JPH06112268A - 半導体素子の実装方法 - Google Patents

半導体素子の実装方法

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JPH06112268A
JPH06112268A JP25467092A JP25467092A JPH06112268A JP H06112268 A JPH06112268 A JP H06112268A JP 25467092 A JP25467092 A JP 25467092A JP 25467092 A JP25467092 A JP 25467092A JP H06112268 A JPH06112268 A JP H06112268A
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Abstract

(57)【要約】 【目的】製造コストを低減する。 【構成】ガラス基板2の半導体素子搭載領域9に対して
紫外線照射装置10を用いて紫外線を露光し、次いで、
その半導体素子搭載領域9に光硬化樹脂19を塗布し、
その塗布した光硬化樹脂を介して半導体素子20を搭載
し、然る後上記紫外線照射装置10を用いてガラス基板
2の半導体素子の非搭載領域を介してガラス基板2の裏
側に配置した反射板24に紫外線を投光し、その反射板
24により反射された紫外線により上記塗布した光硬化
樹脂19を露光且つ固化して半導体素子20をガラス基
板2上に固定せしめた

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は透光性基板上に光硬化樹
脂を介して半導体素子を搭載する半導体素子の実装方法
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体素子を搭載したデバイスが
種々開発されている。例えば、液晶モジュール、ELパ
ネル等があり、この液晶モジュールには、ガラス基板の
上に半導体素子を搭載したCOG方式として提案されて
いる。
【0003】このガラス基板の上に半導体素子を搭載し
た構成においては、そのガラス基板の上の配線部と半導
体素子とをワイヤーボンディングする技術が確立されて
いるが、近年、半導体素子の電極と基板の上の配線部と
を直接接続するフェイスダウン方式も提案されている。
この接続には異方性導電膜、導電性ペースト、ゴムコネ
クタを用いたり、更に光硬化樹脂を用いることも提案さ
れている(特公平27180号参照)。
【0004】この光硬化樹脂を用いる場合には、その塗
布面を予め紫外線により照射し、これにより、その被着
面に付いた有機物を除去し、その結果、光硬化樹脂の基
板に対する密着性を高めることも提案されている。
【0005】
【発明が解決しようとする問題点】しかしながら、上記
提案のように光硬化樹脂の塗布面を予め紫外線により照
射する工程、更に光硬化樹脂を塗布する工程、更に塗布
した樹脂を硬化する工程等を順次行う一連の製造プロセ
スでは、工程数が多くなり、それに伴って製造コストが
大きくなるという問題点があった。
【0006】
【問題点を解決するための手段】本発明の半導体素子の
実装方法は、透光性基板の半導体素子搭載領域に紫外線
照射装置を用いて紫外線を露光し、次いで、その半導体
素子搭載領域に光硬化樹脂を塗布し、その塗布した光硬
化樹脂を介して半導体素子を搭載し、然る後上記紫外線
照射装置を用いて透光性基板の半導体素子の非搭載領域
を介して透光性基板の裏側に配置した反射手段に紫外線
を投光し、その反射手段により反射された紫外線により
上記塗布した光硬化樹脂を露光且つ固化して半導体素子
を透光性基板上に固定せしめたことを特徴する。
【0007】
【作用】上記構成の半導体素子の実装方法によれば、透
光性基板の上に半導体素子を搭載するCOG方式液晶モ
ジュール等においては、同一の紫外線照射装置を用いて
半導体素子搭載領域に対して紫外線を露光し、しかも、
光硬化樹脂を露光且つ固化して半導体素子を透光性基板
上に固定せしめることができ、これにより、従来であれ
ば、両者の紫外線照射を別々の紫外線照射装置により行
われなければならなかったのに対して、一個の装置だけ
でよく、その結果、その装置の削減に伴う製造コストの
低減が可能となった。
【0008】
【実施例】本発明をCOG方式液晶モジュールにおいて
半導体素子を搭載する場合を実施例にして詳細に説明す
る。
【0009】図1は液晶パネル1のガラス基板2に半導
体素子を搭載してCOG方式液晶モジュールにするに当
たって、その搭載状態を示しており、3は表示領域、4
はその表示領域を駆動するための配線領域である。この
液晶パネル1を作製するには、2枚のガラス基板2、5
の各一主面にインジウム・スズ・オキサイドとクロムと
アルミニウムとの各層を順次積層し、次に表示領域3に
位置するクロムとアルミニウムとの両層をエッチング除
去するとともに、この表示領域3に複数の透明電極(図
示せず)をライン状に配列し、この透明電極を配線領域
4にまで延在させ、その延在した透明電極に上にクロム
層とアルミニウム層とを順次積層してなる配線部6を形
成し、その後、表示領域3の透明電極の上に配向膜(図
示せず)を形成し、更にこの配向膜の表面をラビング処
理して液晶分子の向きを所定の方向に設定するようにし
ている。このような2枚の被膜基板を、各透明電極ライ
ンが交差するように且つ対向するように配置して、その
間に液晶7を注入して表示領域3と成すとともに、更に
この表示領域3の周囲をシール部8でもって封止する。
同図中の9は半導体素子の搭載領域である。
【0010】次いで、この液晶パネル1を有機溶剤と超
音波洗浄を組み合わせて洗浄し、その後に液晶配向検査
を行う。この液晶配向検査は偏光板を介して光を透過さ
せることにより行う。
【0011】その後、上記液晶パネル1に対して、図2
に示すような紫外線照射装置10でもって紫外線照射す
る。この紫外線照射装置10はランプ電源コントローラ
11と光源ユニット12とから構成され、この光源ユニ
ット12にはキセノンランプ13(例えば強度1.2W
/cm2 の水銀キセノンランプ)が搭載され、このキセ
ノンランプ13はその背後に配置された反射鏡14によ
り有効に反射されながら紫外線を照射する。また、この
照射に当たっては、ランプ電源コントローラ11により
コントロールされながらキセノンランプ13に電力印加
される。そして、キセノンランプ13により照射された
紫外線はフレキシブルケーブル15を介してその端部の
露光部16より所定の方向に照らされる。
【0012】次に上記液晶パネル1に対して紫外線照射
装置10でもって紫外線照射する工程を図3〜図6によ
り説明する。
【0013】先ず図3に示すように液晶パネル1の半導
体素子搭載領域9に対して紫外線照射し、この領域9の
面に付着した有機物等を分解除去する。これには上記水
銀キセノンランプ13の主たる発光波長のうち184n
m、254nm付近の短波長が有効である(但し、この
短波長光はガラス基板2、5に吸収される)。この工程
により半導体素子搭載領域9のガラス面の接触角が大き
くなり、ガラス基板2に対する紫外線硬化樹脂の密着性
が著しく向上する。この接触角は図6に示すように基板
17に紫外線硬化樹脂18を滴下したときの基板17と
樹脂18との接点の角度θでもって表し、本実施例では
接触角θが約14°であり、この紫外線照射がない場合
には、その接触角θが約82°であった。そして、両者
に対して半導体素子を基板に接続したサンプルを作成
し、導通の有無を評価することにより不良率を求めたと
ころ、その紫外線硬化樹脂の密着性の不良率は前者が
0.03%であるのに対して、後者は4.6%であっ
た。
【0014】このように紫外線硬化樹脂18を塗布する
前に半導体素子搭載領域9のガラス基板上を主たる発光
波長が254nm付近の短波長を照射することにより、
その紫外線硬化樹脂18のガラス基板に対する密着性が
顕著に高くなった。
【0015】次に図4に示すように半導体素子搭載領域
9にディスペンサーを用いて紫外線硬化樹脂19を塗布
し、そして、図5に示すように半導体素子20を搭載
し、この半導体素子20を紫外線硬化樹脂19によりガ
ラス基板2に固定する。この固定方法によれば、半導体
素子20は電極パッド21に、Cr−Cu、Ti−Pd
等の多層金属膜を被着して、Au、Ag、Cu、半田等
から成る金属突起22を形成した構成であり、この半導
体素子20の金属突起22と配線部6とを位置合わせ
し、半導体素子20の上から加圧治具23でもって押圧
し、紫外線硬化樹脂19は押し広げられ、これら金属突
起22と配線部6とは電気的な接続が得られる。そし
て、この状態のもとで紫外線硬化樹脂19に紫外線照射
装置10でもって露光部16から紫外線照射する。この
照射では、上記水銀キセノンランプ13の主たる発光波
長のうち360nm付近の波長が最も有効であり、この
波長光はガラス基板2を透過し、このガラス基板2の背
後に配置した凹面鏡である反射板24でもって反射し、
その反射光が再びガラス基板2を透過し、紫外線硬化樹
脂19を紫外線照射する。また、露光部16からの照射
光のうち一部の光は直接樹脂19を紫外線照射する。
【0016】かくして上記構成によれば、金属突起22
と配線部6との電気的接続は圧接により行われ、ガラス
基板2上の半導体素子20の固定は硬化した紫外線硬化
樹脂19により行われる。
【0017】また、この実施例では、キセノンランプ1
3により照射された紫外線はフレキシブルケーブル15
を介して照射する構成であり、254nm付近までしか
照射できなかったが、ランプでもって基板に直接照射す
る方法を採用すれば、184nm付近まで照射すること
ができ、これにより、有機物等を更に効率的に分解除去
することができる。
【0018】尚、本発明は上記実施例に限定されるもの
ではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内で種々の変
更、改良等は何ら差し支えない。
【0019】
【発明の効果】以上のように、本発明の半導体素子の実
装方法によれば、透光性基板の上に半導体素子を搭載す
るCOG方式液晶モジュール等においては、同一の紫外
線照射装置を用いて、その紫外線の主たる2波長の光を
使い分けて、先ず一方の波長光の紫外線を半導体素子搭
載領域に対して露光し、しかも、他方の波長光の紫外線
を光硬化樹脂に露光して固化し、これにより、半導体素
子を透光性基板上に固定せしめることができ、その結
果、従来であれば、両者の紫外線照射を別々の紫外線照
射装置により行われなければならなかったのに対して、
一個の装置だけでよく、その装置の削減に伴う製造コス
トの低減が可能となった。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例における液晶パネルの断面図である。
【図2】紫外線照射装置の概略図である。
【図3】実施例における液晶パネルに対する紫外線照射
の方法を示す説明図である。
【図4】実施例における液晶パネルに対する紫外線硬化
樹脂の塗布を示す説明図である
【図5】実施例における液晶パネルに対する紫外線照射
の方法を示す説明図である。
【図6】ガラス基板に対する紫外線硬化樹脂の接触角を
示す説明図である。
【符号の説明】
1・・・・・液晶パネル 2、5・・・ガラス基板 6・・・・・配線部 9・・・・・半導体搭載領域 10・・・・紫外線照射装置 13・・・・キセノンランプ 19・・・・紫外線硬化樹脂 24・・・・反射板

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 透光性基板の半導体素子搭載領域に紫外
    線照射装置を用いて紫外線を露光し、次いで該半導体素
    子搭載領域に光硬化樹脂を塗布し、その塗布した光硬化
    樹脂を介して半導体素子を搭載し、然る後上記紫外線照
    射装置を用いて透光性基板の半導体素子の非搭載領域を
    介して透光性基板の裏側に配置した反射手段に紫外線を
    投光し、該反射手段により反射された紫外線を上記塗布
    した光硬化樹脂に露光して固化することにより半導体素
    子を透光性基板上に固定せしめたことを特徴とする半導
    体素子の実装方法。
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