒素源６はプロセスチャンバ５を大気開放する
とき等に用いるパージ用ガス源と共用されていてもよ
い。
【００１５】かかるガスシステムにおいて通常のプロセ
スレシピを実行する際には、遮断弁（４Ａ〜４Ｅ）を閉
として、流量計測用高圧窒素源６からの窒素が各ガスラ
インに流れることがなく、かつ、各プロセスガスが圧力
計１０の方に逆流することのないようにした上で、各マ
スフローコントローラ（１Ａ〜１Ｅ）に設定電圧を印加
し、各遮断弁（２Ａ〜２Ｅ、３Ａ〜３Ｅ）を開として、
プロセスチャンバ５に各プロセスガスを必要な流量流す
のである。プロセスチャンバ５内には、処理しようとす
るウェハが収納されており、適宜加熱、プラズマ印加等
を行い、プロセスガスの作用と併せて必要な処理が行わ
れる。
スレシピを実行する際には、遮断弁（４Ａ〜４Ｅ）を閉
として、流量計測用高圧窒素源６からの窒素が各ガスラ
インに流れることがなく、かつ、各プロセスガスが圧力
計１０の方に逆流することのないようにした上で、各マ
スフローコントローラ（１Ａ〜１Ｅ）に設定電圧を印加
し、各遮断弁（２Ａ〜２Ｅ、３Ａ〜３Ｅ）を開として、
プロセスチャンバ５に各プロセスガスを必要な流量流す
のである。プロセスチャンバ５内には、処理しようとす
るウェハが収納されており、適宜加熱、プラズマ印加等
を行い、プロセスガスの作用と併せて必要な処理が行わ
れる。
【００１６】さて、かかるガスシステムにおいて、マス
フローコントローラ（１Ａ〜１Ｅ）を新品に交換した場
合を考える。一般にマスフローコントローラは内部に細
管を有するので、同一形式のものであっても、その印加
電圧と実流量との関係の個体差は無視しえず、また配管
とのジョイントの締め付け具合いによっても影響を受け
るので、システムに組み込んだ状態での実流量を計測し
て、必要とする実流量に対する印加電圧を設定し直して
おくのが、プロセスの良好な操業を図る上で望ましい。
また、実レシピを多数回数実行することにより、マスフ
ローコントローラ（１Ａ〜１Ｅ）の特性が変化すること
があるので、必要に応じて印加電圧を修正することが好
ましい。本実施例のガスシステムでは、ガス実流量検定
システムが組み込まれているので、各マスフローコント
ローラ（１Ａ〜１Ｅ）のガス実流量を計測し、必要とす
る実流量に対する印加電圧を設定し直すことができる。
フローコントローラ（１Ａ〜１Ｅ）を新品に交換した場
合を考える。一般にマスフローコントローラは内部に細
管を有するので、同一形式のものであっても、その印加
電圧と実流量との関係の個体差は無視しえず、また配管
とのジョイントの締め付け具合いによっても影響を受け
るので、システムに組み込んだ状態での実流量を計測し
て、必要とする実流量に対する印加電圧を設定し直して
おくのが、プロセスの良好な操業を図る上で望ましい。
また、実レシピを多数回数実行することにより、マスフ
ローコントローラ（１Ａ〜１Ｅ）の特性が変化すること
があるので、必要に応じて印加電圧を修正することが好
ましい。本実施例のガスシステムでは、ガス実流量検定
システムが組み込まれているので、各マスフローコント
ローラ（１Ａ〜１Ｅ）のガス実流量を計測し、必要とす
る実流量に対する印加電圧を設定し直すことができる。
【００１７】本実施例のガスシステムにおけるガス実流
量計測の手順を図２および図３に基づいて説明する。図
１は図２のガスシステムを簡単のため１のプロセスガス
ラインのみ示し、図２では示していなかったマイクロコ
ンピュータ１１等を示したものである。マイクロコンピ
ュータ１１は、圧力計１０のデータを解析するものであ
る。圧力の変化速度から計算されるガス流量は流量モニ
タ１３に表示される。また、ここで異常な信号が検知さ
れると、異常信号出力回路１２がアラームを発する。な
お、１のプロセスガスラインのみ有するシステムでは、
遮断弁４はなくてもよい。
量計測の手順を図２および図３に基づいて説明する。図
１は図２のガスシステムを簡単のため１のプロセスガス
ラインのみ示し、図２では示していなかったマイクロコ
ンピュータ１１等を示したものである。マイクロコンピ
ュータ１１は、圧力計１０のデータを解析するものであ
る。圧力の変化速度から計算されるガス流量は流量モニ
タ１３に表示される。また、ここで異常な信号が検知さ
れると、異常信号出力回路１２がアラームを発する。な
お、１のプロセスガスラインのみ有するシステムでは、
遮断弁４はなくてもよい。
【００１８】図１のガスシステムにおいてガス実流量を
計測するには、まず遮断弁３を閉としプロセスガスの供
給を遮断する。次に減圧弁８の２次圧を５ｋｇｆ／ｃｍ
2 に調整し、遮断弁９、４、２を開とし、プロセスチャ
ンバ５を介して図示しない排気側にブローして残留して
いるプロセスガスを掃気する。そしてマスフローコント
ローラ１の流量を設定する。このとき図１中の配管のう
ち破線を付けた部分（以下タンク部分Ｔという。から）
窒素ガスが、マスフローコントローラ１を介して設定流
量に従いつつ、排気側に流出する。そして流量計測用高
圧窒素源６から減圧弁８を介して窒素ガスが補充され、
タンク部分Ｔは５ｋｇｆ／ｃｍ2 に維持される。したが
って圧力計１０は５ｋｇｆ／ｃｍ2 を表示する。
計測するには、まず遮断弁３を閉としプロセスガスの供
給を遮断する。次に減圧弁８の２次圧を５ｋｇｆ／ｃｍ
2 に調整し、遮断弁９、４、２を開とし、プロセスチャ
ンバ５を介して図示しない排気側にブローして残留して
いるプロセスガスを掃気する。そしてマスフローコント
ローラ１の流量を設定する。このとき図１中の配管のう
ち破線を付けた部分（以下タンク部分Ｔという。から）
窒素ガスが、マスフローコントローラ１を介して設定流
量に従いつつ、排気側に流出する。そして流量計測用高
圧窒素源６から減圧弁８を介して窒素ガスが補充され、
タンク部分Ｔは５ｋｇｆ／ｃｍ2 に維持される。したが
って圧力計１０は５ｋｇｆ／ｃｍ2 を表示する。
【００１９】この状態から遮断弁９を閉とすると、タン
ク部分Ｔに窒素ガスが補充されなくなり、一方マスフロ
ーコントローラ１を介しての流出は続くので、タンク部
分Ｔの圧力すなわち圧力計１０の表示は、次第に低下し
て大気圧すなわち０ｋｇｆ／ｃｍ2 となる。ここで表示
値が大気圧になるまでに必要な時間は、マスフローコン
トローラ１の流量により、すなわち印加電圧により変化
する。このときの圧力計１０の表示値と、遮断弁２を開
としてからの経過時間との関係の実測値の例を図３のグ
ラフに示す。
ク部分Ｔに窒素ガスが補充されなくなり、一方マスフロ
ーコントローラ１を介しての流出は続くので、タンク部
分Ｔの圧力すなわち圧力計１０の表示は、次第に低下し
て大気圧すなわち０ｋｇｆ／ｃｍ2 となる。ここで表示
値が大気圧になるまでに必要な時間は、マスフローコン
トローラ１の流量により、すなわち印加電圧により変化
する。このときの圧力計１０の表示値と、遮断弁２を開
としてからの経過時間との関係の実測値の例を図３のグ
ラフに示す。
【００２０】ここで一般論として、一定容積Ｖより一定
流量Ｑでガス放出したときの放出時間ｔについて検討す
る。ここで放出時間とは初期圧力から大気圧までガス放
出するのに要する時間をいう。まず、気体の状態方程式 ＰＶ＝ｇＲＴ （１） を考える。ここで、Ｐは圧力を、ｇはガス重量を、Ｒは
ガス定数を、Ｔは温度を示す。（１）式は、いわゆるボ
イルシャルルの法則を示している。
流量Ｑでガス放出したときの放出時間ｔについて検討す
る。ここで放出時間とは初期圧力から大気圧までガス放
出するのに要する時間をいう。まず、気体の状態方程式 ＰＶ＝ｇＲＴ （１） を考える。ここで、Ｐは圧力を、ｇはガス重量を、Ｒは
ガス定数を、Ｔは温度を示す。（１）式は、いわゆるボ
イルシャルルの法則を示している。
【００２１】（１）式より、温度Ｔを一定として圧力Ｐ
1 のときの容積Ｖ内のガス重量ｇ1は、 ｇ1 ＝Ｐ1 Ｖ／ＲＴ （２） で表され、同様に圧力Ｐ2 のときの容積Ｖ内のガス重量
ｇ2 は、 ｇ2 ＝Ｐ2 Ｖ／ＲＴ （３） で表される。一定容積Ｖのガスが一定温度Ｔのもとで、
圧力がＰ1 からＰ2 に変化したときのガス重量の変化ｇ
3 は、 ｇ3 ＝ｇ1 −ｇ2 ＝（Ｐ1 −Ｐ2 ）＊（Ｖ／ＲＴ） （４） となる。
1 のときの容積Ｖ内のガス重量ｇ1は、 ｇ1 ＝Ｐ1 Ｖ／ＲＴ （２） で表され、同様に圧力Ｐ2 のときの容積Ｖ内のガス重量
ｇ2 は、 ｇ2 ＝Ｐ2 Ｖ／ＲＴ （３） で表される。一定容積Ｖのガスが一定温度Ｔのもとで、
圧力がＰ1 からＰ2 に変化したときのガス重量の変化ｇ
3 は、 ｇ3 ＝ｇ1 −ｇ2 ＝（Ｐ1 −Ｐ2 ）＊（Ｖ／ＲＴ） （４） となる。
【００２２】ここで、ガスが窒素ガスである場合のガス
定数Ｒを求める。標準状態（０゜Ｃ、１気圧）１ｍｏｌ
の窒素ガスを考えると、 Ｐ＝１．０３３ｋｇｆ／ｃｍ2 （１気圧） Ｔ＝２７３ｋ （０゜Ｃ） Ｖ＝２２４００ｃｍ3 （２２．４リッター） ｇ＝０．０２８ｋｇｆ （Ｎ2 の分子量より） であるから、（１）式より、 Ｒ＝ＰＶ／ｇＴ＝３０２７ｃｍ／Ｋ （５） となる。したがって、温度Ｔが室温２９３Ｋ（２０゜
Ｃ）であるとき、（４）式と（５）式とから、 ｇ3 ＝（Ｖ／８８７０００）＊（Ｐ1 −Ｐ2 ）ｋｇｆ （６） となる。
定数Ｒを求める。標準状態（０゜Ｃ、１気圧）１ｍｏｌ
の窒素ガスを考えると、 Ｐ＝１．０３３ｋｇｆ／ｃｍ2 （１気圧） Ｔ＝２７３ｋ （０゜Ｃ） Ｖ＝２２４００ｃｍ3 （２２．４リッター） ｇ＝０．０２８ｋｇｆ （Ｎ2 の分子量より） であるから、（１）式より、 Ｒ＝ＰＶ／ｇＴ＝３０２７ｃｍ／Ｋ （５） となる。したがって、温度Ｔが室温２９３Ｋ（２０゜
Ｃ）であるとき、（４）式と（５）式とから、 ｇ3 ＝（Ｖ／８８７０００）＊（Ｐ1 −Ｐ2 ）ｋｇｆ （６） となる。
【００２３】ここで、室温２９３Ｋ（２０゜Ｃ）、１．
０３３ｋｇｆ／ｃｍ2 （１気圧）、１ｃｍ3 の窒素ガス
の重量ｇ4 を考えると、（１）式と（５）式とから、 ｇ4 ＝ＰＶ／ＲＴ＝１．１６５＊１０-6ｋｇｆ （７） となる。今、一定の体積流量Ｑｓｃｃｍ（ｓｃｃｍは１
気圧２０゜Ｃの状態に換算したときの１分当りの体積流
量を示す）がｔ秒間、一定容積Ｖより放出したときの放
出ガスの重量ｇ5 はＱと放出時間とｇ4 との積であるか
ら、（６）式を使って、 ｇ5 ＝Ｑ＊（ｔ／６０）＊１．１６５＊１０-6ｋｇｆ （８） となる。ところで、一定容積Ｖ内のガスの重量変化は、
放出されたガスの重量に等しいため、（６）式と（８）
式とにおいてｇ3 ＝ｇ5 となり、 ｔ＝５８＊Ｖ＊（Ｐ1 −Ｐ2 ）／Ｑ （９） が導かれ、放出時間ｔは体積流量Ｑに反比例することが
わかる。
０３３ｋｇｆ／ｃｍ2 （１気圧）、１ｃｍ3 の窒素ガス
の重量ｇ4 を考えると、（１）式と（５）式とから、 ｇ4 ＝ＰＶ／ＲＴ＝１．１６５＊１０-6ｋｇｆ （７） となる。今、一定の体積流量Ｑｓｃｃｍ（ｓｃｃｍは１
気圧２０゜Ｃの状態に換算したときの１分当りの体積流
量を示す）がｔ秒間、一定容積Ｖより放出したときの放
出ガスの重量ｇ5 はＱと放出時間とｇ4 との積であるか
ら、（６）式を使って、 ｇ5 ＝Ｑ＊（ｔ／６０）＊１．１６５＊１０-6ｋｇｆ （８） となる。ところで、一定容積Ｖ内のガスの重量変化は、
放出されたガスの重量に等しいため、（６）式と（８）
式とにおいてｇ3 ＝ｇ5 となり、 ｔ＝５８＊Ｖ＊（Ｐ1 −Ｐ2 ）／Ｑ （９） が導かれ、放出時間ｔは体積流量Ｑに反比例することが
わかる。
【００２４】次に、以上の考察を本実施例に適用する。
本実施例のようなガスシステムにおける前述のタンク部
分Ｔの容積Ｖは通常５ないし３０ｃｍ3 程度であり、本
発明者が使用したシステムでは実測Ｖ＝１２．４ｃｍ3
であった。そして、今考えているのはタンク部分Ｔの圧
力が５ｋｇｆ／ｃｍ2 から大気圧まで低下する場合であ
るので、Ｐ1 ＝５ｋｇｆ／ｃｍ2 、Ｐ2 ＝０ｋｇｆ／ｃ
ｍ2 である。そして放出流量Ｑすなわちマスフローコン
トローラ１の流量を２００ｓｃｃｍとすれば、（９）式
を計算して、 ｔ＝１７．９８秒 との理論値が得られる。図３のグラフに示した実測値の
例のうち、設定流量２００ｓｃｃｍのものは放出時間約
１８秒と読むことができ、理論値と非常によく一致して
いる。図３のグラフの他の設定流量のものも理論値と一
致していることが、（９）式を計算することにより確認
できる。
本実施例のようなガスシステムにおける前述のタンク部
分Ｔの容積Ｖは通常５ないし３０ｃｍ3 程度であり、本
発明者が使用したシステムでは実測Ｖ＝１２．４ｃｍ3
であった。そして、今考えているのはタンク部分Ｔの圧
力が５ｋｇｆ／ｃｍ2 から大気圧まで低下する場合であ
るので、Ｐ1 ＝５ｋｇｆ／ｃｍ2 、Ｐ2 ＝０ｋｇｆ／ｃ
ｍ2 である。そして放出流量Ｑすなわちマスフローコン
トローラ１の流量を２００ｓｃｃｍとすれば、（９）式
を計算して、 ｔ＝１７．９８秒 との理論値が得られる。図３のグラフに示した実測値の
例のうち、設定流量２００ｓｃｃｍのものは放出時間約
１８秒と読むことができ、理論値と非常によく一致して
いる。図３のグラフの他の設定流量のものも理論値と一
致していることが、（９）式を計算することにより確認
できる。
【００２５】図３のグラフからは、初期圧力を５ｋｇｆ
／ｃｍ2 でなく４ｋｇｆ／ｃｍ2 とし、そこから大気圧
でなく１ｋｇｆ／ｃｍ2 までの放出時間を読みとること
もできる。例えば設定流量２００ｓｃｃｍの場合、放出
開始から４ｋｇｆ／ｃｍ2 まで約３秒かかっており（図
中ｔ1 ）、放出開始から１ｋｇｆ／ｃｍ2 まで約１４秒
かかっている（図中ｔ2 ）ので、４ｋｇｆ／ｃｍ2 から
１ｋｇｆ／ｃｍ2 までの放出時間は、約１１秒である。
他の設定流量の場合でも、同様にして、４ｋｇｆ／ｃｍ
2 から１ｋｇｆ／ｃｍ2 までの放出時間を読みとること
ができる。
／ｃｍ2 でなく４ｋｇｆ／ｃｍ2 とし、そこから大気圧
でなく１ｋｇｆ／ｃｍ2 までの放出時間を読みとること
もできる。例えば設定流量２００ｓｃｃｍの場合、放出
開始から４ｋｇｆ／ｃｍ2 まで約３秒かかっており（図
中ｔ1 ）、放出開始から１ｋｇｆ／ｃｍ2 まで約１４秒
かかっている（図中ｔ2 ）ので、４ｋｇｆ／ｃｍ2 から
１ｋｇｆ／ｃｍ2 までの放出時間は、約１１秒である。
他の設定流量の場合でも、同様にして、４ｋｇｆ／ｃｍ
2 から１ｋｇｆ／ｃｍ2 までの放出時間を読みとること
ができる。
【００２６】このように４ｋｇｆ／ｃｍ2 から１ｋｇｆ
／ｃｍ2 までの放出時間を読むことの意義は、計測精度
の向上にある。すなわち計測開始を５ｋｇｆ／ｃｍ2 と
すると、遮断弁９を閉とした瞬間が計測開始時になるの
で、閉弁動作の微妙な時間的ずれが計測誤差となるので
ある。また、計測終了を大気圧とすると、大気圧付近で
は流速が遅くなり、計測終了時を厳密に定めるのが困難
である。放出時間を４ｋｇｆ／ｃｍ2 から１ｋｇｆ／ｃ
ｍ2 までとすればこれらの問題はなく、高い精度で放出
時間を計測できる。
／ｃｍ2 までの放出時間を読むことの意義は、計測精度
の向上にある。すなわち計測開始を５ｋｇｆ／ｃｍ2 と
すると、遮断弁９を閉とした瞬間が計測開始時になるの
で、閉弁動作の微妙な時間的ずれが計測誤差となるので
ある。また、計測終了を大気圧とすると、大気圧付近で
は流速が遅くなり、計測終了時を厳密に定めるのが困難
である。放出時間を４ｋｇｆ／ｃｍ2 から１ｋｇｆ／ｃ
ｍ2 までとすればこれらの問題はなく、高い精度で放出
時間を計測できる。
【００２７】こうして図３のグラフから読みとられた４
ｋｇｆ／ｃｍ2 から１ｋｇｆ／ｃｍ2 までの放出時間と
マスフローコントローラ１の設定流量との関係を図４の
グラフに実線で示す。図４のグラフには、タンク部分Ｔ
の容積が１８．８ｃｍ3 である同様のガスシステムでの
計測結果の例（図４中破線で示す）も示されているが、
以後の説明はタンク部分Ｔの容積が１２．４ｃｍ3 であ
るガスシステムについて行う。なお、この計測の再現性
は非常によく、本発明者の実験によれば、クリーンな窒
素ガスで計測する限り何度も同じ計測を繰り返してもほ
とんど変化はない。
ｋｇｆ／ｃｍ2 から１ｋｇｆ／ｃｍ2 までの放出時間と
マスフローコントローラ１の設定流量との関係を図４の
グラフに実線で示す。図４のグラフには、タンク部分Ｔ
の容積が１８．８ｃｍ3 である同様のガスシステムでの
計測結果の例（図４中破線で示す）も示されているが、
以後の説明はタンク部分Ｔの容積が１２．４ｃｍ3 であ
るガスシステムについて行う。なお、この計測の再現性
は非常によく、本発明者の実験によれば、クリーンな窒
素ガスで計測する限り何度も同じ計測を繰り返してもほ
とんど変化はない。
【００２８】今、図２に示すようなガスシステムを新た
に組み立てた場合、実レシピを良好に実行するために必
要な実流量は、プロセスチャンバ５の体積や微妙な内部
配置等により異なるので、実レシピの試行を何度か行
い、良好な結果が得られるマスフローコントローラ１の
印加電圧を決定しておく必要がある。そして決定した印
加電圧にて上述の放出時間の計測を行えば、図４のグラ
フとの対照により必要な実流量（以下、所要流量とい
う）を求めることができる。さて、マスフローコントロ
ーラ１を新品に交換した場合、印加電圧と実流量との関
係の個体差は無視しえないので、交換した新しいマスフ
ローコントローラ１にて所要流量が得られる印加電圧を
決定しなければならない。このため放出時間の計測を行
い、所要流量に対応する放出時間（図４のグラフより読
みとる）が得られる印加電圧（以下、正常電圧という）
を決定しておく。
に組み立てた場合、実レシピを良好に実行するために必
要な実流量は、プロセスチャンバ５の体積や微妙な内部
配置等により異なるので、実レシピの試行を何度か行
い、良好な結果が得られるマスフローコントローラ１の
印加電圧を決定しておく必要がある。そして決定した印
加電圧にて上述の放出時間の計測を行えば、図４のグラ
フとの対照により必要な実流量（以下、所要流量とい
う）を求めることができる。さて、マスフローコントロ
ーラ１を新品に交換した場合、印加電圧と実流量との関
係の個体差は無視しえないので、交換した新しいマスフ
ローコントローラ１にて所要流量が得られる印加電圧を
決定しなければならない。このため放出時間の計測を行
い、所要流量に対応する放出時間（図４のグラフより読
みとる）が得られる印加電圧（以下、正常電圧という）
を決定しておく。
【００２９】実レシピの実行を多数回数繰り返すと、マ
スフローコントローラ１の印加電圧と実流量との関係が
変化することがあり、そのことはマスフローコントロー
ラ１に正常電圧を印加しているのにプロセス結果が良好
でなくなることによって知られる。プロセス結果が良好
でないとは、例えば成膜プロセスの場合、形成された膜
の膜厚や膜質（屈折率等）が正常値からはずれたり、そ
れらの均一性が悪くなることをいう。この場合は、マス
フローコントローラ１の印加電圧を修正して所要流量が
得られるようにしなければならない。また、このような
正常値からのずれが大きくなったマスフローコントロー
ラ１は、えてしてパーティクルを発生してプロセス歩留
まりを悪化させるので、ずれがある限界値を超えた時点
でなんらかのアラームが発せられるようにしておくのが
好ましい。
スフローコントローラ１の印加電圧と実流量との関係が
変化することがあり、そのことはマスフローコントロー
ラ１に正常電圧を印加しているのにプロセス結果が良好
でなくなることによって知られる。プロセス結果が良好
でないとは、例えば成膜プロセスの場合、形成された膜
の膜厚や膜質（屈折率等）が正常値からはずれたり、そ
れらの均一性が悪くなることをいう。この場合は、マス
フローコントローラ１の印加電圧を修正して所要流量が
得られるようにしなければならない。また、このような
正常値からのずれが大きくなったマスフローコントロー
ラ１は、えてしてパーティクルを発生してプロセス歩留
まりを悪化させるので、ずれがある限界値を超えた時点
でなんらかのアラームが発せられるようにしておくのが
好ましい。
【００３０】そこで、本実施例のガスシステムでは、マ
イクロコンピュータ１１に初期状態を記憶しておき、修
正のための計測の結果ずれが限界値を超えていた場合に
異常信号出力回路１２がアラームを発するようにしてい
る。この機能は、マスフローコントローラ１を交換して
新品のマスフローコントローラ１における正常電圧を計
測した直後に行う正常値初期化モードと、マスフローコ
ントローラ１に正常状態からのずれが生じていると思わ
れるときに行う計測モードとにより実現される。計測モ
ードでは、ずれの修正を行い、必要な場合にはアラーム
を発する。
イクロコンピュータ１１に初期状態を記憶しておき、修
正のための計測の結果ずれが限界値を超えていた場合に
異常信号出力回路１２がアラームを発するようにしてい
る。この機能は、マスフローコントローラ１を交換して
新品のマスフローコントローラ１における正常電圧を計
測した直後に行う正常値初期化モードと、マスフローコ
ントローラ１に正常状態からのずれが生じていると思わ
れるときに行う計測モードとにより実現される。計測モ
ードでは、ずれの修正を行い、必要な場合にはアラーム
を発する。
【００３１】まず、正常値初期化モードについて図５の
フローチャートと図２とに基づいて説明する。前提条件
として、マスフローコントローラ１を新品に交換し、そ
のマスフローコントローラ１における正常電圧を計測し
たところであるとする。このとき、減圧弁８の設定２次
圧は５ｋｇｆ／ｃｍ2 であり、一方遮断弁３は閉とさ
れ、遮断弁３より右方にプロセスガスは供給されていな
い。最初に、Ｓ１において計測系の準備を行う。すなわ
ち、遮断弁３を閉としたまま遮断弁９、４、２を開とす
ると、流量計測用高圧窒素源６からタンク部分Ｔを通し
て排気側に窒素ガスが流れ、減圧弁８の働きによりタン
ク部分Ｔの圧力は５ｋｇｆ／ｃｍ2 に維持され、圧力計
１０は５ｋｇｆ／ｃｍ2 を指示する。圧力計１０の指示
値はマイクロコンピュータ１１に常時信号として送られ
ている。
フローチャートと図２とに基づいて説明する。前提条件
として、マスフローコントローラ１を新品に交換し、そ
のマスフローコントローラ１における正常電圧を計測し
たところであるとする。このとき、減圧弁８の設定２次
圧は５ｋｇｆ／ｃｍ2 であり、一方遮断弁３は閉とさ
れ、遮断弁３より右方にプロセスガスは供給されていな
い。最初に、Ｓ１において計測系の準備を行う。すなわ
ち、遮断弁３を閉としたまま遮断弁９、４、２を開とす
ると、流量計測用高圧窒素源６からタンク部分Ｔを通し
て排気側に窒素ガスが流れ、減圧弁８の働きによりタン
ク部分Ｔの圧力は５ｋｇｆ／ｃｍ2 に維持され、圧力計
１０は５ｋｇｆ／ｃｍ2 を指示する。圧力計１０の指示
値はマイクロコンピュータ１１に常時信号として送られ
ている。
【００３２】そして、Ｓ２においてマスフローコントロ
ーラ１の流量設定を行う。このときの設定は、さきに計
測されているそのマスフローコントローラ１における正
常電圧を印加することによって行う。そして、Ｓ３で遮
断弁９を閉じると、タンク部分Ｔの圧力が徐々に下がり
始めるので、圧力計１０の指示値も徐々に下がる。そし
て、圧力計１０の指示値が４ｋｇｆ／ｃｍ2 を切るとき
を時間計測開始時刻とする（Ｓ４）。同様に圧力計１０
の指示値が１ｋｇｆ／ｃｍ2 を切るときを時間計測終了
時刻とする（Ｓ５）。そして、両時刻の差が正常放出時
間としてマイクロコンピュータ１１に記憶される（Ｓ
６）。このとき、マスフローコントローラ１の設定流量
も、正常流量としてマイクロコンピュータ１１に記憶さ
れる（Ｓ７）とともに、流量モニタ１３に表示される
（Ｓ８）。以上が、正常値初期化モードである。
ーラ１の流量設定を行う。このときの設定は、さきに計
測されているそのマスフローコントローラ１における正
常電圧を印加することによって行う。そして、Ｓ３で遮
断弁９を閉じると、タンク部分Ｔの圧力が徐々に下がり
始めるので、圧力計１０の指示値も徐々に下がる。そし
て、圧力計１０の指示値が４ｋｇｆ／ｃｍ2 を切るとき
を時間計測開始時刻とする（Ｓ４）。同様に圧力計１０
の指示値が１ｋｇｆ／ｃｍ2 を切るときを時間計測終了
時刻とする（Ｓ５）。そして、両時刻の差が正常放出時
間としてマイクロコンピュータ１１に記憶される（Ｓ
６）。このとき、マスフローコントローラ１の設定流量
も、正常流量としてマイクロコンピュータ１１に記憶さ
れる（Ｓ７）とともに、流量モニタ１３に表示される
（Ｓ８）。以上が、正常値初期化モードである。
【００３３】続いて、計測モードについて図６のフロー
チャートと図２とに基づいて説明する。計測モードは、
マスフローコントローラ１の印加電圧と実流量との関係
に正常状態からのずれが生じていると思われるときに行
うモードである。計測モードを行う場合前提条件とし
て、遮断弁３を閉としてプロセスガスの供給を停止し、
減圧弁８の２次圧を５ｋｇｆ／ｃｍ2 に設定しておかな
ければならない。最初に、Ｓ９において計測系の準備を
行う。すなわち、遮断弁３を閉としたまま遮断弁９、
４、２を開とすると、流量計測用高圧窒素源６からタン
ク部分Ｔを通して排気側に窒素ガスが流れ、残留してい
るプロセスガスが掃気される。このとき減圧弁８の働き
によりタンク部分Ｔの圧力は５ｋｇｆ／ｃｍ2 に維持さ
れ、圧力計１０は５ｋｇｆ／ｃｍ2 を指示する。圧力計
１０の指示値はマイクロコンピュータ１１に常時信号と
して送られている。
チャートと図２とに基づいて説明する。計測モードは、
マスフローコントローラ１の印加電圧と実流量との関係
に正常状態からのずれが生じていると思われるときに行
うモードである。計測モードを行う場合前提条件とし
て、遮断弁３を閉としてプロセスガスの供給を停止し、
減圧弁８の２次圧を５ｋｇｆ／ｃｍ2 に設定しておかな
ければならない。最初に、Ｓ９において計測系の準備を
行う。すなわち、遮断弁３を閉としたまま遮断弁９、
４、２を開とすると、流量計測用高圧窒素源６からタン
ク部分Ｔを通して排気側に窒素ガスが流れ、残留してい
るプロセスガスが掃気される。このとき減圧弁８の働き
によりタンク部分Ｔの圧力は５ｋｇｆ／ｃｍ2 に維持さ
れ、圧力計１０は５ｋｇｆ／ｃｍ2 を指示する。圧力計
１０の指示値はマイクロコンピュータ１１に常時信号と
して送られている。
【００３４】そして、Ｓ１０においてマスフローコント
ローラ１の流量設定を行う。このときの設定は、正常値
初期化モードを行った際と同じ電圧をマスフローコント
ローラ１に印加することにより行う。そして、Ｓ１１で
遮断弁９を閉じると、タンク部分Ｔの圧力が徐々に下が
り始めるので、圧力計１０の指示値も徐々に下がる。そ
して、圧力計１０の指示値が４ｋｇｆ／ｃｍ2 を切ると
きを時間計測開始時刻とする（Ｓ１２）。同様に圧力計
１０の指示値が１ｋｇｆ／ｃｍ2 を切るときを時間計測
終了時刻とする（Ｓ１３）。そして、両時刻の差が計測
放出時間としてマイクロコンピュータ１１に記憶される
（Ｓ１４）。そして、Ｓ１５において計測放出時間の正
常放出時間からのずれが許容範囲内（例えば正常放出時
間の上下１０％以内）であるかどうかを判断する。許容
範囲内であると判断された場合（Ｓ１５：ＹＥＳ）に
は、Ｓ１６において正常信号を出力する。
ローラ１の流量設定を行う。このときの設定は、正常値
初期化モードを行った際と同じ電圧をマスフローコント
ローラ１に印加することにより行う。そして、Ｓ１１で
遮断弁９を閉じると、タンク部分Ｔの圧力が徐々に下が
り始めるので、圧力計１０の指示値も徐々に下がる。そ
して、圧力計１０の指示値が４ｋｇｆ／ｃｍ2 を切ると
きを時間計測開始時刻とする（Ｓ１２）。同様に圧力計
１０の指示値が１ｋｇｆ／ｃｍ2 を切るときを時間計測
終了時刻とする（Ｓ１３）。そして、両時刻の差が計測
放出時間としてマイクロコンピュータ１１に記憶される
（Ｓ１４）。そして、Ｓ１５において計測放出時間の正
常放出時間からのずれが許容範囲内（例えば正常放出時
間の上下１０％以内）であるかどうかを判断する。許容
範囲内であると判断された場合（Ｓ１５：ＹＥＳ）に
は、Ｓ１６において正常信号を出力する。
【００３５】そして、正常値初期化モードを行った際に
記憶した正常放出時間と正常流量とから、現状での放出
時間と設定流量との関係を示すカーブ（図４のグラフ中
一点鎖線で示す）をマイクロコンピュータ１１が演算す
る（Ｓ１７）。そして、かかる演算結果に計測放出時間
を当てはめることにより求められる実流量が、流量モニ
タ１３に表示される（Ｓ１８）。さらにこのとき、現状
で所要流量を流すべき修正電圧も計算される。Ｓ１５に
おいて計測放出時間の正常放出時間からのずれが許容範
囲内でないと判断された場合（Ｓ１５：ＮＯ）には、Ｓ
１９にて異常信号出力回路１２がアラームを発する。以
上が計測モードである。
記憶した正常放出時間と正常流量とから、現状での放出
時間と設定流量との関係を示すカーブ（図４のグラフ中
一点鎖線で示す）をマイクロコンピュータ１１が演算す
る（Ｓ１７）。そして、かかる演算結果に計測放出時間
を当てはめることにより求められる実流量が、流量モニ
タ１３に表示される（Ｓ１８）。さらにこのとき、現状
で所要流量を流すべき修正電圧も計算される。Ｓ１５に
おいて計測放出時間の正常放出時間からのずれが許容範
囲内でないと判断された場合（Ｓ１５：ＮＯ）には、Ｓ
１９にて異常信号出力回路１２がアラームを発する。以
上が計測モードである。
【００３６】計測モードを実施した結果、計測放出時間
が正常放出時間からずれていなかった場合は、マスフロ
ーコントローラ１には何の異常もないので、プロセス異
常の原因は他にもとめる必要がある。計測放出時間が正
常放出時間からずれており、かつ許容範囲内であった場
合は、マスフローコントローラ１の印加電圧と実流量と
の関係に正常状態からのずれが生じており、このずれが
プロセス異常の原因である可能性が高いので、以後の実
レシピ実行は、正常電圧でなく修正電圧で行う。計測放
出時間が正常放出時間からずれており、かつ許容範囲外
であった場合は、マスフローコントローラ１の印加電圧
と実流量との関係の正常状態からのずれが大きく、この
ような状態でのマスフローコントローラ１は、プロセス
が嫌うパーティクルを発生しているおそれがあるので、
新品に交換すべきである。これにしたがってマスフロー
コントローラ１を新品に交換したときは、前述のように
初期計測と正常値初期化モードを行う必要があることは
もちろんである。
が正常放出時間からずれていなかった場合は、マスフロ
ーコントローラ１には何の異常もないので、プロセス異
常の原因は他にもとめる必要がある。計測放出時間が正
常放出時間からずれており、かつ許容範囲内であった場
合は、マスフローコントローラ１の印加電圧と実流量と
の関係に正常状態からのずれが生じており、このずれが
プロセス異常の原因である可能性が高いので、以後の実
レシピ実行は、正常電圧でなく修正電圧で行う。計測放
出時間が正常放出時間からずれており、かつ許容範囲外
であった場合は、マスフローコントローラ１の印加電圧
と実流量との関係の正常状態からのずれが大きく、この
ような状態でのマスフローコントローラ１は、プロセス
が嫌うパーティクルを発生しているおそれがあるので、
新品に交換すべきである。これにしたがってマスフロー
コントローラ１を新品に交換したときは、前述のように
初期計測と正常値初期化モードを行う必要があることは
もちろんである。
【００３７】本実施例のガスシステムにおいては実際の
配管系における実流量計測手段を備えているので、以上
のようにして、マスフローコントローラ１の印加電圧の
修正あるいは交換すべきか否かの判断を制度良くかつ効
率的に行うことができるため、半導体の歩止まりを向上
させることができる。また、消費するプロセスガスやテ
ストウェハのコスト、あるいは試行および結果解析に必
要な時間を本実施例のシステムを採用することにより削
減できる。
配管系における実流量計測手段を備えているので、以上
のようにして、マスフローコントローラ１の印加電圧の
修正あるいは交換すべきか否かの判断を制度良くかつ効
率的に行うことができるため、半導体の歩止まりを向上
させることができる。また、消費するプロセスガスやテ
ストウェハのコスト、あるいは試行および結果解析に必
要な時間を本実施例のシステムを採用することにより削
減できる。
【００３８】次に、以上で述べた放出時間計測を図２の
ような多数のプロセスガスラインを有するシステムにて
行う場合を考察する。この場合、各マスフローコントロ
ーラ（１Ａ〜１Ｂ）は、それぞれ別々に計測しなければ
ならない。例えばプロセスガスＡのラインのマスフロー
コントローラ１Ａについて計測する場合を考えると、タ
ンク部分Ｔへの５ｋｇｆ／ｃｍ2 の計測用窒素ガスの充
填（正常値初期化モードではＳ１、計測モードではＳ
９）は、遮断弁３Ａを閉としてプロセスガスＡの供給を
遮断し、遮断弁（４Ｂ〜４Ｅ）を閉として他のガスライ
ンへの計測用窒素ガスの流出が起こらないようにした上
で、遮断弁９、４Ａ、２Ａを開とすることで行う。
ような多数のプロセスガスラインを有するシステムにて
行う場合を考察する。この場合、各マスフローコントロ
ーラ（１Ａ〜１Ｂ）は、それぞれ別々に計測しなければ
ならない。例えばプロセスガスＡのラインのマスフロー
コントローラ１Ａについて計測する場合を考えると、タ
ンク部分Ｔへの５ｋｇｆ／ｃｍ2 の計測用窒素ガスの充
填（正常値初期化モードではＳ１、計測モードではＳ
９）は、遮断弁３Ａを閉としてプロセスガスＡの供給を
遮断し、遮断弁（４Ｂ〜４Ｅ）を閉として他のガスライ
ンへの計測用窒素ガスの流出が起こらないようにした上
で、遮断弁９、４Ａ、２Ａを開とすることで行う。
【００３９】また、以下の計測手順は前に説明した手順
と同じであるので説明を省略する。したがってここでの
タンク部分容積とは、図２中破線を付した部分の容積を
いう。他のガスラインについても同様の要領で計測を行
う。したがってこの場合タンク部分容積は、厳密には、
計測しようとするガスラインにより異なることに注意し
なければならない。この検定によりマスフローコントロ
ーラの異常が検出された場合には、個別のマスフローコ
ントローラを各々検定する。
と同じであるので説明を省略する。したがってここでの
タンク部分容積とは、図２中破線を付した部分の容積を
いう。他のガスラインについても同様の要領で計測を行
う。したがってこの場合タンク部分容積は、厳密には、
計測しようとするガスラインにより異なることに注意し
なければならない。この検定によりマスフローコントロ
ーラの異常が検出された場合には、個別のマスフローコ
ントローラを各々検定する。
【００４０】図２の流量検定システムにおいては以上の
ようにして、マスフローコントローラ（１Ａ〜１Ｅ）の
印加電圧の修正あるいは交換すべきか否かの判断を効率
よく行うことができる。また、１つの圧力計により複数
のマスフローコントローラを検定できるので、圧力計分
のコストダウンになる。また、消費するプロセスガスや
テストウェハのコスト、あるいは試行および結果解析に
必要な時間を本実施例のシステムを採用することにより
削減できる。特に、プロセスガスラインの数が多いシス
テムにおいてこの効果は著しい。
ようにして、マスフローコントローラ（１Ａ〜１Ｅ）の
印加電圧の修正あるいは交換すべきか否かの判断を効率
よく行うことができる。また、１つの圧力計により複数
のマスフローコントローラを検定できるので、圧力計分
のコストダウンになる。また、消費するプロセスガスや
テストウェハのコスト、あるいは試行および結果解析に
必要な時間を本実施例のシステムを採用することにより
削減できる。特に、プロセスガスラインの数が多いシス
テムにおいてこの効果は著しい。
【００４１】なお、前記実施例は本発明を限定するもの
ではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種
々の変形、改良が可能であることはもちろんである。例
えば、前述の計測用窒素ガスの充填圧力や、放出時間開
始時の圧力、同終了時の圧力、その許容範囲等は、前述
したとおりの値でなくてもよく、必要に応じて適した値
を使えばよい。また、計測用ガスとしてここでは窒素ガ
スを使用したが、窒素ガスに限らず不活性であってかつ
クリーンなものが入手可能なガスであれば他のガスでも
よい。また、図７のようにサイクルパージラインを備え
る系にも適用可能である。
ではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種
々の変形、改良が可能であることはもちろんである。例
えば、前述の計測用窒素ガスの充填圧力や、放出時間開
始時の圧力、同終了時の圧力、その許容範囲等は、前述
したとおりの値でなくてもよく、必要に応じて適した値
を使えばよい。また、計測用ガスとしてここでは窒素ガ
スを使用したが、窒素ガスに限らず不活性であってかつ
クリーンなものが入手可能なガスであれば他のガスでも
よい。また、図７のようにサイクルパージラインを備え
る系にも適用可能である。
【００４２】
【発明の効果】以上説明したことから明かなように本発
明の流量検定システムでは、配管に組み込んだままの状
態でのマスフローコントローラの実流量の計測を行える
ので、マスフローコントローラの個体差や経時変化に適
切に対応して印加電圧の初期設定および修正、また交換
すべきか否かの判断を効率よく行うことができるため、
半導体製造プロセスの安定運転と高稼動率操業とが可能
となり、半導体の歩止まりを向上させ、コストダウンを
図ることができる。
明の流量検定システムでは、配管に組み込んだままの状
態でのマスフローコントローラの実流量の計測を行える
ので、マスフローコントローラの個体差や経時変化に適
切に対応して印加電圧の初期設定および修正、また交換
すべきか否かの判断を効率よく行うことができるため、
半導体製造プロセスの安定運転と高稼動率操業とが可能
となり、半導体の歩止まりを向上させ、コストダウンを
図ることができる。
【図１】本発明の一実施例であるマスフローコントロー
ラ流量検定システムの構成を示すブロック図である。
ラ流量検定システムの構成を示すブロック図である。
【図２】複数のプロセスガスラインと計測用ガスライン
とを有するマスフローコントローラ流量検定システムの
構成を示すブロック図である。
とを有するマスフローコントローラ流量検定システムの
構成を示すブロック図である。
【図３】マスフローコントローラにおける１次側圧力と
放出時間との関係を示すグラフである。
放出時間との関係を示すグラフである。
【図４】マスフローコントローラにおける設定流量と圧
力降下時間との関係を示すグラフである。
力降下時間との関係を示すグラフである。
【図５】正常値初期化モードのフローチャートである。
【図６】計測モードのフローチャートである。
【図７】サイクルパージラインを有するマスフローコン
トローラ流量検定システムの構成を示すブロック図であ
る。
トローラ流量検定システムの構成を示すブロック図であ
る。
１、１Ａ〜１Ｅ マスフローコントローラ ２、２Ａ〜２Ｅ 遮断弁 ３、３Ａ〜３Ｅ 遮断弁 ４、４Ａ〜４Ｅ 遮断弁 ５ プロセスチャンバ ６ 計測用ガス源 ８ 減圧弁 ９ 遮断弁 １０ 圧力計 １１ マイクロコンピュータ
Claims (3)
- 【請求項１】 プロセスガス源から第１遮断弁およびマ
スフローコントローラを順次経由してプロセスチャンバ
に該プロセスガスを供給するガス配管系において、 計測用ガスを供給する計測用ガス源と、 入口側が前記計測用ガス源に接続し、出口側が前記ガス
配管系の前記マスフローコントローラの入口側に接続す
る計測開始用遮断弁と、 前記計測用開始遮断弁の出口側の圧力を計測する圧力計
とを有し、 前記マスフローコントローラへの前記プロセスガスの供
給を前記第一遮断弁により遮断し、前記計測開始用遮断
弁を開いて前記圧力計を所定の圧力にした後、前記計測
開始用遮断弁を閉じて、前記圧力計により時間経過に伴
う圧力低下を計測することによりマスフローコントロー
ラの計測精度を検定することを特徴とするマスフローコ
ントローラ流量検定システム。 - 【請求項２】 請求項１に記載するマスフローコントロ
ーラ流量検定システムにおいて、 前記配管系にマスフローコントローラを取り付けた時に
前記検定を行い、前記時間経過に伴う圧力低下の初期デ
ータを記憶する記憶手段と、 前記プロセスが稼働した後、前記検定を行って計測した
圧力低下のデータと前記初期データとを比較してマスフ
ローコントローラの異常を検定する制御手段とを有する
ことを特徴とするマスフローコントローラ流量検定シス
テム。 - 【請求項３】 請求項１または請求項２に記載するマス
フローコントローラ流量検定システムにおいて、 前記計測開始用遮断弁の出口側に２以上の前記マスフロ
ーコントローラが並列に接続していることを特徴とする
マスフローコントローラ流量検定システム。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4286986A JP2692770B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | マスフローコントローラ流量検定システム |
| US08/128,086 US5394755A (en) | 1992-09-30 | 1993-09-29 | Flow quantity test system for mass flow controller |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4286986A JP2692770B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | マスフローコントローラ流量検定システム |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06119059A true JPH06119059A (ja) | 1994-04-28 |
| JP2692770B2 JP2692770B2 (ja) | 1997-12-17 |
Family
ID=17711542
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4286986A Expired - Fee Related JP2692770B2 (ja) | 1992-09-30 | 1992-09-30 | マスフローコントローラ流量検定システム |
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|---|---|
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| JP (1) | JP2692770B2 (ja) |
Cited By (8)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7108009B2 (en) | 2002-11-15 | 2006-09-19 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor manufacturing apparatus enabling inspection of mass flow controller maintaining connection thereto |
| JP2008089607A (ja) * | 2004-06-21 | 2008-04-17 | Hitachi Metals Ltd | 質量流量制御装置及びこの調整方法 |
| JP2009176982A (ja) * | 2008-01-25 | 2009-08-06 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置及び基板処理方法 |
| WO2010100792A1 (ja) * | 2009-03-03 | 2010-09-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 流体制御装置 |
| US7918238B2 (en) | 2004-06-21 | 2011-04-05 | Hitachi Metals, Ltd. | Flow controller and its regulation method |
| US8965714B2 (en) | 2010-09-30 | 2015-02-24 | Horiba Stec, Co., Ltd. | Diagnostic mechanism |
| JP2015509641A (ja) * | 2012-03-07 | 2015-03-30 | イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド | 自己確認型質量流量制御器および自己確認型質量流量計を提供するためのシステムおよび方法 |
| JP2015509642A (ja) * | 2012-03-07 | 2015-03-30 | イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド | 熱モデルを用いてｒｏｄ測定における熱に起因する誤差を最小にすることによって質量流量制御器または質量流量計における実時間補正のための減衰速度測定の精度を改善するためのシステムおよび方法 |
Families Citing this family (29)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5865205A (en) * | 1997-04-17 | 1999-02-02 | Applied Materials, Inc. | Dynamic gas flow controller |
| JP3932389B2 (ja) * | 1998-01-19 | 2007-06-20 | Ｓｍｃ株式会社 | マスフローコントローラの自己診断方法 |
| US6363958B1 (en) * | 1999-05-10 | 2002-04-02 | Parker-Hannifin Corporation | Flow control of process gas in semiconductor manufacturing |
| US6119710A (en) | 1999-05-26 | 2000-09-19 | Cyber Instrument Technologies Llc | Method for wide range gas flow system with real time flow measurement and correction |
| US6186177B1 (en) | 1999-06-23 | 2001-02-13 | Mks Instruments, Inc. | Integrated gas delivery system |
| EP1257790A1 (en) | 2000-02-14 | 2002-11-20 | Unit Instruments, Inc. | Method and apparatus for balancing resistance |
| JP4864280B2 (ja) * | 2001-04-24 | 2012-02-01 | ブルックス・インストルメント・エルエルシー | 質量流量コントローラのシステムおよび方法 |
| US6655408B2 (en) | 2001-06-13 | 2003-12-02 | Applied Materials, Inc. | Tunable ramp rate circuit for a mass flow controller |
| US6727107B1 (en) | 2001-09-07 | 2004-04-27 | Lsi Logic Corporation | Method of testing the processing of a semiconductor wafer on a CMP apparatus |
| WO2003034169A1 (fr) * | 2001-10-18 | 2003-04-24 | Ckd Corporation | Regulateur de debit par emission d'impulsions et procede de regulation de debit par emissions d'impulsions |
| CN1688948B (zh) * | 2002-07-19 | 2010-05-26 | 布鲁克斯器具有限公司 | 在质量流动控制器中用于压力补偿的方法和装置 |
| CN100344941C (zh) | 2002-07-19 | 2007-10-24 | 迅捷公司 | 具有公共参考臂的可变电阻传感器 |
| JP3872776B2 (ja) * | 2003-07-16 | 2007-01-24 | 東京エレクトロン株式会社 | 半導体製造装置及び半導体製造方法 |
| US7628860B2 (en) * | 2004-04-12 | 2009-12-08 | Mks Instruments, Inc. | Pulsed mass flow delivery system and method |
| US7628861B2 (en) * | 2004-12-17 | 2009-12-08 | Mks Instruments, Inc. | Pulsed mass flow delivery system and method |
| US20060000509A1 (en) * | 2004-07-01 | 2006-01-05 | Pozniak Peter M | Fluid flow control device and system |
| US7216019B2 (en) * | 2004-07-08 | 2007-05-08 | Celerity, Inc. | Method and system for a mass flow controller with reduced pressure sensitivity |
| US7412986B2 (en) * | 2004-07-09 | 2008-08-19 | Celerity, Inc. | Method and system for flow measurement and validation of a mass flow controller |
| KR101444964B1 (ko) * | 2006-12-05 | 2014-09-26 | 가부시키가이샤 호리바 에스텍 | 유량제어장치의 검정방법 |
| JP5346628B2 (ja) | 2009-03-11 | 2013-11-20 | 株式会社堀場エステック | マスフローコントローラの検定システム、検定方法、検定用プログラム |
| JP5433660B2 (ja) * | 2011-10-12 | 2014-03-05 | Ｃｋｄ株式会社 | ガス流量監視システム |
| JP5809012B2 (ja) * | 2011-10-14 | 2015-11-10 | 株式会社堀場エステック | 流量制御装置、流量測定機構、又は、当該流量測定機構を備えた流量制御装置に用いられる診断装置及び診断用プログラム |
| CN102840445A (zh) * | 2012-09-03 | 2012-12-26 | 郭连彤 | 气源接线箱 |
| US9910448B2 (en) | 2013-03-14 | 2018-03-06 | Christopher Max Horwitz | Pressure-based gas flow controller with dynamic self-calibration |
| US9904296B2 (en) * | 2014-04-01 | 2018-02-27 | Honeywell International Inc. | Controlling flow in a fluid distribution system |
| US20190127837A1 (en) * | 2017-10-27 | 2019-05-02 | Beijing Juntailnnovation Technology Co., Ltd. | Method and system of adjusting process gas flow of vacuum coating equipment |
| JP7044629B2 (ja) * | 2018-05-18 | 2022-03-30 | 株式会社堀場エステック | 流体制御装置、及び、流量比率制御装置 |
| JP7068062B2 (ja) * | 2018-06-18 | 2022-05-16 | 株式会社堀場製作所 | 流体制御装置、及び、流量比率制御装置 |
| CN110672490B (zh) * | 2019-10-14 | 2022-03-25 | 辽宁工程技术大学 | 一种模拟井底压力的煤层气多层合采实验装置及方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4285245A (en) * | 1979-12-06 | 1981-08-25 | Precision Machine Products, Inc. | Method and apparatus for measuring and controlling volumetric flow rate of gases in a line |
| US4364413A (en) * | 1981-01-07 | 1982-12-21 | The Perkin-Elmer Corporation | Molar gas-flow controller |
| US4497202A (en) * | 1983-05-31 | 1985-02-05 | Dresser Industries, Inc. | Laminar flowmeter |
| US4687020A (en) * | 1985-05-17 | 1987-08-18 | Doyle James H | Fluid mass flow controller |
-
1992
- 1992-09-30 JP JP4286986A patent/JP2692770B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1993
- 1993-09-29 US US08/128,086 patent/US5394755A/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7658204B2 (en) | 2002-11-15 | 2010-02-09 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor manufacturing apparatus enabling inspection of mass flow controller maintaining connection thereto |
| US7108009B2 (en) | 2002-11-15 | 2006-09-19 | Renesas Technology Corp. | Semiconductor manufacturing apparatus enabling inspection of mass flow controller maintaining connection thereto |
| US7918238B2 (en) | 2004-06-21 | 2011-04-05 | Hitachi Metals, Ltd. | Flow controller and its regulation method |
| JP2008089607A (ja) * | 2004-06-21 | 2008-04-17 | Hitachi Metals Ltd | 質量流量制御装置及びこの調整方法 |
| JP2009176982A (ja) * | 2008-01-25 | 2009-08-06 | Hitachi Kokusai Electric Inc | 基板処理装置及び基板処理方法 |
| WO2010100792A1 (ja) * | 2009-03-03 | 2010-09-10 | 東京エレクトロン株式会社 | 流体制御装置 |
| JP2010204899A (ja) * | 2009-03-03 | 2010-09-16 | Tokyo Electron Ltd | 流体制御装置 |
| US9169558B2 (en) | 2009-03-03 | 2015-10-27 | Tokyo Electron Limited | Fluid control apparatus |
| US8965714B2 (en) | 2010-09-30 | 2015-02-24 | Horiba Stec, Co., Ltd. | Diagnostic mechanism |
| JP2015509641A (ja) * | 2012-03-07 | 2015-03-30 | イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド | 自己確認型質量流量制御器および自己確認型質量流量計を提供するためのシステムおよび方法 |
| JP2015509642A (ja) * | 2012-03-07 | 2015-03-30 | イリノイ トゥール ワークス インコーポレイティド | 熱モデルを用いてｒｏｄ測定における熱に起因する誤差を最小にすることによって質量流量制御器または質量流量計における実時間補正のための減衰速度測定の精度を改善するためのシステムおよび方法 |
| US10048105B2 (en) | 2012-03-07 | 2018-08-14 | Illinois Tool Works Inc. | System and method for providing a self validating mass flow controller and mass flow meter |
| US10437264B2 (en) | 2012-03-07 | 2019-10-08 | Illinois Tool Works Inc. | System and method for improving the accuracy of a rate of decay measurement for real time correction in a mass flow controller or mass flow meter by using a thermal model to minimize thermally induced error in the rod measurement |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2692770B2 (ja) | 1997-12-17 |
| US5394755A (en) | 1995-03-07 |
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