JPH06107958A - 破壊靭性の高い改質ジシアネートエステル樹脂 - Google Patents

破壊靭性の高い改質ジシアネートエステル樹脂

Info

Publication number
JPH06107958A
JPH06107958A JP13321593A JP13321593A JPH06107958A JP H06107958 A JPH06107958 A JP H06107958A JP 13321593 A JP13321593 A JP 13321593A JP 13321593 A JP13321593 A JP 13321593A JP H06107958 A JPH06107958 A JP H06107958A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mixture
fluorine
cyanate
curable
item
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP13321593A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2501286B2 (ja
Inventor
Ali Afzali-Ardakani
アリ・アフザリ−アルダカニ
Jeffrey T Gotro
ジエフリー・テイー・ゴトロー
Jeffrey C Hedrick
ジエフリー・シー・ヘドリツク
Konstantinos Papathomas
コンスタンテイノス・パパトマス
Niranjan M Patel
ニランジヤン・エム・パテル
Jane M Shaw
ジエイン・エム・シヨー
Alfred Viehbeck
アルフレツド・ビーベツク
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
International Business Machines Corp
Original Assignee
International Business Machines Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by International Business Machines Corp filed Critical International Business Machines Corp
Publication of JPH06107958A publication Critical patent/JPH06107958A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2501286B2 publication Critical patent/JP2501286B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C08ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08LCOMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L79/00Compositions of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing nitrogen with or without oxygen or carbon only, not provided for in groups C08L61/00 - C08L77/00
    • C08L79/04Polycondensates having nitrogen-containing heterocyclic rings in the main chain; Polyhydrazides; Polyamide acids or similar polyimide precursors
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/02Details
    • H05K1/03Use of materials for the substrate
    • H05K1/0313Organic insulating material
    • H05K1/0353Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement
    • H05K1/0373Organic insulating material consisting of two or more materials, e.g. two or more polymers, polymer + filler, + reinforcement containing additives, e.g. fillers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10STECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10S428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10S428/901Printed circuit
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/24Structurally defined web or sheet [e.g., overall dimension, etc.]
    • Y10T428/24802Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.]
    • Y10T428/24917Discontinuous or differential coating, impregnation or bond [e.g., artwork, printing, retouched photograph, etc.] including metal layer
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T442/00Fabric [woven, knitted, or nonwoven textile or cloth, etc.]
    • Y10T442/20Coated or impregnated woven, knit, or nonwoven fabric which is not [a] associated with another preformed layer or fiber layer or, [b] with respect to woven and knit, characterized, respectively, by a particular or differential weave or knit, wherein the coating or impregnation is neither a foamed material nor a free metal or alloy layer
    • Y10T442/2861Coated or impregnated synthetic organic fiber fabric
    • Y10T442/2893Coated or impregnated polyamide fiber fabric
    • Y10T442/2902Aromatic polyamide fiber fabric
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T442/00Fabric [woven, knitted, or nonwoven textile or cloth, etc.]
    • Y10T442/20Coated or impregnated woven, knit, or nonwoven fabric which is not [a] associated with another preformed layer or fiber layer or, [b] with respect to woven and knit, characterized, respectively, by a particular or differential weave or knit, wherein the coating or impregnation is neither a foamed material nor a free metal or alloy layer
    • Y10T442/2926Coated or impregnated inorganic fiber fabric
    • Y10T442/2992Coated or impregnated glass fiber fabric
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T442/00Fabric [woven, knitted, or nonwoven textile or cloth, etc.]
    • Y10T442/30Woven fabric [i.e., woven strand or strip material]
    • Y10T442/3382Including a free metal or alloy constituent
    • Y10T442/3415Preformed metallic film or foil or sheet [film or foil or sheet had structural integrity prior to association with the woven fabric]
    • Y10T442/3423Plural metallic films or foils or sheets
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T442/00Fabric [woven, knitted, or nonwoven textile or cloth, etc.]
    • Y10T442/30Woven fabric [i.e., woven strand or strip material]
    • Y10T442/3382Including a free metal or alloy constituent
    • Y10T442/3415Preformed metallic film or foil or sheet [film or foil or sheet had structural integrity prior to association with the woven fabric]
    • Y10T442/3431Plural fabric layers
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T442/00Fabric [woven, knitted, or nonwoven textile or cloth, etc.]
    • Y10T442/30Woven fabric [i.e., woven strand or strip material]
    • Y10T442/3472Woven fabric including an additional woven fabric layer
    • Y10T442/3528Three or more fabric layers
    • Y10T442/3569Woven fabric layers impregnated with a thermosetting resin
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T442/00Fabric [woven, knitted, or nonwoven textile or cloth, etc.]
    • Y10T442/60Nonwoven fabric [i.e., nonwoven strand or fiber material]
    • Y10T442/654Including a free metal or alloy constituent
    • Y10T442/656Preformed metallic film or foil or sheet [film or foil or sheet had structural integrity prior to association with the nonwoven fabric]
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T442/00Fabric [woven, knitted, or nonwoven textile or cloth, etc.]
    • Y10T442/60Nonwoven fabric [i.e., nonwoven strand or fiber material]
    • Y10T442/659Including an additional nonwoven fabric
    • Y10T442/671Multiple nonwoven fabric layers composed of the same polymeric strand or fiber material

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Macromolecular Compounds Obtained By Forming Nitrogen-Containing Linkages In General (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Reinforced Plastic Materials (AREA)
  • Polyethers (AREA)
  • Polymers With Sulfur, Phosphorus Or Metals In The Main Chain (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 破壊靭性が高く、かつ穿孔性が改良された新
規な改質ポリシアヌレート樹脂の提供。 【構成】 フッ素含有シアネートおよびフッ素含有熱可
塑性重合体からなり、前記物質は温度180〜325℃
で熱硬化可能であり、硬化された状態の前記物質はその
中に分散された前記フッ素含有熱可塑性重合体の複数の
離散相を有するフッ素含有ポリシアヌレート網目構造を
含み、前記熱可塑性重合体相はミクロン以下の大きさで
ある、樹脂。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の背景】発明の技術分野本発明は、概括的に云っ
て反応性の熱可塑性オリゴマーを混入した結果としての
破壊抵抗の大きい硬化性シアネート樹脂組成物に関す
る。更に詳しくは、本発明は、ジシアネートエステル樹
脂に可溶性である少なくとも1種類の熱可塑性重合体改
質剤を含有するジシアネートエステル樹脂を含む組成物
に関する。前記熱可塑性重合体は硬化の間にその場所(i
n-situ)で相分離プロセスを受けて微細相分離された多
相熱硬化性材料を生成する。
【0002】従って、本発明は、ガラス転移温度および
破壊靭性のような調節可能な性質を有する低誘電率材料
を包含する。改質シアネート樹脂は低い誘電率を有し、
さまざまな種類の補強材に含浸させたとき、抑制された
熱膨張率(CTE)または非常に低い誘電率のいずれか
または両方を有する絶縁材が得られる。
【0003】さらに、本発明は高い熱安定性、抑制され
たCTEと共に調節可能なガラス転移温度を示す、改質
シアネート樹脂材料と無機または金属粒子とからなる熱
または電気を伝導するのに有用な硬化性材料に関する。
【0004】その上、本発明は電子パッケージ構造物、
接着剤および航空宇宙構造物品の製造に使用するための
プリプレグ層の成形加工に有用な硬化性材料に関する。
【0005】さらにまた、本発明は、低誘電率およびガ
ラス転移温度や破壊靭性のような調節可能な性質を有す
る熱硬化性材料が必要とされる電子パッケージに使用す
るための材料、および該材料の製造方法に関する。
【0006】更に詳しくは、本発明は、1層以上の誘電
性層を含むことができて2層またはそれ以上の誘電性層
の間に貫通孔またはバイア、または2層間の盲バイアを
含む電気的相互接続を組み入れることができる、印刷回
路板、半導体チップ担体、メタルコア板、反応射出成形
(RIM)カード、マルチチップモジュールおよび多層
薄膜回路構造物の作製に有用な改質シアネート樹脂に関
する。本発明は、表面マウント電子部品のための基体材
料として使用するために十分に適している。
【0007】さらにまた本発明は、高い熱安定性、調節
可能なガラス転移温度、難燃性ならびに抑制されたCT
Eまたは低い誘電率のどちらかまたは両方を示す、改質
シアネート樹脂材料および補強材とからなる改良された
材料およびそれから作製された印刷回路板に関する。
【0008】
【従来の技術】ある特定のシアネートエステル樹脂をベ
ースにしたポリシアヌレート熱硬化性樹脂は、低い誘電
率、優れた熱安定性、低い水分吸収、高いガラス転移温
度、およびエポキシ樹脂に類似した加工特性(溶融物ま
たは溶液加工可能な)のような多数の魅力的な性質を有
する。
【0009】これらのポリシアヌレート熱硬化性樹脂の
他の魅力的な性質としては、メチルエチルケトン溶解
性、硬化時に揮発物が形成されないこと、顕著な接着
性、光像形成性(必要であれば)および固有の難燃性が
挙げられる。
【0010】しかしながら、これらのポリシアヌレート
熱硬化性樹脂材料の電子パッケージ応用(例えば、プリ
プレグ、積層板、回路板)における使用は、応力を受け
たときまたはバイア形成のような加工の間に亀裂を受け
やすくなるそれらの樹脂の脆い性質のゆえに制限され
る。この固有の脆さは網状構造の高い架橋密度によるも
のであり、このことは不十分な破壊靭性を生じる。上述
のポリシアヌレートの破壊靭性を高めるかなりの努力が
なされているけれどもパッケージングに有用とするため
にこれらの材料の機械的性質のさらなる改良が必要とさ
れる(本明細書に使用されるとき、「破壊靭性」はプラ
スチック中に亀裂を広げるために、どれ位のエネルギー
が必要であるかの基準である)。
【0011】Prevorsek等の米国特許第4,147,36
0号明細書は、その中に高分子量のポリエステルカーボ
ネートが細かく分散されている架橋ポリシアヌレート網
目構造(network)を含有する組成物を開示している。
【0012】この参考文献は、熱可塑性プラスチックが
物理的性質を高めるためにポリシアヌレート熱硬化性樹
脂に化学的に混入されていることにおいて本発明と類似
している。
【0013】Prevorsek等の特許においては、シアネー
トエステル樹脂および熱可塑性改質剤の両方の化学構造
が本発明に開示されているものと相違する。本発明は、
高いTg、低い誘電率、固有の難燃性、およびメチルエス
テルケトン溶解度を有する高度にフッ素化された材料を
開示している。
【0014】Prevorsek等は、「熱可塑重合体とジシア
ネートモノマーの同時沈殿をもたらす」溶媒の使用を開
示している。
【0015】Prevorsek等に対して、本発明は先ず、ジ
シアネートモノマー樹脂に実際に溶解するフッ素含有熱
可塑性重合体(すなわち、改質剤)を記述する。従って
本質的に、ジシアネートは改質剤重合体のための溶媒で
ある。この現象は、本発明の組成物の熱硬化の間に微小
相分離、したがってその結果として生じる改良された力
学的性質を得るための一つの鍵である。これは、生じる
相分離が全て溶媒蒸発の間に、熱硬化のかなり前に生じ
る点でPrevorsek等により利用された研究方法と相違す
る。これは、本発明に存在する非常に小さな相を考慮す
る重要な際立った特徴である。
【0016】Shimpの米国特許第4,902,752号明
細書は、熱可塑性樹脂でポリシアヌレートを強化するこ
とを開示している。Shimpは他の関連のある先行技術の
参考文献をその明細書中に開示しているが、その内容は
参照によって本明細書中に取入れられている。更に詳し
くは、Shimpは、最初はポリイソシアネートエステルに
溶解できるが硬化中に相分離する、無定形の、芳香族熱
可塑性樹脂と混合した多価フェノールのポリイソシアネ
ートエステルの混合物から製造した硬化性組成物を開示
している。Shimpの反応物は処理することが困難であ
り、かつ使用された溶媒は本来環境的問題をひき起こす
ことから、本発明では機能しないであろう。本発明にお
いては、シアネートエステル樹脂と熱可塑性樹脂の両方
の化学構造がShimp等により開示されたものと異なる。
【0017】Mackenzie等のヨーロッパ特許出願第0 4
12 827A2は、ポリアリールスルホン熱可塑性化
合物およびシアネートエステル樹脂を含有する繊維強化
樹脂組成物を開示している。この参考文献は、熱可塑性
樹脂がポリシアヌレート熱硬化性樹脂中に化学的に混入
されてその物理的性質を変えることにおいて本発明に類
似している。本発明とこの参考文献との間の一つの相違
は、シアネートエステル樹脂と熱可塑性改質剤の両方の
化学構造が異なることである。本発明は、高いTg、低い
誘電率、固有の難燃性、およびメチルエステルケトン溶
解性を有する高度にフッ素化された材料を包含する。Ma
ckenzie等により開示された樹脂組成物は、メチルエチ
ルケトン可溶性でなく、難燃性および固有の低い誘電率
を持たない。これらの特質は本発明に独特のものであり
溶液加工を利用するエレクトロニクス応用にとって不可
欠である。
【0018】Cox等の米国特許第4,745,215号明
細書は、ジシアネートジフェニル六フッ化アルカンを適
当な補強織物に含浸させることがてきてそれらのガラス
転移温度以上の高められた温度、すなわち約320℃で
1時間熱硬化できることを開示している。硬化生成物は
高温および/または電気絶縁用途、例えば積層回路板に
とって好都合な性質を有する。これらの性質には低い誘
電率、高いガラス転移温度および高い熱分解温度が包含
される。しかしながら、そのような系は低い破壊抵抗を
有し、それゆえ電子パッケージに使用するために改良さ
れることが必要であることもまた認められる。
【0019】
【発明の概要】本発明は、破壊靭性が高くかつ穿孔性が
改良された新規な改質ポリシアヌレート樹脂からなる。
使用に適する改質剤は、ポリシアヌレート網目と組合せ
たとき高温安定性を減少させない比較的高いガラス転移
温度(Tg)(すなわち、約140〜200℃)を持つ強靭
な、延性のエンジニアリングサーモプラスチックであ
る。その材料は高いTg、低い誘電率を有していて従来の
技術によって加工することができる。
【0020】本発明は、シアネートエステル化学に基づ
く熱硬化性重合体の破壊靭性を改善する。それは特別に
製造した熱可塑性重合体を熱硬化性樹脂の網目構造中へ
混入することを含む。これらの改質剤は固有の低い誘電
率を有し、フッ素化ジシアネートを併用して低い誘電率
を有する熱可塑性の改質(TPM)ポリシアヌレート材
料を生じる。重合体混合組成物は破壊靭性がかなり高く
かつ耐熱崩壊性が高い。
【0021】印刷回路板に使用される高分子材料は、破
壊靭性、すなわち取り扱いおよび使用によって生じる表
面亀裂を避ける能力を要求される。エポキシ樹脂(FR
4)のような現在使用されている材料は、70〜90 J
/m2の範囲の破壊靭性を有する。未強化ポリシアヌレー
トは、50〜70 J/m2の範囲の破壊靭性を有する。他
方、本発明の改質ポリシアヌレートは、100〜680
J/m2もの高い靭性を有する。
【0022】本発明のポリシアヌレートはフッ素化され
ていて低い誘電率を有する。フッ素化ポリシアヌレート
に対するモノマー前駆体は、ジシアネート化合物または
それらのプレポリマーまたは両方、単独または組合せ
で、本明細書中で「樹脂」と称せられる。ジシアネート
樹脂は熱可塑性重合体と混合される。熱可塑性樹脂は、
フッ素化ジシアネート樹脂中に溶解できるようにされて
いる。熱可塑性樹脂は、ポリシアヌレート上のこれらと
類似の化学置換基を含むように合成される。この類似性
は、ポリシアヌレートと熱可塑性樹脂の相分離を遅らせ
る。混合物が加熱されると、モノマーが架橋を開始す
る。重合性モノマーの分子量が増大するにつれて、熱可
塑性添加剤は重合したモノマーと僅かに相容しにくくな
り相分離を開始する。架橋反応の完了時には、最終組成
物は、ミクロン以下の大きさの熱可塑性相を有するフッ
素化ポリシアヌレートを含有し、その結果破壊靭性の実
質的な増大を生じると考えられる。プレポリマーを使用
する場合、反応は同じやり方で進行する。場合によって
は、低いTgを有するモノマーおよび高いTgを有するモノ
マーのような異なるシアネートモノマーを混合すること
によって中間のTgを有する材料が形成され高いTgの材料
の例えば望ましい破壊靭性のような、物理的性質を維持
する。
【0023】シアネートエステル樹脂は、環形成シアネ
ート(−C≡N)官能基を有するビスフェノール誘導体
である。この一群の熱硬化性モノマーおよびそれらのプ
レポリマーは、ビスフェノールとシアン酸のエステルで
あり、加熱によって環状三量体化して置換トリアジン環
を形成する。高いTgの熱硬化性材料への転換、または硬
化は、酸素架橋トリアジン環とビスフェノール単位の3
次元網状構造を形成し、正式にはポリシアヌレートと称
される。環状三量体化反応は付加重合反応として分類さ
れる。架橋機構のスキームを下記に示す。
【0024】
【化1】
【0025】本発明の範囲内に包含されるシアネート構
造は次の式: N≡C−O−R−〔R′〕n−O−C≡N (式中、Rはフッ素置換されているかまたはされていな
い脂肪族または芳香族基であり、R′はフッ素置換され
ているかまたはされていない脂肪族または芳香族基であ
り、またはR′はエーテル、カルボニル、スルホニル、
ホスフィド、スルフィドまたは無しであり得、そしてR
またはR′の少なくとも1個はフッ素置換されていなけ
ればならず、そしてnは0〜10である)を有す。
【0026】本発明に従って使用することのできるシア
ネートはまた、前記モノマーのプレポリマーまたはそれ
らの混合物を含む。
【0027】本発明の範囲内に入るいくつかの適当なフ
ッ素化シアネート構造物は次のものを包含する:
【0028】
【化2】
【0029】本発明による改質剤として使用される熱可
塑性改質剤は次の構造式を有する。 X−R−〔R′〕n−X (式中、Xはヒドロキシル、アミノ、シアナート、エポ
キシのような−CN基と反応することが可能な任意の基
であり、Rはフッ素置換されていてもいなくてもよい脂
肪族または芳香族基であり、R′はフッ素置換されてい
てもいなくてもよい脂肪族または芳香族であるか、また
はエーテル、カルボニル、スルホニル、ホスフィド、ス
ルフィド、または無しであることができ、そしてRまた
はR′の少なくとも1個はフッ素置換されていなければ
ならず、そしてnは0〜100である)。
【0030】本発明に使用することができる適当な熱可
塑性改質剤の具体例は次のものを包含する:
【化3】
【0031】上記したように、適当な改質剤としては任
意のフッ素含有ポリ(アリーレンエーテル)、またはモ
ノマー、プレポリマーまたはそれらの混合物からなるシ
アネートエステル樹脂と相容性のその他の熱可塑性樹脂
が挙げられる。上述したように、網目を形成するために
使用された反応において、シアネートモノマーは最初に
熱可塑性モノマーの溶媒として作用する。
【0032】反応は先ずシアネートモノマー内およびシ
アネート基と熱可塑性樹脂の末端基との間の分枝および
鎖延伸により始まる。
【0033】シアネート樹脂が高度に分枝および架橋さ
れるにつれて、熱可塑重合体連鎖は熱力学的原理によっ
て推進されるドメイン形成を開始して反応は完了に向か
って実質的に進行する。
【0034】反応の終りに、これらのドメインは、ポリ
シアヌレートの網目の高度に架橋されたマトリックスに
より囲まれた熱可塑性樹脂に富む顕微鏡的大きさ(オン
グストローム〜ミクロン)の相に成長した。
【0035】上記の系に計画された有用な特徴は次のも
のを包含する: 1.樹脂の融点(100〜110℃)の約20℃以上の
温度においてジシアネートエステル樹脂中に最初に溶解
できる熱可塑重合体が使用される。この熱可塑性樹脂は
網目形成の間にもとの位置で相分離処理を受けて微細相
分離多相網目を形成する。これらの判定基準を達成する
ために、熱可塑性改質剤の主鎖構造は、選択されそして
相容性を最大にするように設計される。試験した多くの
系のうちで、フッ素ベースの改質剤だけが、後の網目特
性を達成するための必須条件であるジシアネート樹脂と
の必要な相容性を有することが見出された。
【0036】2.この熱可塑性樹脂のメチルエチルケト
ン溶解度は、この樹脂を今日の工業的環境上の要求と共
存できる系にする。これは、この物質が印刷回路板の作
製に現今利用されている現存の技術で処理できるために
不可欠である。典型的には、この種の高いTgの熱可塑性
樹脂は極性非プロトン溶媒または塩素化溶媒にだけ溶解
するがこれらは環境上許容され得ない。
【0037】3.熱可塑性改質剤の末端に反応性官能基
(すなわち、ヒドロキシル、アミノまたはシアナート)
を導入することは特に有益である。これは熱可塑性樹脂
を網状構造中へ化学的に混入(共有結合する)すること
を可能にする。化学的混入は改質剤の相容性を高めてそ
の結果一層均一な形態を生じる。それはまた硬化網目の
耐溶剤性が維持されることを保証する。
【0038】4.熱可塑性改質剤の分子量制御がなされ
る。改質ポリシアヌレートの溶解度、形態、モジュラス
および破壊靭性は、熱可塑性改質剤の分子量の関数であ
る。典型的には、最適分子量は13,000〜18,00
0g/モルの範囲内にある。この分子量範囲は、これら
の重合体のからみ合いに関する臨界的分子量のほんの少
し上である。溶融加工性が望まれるならば、更に低い分
子量(5,000〜13,000g/モル)が溶融粘度を
低下させるために必要とされる。
【0039】5.フッ素化ジシアヌレート樹脂中の熱可
塑性改質剤の最適組成は、5〜40重量/重量%の範囲
にわたる。破壊靭性、形態、モジュラス、誘電率などの
ような結果として生じる性質はすべて、ポリシアヌレー
ト熱硬化性材料の望ましい性質を損なうことなしに改善
された機械的性能を与えるためにこの場合に設計された
改質剤の化学的性質の関数である。
【0040】6.熱可塑性改質剤の主鎖構造は、改質剤
の誘電率を低下させるようにされている。これは重合体
の主鎖中にフッ素含有部分を組入れることによって達成
された。
【0041】本発明の別の態様は、本明細書に開示され
たポリシアヌレート樹脂の性質の改変であり、更に詳し
くは4,4′−(ヘキサフルオロビスフェノールAFジ
シアネート)(6F−ジシアネート)と低いTgの高性能
ジシアネート、例えば4,4′−(1,3−フェニレンジ
イソプロピリデン)ジフェニルシアネート(M−ジシア
ネート)およびビスフェノールAFをベースとした熱可
塑性樹脂ポリ(アリーレンエーテルスルホン)またはポ
リ(アリーレンエーテルケトン)との環状三量体化によ
って生成する熱硬化性樹脂を提供することである。これ
は、6F−ジシアネート系網目構造に比べて硬化温度が
低くかつ破壊靭性が改善された硬化積層板を生成する。
この結果生成する樹脂は耐熱性、低誘電率および最も重
要なこととして難燃性を示す。本発明の範囲内に入るそ
の他のいくつかの非フッ素化シアネート構造物は次のも
のである:
【0042】
【化4】
【0043】その上、性質(すなわち、力学的、誘電、
熱的、接着性、形態および難燃性)は、エポキシ、ビス
マレイミド、ベンゾシクロブテン、ビスナジミドおよび
ジアセチレン樹脂のような他の熱硬化性樹脂と混合する
ことにより改質することができる。本発明の範囲内に入
る適当な熱硬化性樹脂の実例を次に示す。
【0044】
【化5】
【0045】本発明の更に別の実施態様は、金属または
無機粒子の含有率の高い複合材料の作製を可能にする破
壊靭性の高いポリシアヌレート材料である。金属、無機
粒子、顔料または充填材の混入は、一般に熱硬化性結合
剤を含む複合材料の機械的性質に有害な影響を及ぼす。
充填材は応力が濃縮される部位として作用しそしてモジ
ュラスを増大させ次には破壊靭性を減少させる。改質シ
アネート樹脂の使用はこの欠陥を克服する。
【0046】改質ポリシアヌレートと伝導性金属粒子、
顔料またはフイラーからなる複合材料は、伝導性物品お
よび/または接着剤を作製するのに有用である。本発明
に有用な伝導性金属の例は銅、ニッケル、金、白金、パ
ラジウム、亜鉛およびその他の金属またはそれらの合金
または混合物である。前記の複合材料は、電子装置応用
における電気接触または相互連結を作るのに、または遮
蔽および静電放電用途に有用である。導電性接着剤は導
電性改質ポリシアヌレートのもう一つの用途として可能
である。この系では機械的性質を損うことなしに導電性
接着剤をより多く添加することが可能であるのでより高
い導電性が得られる。
【0047】改質された熱伝導性粒子顔料、または充填
材を含む複合材料は、熱伝導性物品および/または接着
剤を製造するのに有用である。熱伝導性充填材の例とし
ては窒化ホウ素、酸化亜鉛、窒化アルミニウムおよびダ
イヤモンドが挙げられる。
【0048】熱伝導性複合材料は電子パッケージ、電力
供給系、チップ付着、および冷却用放熱板取付のために
使用される。熱伝導性材料は抵抗性熱エネルギーを除去
するため、または広い表面積にわたって熱を分布させて
空気の対流によるか、または液体もしくは固体との接触
によって環境中へ熱を移動させることを容易にするため
に必要とされる。
【0049】未来の高性能または高密度電気回路パッケ
ージは、集積回路の密度の増大および一層大きな電力に
より更に高い温度で操作されるであろう。これには改質
ポリシアヌレート材料により得られる改善されたガラス
転移温度および破壊靭性を有する熱伝導性の高い物質の
使用を必要とする。
【0050】本発明の熱可塑性改質ポリシアヌレート
は、エポキシ樹脂より遥かに高温安定性(300℃ま
で)を有することが示された。ポリシアヌレートの金
属、特に銅への接着は、8〜11ポンド/インチの範囲
内にある。その上、改質(強化)ポリシアヌレートの誘
電率は、エポキシ樹脂(3.5〜4.0)よりもすっと低
い(2.6〜2.8)。さらにまた、改質ポリシアヌレー
トの改善された破壊靭性は、伝導性顔料をより多く添加
できその結果機械的結着性を損うことなしに一層大きな
熱伝導性が得られる。
【0051】中空のガラス球またはシリカ球フイラーを
用いてガラス繊維強化複合材料の誘電率を低下させ得る
ことが確認された。例えば、各々の球があり約5μ〜2
5μの範囲内の直径を有する、中空のガラス球またはシ
リカ球は、通常約25〜65体積%の範囲内でプリプレ
グ中に有効に混合することができる。プリプレグ中への
これらの球の混入の効果および誘電率の低下に関する更
に完全な議論は、IBMの発表EN889,020に見
出され、その内容は参照により本明細書中に取入れられ
ている。
【0052】表面マウントおよび直接チップ付着技術の
使用が増大したことによって、低い熱膨張率(CTE)
を有する誘電材料を入手する必要性がある。典型的なエ
ポキシ/ガラス布複合材料は、樹脂含量によって15〜
30ppm/℃の範囲内のCTEを有する。ケイ素は3〜
5ppm/℃の範囲のCTEを有する。
【0053】ガラス織物、アラミド繊維のような材料で
作られた織製または不織マット、または銅/インバール
/銅複合体のような金属フィルムの強化マトリックス中
へ含浸させた本発明の組成物は、平面内CTEをうまく
減少させることができることがわかった。
【0054】本発明の一実施態様は、ガラス布強化誘電
体を形成するために混合組成物を使用することである。
多年にわたって、ガラス布はエポキシ/ガラス布複合材
料の平面内CTEを減少させるために使用されてきた。
ガラスは制限層として作用し、その結果そのプライのC
TEを低下させる。最も普通のガラス布はE−ガラス製
である。E−ガラスの欠点はその高い誘電率であった。
ガラス布を使用することによって、その層の誘電率は増
大する。それゆえ、低い誘電率の熱硬化性樹脂とさらに
低い誘電率のガラス繊維織物の組合せを使用する必要性
がある。
【0055】〔本発明の好ましい実施態様の説明〕本発
明は、ジシアネートエステル樹脂に関するが、好ましく
は本発明は、ジシアネートエステル樹脂に溶解性の熱可
塑性重合体を含有するヘキサフルオロイソプロピリデン
ジシアネートエステル樹脂に関する。この熱可塑性重合
体は網目形成の間にもとの位置で相分離処理を受けて微
小相分離された多相熱硬化性材料を生成する。ヒドロキ
シル基のような反応性官能基の改質剤は、その改質剤を
重合体の網状構造中に共有結合により混入されることを
可能にする。フッ素基を含有するモノマーを使用するこ
とはより低い誘電率を与える。そのような熱可塑性改質
剤の例としては、(a)ビスフェノールAFを4,4′
−ジフルオロジフェニルスルホンと反応させることによ
り合成されたポリ(アリーレンエーテルスルホン)、お
よび(b)ビスフェノールAFを4,4′−ジフルオロ
ベンゾフェノンと反応させることにより製造されたポリ
(アリーレンエーテルケトン)が挙げられる。熱可塑性
改質ポリシアヌレートはM−ジシアネートおよび6F−
ジシアネートを熱可塑性改質剤と2段階で反応させるこ
とによって合成される。第1段階において、熱可塑性改
質剤とジシアネートエステル樹脂を真空下に130℃で
機械的に混合して透明で均質な混合物を生成する。第2
段階において、反応物は約200〜250℃で1時間そ
して約250℃〜325℃で2時間硬化させる。
【0056】この場合のポリシアヌレート網目構造は、
以下に示されるM−ジシアネートおよび6F−ジシアネ
ートと熱可塑性改質剤との反応に基づいている:
【化6】
【0057】上述した特定の好ましいスルホンおよびケ
トン系熱可塑性改質剤の両方を5〜40重量/重量%、
好ましくは15〜30重量/重量%の範囲内で網目構造
中にうまく混入する。
【0058】本発明に使用される熱可塑性改質剤は、親
核性芳香族置換反応を経て好都合に合成することができ
る。ポリ(アリーレンエーテルスルホン)は、ビスフェ
ノールAFと4,4′−ジフルオロジフェニルスルホン
とを反応させることにより合成される。同様に、ポリ
(アリーレンエーテルケトン)は、ビスフェノールAF
と4,4′−ジフルオロベンゾフェノンとを反応させる
ことにより合成される。反応の進行中、分子量および末
端基の官能性は、Carrotherの式により反応における化
学量論を相殺することにより制御される。過剰のビスフ
ェノールAF反応物は、ヒドロキシル末端基および1
5,000g/モルのおおよその数平均分子量を両重合
体について達成するために利用される。
【0059】硬化積層板の平面内CTEを低下させる普
通の方法は、シアネート樹脂をガラス繊維織物中に溶液
含浸または溶融含浸させることである。特定のガラス布
の選択は生成する複合構造物について誘電率を押しつけ
ることになる。E−ガラスは最も普通に利用される布繊
維であるが、これは約5.8の誘電率を有する。硬化ポ
リシアヌレートを用いた生成する複合材料の誘電率は、
3.4〜3.5の範囲内にあるだろう。
【0060】S−ガラス、D−ガラス、K−ガラスまた
はQ−ガラス製のような他のガラス布は、3.2〜3.4
の範囲内の低い誘電率を有し、約3.0〜3.2の範囲内
の誘電率を有する硬化積層板を生成する。
【0061】本明細書に記載される発明はまた、アラミ
ド繊維に熱可塑性改質フッ素化シアネート混合物の溶液
を溶剤含浸させることを包含する。デュポン(商標Therm
ount)および帝人(商標Technora)は共にチョップドア
ラミド繊維マットを開発した。本発明に使用するのに適
する典型的なアラミド繊維マットは、「PRODTA」
と称せられるコポリフェニレン3,4′オキシジフェニ
レンテレフタルアミド製のマットである。PRODTA
マット(樹脂なし)のようなマットの平面内CTEはお
よそ−6〜−7ppm/℃(10-6インチ/インチ/℃)
である。50〜60%の樹脂含量で、平面内CTEは3
〜8ppm/℃の範囲内にある。これはケイ素のCTEと
非常にぴったりと釣合って熱サイクルの間にチップを安
定化するために封入剤を使用する必要がない。本発明の
利点を説明するために、PRODTA紙のErは3.5
である。60%樹脂含量で誘電率は約2.8〜3.0であ
る。
【0062】複合材料の平面内CTEを低下させるため
のもう一つの方法は、制限層として銅/インバール(Inv
ar)/銅を使用しそしてまたパワーコアとして役立てる
ことである。この種のコアを作成するためには二つの方
法がある。その第1は、S−ガラス、D−ガラス、また
はQ−ガラス誘電体のような強化誘電体シートを積層す
ることを含む。さらなる利点は銅/インバール/銅およ
び誘電層の両方の全体の平面内CTEが低いことであ
る。デュポンのThermountマットまたは帝人のTechnora
マット中に含浸させた改質シアネート樹脂を使用して作
製された誘電層はまた、抑制されたCTEの包被パワー
コア構造物を作製するためにも利用できる。
【0063】別の方法としては、図1に示されるような
連続積層法を使用して銅/インバール/銅コアを被覆す
ることである。この方法の利点は、それが連続的であっ
て溶剤を全く使用しないことである。シアネート樹脂中
の熱可塑性改質剤の独特の相容性によって銅/インバー
ル/銅コアは溶融法を使用して被覆することができる。
溶融樹脂1の層は連続的に移動するコアの銅の細長い板
2および上部の銅の細長い板3のウエブの上側表面にド
クターブレードまたはスリット押出しヘッド5、6を使
用して塗布される。銅箔4のウエブは圧力ロール7およ
び8で、次いで圧力下に加熱定盤(図示省略)9の間で
細長い板3の上の樹脂層1に確保される。定盤9の温度
は180〜325℃の範囲内に維持される。積層工程の
二重ベルト積層部分において、圧力がロール7および8
で最初に加えられて定盤9の温度は上記した範囲に迅速
に高められ、樹脂を固めて架橋反応を起こさせる。硬化
温度はM−ジシアネート対6F−ジシアネートのシアネ
ート混合比の組成によって決まる。生成する製品はロー
ル10に巻き取られる。
【0064】銅被覆コアは、酸化物処理された銅箔の間
に複数のプライのプリプレグを置き、熱および圧力下に
積層することにより作製することができる。典型的に、
積層工程は銅箔とプリプレグを積重ねたものを最終定盤
塑性変形点まで5〜10℃/分で加熱することを含む。
定盤の塑性変形点はマトリックス樹脂の最終Tgにより決
定される。積層工程の間の完全な硬化を確実にするた
め、最終温度は完全に硬化されたマトリックスのTg以上
約25℃になるように定められる。圧力は典型的に20
0〜500ポンド/平方インチの範囲にあり、好ましい
圧力は300ポンド/平方インチである。熱可塑性改質
シアネートプリプレグは周囲圧力で積層してもよいが、
好ましい方法は真空積層を用いることである。真空積層
法に関して、プリプレグ/銅積重なりの近くの環境は、
積重ねを囲う真空枠、または真空壁内に定盤を囲むこと
のどちらかを使用することにより−29.5インチHgの
圧力な排気される。真空法は良く固められた、空隙のな
い積層板を製造するための好ましい実施態様である。
【0065】銅被覆コアを製造するための代わりの方法
は、連続積層工程を使用することである。この方法には
2つの態様がある。その第1は、連続して移動する酸化
物処理された銅箔の巻き物の2枚のシートの間に標準含
浸塔を使用して製造されたプリプレグを連続的に積層す
ることを包含する。熱および圧力は、積層板の両側によ
く磨かれたステンレス鋼のベルトによって加えられる。
典型的な二重ベルト積層機はSimplekampまたはHeld Cor
porationsから市販されている。好ましい実施態様は、
移動するウエブの溶融含浸を使用する銅被覆コアの製造
を含む。これは大きな含浸塔によってプリプレグを製造
する必要を取り除く。この実施態様において、樹脂は溶
融されて強化材(E−ガラス、K−ガラス、D−ガラ
ス、S−ガラス、Technona紙、Thermeunt紙)の巻き物
にドクターブレードまたはスリットダイ押出しヘッドに
よって塗布される。溶融樹脂の薄膜は連続して移動する
酸化物処理された銅箔に適用されて強化材の移動するウ
エブと接触して置かれる。溶融樹脂は移動する強化材の
一番上の表面に塗布しても、または酸化物処理された銅
箔の第2の巻き物に塗布してもよい。二重ベルト部分に
入る前に、2枚の銅箔と強化材を接触させる。溶融樹脂
は、更に高い温度および圧力を加えられて二重ベルト積
層機の固化帯域で強化材中に押し込められる。第2の方
法は、大きい容積の揮発性溶剤を取扱う必要なしに、連
続様式で高品質の銅被覆コアを製造する。
【0066】別の応用は、発泡ポリテトラフルオロエチ
レン(ePTFE)強化材に含浸させたTPMシアネー
トを利用する。膨張PTFE繊維織物を穿孔する問題の
ために、新しい発泡PTFEマットが開発された。満足
な方法を使用して、熱硬化性樹脂がマット中に含浸され
る。事実、ePTFEマット中に含浸された非フッ素化
ビスフェノールAジシアネートをベースとした商業製品
が市販されている。マットは広い範囲の厚さのものが市
販されている。市販の製品より優れたTPMシアネート
を使用する利点は、マトリックス樹脂の破壊靭性が標準
のポリシアヌレート材料に比べて実質的に高められるこ
とである。その上、TPMシアネートの誘電率は、非フ
ッ素化ポリシアヌレートに比べて低い。極度に低い誘電
率のPTFEと結合された低誘電率の強化ポリシアヌレ
ートの組合せは、樹脂含量によって2.3〜2.5の範囲
内の誘電率を有する誘電層を生じる。このことは一層慣
例的な積層アプローチ(すなわち、平台印刷機中で積層
された熱硬化性重合体)を使用する手段を提供する。
【0067】本発明のもう一つの実施態様は、電子回路
パッケージ中にその組成物を使用することである。電子
パッケージのための一般的な構造物および製造方法は、
例えば、Donald P. Seraphim, Ronald Lasky, and Che-
Yo Li, Principles of Electronic Packaging, McGraw-
Hill Book Company, New York, N. Y. (1988), 並びにR
ao R. Tummala and Eugene J. Rymaszewski, Microelec
tronic Packging Handbook. Van Nostrand Reinhild, N
ew York, N. Y. (1988)に記載されており、それらの両
方ともこれへの参照により本明細書中に取り入れられて
いる。
【0068】重合体系の複合材料パッケージ作製のため
の基本的な方法は、先にこれへの参照により本明細書中
に取入れられている、George P. Schmitt, Bernd K. Ap
peltand Jeffrey T. Gotro, “Polymers and Polymer B
ased Composites for Electronic Appelications" in S
eraphim, Lasky, and Li, Principles of Electronic P
ackaging, page 334〜371およびまた先にこれへの参照
により本明細書中に取り入れられている、Donald P. Se
raphim, Donald E. Barr, William T. Chen, George P.
Schmitt, and Rao R. Tummala, “Printed Circuit Bo
ard Packaging"in Tummala and Rymaszewski, Microele
ctronics Handbook, page 853〜922, also previously
incorporatedに記載されている。
【0069】物品類は、層の少なくとも1層が、硬化さ
れるフッ素含有シアネートおよびフッ素含有熱可塑性重
合体材料からなる硬化性材料で形成される、複数の層を
有し、製造された電子回路パッケージに使用することが
できる。残りの層の1層またはそれ以上は熱可塑性また
は熱硬化性樹脂で形成され、その特定の樹脂は利用され
る所望の性質に基づいて選定される。電子回路パッケー
ジとして効率的に機能するために、上記の物品は、電気
回路のための担体として役立つパッケージ内に埋込まれ
た導電性金属パターンを含有する。電子回路パッケージ
のこれ以上の議論は、Eonafino等の米国特許第5,10
3,293号に見出され、その内容はこれへの参照によ
り本明細書中に取入れられている。
【0070】形成された物品は、本発明のポリシアヌレ
ート熱硬化性材料が溶剤溶液または溶融溶液から導電性
回路層上に適用され、前記熱硬化性材料を硬化後平面化
された表面を有する誘電層を提供する重合体、セラミッ
クまたは多層基体上の導電性回路層からなる、一般的に
2層〜13または14層の多層物品であり、前記物品は
前記熱硬化性材料中にひとそろいまたは複数の交番配線
回路網を有することを特徴とする。
【0071】その物品を構成するもう一方の熱可塑性ま
たは熱硬化性層は同一または異なることができ、そして
ポリイミド、感光性ポリイミド、エポキシ、ベンゾシク
ロブテンおよび感光性シアネート樹脂から形成されたポ
リシアヌレートから成る群より選ばれる。
【0072】実施例1 熱可塑性改質剤の合成−ビスフェノールAFポリスルホ
ン 窒素入口、温度計、撹拌機、および冷却器付きのディー
ンスタークトラップを備えた容量5リットルの4首丸底
フラスコに、437.11gの2,2′−ビス(4−ヒド
ロキシフェノール)ヘキサフルオロプロパン、319.
34gのジフルオロジフェニルスルホン、225gの炭
酸カリウム、1775mlのN−メチル−2−ピロリジノ
ンおよび775mlのトルエンを装填した。反応物の化学
量論は、制御された分子量のヒドロキシル−末端オリゴ
マーを獲得するためにCarrotherの方程式によって変化
した。反応内容物を窒素下に置き、トルエンが約140
〜155℃で還流し始めるまで加熱した。完全に脱水す
るまで反応混合物を還流させた(約4時間)。フェノキ
シド生成の間に放出された水は、捕集しそしてディーン
スタークトラップから除去した。反応温度が165〜1
70℃に達するまで、トルエンをディーンスタークトラ
ップから取り出した。系を10〜12時間反応させてお
くと、粘稠な濃緑色溶液が生じた。約80℃まで冷却し
た後、反応混合物を濾過して無機塩を除去した。次いで
反応溶液を氷酢酸でpH7未満の酸性にし、10倍量の2
5/75体積比のメタノールおよび水に沈殿させた。濾
過によって得られた沈殿オリゴマー(淡黄褐色粉末)
を、メタノールで洗浄し、次いで100〜120℃にお
いて真空乾燥した。乾燥後、オリゴマーをテトラヒドロ
フラン(30%固体濃度)に再溶解し、そして沈殿、濾
過および洗浄操作を繰り返した。最後に、サイズ排除ク
ロマトグラフィー(GPC)により約17,900およ
びメタノール中の水酸化テトラメチルアンモニウムによ
る滴定法を用いて約17,600の分子量(<Mn>)
を有する約700gmのオリゴマーを生ずる恒量になるま
で、その沈殿物を120℃で乾燥した。オリゴマーは、
195℃のガラス転移温度および窒素下の熱重量分析に
よって測定した約525℃の分解温度を有した。1kHz
において測定したオリゴマーの誘電率は約2.95であ
った。
【0073】実施例2 熱可塑性改質剤の合成−ビスフェノールAFポリエーテ
ルケトン 実施例1に記載したのと同様の手順を用いて、33,6
236gの2,2′−ビス(4−ヒドロキシフェノー
ル)ヘキサフルオロプロパン、21,0843gのジフ
ルオロベンゾフェノン、17.3gの炭酸カリウム、1
30mlのN−メチル−2−ピロリジノンおよび45mlの
トルエンを容量500mlのフラスコに装填することによ
り、ビスフェノールAFポリスルホンオリゴマーを合成
した。生じたオリゴマーは、165℃のガラス転移温度
および窒素下の熱重量分析によって測定した約550℃
の分解温度を有した。1kHにおいて測定したオリゴマー
の誘電率は約2.85であった。
【0074】実施例3 強化高Tgポリシアヌレート熱硬化性材料の製造 ガス入口および機械的撹拌機を備えた容量100mlの二
首丸底フラスコに、31.5gの4,4′−(ヘキサフル
オロイソプロピリデン)ジフェニルシアネート(Phone-
Poulenc製のAroCyf-10樹脂)および13.5gのビスフ
ェノールAFポリスルホン(30重量%)を装填した。
その混合物を、撹拌しながら120℃まで加熱した。約
90℃において生じた結晶性固形物の融解後、反応混合
物を脱気およびジシアネート樹脂中ビスフェノールAF
ポリスルホンの溶解のために減圧下に置いた。約0.5
〜1.5時間内に、混合物は均一になって発泡が終わ
り、水分および溶解したガスのすべてが除去されたこと
を示した。この時点で、透明均一な溶液を、機械的性質
の評価に適した形を包含する予熱済みのRTVシリコー
ンゴム型中に注いだ。いったん満たすと、その型を、
0.01ミルのテフロンシートで覆い、そして0.25イ
ンチ厚のアルミニウム片で圧しつけた。型を次いで、強
制−空気対流炉に入れて200℃で2時間さらに310
℃で1時間窒素下に硬化した。その結果生じた試料は透
明であって完全に均一に見えた。しかしながら、動的機
械的分析(DMTA)では相分離を示す約199℃と3
15℃の二つのガラス転移温度(Tg)を明らかに示し
た。走査電子顕微鏡法(SEM)および透過電子顕微鏡
法(TEM)を用いて相分離の特性を表す試みは失敗に
終わったが、このことは非常に高い相容性およびミクロ
ン以下の相分離を示唆している。強化熱硬化試料は、無
地汚染破壊靭性試験によってKlc=1.03MPa√mお
よびGlc=340 J/m2の破壊靭性値を示した。1
kHzにおける強化熱硬化性樹脂の誘電率は約2.7〜2.
8であった。
【0075】実施例4 低硬化温度で加工可能な強化ポリシアヌレートの製造 非フッ素化ジシアネート、特に4,4′−(1,3−フェ
ニレンジイソプロピリデン)ジフェニルシアネート(M
−ジシアネート)を、4,4′−(ヘキサフルオロイソ
プロピリデン)ジフェニルシアネート(6F−ジシアネ
ート)とそれぞれ60/40(重量/重量%)の割合で
混合することによって、低Tg強化ポリシアヌレート網
目構造を調製した。ビスフェノールAFポリスルホンは
また、靭性を高めるために、15重量/重量%(シアネ
ートモノマー重量に基づいて)になるよう加えた。
【0076】本発明において使用された多成分混合物の
それぞれの成分量を簡単に記載するため、百分率を配列
A(NFc/Fc)/Bによって示す。ここでAは、全
シアネート/ポリシアヌレート組成物を混合物中の重量
%で表し;記号NFc/Fcは、全シアネート/ポリシ
アヌレート組成物中のフッ素化シアネート/ポリシアヌ
レートに対する非フッ素化シアネート/ポリシアヌレー
トを表し(常に非フッ素化化合物が先に記される);そ
してBは重量%で表わされる熱可塑性改質剤を表してい
る。
【0077】11.9gの6F−ジシアネート、17.8
5gのM−ジシアネートおよび5.25gのビスフェノ
ールAFポリスルホンを含有する混合物を、実施例4に
記載したように調製した。
【0078】一連の試料または様々な量の非フッ素化お
よびフッ素化ポリシアヌレートおよび熱可塑性改質剤を
有するさまざまな混合組成物を、実施例3および4に記
載したように調製した。生じた混合物を特定の棒状に形
成してDMTA、破壊靭性および熱分析評価について試
験を行った。
【0079】この実施例4に記載したように調製した改
質ポリシアヌレート材料の動的機械的挙動を、85(6
0/40)/15組成物について図2に示す。tanδト
レースは、ポリスルホンおよびポリシアヌレート相のそ
れぞれに対する199℃および234℃での二つの転移
を明らかに示し、このことは相分離の存在を示す。しか
しながら、試料は透明で均一であり、したがって相分離
がオングストロームからナノメーターの規模であること
を示唆する。
【0080】以下に詳述されるように試料を、凡例A
(60/40)Bによってその中に含有されるさまざま
な量の熱可塑性改質剤を有する混合物から形成した。こ
れらの試料を、試験片の棒に形成して破壊靭性試験を行
った。とりわけ、図3は改質剤としてビスフェノールA
Fポリスルホンを利用する60%M−ジシアネートおよ
び40%6F−ジシアネート(重量/重量)を含有する
改質ポリシアヌレート熱硬化性樹脂の破壊靭性におよぼ
す。熱可塑性改質剤濃度の効果を示す。図3から破壊靭
性の実質的増加が、改質剤濃度(B)の増加によって達
成されることが観測できる。実際、靭性は、熱可塑性改
質剤の30%(重量)混合によって250J/m2から
650J/m2以上に増加する。他方、エポキシ樹脂
は、40〜90J/m2の間の破壊靭性を示すだけであ
る。
【0081】以下に詳述されるような試料を、15%、
すなわち〔85(NFc/Fc)15〕の熱可塑性改質
剤の一定濃度におけるさまざまな量の非フッ素化および
フッ素化材料を有する混合物から形成した。これらの試
料は、試験片の棒に形成して破壊靭性および熱分析、特
にガラス転移温度について試験した。
【0082】図4は、15%(重量PSF/重量シアネ
ート樹脂)の一定の熱可塑性(ビスフェノールAFポリ
スルホン)改質剤濃度におけるシアネート混合組成物
(M−ジシアネートおよび6F−ジシアネート)の変化
の効果を示す。M−ジシアネートの百分率は6F−ジシ
アネート成分以上に増加されるので、破壊靭性はM−ジ
シアネートの低い5%(<20%)において比較的影響
を受けない。しかしながら、M−ジシアネートの百分率
が15%(重量改質剤/重量シアネート樹脂)の一定の
熱可塑性改質剤含量において増加する(>20%)につ
れて、破壊靭性は190J/m2から400J/m2以上
に迅速に上昇する。
【0083】図5は、上述した6F−ジシアネートと混
合したM−ジシアネートの混合物について熱硬化性樹脂
(すなわちポリシアヌレート相)のTgにおよぼすシア
ネート樹脂混合物の影響を示している。図5は、硬化さ
せた熱硬化性樹脂の最大Tgが混合組成物によって調整
できることを示している。その上、M−ジシアネートお
よび6F−ジシアネートが混合できる(すなわち相分離
のない単一成分として作用する)ことも示す。
【0084】さまざまな型および量のポリシアヌレート
およびさまざまな量の熱可塑性改質剤濃度〔A(0/1
00)BおよびA(60/40)B〕を有する二組の試
料を調製した。図6は、熱可塑性改質剤(ビスフェノー
ルAFポリスルホン)濃度の関数としてのシアネート混
合組成物の効果を示している。「6F」と印した曲線
は、さまざまな百分率の改質剤と共に100%の6F−
ジシアネートを含有する。「混合物」と印した曲線は、
さまざまな改質剤濃度における、M−ジシアネートと6
F−ジシアネートのそれぞれ60/40(重量/重量)
混合物を含有する。より軟質のM−ジシアネートを含有
する混合物は、全ての濃度水準でより高い破壊靭性を示
す。
【0085】実施例5 106E−ガラスプレプレグ/積層板/回路板の製造 樹脂溶液を、容量2リットルのビーカー中で、M−ジシ
アネートプレポリマー溶液(MEK中の75%溶液59
8.4g)と6F−ジシアネートプレポリマー溶液(M
EK中の75%溶液398.9g)との60/40(重
量/重量)混合物と、470.7gのMEKを混合する
ことによって調製した。十分に混合した後、132gmの
ビスフェノールAFポリスルホン(15重量/重量%)
を加えて(少しずつ)完全に溶解するまで機械的に撹拌
した。生成したワニスは、澄みきった透明な、琥珀色の
液体であり、メチルエチルケトン中の全成分の完全な溶
解を示している。使用するおよそ1時間前に、上記の樹
脂溶液を、200ppmのオクタン酸マンガン(MEK中
の0.006%溶液25.0gm)で接触した。樹脂溶液
を、含浸処理塔を使用して、106形式、E−ガラスお
よびK−ガラス補強織物に含浸させた。生成したプレプ
レグを140℃で約4分間熱処理して、MEK溶媒を除
去して樹脂を“B段階”にした。
【0086】プリプレグを切断し、積層して試験片と
し、それを誘電率、水分吸収、熱収、熱膨張率、銅剥離
強度および積層間結合強度を測定するために使用した。
これらの評価の結果を表1〜3にまとめる。銅剥離試験
が行われる銅張り積層板、および回路板は、一枚または
それ以上の銅の間にプリプレグの幾つかの層を重ね合わ
せることによって製造した。これらの構造物を約250
℃から325℃で約300psiの圧力下に約2時間硬化
した。平行板誘電率試験を試料について行った。その結
果を表1に示す。熱分析試験もまた、ガラス転移温度を
測定するために、試料について行った。
【0087】
【表1】
【0088】表1は、誘電率が熱可塑性改質剤の添加に
よっておよびポリシアヌレート混合組成物の変化によっ
て、本質的に影響を受けなかったことを明らかに示して
いる。しかしながら、E−ガラス補強材をK−ガラスと
取り換えることによって、誘電率のかなりの低減が達成
されたことがみられる。
【0089】
【表2】
【0090】表2は、典型的なエポキシ樹脂および幾つ
かの熱可塑性改質ポリシアヌレート組成物に関して水分
吸収の比較を示している。その結果は、吸収が改質ポリ
シアヌレート組成物、特に水中で16時間煮沸した試料
についてかなり少ないということを示している。
【0091】
【表3】
【0092】* 全て1オンスGould銅箔に関する90
°剥皮試験である。 ** 高められた表面処理銅箔を有する85(60/4
0)/15は90°剥離試験で10.5ポンド/インチ
の値を生ずる。
【0093】表3は、銅剥離および積層間結合強度につ
いて得られた結果を示している。さらに、積層間結合強
度は、図2に示されているように破壊靭性の増加に直接
比例した。
【0094】銅剥離強度に関して得られた値は、FR4
エポキシ樹脂に匹敵する。熱可塑性改質ポリシアヌレー
トに関する積層間結合強度は、エポキシ樹脂のそれをは
るかに越える。
【0095】実施例6 コーポリ−p−フェニレン3,4′オキシジフェニレン
テレフタルアミド(PPODTA)紙(アラミド繊維マ
ット)プレプレグ/ラミネートの製造 PPODTA紙を110℃の強制空気乾燥炉中で1時間
乾燥して、アラミド繊維マット中の残留水分を全て除去
した。含浸前にアラミド繊維マットを乾燥しないと、そ
の複合体の積層中に膨れが生じる。しかしながら、上記
の実施例5に記載された樹脂溶液を、樹脂溶液の浸透を
良くするために利用し、ワニス中の固体含量を45%ま
で減少させた。このことは粘度をかなり低下させてアラ
ミド繊維の湿潤を良好にした。
【0096】樹脂溶液を次いで、含浸処理塔を使用して
アラミド繊維マットに含浸させた。生じたプリプレグを
140℃で約4分間熱処理して、MEK溶媒を除去して
樹脂を“B段階”にした。次いで積層板をプリプレグの
幾つかの層を重ね合わせそして約250℃で約300ps
iの圧力下に2時間硬化することによって作製した。試
験片の棒を作製して誘電率および面内熱膨脹率を測定す
るために試験した。生成した積層板は、2.8(1GH2
で測定)の誘電率を有していた。面内熱膨脹率は、Tg
以下で14ppm/℃でTg以上で−7ppm/℃であった。
【0097】実施例7 熱伝導性強化ポリシアヌレート 熱伝導性ポリシアヌレートの溶液流延フイルムを、ME
K中のシアネートプレポリマー85g(75%固体濃
度)に窒化アルミニウム60gを添加する(少しずつ)
ことによって調製した。シアネートプレポリマーは、M
−ジシアネート/6F−ジシアネートの比が40/60
(重量/重量)%であった。プロピレングリコールモノ
メチルエーテルアセテート(PGMEA)を、MEK対
PGMEAの全体の比がそれぞれ4:1であるように
「テール(tail)溶媒」として添加した。その混合物
を、媒体として鋼の小球を入れた容器中ですりつぶし
た。すりつぶした後、6.7gのビスフェノールAFポ
リスルホン(MEK中50%固体濃度)および約100
ppmの触媒を撹拌しながら添加した。混合物を次いで基
体上にコートし、減圧下に乾燥して(溶媒除去のため)
180℃で2時間さらに220℃で1時間硬化し、熱伝
導性誘電複合材料を形成した。上記の方法は、酸化アル
ミニウムおよび窒化ホウ素のような他の熱伝導性ピグメ
ントにも適用できる。
【0098】以上、本発明を詳細に説明したが、本発明
はさらに次の実施態様によってこれを要約して示すこと
ができる。 1) フッ素含有シアネートおよびフッ素含有熱可塑性
重合体からなる硬化性物質であって、前記物質は温度1
80〜325℃で熱硬化可能であり、硬化された状態の
前記物質は、その中に分散された前記フッ素含有熱可塑
性重合体の複数の離散相を有するフッ素含有ポリシアヌ
レート網目構造を含み、前記熱可塑性重合体相はミクロ
ン以下の大きさである、上記硬化性物質。 2) 約100ジュール/m2より大きい強靭性を有す
る前項1に記載の硬化された状態の物質。 3) 約2.6〜3.0の透電率を有する前項2に記載の
硬化された状態の物質。 4) 約180〜320℃のガラス転移温度を有する前
項3に記載の硬化された状態の物質。
【0099】5) 約430〜500℃の範囲で崩壊す
る高温安定性を有する前項4に記載の硬化された状態の
物質。 6) 前記シアネートが次の構造式: N≡C−O−R−〔R′〕n−O−C≡N (式中、Rはフッ素置換されているかまたはされていな
い脂肪族または芳香族基であり、R′はフッ素置換され
ているかまたはされていない脂肪族または芳香族基であ
り、またはR′はエーテル、カルボニル、スルホニル、
ホスフィド、スルフィドまたは無しである群から選ば
れ、RまたはR′の少なくとも1個はフッ素置換されて
いなければならず、そしてnは0〜10である)を有す
る前項1に記載の硬化性物質。
【0100】7) 異なったモノマー、このモノマーの
プレポリマー、異なったモノマーとの混合モノマーまた
は同じもしくは異なったモノマーとプレポリマーとの混
合物からなる前項6に記載のシアネート。 8) 前記フッ素含有熱可塑性重合体が次の構造式: X−R−〔R′〕n−X (式中、Xは−CN基と反応することが可能な任意の基
であり、Rは、フッ素置換されているかまたはされてい
ない脂肪族または芳香族基であり、R′は、フッ素置換
されているかまたはされていない脂肪族または芳香族基
であり、またはR′はエーテル、カルボニル、スルホニ
ル、ホスフィド、スルフィドまたは無しである群から選
ばれ、そしてRまたはR′の少なくとも1個はフッ素置
換されていなければならず、そしてnは0〜100であ
る)を有する前項1に記載の硬化性物質。 9) Xがヒドロキシル、アミノ、シアネートまたはエ
ポキシよりなる群から選ばれる前項8に記載の熱可塑性
重合体。
【0101】10) 次の構造式: X−R−〔R′〕n−X (式中、Xは−CN基と反応することが可能な任意の基
であり、Rは、フッ素置換されていてもいなくてもよい
脂肪族または芳香族基であり、R′は、フッ素置換され
ているかまたはされていない脂肪族または芳香族基であ
り、またはR′はエーテル、カルボニル、スルホニル、
ホスフィド、スルフィドまたは無しである群から選ば
れ、そしてRまたはR′の少なくとも1個はフッ素置換
されていなければならず、そしてnは0〜100であ
る)を有するフッ素含有熱可塑性重合体と混合された前
項7に記載の硬化性物質。 11) 前記物質がメチルエチルケトンに完全に溶解性
の前項1に記載の硬化性物質。 12) 前記未硬化物質の硬化を促進する触媒を含有す
る前項1に記載の硬化性物質。
【0102】13) 前記シアネートが4,4′−(ヘ
キサフルオロイソプロピリデン)ジフェニルシアネート
またはそのプレポリマーから生成される前項1に記載の
硬化性物質。 14) 前記シアネートが、少なくとも1種類のフッ素
含有シアネート樹脂を有する1種類より多いシアネート
樹脂の混合物から生成される前項1に記載の硬化性物
質。 15) 前記混合物の少なくとも1種類の成分がフッ素
含有シアネートであって前記混合物のその他の成分が非
フッ素含有シアネートであり、次の構造式: N≡C−O−R−〔R′〕n−O−C≡N (式中、Rは脂肪族または芳香族基であり、R′は脂肪
族または芳香族基であるかまたはR′はエーテル、カル
ボニル、スルホニル、ホスフィド、スルフィドまたは無
しである群から選ばれ、そしてnは0〜10である)を
有する、前記シアネートの混合物からなる前項10に記
載の硬化性物質。
【0103】16) 前記混合物の前記シアネート成分
が異なったモノマー、このモノマーのプレポリマー、異
なったモノマーとの混合モノマーまたは同じもしくは異
なったモノマーとプレポリマーとの混合物からなる前項
15に記載の硬化性物質。 17) 前記シアネート混合物が6Fジイソシアネート
とM−ジイソシアネートとからなる前項16に記載の硬
化性物質。 18) シアネート混合物のフッ素化シアネート成分が
混合物の約80%〜20%の範囲で存在し、非フッ素化
シアネート成分が前記混合物の残余を構成する前項16
に記載の硬化性物質。 19) シアネート混合物のフッ素化シアネート成分が
混合物の約70%〜30%の範囲で存在し、非フッ素化
シアネート成分が前記混合物の残余を構成する前項16
に記載の硬化性物質。 20) シアネート混合物のフッ素化シアネート成分が
混合物の約60%〜40%の範囲で存在し、非フッ素化
シアネート成分が前記混合物の残余を構成する前項16
に記載の硬化性物質。
【0104】21) 約60%の6Fジシアネート、4
0%のM−ジシアネートおよび15%の熱可塑性重合体
を200ppmのオクタン酸マンガン、100ppmのオクタ
ン酸亜鉛、1phrのビスフェノールAFおよび2phrのノ
ニルフェノールよりなる群から選ばれる触媒と共に含有
する前項17に記載の硬化性物質。 22) 前記ポリシアヌレートが、4,4′−(ヘキサ
フルオロイソプロピリデン)ジフェニルシアネートおよ
び4,4′−(1,3−フェニレンジイソプロピリデン)
ジフェニルシアネートまたはそれらのプレポリマーから
なる混合物から生成される前項1に記載の硬化性物質。 23) 前記熱可塑性重合体がポリ(アリーレンエーテ
ル)である前項1に記載の硬化性物質。 24) 前記熱可塑性重合体がメチルエチルケトンおよ
び硬化前の前記ポリシアヌレート網状構造の両方に溶解
できる前項1に記載の硬化性物質。 25) 前記熱可塑性重合体が少なくとも130℃のガ
ラス転移温度を有する前項1に記載の硬化性物質。
【0105】26) 前記熱可塑性重合体が約160℃
〜220℃のガラス転移温度を有する前項1に記載の硬
化性物質。 27) 前記ポリ(アリーレンエーテル)がバックボー
ン構造中にヘキサフルオロイソプロピリデンビスフェニ
ル結合を含有する前項25に記載の硬化性物質。 28) 前記ポリ(アリーレンエーテル)がバックボー
ン構造中に少なくとも1個のスルホンまたはケトン部分
を含有する前項25に記載の硬化性物質。 29) 前記ポリ(アリーレンエーテル)がビスフェノ
ールAFポリスルホンである前項25に記載の硬化性物
質。 30) 前記ポリ(アリーレンエーテル)がビスフェノ
ールAFポリエーテルケトンである前項25に記載の硬
化性物質。
【0106】31) 前記ポリ(アリーレンエーテル)
が化学的官能基を含有する前項25に記載の硬化性物
質。 32) 前記官能基が前記ポリ(アリーレンエーテル)
の末端に置かれる前項31に記載の硬化性物質。 33) 前記反応性官能基がシアネート、エポキシ、ま
たは活性水素を含有する如何なる基よりなる群から選ば
れる前項31に記載の硬化性物質。 34) 前記活性水素基がヒドロキシル、アミンまたは
カルボン酸である前項33に記載の硬化性物質。 35) 前記ポリ(アリーレンエーテル)が2,500
〜30,000の平均分子量の範囲の分子量を有する前
項23に記載の物質。
【0107】36) 前記分子量が約10,000〜1
8,000の範囲内にある前項35に記載の物質。 37) 前記分子量が2,500〜13,000の範囲内
にある前項35に記載の物質。 38) 前記熱可塑重合体が約5%〜50%重量/重量
パーセントの範囲で存在する前項23に記載の硬化性物
質。 39) 前記熱可塑重合体が約10%〜30%重量/重
量パーセントの範囲で存在する前項38に記載の硬化性
物質。 40) 前記熱可塑性重合体が約15%重量/重量パー
セントの範囲で存在する前項39に記載の硬化性物質。
【0108】41) 前記熱可塑重合体が約5%〜50
%重量/重量パーセントの範囲で存在する前項29に記
載の硬化性物質。 42) 前記熱可塑性重合体が約10%〜30%重量/
重量パーセントの範囲で存在する前項41に記載の硬化
性物質。 43) 前記熱可塑性重合体が約15%重量/重量パー
セントの範囲で存在する前項42に記載の硬化性物質。 44) 前記熱可塑性重合体が約5%〜50%重量/重
量パーセントの範囲で存在する前項30に記載の硬化性
物質。 45) 前記熱可塑性重合体が約10%〜30%重量/
重量パーセントの範囲で存在する前項44に記載の硬化
性物質。
【0109】46) 前記熱可塑性重合体が約15%重
量/重量パーセントの範囲で存在する前項45に記載の
硬化性物質。 47) 前記シアネート混合物が約35〜50重量%の
量で存在し、対応して前記熱可塑性重合体が約5〜50
重量%の量で存在する前項18に記載の硬化性物質。 48) 前記シアネート混合物が約95〜50重量%の
量で存在し、対応して前記熱可塑性重合体が約5〜50
重量%の量で存在する前項19に記載の硬化性物質。 49) 前記シアネート混合物が約95〜50重量%の
量で存在し、対応して前記熱可塑性重合体が約5〜50
重量%の量で存在する前項20に記載の硬化性物質。 50) 前記シアネート混合物が約70〜90重量%の
量で存在し、対応して前記熱可塑性重合体が約10〜3
0重量%の量で存在する前項18に記載の硬化性物質。
【0110】51) 前記シアネート混合物が約70〜
90重量%の量で存在し、対応して前記熱可塑性重合体
が約10〜30重量%の量で存在する前項19に記載の
硬化性物質。 52) 前記シアネート混合物が約70〜90重量%の
量で存在し、対応して前記熱可塑性重合体が約10〜3
0重量%の量で存在する前項20に記載の硬化性物質。 53) 前記シアネート混合物が約85重量%の量で存
在し、対応して前記熱可塑性重合体が約15重量%の量
で存在する前項18に記載の硬化性物質。 54) 前記シアネート混合物が約85重量%の量で存
在し、対応して前記熱可塑性重合体が約15重量%の量
で存在する前項19に記載の硬化性物質。 55) 前記シアネート混合物が約85重量%の量で存
在し、対応して前記熱可塑性重合体が約15重量%の量
で存在する前項20に記載の硬化性物質。
【0111】56) エポキシ、ビスマレイミド、ベン
ゾシクロブテン、ビスナジミドおよびジアセチレン樹脂
よりなる群から選ばれる熱硬化性モノマーまたはプレポ
リマーを含有する前項10に記載の硬化性物質。 57) エポキシ、ビスマレイミド、ベンゾシクロブテ
ン、ビスナジミドおよびジアセチレン樹脂よりなる群か
ら選ばれる熱硬化性モノマーまたはプレポリマーを含有
する前項15に記載の硬化性物質。 58) エポキシ、ビスマレイミド、ベンゾシクロブテ
ン、ビスナジミドおよびジアセチレン樹脂よりなる群か
ら選ばれる熱硬化性モノマーまたはプレポリマーを含有
する前項16に記載の硬化性物質。 59) 前項10に記載の前記硬化性物質を含浸された
強化材からなり約200℃〜325℃の温度範囲内で熱
硬化できるプリプレグ。 60) 前項15に記載の前記硬化性物質を含浸された
強化材からなり約200℃〜325℃の温度範囲内で熱
硬化できるプリプレグ。
【0112】61) 前項16に記載の前記硬化性物質
を含浸された強化材からなり約200℃〜325℃の温
度範囲内で熱硬化できるプリプレグ。 62) 前項58に記載の前記硬化性物質を含浸された
強化材からなり約200℃〜325℃の温度範囲内で熱
硬化できるプリプレグ。 63) 前記強化材がガラス織物である前項59に記載
のプリプレグ。 64) 前記ガラス織物がE−ガラス製である前項63
に記載のプリプレグ。 65) 前記ガラス織物がK−ガラス製である前項63
に記載のプリプレグ。 66) 前記ガラス織物がS−ガラス製である前項63
に記載のプリプレグ。 67) 前記ガラス織物がD−ガラス製である前項63
に記載のプリプレグ。 68) 前記強化材が不織アラミド繊維マットである前
項59に記載のプリプレグ。 69) 前記強化材が発泡ポリテトラフルオロエチレン
のマットである前項59に記載のプリプレグ。
【0113】70) 前記強化材が織製または一方向炭
素繊維である前項59に記載のプリプレグ。 71) 前記強化材がガラス織物である前項60に記載
のプリプレグ。 72) 前記ガラス織物がE−ガラス製である前項71
に記載のプリプレグ。 73) 前記ガラス織物がK−ガラス製である前項71
に記載のプリプレグ。 74) 前記ガラス織物がS−ガラス製である前項71
に記載のプリプレグ。 75) 前記ガラス織物がD−ガラス製である前項71
に記載のプリプレグ。 76) 前記強化材が不織アラミド繊維マットである前
項60に記載のプリプレグ。 77) 前記強化材が発泡ポリテトラフルオロエチレン
のマットである前項60に記載のプリプレグ。
【0114】78) 前記強化材が織製または一方向炭
素繊維である前項60に記載のプリプレグ。 79) 前記強化材がガラス織物である前項61に記載
のプリプレグ。 80) 前記ガラス織物がE−ガラス製である前項79
に記載のプリプレグ。 81) 前記ガラス織物がK−ガラス製である前項79
に記載のプリプレグ。 82) 前記ガラス織物がS−ガラス製である前項79
に記載のプリプレグ。 83) 前記ガラス織物がD−ガラス製である前項79
に記載のプリプレグ。 84) 前記強化材が不織アラミド繊維マットである前
項61に記載のプリプレグ。 85) 前記強化材が発泡ポリテトラフルオロエチレン
のマットである前項61に記載のプリプレグ。
【0115】86) 前記強化材が織製または一方向炭
素繊維である前項61に記載のプリプレグ。 87) 前記強化材がガラス織物である前項62に記載
のプリプレグ。 88) 前記ガラス織物がE−ガラス製である前項87
に記載のプリプレグ。 89) 前記ガラス織物がK−ガラス製である前項87
に記載のプリプレグ。 90) 前記ガラス織物がS−ガラス製である前項87
に記載のプリプレグ。 91) 前記ガラス織物がD−ガラス製である前項87
に記載のプリプレグ。 92) 前記強化材が不織アラミド繊維マットである前
項62に記載のプリプレグ。 93) 前記強化材が発泡ポリテトラフルオロエチレン
のマットである前項62に記載のプリプレグ。 94) 前記強化材が織製または一方向炭素繊維である
前項62に記載のプリプレグ。
【0116】95) 前項59に記載のプリプレグを含
む複数の接着層からなる硬化積層板。 96) 前項60に記載のプリプレグを含む複数の接着
層からなる硬化積層板。 97) 前項61に記載のプリプレグを含む複数の接着
層からなる硬化積層板。 98) 前項62に記載のプリプレグを含む複数の接着
層からなる硬化積層板。 99) 前項63に記載のプリプレグを含み、前記プリ
プレグが約3.1〜3.4の誘電率および約12〜20の
熱膨張率を有する、複数の接着層からなる硬化積層板。 100) 前項68に記載のプリプレグを含み、該プリ
プレグが約3.1〜3.4の誘電率および約4〜10の熱
膨張率を有する、複数の接着層からなる硬化積層板。
【0117】101) 前項69に記載のプリプレグを
含み、該プリプレグが約2.3〜2.5の誘電率を有す
る、複数の接着層からなる硬化積層板。 102) 前項70に記載のプリプレグを含む複数の接
着層からなる硬化積層板。 103) 前項71に記載のプリプレグを含む複数の接
着層からなる硬化積層板。 104) 前項76に記載のプリプレグを含む複数の接
着層からなる硬化積層板。 105) 前項77に記載のプリプレグを含む複数の接
着層からなる硬化積層板。 106) 前項79に記載のプリプレグを含む複数の接
着層からなる硬化積層板。 107) 前項84に記載のプリプレグを含む複数の接
着層からなる硬化積層板。 108) 前項85に記載のプリプレグを含む複数の接
着層からなる硬化積層板。 109) 前項87に記載のプリプレグを含む複数の接
着層からなる硬化積層板。
【0118】110) 前項92に記載のプリプレグを
含む複数の接着層からなる硬化積層板。 111) 前項93に記載のプリプレグを含む複数の接
着層からなる硬化積層板。 112) 導電性粒子を有する混合物中に前項10に記
載の硬化性物質を含む導電性複合材料を形成することが
可能な混合物。 113) 前記導電性粒子が金属である前項112に記
載の混合物。 114) 前記金属が銅、ニッケル、銀、金、白金、パ
ラジウム、鉄、亜鉛、タングステン、モリブデンおよび
それらの合金および混合物よりなる群から選ばれる前項
113に記載の混合物。 115) 前記導電性粒子が炭素である前項112に記
載の混合物。 116) 導電性粒子を有する混合物中に前項15に記
載の硬化性物質を含む導電性複合材料を形成することが
可能な混合物。
【0119】117) 前記導電性粒子が金属である前
項116に記載の混合物。 118) 前記金属が銅、ニッケル、銀、金、白金、パ
ラジウム、鉄、亜鉛、タングステン、モリブデンおよび
それらの合金および混合物よりなる群から選ばれる前項
117に記載の混合物。 119) 前記導電性粒子が炭素である前項116に記
載の混合物。 120) 導電性粒子を有する混合物中に前項16に記
載の硬化性物質を含む導電性複合材料を形成することが
可能な混合物。 121) 前記導電性粒子が金属である前項120に記
載の混合物。 122) 前記金属が銅、ニッケル、銀、金、白金、パ
ラジウム、鉄、亜鉛、タングステン、モリブデンおよび
それらの合金および混合物よりなる群から選ばれる前項
121に記載の混合物。
【0120】123) 前記導電性粒子が炭素である前
項120に記載の混合物。 124) 導電性粒子を有する混合物中に前項59に記
載の前記プリプレグを含む導電性複合材料を形成するこ
とが可能な混合物。 125) 前記導電性粒子が金属である前項124に記
載の混合物。 126) 前記金属が銅、ニッケル、銀、金、白金、パ
ラジウム、鉄、亜鉛、タングステン、モリブデンおよび
それらの合金および混合物よりなる群から選ばれる前項
125に記載の混合物。 127) 導電性粒子を有する混合物中に前項63に記
載の前記プリプレグを含む導電性複合材料を形成するこ
とが可能な混合物。 128) 前記導電性粒子が金属である前項127に記
載の混合物。 129) 前記金属が銅、ニッケル、銀、金、白金、パ
ラジウム、鉄、亜鉛、タングステン、モリブデンおよび
それらの合金および混合物よりなる群から選ばれる前項
128に記載の混合物。
【0121】130) 導電性粒子を有する混合物中に
前項70に記載の前記プリプレグを含む導電性複合材料
を形成することが可能な混合物。 131) 前記導電性粒子が金属である前項130に記
載の混合物。 132) 前記金属が銅、ニッケル、銀、金、白金、パ
ラジウム、鉄、亜鉛、タングステン、モリブデンおよび
それらの合金および混合物よりなる群から選ばれる前項
131に記載の混合物。 133) 熱伝導性粒子を有する混合物中に前項10に
記載の硬化性物質を含む熱伝導性複合材料を形成するこ
とが可能な混合物。 134) 前記熱伝導性粒子が酸化アルミニウム、窒化
アルミニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、ダイヤモンドお
よびシリカよりなる群から選ばれる前項133に記載の
混合物。
【0122】135) 熱伝導性粒子を有する混合物中
に前項15に記載の硬化性物質を含む熱伝導性複合材料
を形成することが可能な混合物。 136) 前記熱伝導性粒子が酸化アルミニウム、窒化
アルミニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、ダイヤモンドお
よびシリカよりなる群から選ばれる前項135に記載の
混合物。 137) 熱伝導性粒子を有する混合物中に前項16に
記載の硬化性物質を含む熱伝導性複合材料を形成するこ
とが可能な混合物。 138) 前記熱伝導性粒子が酸化アルミニウム、窒化
アルミニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、ダイヤモンドお
よびシリカよりなる群から選ばれる前項135に記載の
混合物。 139) 熱伝導性粒子を有する混合物中に前項59に
記載のプリプレグを含む熱伝導性複合材料を形成するこ
とが可能な混合物。
【0123】140) 前記熱伝導性粒子が酸化アルミ
ニウム、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、ダ
イヤモンドおよびシリカよりなる群から選ばれる前項1
39に記載の混合物。 141) 熱伝導性粒子を有する混合物中に前項63に
記載のプリプレグを含む熱伝導性複合材料を形成する混
合物。 142) 前記熱伝導性粒子が酸化アルミニウム、窒化
アルミニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、ダイヤモンドお
よびシリカよりなる群から選ばれる前項141に記載の
混合物。 143) 熱伝導性粒子を有する混合物中に前項70に
記載のプリプレグを含む熱伝導性複合材料を形成する混
合物。 144) 前記熱伝導性粒子が酸化アルミニウム、窒化
アルミニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、ダイヤモンドお
よびシリカよりなる群から選ばれる前項143に記載の
混合物。
【0124】145) 約25〜約65体積%の中空ガ
ラス球またはシリカ球を有し、各前記の球が約5μ〜2
5μの範囲内の直径を有する、混合物中に前項10に記
載の硬化性物質を含む混合物。 146) 約25〜約65体積%の中空ガラス球を有
し、各前記の球が約5μ〜25μの範囲内の直径を有す
る、混合物中に前項15に記載の硬化性物質を含む混合
物。 147) 約25〜約65体積%の中空ガラス球または
シリカ球を有し、各前記の球が約5μ〜25μの範囲内
の直径を有する、混合物中に前項16に記載の硬化性物
質を含む混合物。 148) 約25〜約65体積%の中空ガラス球または
シリカ球を有し、各前記の球が約5μ〜25μの範囲内
の直径を有する、混合物中に前項50に記載の硬化性物
質を含む混合物。 149) 約25〜約65体積%の中空ガラス球または
シリカ球を有し、各前記の球が約5μ〜25μの範囲内
の直径を有する、混合物中に前項59に記載のプリプレ
グを含む混合物。 150) 約25〜約65体積%の中空ガラス球または
シリカ球を有し、各前記の球が約5μ〜25μの範囲内
の直径を有する、混合物中に前項63に記載のプリプレ
グを含む混合物。
【0125】151) 約25〜約65体積%の中空ガ
ラス球またはシリカ球を有し、各前記の球が約5μ〜2
5μの範囲内の直径を有する、混合物中に前項68に記
載のプリプレグを含む混合物。 152) 約25〜約65体積%の中空ガラス球または
シリカ球を有し、各前記の球が約5μ〜25μの範囲内
の直径を有する、混合物中に前項69に記載のプリプレ
グを含む混合物。 153) 約20〜70重量%のシリカ粒子を有する混
合物中に前項10に記載の硬化性物質を含む混合物。 154) 約20〜70重量%のシリカ粒子を有する混
合物中に前項15に記載の硬化性物質を含む混合物。 155) 約20〜70重量%のシリカ粒子を有する混
合物中に前項16に記載の硬化性物質を含む混合物。
【0126】156) 約20〜70重量%のシリカ粒
子を有する混合物中に前項58に記載の硬化性物質を含
む混合物。 157) 約20〜70重量%のシリカを有する混合物
中に前項59に記載のプリプレグを含む混合物。 158) 約20〜70重量%のシリカを有する混合物
中に前項63に記載のプリプレグを含む混合物。 159) 約20〜70重量%のシリカを有する混合物
中に前項68に記載のプリプレグを含む混合物。 160) 約20〜70重量%のシリカを有する混合物
中に前項69に記載のプリプレグを含む混合物。
【0127】161) 約20〜70重量%のシリカを
有する混合物中に前項70に記載のプリプレグを含む混
合物。 162) 触媒として有機金属化合物を含有する前項1
0に記載の硬化性物質。 163) 前記有機金属化合物触媒がマンガン、コバル
ト、銅または亜鉛のキレートよりなる群から選ばれる前
項162に記載の硬化性物質。 164) 前記有機金属化合物触媒が、樹脂100部に
ついてただ金属だけの重量部として、50〜300ppm
の濃度で存在するオクタン酸マンガンである前項163
に記載の硬化性物質。 165) 前記有機金属化合物触媒が約50〜250pp
mの濃度で存在する銅アセチルアセトナトである前項1
2に記載の硬化性物質。 166) 前記有機金属化合物触媒が約50〜250pp
mの濃度で存在するコバルトアセチルアセトナトである
前項12に記載の硬化性物質。
【0128】167) 前記有機金属化合物触媒が約5
0〜300ppmの濃度で存在するナフテン酸銅である前
項12に記載の硬化性物質。 168) 前記有機金属化合物触媒が約50〜300pp
mの濃度で存在するナフテン酸コバルトである前項12
に記載の硬化性物質。 169) 前記触媒がメチルエチルケトンおよび未硬化
状態の前記シアネートに溶解できる前項164に記載の
硬化性物質。 170) 前記触媒がメチルエチルケトンおよび未硬化
状態の前記シアネートに溶解できる前項165に記載の
硬化性物質。 171) 前記触媒がメチルエチルケトンおよび未硬化
状態の前記シアネートに溶解できる前項166に記載の
硬化性物質。 172) 前記触媒がメチルエチルケトンおよび未硬化
状態の前記シアネートに溶解できる前項167に記載の
硬化性物質。 173) 前記触媒がメチルエチルケトンおよび未硬化
状態の前記シアネートに溶解できる前項168に記載の
硬化性物質。
【0129】174) 活性水素を含有する触媒を含有
する前項162に記載の硬化性物質。 175) 前記触媒が約1〜6phrの範囲で存在するビ
スフェノールAを含む前項174に記載の硬化性物質。 176) 前記ノニルフェノールが約1〜6phrの範囲
で存在するビスフェノールAを含む前項174に記載の
硬化性物質。 177) 前記2,2′−ビス(4−ヒドロキシフェニ
ル)ヘキサフルオロプロパンが約1〜4phrの範囲で存
在するビスフェノールAを含む前項174に記載の硬化
性物質。 178) 前記触媒がメチルエチルケトンおよび未硬化
状態のシアネートに溶解しうる前項175に記載の硬化
性物質。 179) 前記触媒がメチルエチルケトンおよび未硬化
状態のシアネートに溶解しうる前項176に記載の硬化
性物質。
【0130】180) 前記触媒がメチルエチルケトン
および未硬化状態のシアネートに溶解しうる前項177
に記載の硬化性物質。 181) 前項95に記載の少なくとも1枚の積層板と
電気回路化に適する複合材料構造を形成するためにそこ
に結合された少なくとも1層の伝導性金属の積層板から
なる回路板。 182) 前項96に記載の少なくとも1枚の積層板と
電気回路化に適する複合材料構造を形成するためにそこ
に結合された少なくとも1層の伝導性金属の積層板から
なる回路板。 183) 前項97に記載の少なくとも1枚の積層板と
電気回路化に適する複合材料構造を形成するためにそこ
に結合された少なくとも1層の伝導性金属の積層板から
なる回路板。 184) 前項98に記載の少なくとも1枚の積層板と
電気回路化に適する複合材料構造を形成するためにそこ
に結合された少なくとも1層の伝導性金属の積層板から
なる回路板。
【0131】185) 前項99に記載の少なくとも1
枚の積層板と電気回路化に適する複合材料構造を形成す
るためにそこに結合された少なくとも1層の伝導性金属
の積層板からなる回路板。 186) 前項100に記載の少なくとも1枚の積層板
と電気回路化に適する複合材料構造を形成するためにそ
こに結合された少なくとも1層の伝導性金属の積層板か
らなる回路板。 187) 前項101に記載の少なくとも1枚の積層板
と電気回路化に適する複合材料構造を形成するためにそ
こに結合された少なくとも1層の伝導性金属の積層板か
らなる回路板。 188) 前項102に記載の少なくとも1枚の積層板
と電気回路化に適する複合材料構造を形成するためにそ
こに結合された少なくとも1層の伝導性金属の積層板か
らなる回路板。 189) 前項103に記載の少なくとも1枚の積層板
と電気回路化に適する複合材料構造を形成するためにそ
こに結合された少なくとも1層の伝導性金属の積層板か
らなる回路板。
【0132】190) 前項104に記載の少なくとも
1枚の積層板と電気回路化に適する複合材料構造を形成
するためにそこに結合された少なくとも1層の伝導性金
属の積層板からなる回路板。 191) 前項105に記載少なくとも1枚の積層板と
電気回路化に適する複合材料構造を形成するためにそこ
に結合された少なくとも1層の伝導性金属の積層板から
なる回路板。 192) 前項106に記載の少なくとも1枚の積層板
と電気回路化に適する複合材料構造を形成するためにそ
こに結合された少なくとも1層の伝導性金属の積層板か
らなる回路板。 193) 前項107に記載の少なくとも1枚の積層板
と電気回路化に適する複合材料構造を形成するためにそ
こに結合された少なくとも1層の伝導性金属の積層板か
らなる回路板。 194) 前項108に記載の少なくとも1枚の積層板
と電気回路化に適する複合材料構造を形成するためにそ
こに結合された少なくとも1層の伝導性金属の積層板か
らなる回路板。 195) 前項109に記載の少なくとも1枚の積層板
と電気回路化に適する複合材料構造を形成するためにそ
こに結合された少なくとも1層の伝導性金属の積層板か
らなる回路板。
【0133】196) 前項110に記載の少なくとも
1枚の積層板と電気回路化に適する複合材料構造を形成
するためにそこに結合された少なくとも1層の伝導性金
属の積層板からなる回路板。 197) 前項111に記載の少なくとも1枚の積層板
と電気回路化に適する複合材料構造を形成するためにそ
こに結合された少なくとも1層の伝導性金属の積層板か
らなる回路板。 198) 複数の層からなり、その少なくとも1層が前
項10に記載の硬化状態の物質で形成され、その少なく
とも1層が熱可塑性または熱硬化性樹脂で形成される複
数の層からなる物品。 199) 前記の層の少なくとも1層が前項15に記載
の硬化状態の物質で形成され、前記の層の少なくとも1
層が熱可塑性または熱硬化性樹脂で形成される複数の層
からなる物品。
【0134】200) 前記の層の少なくとも1層が前
項16に記載の硬化状態の物質で形成され、前記の層の
少なくとも1層が熱可塑性または熱硬化性樹脂で形成さ
れる複数の層からなる物品。 201) 前記の層の少なくとも1層が前項58に記載
の硬化状態の物質で形成され、前記の層の少なくとも1
層が熱可塑性または熱硬化性樹脂で形成される複数の層
からなる物品。 202) 前記の層の1層またはそれ以上がその中に埋
込まれた導電性金属パターンを含有する前項198に記
載の物品。 203) 前記の層の1層またはそれ以上がその中に埋
込まれた導電性金属パターンを含有する前項199に記
載の物品。 204) 前記の層の1層またはそれ以上がその中に埋
込まれた導電性金属パターンを含有する前項200に記
載の物品。 205) 前記の層の1層またはそれ以上がその中に埋
込まれた導電性金属パターンを含有する前項201に記
載の物品。
【0135】206) ポリイミド、感光性ポリイミ
ド、エポキシ、ベンゾシクロブテンおよび感光性シアネ
ート樹脂から生成されるポリシアヌレートよりなる群か
ら選ばれる同一または異なってもよい複数の熱可塑性ま
たは熱硬化性の層からなる前項198に記載の物品。 207) ポリイミド、感光性ポリイミド、エポキシ、
ベンゾシクロブテンおよび感光性シアネート樹脂から生
成されるポリシアヌレートよりなる群から選ばれる同一
または異なってもよい複数の熱可塑性または熱硬化性の
層からなる前項199に記載の物品。 208) ポリイミド、感光性ポリイミド、エポキシ、
ベンゾシクロブテンおよび感光性シアネート樹脂から生
成されるポリシアヌレートよりなる群から選ばれる同一
または異なってもよい複数の熱可塑性または熱硬化性の
層からなる前項200に記載の物品。 209) ポリイミド、感光性ポリイミド、エポキシ、
ベンゾシクロブテンおよび感光性シアネート樹脂から生
成されるポリシアヌレートよりなる群から選ばれる同一
または異なってもよい複数の熱可塑性または熱硬化性の
層からなる前項201に記載の物品。
【0136】210) 熱硬化性材料を硬化後平面化さ
れた表面を有する誘電層を提供するために、前項10に
記載の熱硬化性材料が溶媒溶液または溶融溶液から導電
性電気回路層上に塗布され、物品が前記の熱硬化性材料
中にひとそろいまたは複数の交番配線回路網を有するこ
とを特徴とする、重合体、セラミックまたは多層基体上
の導電性電気回路層からできている多層物品。 211) 熱硬化性材料を硬化後平面化された表面を有
する誘電層を提供するために、前項15に記載の熱硬化
性材料が溶媒溶液または溶融溶液から導電性電気回路層
上に塗布され、物品が前記の熱硬化性材料中にひとそろ
いまたは複数の交番配線回路網を有することを特徴とす
る、重合体、セラミックまたは多層基体上の導電性電気
回路層からできている多層物品。 212) 熱硬化性材料を硬化後平面化された表面を有
する誘電層を提供するために、前項16に記載の熱硬化
性材料が溶媒溶液または溶融溶液から導電性電気回路層
上に塗布され、物品が前記の熱硬化性材料中にひとそろ
いまたは複数の交番配線回路網を有することを特徴とす
る、重合体、セラミックまたは多層基体上の導電性電気
回路層からできている多層物品。 213) 熱硬化性材料を硬化後平面化された表面を有
する誘電層を提供するために、前項58に記載の熱硬化
性材料が溶媒溶液または溶融溶液から導電性電気回路層
上に塗布され、物品が前記の熱硬化性材料中にひとそろ
いまたは複数の交番配線回路網を有することを特徴とす
る、重合体、セラミックまたは多層基体上の導電性電気
回路層からできている多層物品。
【0137】214) 前記熱硬化性材料を硬化後に均
一な誘電層を提供するために、前項10に記載の前記硬
化性物質が溶媒溶液または溶融物から前記基体上に塗布
される多層物品を作製する方法。 215) 前記熱硬化性材料を硬化後に均一な誘電層を
提供するために、前項15に記載の前記硬化性物質が溶
媒溶液または溶融物から前記基体上に塗布される多層物
品を作製する方法。 216) 前記熱硬化性材料を硬化後に均一な誘電層を
提供するために、前項16に記載の前記硬化性物質が溶
媒溶液または溶融物から前記基体上に塗布される多層物
品を作製する方法。 217) 前記熱硬化性材料を硬化後に均一な誘電層を
提供するために、前項58に記載の前記硬化性物質が溶
媒溶液または溶融物から前記基体上に塗布される多層物
品を作製する方法。 218) 前記熱硬化性材料が、前記熱硬化性材料を硬
化後平面化された表面を有する誘電層を提供する前項2
14に記載の方法。 219) 前記熱硬化性材料が、前記熱硬化性材料を硬
化後平面化された表面を有する誘電層を提供する前項2
15に記載の方法。 220) 前記熱硬化性材料が、前記熱硬化性材料を硬
化後平面化された表面を有する誘電層を提供する前項2
16に記載の方法。
【0138】221) 前記熱硬化性材料が、前記熱硬
化性材料を硬化後平面化された表面を有する誘電層を提
供する前項217に記載の方法。 222) 溶媒溶液または溶融物から前項10に記載の
前記硬化性物質が基体に、前記熱硬化性材料を硬化後均
一な誘電層を与えることからなる多層物品を作製する方
法。 223) 前記熱硬化性材料が、前記熱硬化性材料を硬
化後平面化された表面を有する誘電層を与える前項22
2に記載の方法。 224) 溶媒溶液または溶融物から前項15に記載の
前記硬化性物質が基体に、前記熱硬化性材料を硬化後均
一な誘電層を与えることからなる多層物品を作製する方
法。 225) 前記熱硬化性材料が、前記熱硬化性材料を硬
化後平面化された表面を有する誘電層を与える前項22
4に記載の方法。 226) 溶媒溶液または溶融物から前項16に記載の
前記硬化性物質が基体に、前記熱硬化性材料を硬化後均
一な誘電層を与えることからなる多層物品を作製する方
法。
【0139】227) 前記熱硬化性材料が、前記熱硬
化性材料を硬化後平面化された表面を有する誘電層を与
える前項226に記載の方法。 228) 溶媒溶液または溶融物から前項58に記載の
前記硬化性物質が基体に、前記熱硬化性材料を硬化後均
一な誘電層を与えることからなる多層物品を作製する方
法。 229) 前記熱硬化性材料が、前記熱硬化性材料を硬
化後平面化された表面を有する誘電層を与える前項22
8に記載の方法。
【図面の簡単な説明】
【図1】連続積層工程の略図。
【図2】本発明の組成物の動力学的挙動のグラフ。
【図3】本発明の混合物の破壊靭性におよぼす熱可塑性
改質剤濃度の効果を示すグラフ。
【図4】本発明の混合物の破壊靭性におよぼすシアネー
ト混合組成物の効果を示すグラフ。
【図5】シアネート混合物中のシアネートの1種類を変
えることの熱可塑性樹脂のTgにおよぼす効果を示すグ
ラフ。
【図6】本発明の改質ポリシアヌレートの破壊靭性にお
よぼすシアネート混合物の効果を示すグラフ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 // C08G 65/40 NQW 9167−4J 75/20 NTV 7308−4J 79/04 NUP 7308−4J (72)発明者 ジエフリー・テイー・ゴトロー アメリカ合衆国ニユーヨーク州13760.エ ンドウエル.フオツクスボーロレイン1300 (72)発明者 ジエフリー・シー・ヘドリツク アメリカ合衆国ニユーヨーク州10566.ピ ークスキル.ビラドライブ75 (72)発明者 コンスタンテイノス・パパトマス アメリカ合衆国ニユーヨーク州13760.エ ンデイコツト.コベントリーロード75 (72)発明者 ニランジヤン・エム・パテル アメリカ合衆国ニユーヨーク州12590.ウ オツピンガーズフオールズ.スカーバラレ イン25ビー (72)発明者 ジエイン・エム・シヨー アメリカ合衆国コネチカツト州06877.リ ツジフイールド.ウイルトンロードウエス ト336 (72)発明者 アルフレツド・ビーベツク アメリカ合衆国ニユーヨーク州12524.フ イツシユキル.マウラーブルツクドライブ 31

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フッ素含有シアネートおよびフッ素含有
    熱可塑性重合体からなる硬化性物質であって、前記物質
    は温度180〜325℃で熱硬化可能であり、硬化され
    た状態の前記物質は、その中に分散された前記フッ素含
    有熱可塑性重合体の複数の離散相を有するフッ素含有ポ
    リシアヌレート網目構造を含み、前記熱可塑性重合体相
    はミクロン以下の大きさである、上記硬化性物質。
  2. 【請求項2】 前記シアネートが次の構造式: N≡C−O−R−〔R′〕n−O−C≡N (式中、Rはフッ素置換されているかまたはされていな
    い脂肪族または芳香族基であり、 R′はフッ素置換されているかまたはされていない脂肪
    族または芳香族基であり、またはR′はエーテル、カル
    ボニル、スルホニル、ホスフィド、スルフィドまたは無
    しである群から選ばれ、RまたはR′の少なくとも1個
    はフッ素置換されていなければならず、そしてnは0〜
    10である)を有する請求項1に記載の硬化性物質。
  3. 【請求項3】 前記フッ素含有熱可塑性重合体が次の構
    造式: X−R−〔R′〕n−X (式中、Xは−CN基と反応することが可能な任意の基
    であり、 Rは、フッ素置換されているかまたはされていない脂肪
    族または芳香族基であり、 R′は、フッ素置換されているかまたはされていない脂
    肪族または芳香族基であり、またはR′はエーテル、カ
    ルボニル、スルホニル、ホスフィド、スルフィドまたは
    無しである群から選ばれ、そしてRまたはR′の少なく
    とも1個はフッ素置換されていなければならず、そして
    nは0〜100である)を有する請求項1に記載の硬化
    性物質。
  4. 【請求項4】 前記未硬化物質の硬化を促進する触媒を
    含有する請求項1に記載の硬化性物質。
  5. 【請求項5】 請求項1に記載の前記硬化性物質を含浸
    された強化材からなり約200℃〜325℃の温度範囲
    内で熱硬化できるプリプレグ。
  6. 【請求項6】 請求項5に記載のプリプレグを含む複数
    の接着層からなる硬化積層板。
  7. 【請求項7】 導電性粒子を有する混合物中に請求項1
    に記載の硬化性物質を含む導電性複合材料を形成するこ
    とが可能な混合物。
  8. 【請求項8】 熱伝導性粒子を有する混合物中に請求項
    5に記載のプリプレグを含む熱伝導性複合材料を形成す
    ることが可能な混合物。
  9. 【請求項9】 請求項6に記載の少なくとも1枚の積層
    板と電気回路化に適する複合材料構造を形成するために
    そこに結合させた少なくとも1層の伝導性金属の積層板
    からなる回路板。
  10. 【請求項10】 複数の層からなりその少なくとも1層
    が請求項1に記載の硬化状態の物質で形成され、その少
    なくとも1層が熱可塑性または熱硬化性樹脂で形成され
    る複数の層からなる物品。
  11. 【請求項11】 ポリイミド、感光性ポリイミド、エポ
    キシ、ベンゾシクロブテンおよび感光性シアネート樹脂
    から生成されるポリシアヌレートよりなる群から選ばれ
    る同一または異なってもよい複数の熱可塑性または熱硬
    化性の層からなる請求項10に記載の物品。
  12. 【請求項12】 熱硬化性材料を硬化後平面化された表
    面を有する誘電層を提供するために、請求項1に記載の
    熱硬化性材料が溶媒溶液または溶融溶液から導電性電気
    回路層上に塗布され、物品が前記の熱硬化性材料中にひ
    とそろいまたは複数の交番配線回路網を有することを特
    徴とする、重合体、セラミックまたは多層基体上の導電
    性電気回路層からできている多層物品。
  13. 【請求項13】 前記熱硬化性材料を硬化後に均一な誘
    電層を提供するために、請求項1に記載の前記硬化性物
    質が溶媒溶液または溶融物から前記基体上に塗布される
    多層物品を作製する方法。
JP13321593A 1992-07-31 1993-06-03 破壊靭性の高い改質ジシアネ―トエステル樹脂 Expired - Fee Related JP2501286B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US923723 1992-07-31
US07/923,723 US5548034A (en) 1992-07-31 1992-07-31 Modified dicyanate ester resins having enhanced fracture toughness

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH06107958A true JPH06107958A (ja) 1994-04-19
JP2501286B2 JP2501286B2 (ja) 1996-05-29

Family

ID=25449167

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13321593A Expired - Fee Related JP2501286B2 (ja) 1992-07-31 1993-06-03 破壊靭性の高い改質ジシアネ―トエステル樹脂

Country Status (4)

Country Link
US (7) US5548034A (ja)
EP (1) EP0581314B1 (ja)
JP (1) JP2501286B2 (ja)
DE (1) DE69313954T2 (ja)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004256822A (ja) * 2001-08-31 2004-09-16 Sumitomo Bakelite Co Ltd 樹脂組成物、プリプレグ、積層板および半導体パッケージ
US7135705B2 (en) 1995-06-06 2006-11-14 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. High aperture LCD with insulating color filters overlapping bus lines on active substrate
WO2007108087A1 (ja) * 2006-03-20 2007-09-27 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. 絶縁樹脂層、キャリア付き絶縁樹脂層および多層プリント配線板
US7368497B2 (en) 2001-08-31 2008-05-06 Sumitomo Bakelite Company, Ltd. Resin composition, prepreg, laminate, and semiconductor package
US7445948B2 (en) 1995-06-06 2008-11-04 Lg. Display Co., Ltd. Method of making a TFT array with photo-imageable insulating layer over address lines
US7682691B2 (en) 2002-02-06 2010-03-23 Sekisui Chemical Co., Ltd. Resin composition of layered silicate
US7754803B2 (en) 2002-02-06 2010-07-13 Sekisui Chemical Co., Ltd. Resin composition
JP2015178627A (ja) * 2015-05-22 2015-10-08 ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー エポキシ樹脂及び分散プロセスのための金属安定剤

Families Citing this family (49)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5827907A (en) * 1993-08-30 1998-10-27 Ibm Corporation Homo-, co- or multicomponent thermoplastic polymer dispersed in a thermoset resin
JP3648750B2 (ja) * 1993-09-14 2005-05-18 株式会社日立製作所 積層板及び多層プリント回路板
US5677045A (en) * 1993-09-14 1997-10-14 Hitachi, Ltd. Laminate and multilayer printed circuit board
US6852814B2 (en) * 1994-09-02 2005-02-08 Henkel Corporation Thermosetting resin compositions containing maleimide and/or vinyl compounds
US5789757A (en) * 1996-09-10 1998-08-04 The Dexter Corporation Malemide containing formulations and uses therefor
US7645899B1 (en) 1994-09-02 2010-01-12 Henkel Corporation Vinyl compounds
US6960636B2 (en) 1994-09-02 2005-11-01 Henkel Corporation Thermosetting resin compositions containing maleimide and/or vinyl compounds
DE4435992C2 (de) * 1994-10-08 1997-06-12 Fraunhofer Ges Forschung Optische Elemente aus Kunststoff
KR100294715B1 (ko) * 1995-09-14 2001-09-17 포만 제프리 엘 경화된 감광성 폴리시아누레이트 레지스트,그로부터 제조된 구조체 및 그의 제조방법
US20030055121A1 (en) * 1996-09-10 2003-03-20 Dershem Stephen M. Thermosetting resin compositions containing maleimide and/or vinyl compounds
US5847327A (en) * 1996-11-08 1998-12-08 W.L. Gore & Associates, Inc. Dimensionally stable core for use in high density chip packages
US5886134A (en) * 1997-10-06 1999-03-23 National Science Council Of Republic Of China Bismaleimide-triazine resin and production method thereof
US5945470A (en) * 1997-10-15 1999-08-31 Ali; Mir Akbar Ceramic-polymer composite material and its use in microelectronics packaging
JP3149837B2 (ja) * 1997-12-08 2001-03-26 松下電器産業株式会社 回路形成基板の製造方法とその製造装置および回路形成基板用材料
JP3652488B2 (ja) * 1997-12-18 2005-05-25 Tdk株式会社 樹脂パッケージの製造方法
US6174800B1 (en) 1998-09-08 2001-01-16 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Via formation in a poly(arylene ether) inter metal dielectric layer
US6339120B1 (en) 2000-04-05 2002-01-15 The Bergquist Company Method of preparing thermally conductive compounds by liquid metal bridged particle clusters
US6649325B1 (en) 2001-05-25 2003-11-18 The Bergquist Company Thermally conductive dielectric mounts for printed circuitry and semi-conductor devices and method of preparation
US6869664B2 (en) * 2000-12-12 2005-03-22 Thermalworks, Inc. Lightweight circuit board with conductive constraining cores
US6674172B2 (en) 2001-05-08 2004-01-06 International Business Machines Corporation Flip-chip package with underfill having low density filler
US20050028925A1 (en) * 2002-09-04 2005-02-10 Fernandes Karim B. Method for making a prepreg
US6737158B1 (en) * 2002-10-30 2004-05-18 Gore Enterprise Holdings, Inc. Porous polymeric membrane toughened composites
AU2003208142B2 (en) * 2002-12-24 2005-04-07 Robert Bosch Gmbh Polymer compositions
AU2002953570A0 (en) * 2002-12-24 2003-01-16 Robert Bosch Gmbh Polymer compositions
EP1754398A4 (en) * 2004-05-15 2010-03-24 Stablcor Inc LADDER PLATE WITH GUIDING SUPPORTING KERN WITH RESIN-FILLED CHANNELS
US20060104035A1 (en) * 2004-08-24 2006-05-18 Vasoya Kalu K Edge plated printed wiring boards
US7301105B2 (en) * 2004-08-27 2007-11-27 Stablcor, Inc. Printed wiring boards possessing regions with different coefficients of thermal expansion
EP1862040A4 (en) * 2005-03-15 2009-11-04 Stablcore Inc METHOD OF MANUFACTURING: INSTALLATION OF SUPPORTING MATERIAL IN PCB CONDUCTORS
US7674876B2 (en) * 2005-05-25 2010-03-09 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Synthesis of novel monomers containing the trifluorovinylidene group and the cyanato group and polymers thereof
USRE45637E1 (en) 2005-08-29 2015-07-28 Stablcor Technology, Inc. Processes for manufacturing printed wiring boards
US20070120270A1 (en) * 2005-11-23 2007-05-31 Kuroda Roger T Flip chip hermetic seal using pre-formed material
WO2007077066A1 (de) * 2005-12-29 2007-07-12 Continental Automotive Gmbh Leiterplattenanordnung
ES2542716T3 (es) * 2006-05-11 2015-08-10 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Resinas a base de cianato, de curado a baja temperatura, resistentes a las llamas con propiedades mejoradas
DE102006022372A1 (de) * 2006-05-12 2007-11-15 Airbus Deutschland Gmbh Flammfeste, niedrigtemperaturhärtende, cyanatbasierte Prepregharze für Honeycomb-Sandwichbauteile mit exzellenten Oberflächen
US8168292B2 (en) * 2006-06-15 2012-05-01 Innegra Technologies, Llc Composite materials including amorphous thermoplastic fibers
US8203080B2 (en) 2006-07-14 2012-06-19 Stablcor Technology, Inc. Build-up printed wiring board substrate having a core layer that is part of a circuit
BRPI0720577B1 (pt) * 2006-12-22 2018-09-04 Mankiewicz Gebr & Co Gmbh & Co Kg filme polimérico para revestimento de superfície de materiais compósitos de fibra/plásticos
US7648758B2 (en) 2007-02-06 2010-01-19 Innegrity, Llc Low dielectric loss composite material
US20080188153A1 (en) * 2007-02-06 2008-08-07 Innegrity, Llc Method of Forming a Low Dielectric Loss Composite Material
US8715843B2 (en) * 2010-02-17 2014-05-06 Doyle Manufacturing, Inc. Vent cap including watering valve, float and fluid flow path that does not impinge float
US8283408B2 (en) * 2010-02-26 2012-10-09 Hexcel Corporation Thermoplastic-toughened cyanate ester resin composites with low heat release properties
US9068040B2 (en) 2010-10-12 2015-06-30 Hexcel Corporation Solvent resistant thermoplastic toughened epoxy
JP6010871B2 (ja) * 2011-05-27 2016-10-19 三菱瓦斯化学株式会社 樹脂組成物、プリプレグ、および積層板
US9879163B2 (en) 2014-06-06 2018-01-30 General Electric Company Composition for bonding windings or core laminates in an electrical machine, and associated method
US9911521B2 (en) 2014-06-06 2018-03-06 General Electric Company Curable composition for electrical machine, and associated method
US9332632B2 (en) 2014-08-20 2016-05-03 Stablcor Technology, Inc. Graphene-based thermal management cores and systems and methods for constructing printed wiring boards
GB201517273D0 (en) * 2015-09-30 2015-11-11 Univ Manchester Resist composition
CN106810862B (zh) * 2015-11-30 2019-08-09 航天特种材料及工艺技术研究所 一种协同增韧的改性氰酸酯树脂及制备方法
US11596066B1 (en) 2022-03-22 2023-02-28 Thintronics. Inc. Materials for printed circuit boards

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4745215A (en) * 1987-04-03 1988-05-17 International Business Machines Corporation Fluorine containing dicyanate resins
JPH03239717A (ja) * 1990-02-16 1991-10-25 Somar Corp 硬化性樹脂成形品

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4902752A (en) * 1987-10-05 1990-02-20 Hi-Tek Polymers, Inc. Polycyanate esters of polyhydric phenols blended with thermoplastic polymers
EP0441047B1 (en) * 1990-01-19 1996-06-05 Minnesota Mining And Manufacturing Company Thermosettable composition
US5126192A (en) * 1990-01-26 1992-06-30 International Business Machines Corporation Flame retardant, low dielectric constant microsphere filled laminate
JPH0799646B2 (ja) * 1991-05-03 1995-10-25 インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション 分子的多孔性エーロゲルで充填された低誘電率複合積層品

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4745215A (en) * 1987-04-03 1988-05-17 International Business Machines Corporation Fluorine containing dicyanate resins
JPS63250359A (ja) * 1987-04-03 1988-10-18 インターナシヨナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーシヨン フツ素含有ジシアネート化合物
JPH03239717A (ja) * 1990-02-16 1991-10-25 Somar Corp 硬化性樹脂成形品

Cited By (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7745830B2 (en) 1995-06-06 2010-06-29 Lg Display Co., Ltd. LCD with increased pixel opening sizes
US7135705B2 (en) 1995-06-06 2006-11-14 Lg.Philips Lcd Co., Ltd. High aperture LCD with insulating color filters overlapping bus lines on active substrate
US8253890B2 (en) 1995-06-06 2012-08-28 Lg Display Co., Ltd. High aperture LCD with insulating color filters overlapping bus lines on active substrate
US8198110B2 (en) 1995-06-06 2012-06-12 Lg Display Co., Ltd. Method of making a TFT array with photo-imageable insulating layer over address lines
US7445948B2 (en) 1995-06-06 2008-11-04 Lg. Display Co., Ltd. Method of making a TFT array with photo-imageable insulating layer over address lines
US7531838B2 (en) 1995-06-06 2009-05-12 Lg Display Co., Ltd. LCD with increased pixel opening sizes
JP4552496B2 (ja) * 2001-08-31 2010-09-29 住友ベークライト株式会社 樹脂組成物、プリプレグ、積層板および半導体パッケージ
JP2004256822A (ja) * 2001-08-31 2004-09-16 Sumitomo Bakelite Co Ltd 樹脂組成物、プリプレグ、積層板および半導体パッケージ
JP2012031428A (ja) * 2001-08-31 2012-02-16 Sumitomo Bakelite Co Ltd 金属箔付きプリプレグ、積層板および半導体パッケージ
US7368497B2 (en) 2001-08-31 2008-05-06 Sumitomo Bakelite Company, Ltd. Resin composition, prepreg, laminate, and semiconductor package
US7682691B2 (en) 2002-02-06 2010-03-23 Sekisui Chemical Co., Ltd. Resin composition of layered silicate
US7754803B2 (en) 2002-02-06 2010-07-13 Sekisui Chemical Co., Ltd. Resin composition
WO2007108087A1 (ja) * 2006-03-20 2007-09-27 Sumitomo Bakelite Co., Ltd. 絶縁樹脂層、キャリア付き絶縁樹脂層および多層プリント配線板
JP2015178627A (ja) * 2015-05-22 2015-10-08 ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー エポキシ樹脂及び分散プロセスのための金属安定剤

Also Published As

Publication number Publication date
US5527838A (en) 1996-06-18
JP2501286B2 (ja) 1996-05-29
US5548034A (en) 1996-08-20
EP0581314A2 (en) 1994-02-02
US5529836A (en) 1996-06-25
DE69313954D1 (de) 1997-10-23
US5523148A (en) 1996-06-04
US5599611A (en) 1997-02-04
EP0581314A3 (en) 1994-09-07
US5527592A (en) 1996-06-18
EP0581314B1 (en) 1997-09-17
DE69313954T2 (de) 1998-03-26
US5527593A (en) 1996-06-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2501286B2 (ja) 破壊靭性の高い改質ジシアネ―トエステル樹脂
CN101341181B (zh) 可固化环氧树脂组合物及由其制造的层压材料
US6225373B1 (en) Homo-, co- or multicomponent thermoplastic polymer dispersed in a thermoset resin
CN113490596A (zh) 树脂组合物、预浸料、覆金属箔层叠板、树脂复合片及印刷电路板
JP5765232B2 (ja) 樹脂組成物、プリプレグ、および金属箔張積層板
EP0449292B1 (en) Multilayer printed circuit board and production thereof
CN107614566B (zh) 树脂组合物、预浸料、树脂片、覆金属箔层叠板和印刷电路板
CN110506066B (zh) 树脂组合物、预浸料、覆金属箔层叠板、树脂片及印刷电路板
CN112004855A (zh) 热固化性组合物、预浸料、层叠板、覆金属箔层叠板、印刷电路板和多层印刷电路板
JP5140977B2 (ja) 樹脂組成物、プリプレグおよび金属箔張積層板
JP3261061B2 (ja) 積層板用樹脂組成物、該組成物を用いたプリプレグ及び積層板
JPH0431464A (ja) 回路用の硬化性樹脂組成物及び金属箔積層樹脂基板
CN112105673A (zh) 具有n-烷基的芳香族胺树脂、硬化性树脂组合物及其硬化物
US5250347A (en) Mechanically enhanced, high impact strength triazine resins, and method of preparing same
TWI671351B (zh) 印刷電路板用樹脂組成物、預浸體、覆金屬箔疊層板、樹脂片及印刷電路板
JP3261062B2 (ja) 印刷配線板用樹脂ワニス及びそれを用いたプリプレグ、金属張り積層板の製造方法
US4873302A (en) Styrene-terminated polyethers of polyphenols
CN117836369A (zh) 固化性组合物、预浸料、覆金属箔层叠板和印刷电路板
CN118251458A (zh) 固化性组合物、预浸料、树脂片、覆金属箔层叠板及印刷电路板
JPH1112463A (ja) 印刷配線板用樹脂組成物、ワニス、プリプレグ及びそれを用いた印刷配線板用積層板
CN117836370A (zh) 固化性组合物、预浸料、树脂片、覆金属箔层叠板和印刷电路板
CN117836359A (zh) 预浸料、覆金属箔层叠板及印刷电路板
JP2002138199A (ja) 積層板用樹脂組成物、該組成物を用いたプリプレグ及び積層板
JP2001105443A (ja) 積層板の製造方法
JP2002206072A (ja) 印刷配線板用樹脂ワニス及びそれを用いたプリプレグ、金属張り積層板の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees