JPH06107592A - 光学活性６−オキソ−３，５−ジヒドロキシヘキサン酸誘導体の製造方法 - Google Patents

光学活性６−オキソ−３，５−ジヒドロキシヘキサン酸誘導体の製造方法

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JPH06107592A
JPH06107592A JP4259939A JP25993992A JPH06107592A JP H06107592 A JPH06107592 A JP H06107592A JP 4259939 A JP4259939 A JP 4259939A JP 25993992 A JP25993992 A JP 25993992A JP H06107592 A JPH06107592 A JP H06107592A
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JP
Japan
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optically active
alkyl
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JP4259939A
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English (en)
Inventor
Tatsuya Minami
達哉 南
Kyoko Takahashi
恭子 高橋
Tamejirou Hiyama
爲次郎 檜山
Yoshio Obara
義夫 小原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nissan Chemical Corp
Sagami Chemical Research Institute
Original Assignee
Nissan Chemical Corp
Sagami Chemical Research Institute
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Publication date
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    • Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
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    • Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups

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  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
  • Heterocyclic Compounds That Contain Two Or More Ring Oxygen Atoms (AREA)

Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【目的】 ＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵素阻害剤となる７−置
換−３，５−ジヒドロキシカルボン酸化合物の合成中間
体として有用な、６−オキソ−３，５−ジヒドロキシヘ
キサン酸誘導体を効率的に合成する製造法を提供する。 【構成】 式Ｉ（Ｒは式IIの定義に同じ。Ｒ１，Ｒ２は
それぞれ水素原子又は水酸基の保護基を表すか、あるい
はＲ１，Ｒ２は共同で環を形成してもよい。）の光学活
性６−オキソ−３，５−ジヒドロキシヘキサン酸誘導体
又はその鏡像体の製造方法。式II（Ｒは水素原子又はＣ
１−Ｃ８アルキル、アラルキル、アリール基又はシリル
基を表す。Ｒ１，Ｒ２は水酸基の保護基を表すか、ある
いはＲ１，Ｒ２は共同で環を形成してもよい。Ｒ３はＣ
１−Ｃ８アルキル、アラルキル、アリール基を表す。）
の光学活性β，δ−ジヒドロキシ酸エステル−１，２−
ジオール誘導体又はその鏡像体を酸化分解して成る。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は光学活性６−オキソ−
３，５−ジヒドロキシヘキサン酸誘導体の製造方法に関
するものである。光学活性６−オキソ−３，５−ジヒド
ロキシヘキサン酸誘導体は、抗コレステロール血症剤と
しての作用が注目されている一連のＨＭＧ−ＣｏＡ還元
酵素阻害剤の共通な合成中間体として有用な化合物であ
る。
【０００２】
【従来の技術】１）Ｌ−リンゴ酸から出発する方法（G.
Wessら、特開平１−１９９９４５）（スキーム１）、 スキーム１：
【０００３】
【化９】
【０００４】２）（Ｒ）−３−クロロ−１，２−プロパ
ンジオールから出発する方法（井上ら、特開平２−２６
２５３７）（スキーム２）、 スキーム２：
【０００５】
【化１０】
【０００６】３）アリルアルコール誘導体から出発する
方法（K. Prassadら、TetrahedronLett., 25, 3391 (1
984)）（スキーム３）、 スキーム３：
【０００７】
【化１１】
【０００８】等が知られている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】上記方法のうち１）の
Ｌ−リンゴ酸から出発する方法及び２）の（Ｒ）−３−
クロロ−１、２−プロパンジオールから出発する方法は
光学活性体が得られるが、多段の反応行程を必要とし、
また出発原料が比較的高価である。更に、３）のアリル
アルコール誘導体から出発する方法は、光学活性体を得
てはいるものの、アルデヒドとブロモ酢酸エチルの反応
の段階で立体選択性が殆どないという問題点を有してい
る。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明者らは効果的で経
済性に優れた光学活性６−オキソ−３，５−ジヒドロキ
シヘキサン酸誘導体の製造方法を確立するために、出発
原料として安価で両光学活性体が入手容易な酒石酸誘導
体を用い、β,δ-ジケト酸エステル誘導体に導いたの
ち、立体選択的に還元を行い、さらに酒石酸由来のジオ
ール部分で酸化分解を行い上記誘導体を効率的にかつ高
選択的に製造できることを見いだした。すなわち、本発
明は、式［Ｉ］
【００１１】
【化１２】
【００１２】（式中、Ｒは水素原子又はC1-C8アルキ
ル、アラルキル、アリール基又はシリル基を表す。R1、
R2はそれぞれ水素原子又は水酸基の保護基を表すか、あ
るいはR1、R2は共同で環を形成していてもよい。）で表
される光学活性６−オキソ−３，５−ジヒドロキシヘキ
サン酸誘導体又はその鏡像体の製造方法であって、式
［III］
【００１３】
【化１３】
【００１４】（式中、R3はC1-C8アルキル、アラルキ
ル、アリール基を表す。R4は水酸基の保護基を表す。）
で示される光学活性酒石酸誘導体又はその鏡像体と、式
［IV］
【００１５】
【化１４】
【００１６】（式中、Ｒは前記と同義語である。）で示
されるアセト酢酸エステルを水素化ナトリウム及びブチ
ルリチウムでジアニオンとしたのち縮合させ、式［Ｖ］
【００１７】
【化１５】
【００１８】（式中、Ｒ、R3、及びR4は前記と同義語で
ある。）で示される光学活性β,δ-ジケト酸エステル誘
導体又はその鏡像体を合成し、ついでこれを立体選択的
に還元して、式［VII］
【００１９】
【化１６】
【００２０】（式中、Ｒ、R3、及びR4は前記と同義語で
ある。）で示される光学活性β,δ-ジヒドロキシ酸エス
テル誘導体又はその鏡像体を合成したのち、水酸基の保
護及び脱保護を行い、式［II］
【００２１】
【化１７】
【００２２】（式中、Ｒ、R1、R2及びR3は前記と同義語
である。）で示される光学活性β,δ-ジヒドロキシ酸エ
ステル-1,2-ジオール誘導体又はその鏡像体に変換し、
酒石酸由来の１，２−ジオールを酸化分解することで上
記誘導体［Ｉ］又はその鏡像体が製造できることを含ん
で成る方法に関する。本発明の製造方法において、光学
活性酒石酸誘導体［III］又はその鏡像体としては、水
酸基を保護したＤ−もしくはＬ−酒石酸エステルを使用
し得る。この場合、水酸基の保護基としては、置換シリ
ル基、ベンジル基、C1-C8のアルキル基あるいはアルコ
キシ基、ニトロ基、シアノ基又はハロゲン原子で置換さ
れているベンジル基、トリフェニルメチル基と種種のも
のを用いることができる。またエステル基としては、C1
-C8のアルキル基を用いることができる。例えば、R4がt
-ブチルジメチルシリル基、R3がイソプロピル基である
化合物［III］は、(2S,3S)-酒石酸ジイソプロピルをt-
ブチルジメチルシリルクロライドとイミダゾールとでＤ
ＭＦ中処理することで容易に合成できる。
【００２３】アセト酢酸エステル［IV］は、エステル基
としてC1-C8アルキル、アラルキル、アリール基又はシ
リル基を用いることができる。例えば、アセト酢酸t-ブ
チル、アセト酢酸イソプロピル、アセト酢酸メチル、ア
セト酢酸エチル等が好適に使用できる。光学活性酒石酸
誘導体［III］又はその鏡像体とアセト酢酸エステル［I
V］との縮合反応は、２等量以上の塩基存在下に、適当
な溶媒中で行う。塩基としては、水素化ナトリウム、ブ
チルリチウム、あるいはリチウムジイソプロピルアミド
等を組み合わせて使用することができる。溶媒として
は、THF(テトラヒドロフラン)、エーテル、ヘキサン、
トルエン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等を単独もし
くは混合溶媒として用いることができる。
【００２４】この反応は、例えば、アセト酢酸t-ブチル
を好ましくは０．９ないし１．２モル量の水素化ナトリ
ウムと０.９ないし１.２モル量のブチルリチウムを好ま
しくは−７８℃ないし室温の範囲で作用させて対応する
ジアニオンを生じせしめ、これに酒石酸誘導体［III］
をアセト酢酸t-ブチルの１／２もしくは１／５モル量加
えることで光学活性β,δ-ジケト酸エステル誘導体
［Ｖ］又はその鏡像体を合成できる。
【００２５】光学活性β,δ-ジケト酸エステル誘導体
［Ｖ］又はその鏡像体は、光学活性β-ヒドロキシ-δ-
ケト酸エステル誘導体［VI］又はその鏡像体に還元する
には一般式HAlR5 2で表される有機アルミニウム化合物を
使用することができる。式中R5として利用できるもの
は、イソブチル、エチル、プロピル、ブチル、オクチル
基等である。使用する有機アルミニウム化合物の量は
β,δ-ジケト酸エステル誘導体［Ｖ］に対し１.８ない
し１０モル量の範囲であるが２ないし３モル量が好まし
い。反応はTHF、エーテル、ヘキサン、トルエン、ジク
ロロメタン等の非プロトン性溶媒中−１５０℃ないし室
温の範囲で行うことができるが、−７８℃ないし−１５
℃が好ましい。
【００２６】光学活性β-ヒドロキシ-δ-ケト酸エステ
ル誘導体［VI］又はその鏡像体は、光学活性β,δ-ジヒ
ドロキシ酸エステル誘導体［VII］又はその鏡像体に還
元するには一般式R6 2BOR7で表される有機ホウ素化合物
共存下水素化ホウ素ナトリウムを使用することができ
る。上記有機ホウ素化合物としてはジエチルメトキシボ
ラン、ジブチルメトキシボラン、ジイソブチルメトキシ
ボラン、ジエチルエトキシボラン等を使用することがで
きる。反応はメタノール、エタノール、イソプロピルア
ルコールなどのプロトン性溶媒中−１００℃ないし溶媒
の沸点の範囲で、好ましくは−７８℃から室温の範囲で
行うことができる。必要に応じてTHF、エーテル、ヘキ
サン、トルエン等の反応に関与しない溶媒を使用するこ
とができる。上記ホウ素化合物の使用量はβ-ヒドロキ
シ-δ-ケト酸エステル誘導体［VI］に対し等量ないし５
倍モル量、好ましくは１.０ないし２.０モル量の範囲で
使用することができる。水素化ホウ素ナトリウムの使用
量は等量ないし大過剰量の範囲で可能であるが、経済性
の点を考慮して１ないし６モル量が好ましい。
【００２７】光学活性β,δ-ジヒドロキシ酸エステル誘
導体［VII］又はその鏡像体を光学活性β,δ-ジヒドロ
キシ酸エステル-1,2-ジオール誘導体［II］又はその鏡
像体に変換するためには、まず［VII］の水酸基全部を
保護して、式［VIII］：
【００２８】
【化１８】
【００２９】（式中、Ｒは水素原子又はC1-C8アルキ
ル、アラルキル、アリール基又はシリル基を表す。R1、
R2は水酸基の保護基を表すか、あるいはR1、R2は共同で
環を形成していてもよい。R3はC1-C8アルキル、アラル
キル、アリール基を表す。R4は水酸基の保護基を表
す。）で示される光学活性β,δ-ジヒドロキシ酸エステ
ル誘導体又はその鏡像体を得る。
【００３０】R1、R2、R4としては、それぞれメトキシメ
チル、２−メトキシエトキシメチル、テトラヒドロピラ
ニル、４−メトキシテトラヒドロピラニル、１−エトキ
シエチル、１−メチル−１−メトキシエチル、アリル、
ベンジル、p-メトキシベンジル、p-クロロベンジル、ト
リフェニルメチル、トリメチルシリル、t-ブチルジメチ
ルシリル、t-ブチルジフェニルシリル、ベンゾイル、p-
ニトロベンゾイル及びアセチル等を挙げることができ
る。又、R1、R2が共同で環を形成する場合としては、メ
チリデン、イソプロピリデン、シクロペンチリデン、シ
クロヘキシリデン、ベンジリデン、ジメチルシリル、ジ
エチルシリル及びジフェニルシリル等を挙げることがで
きる。
【００３１】この場合、３及び５位のヒドロキシ保護基
とエステル基を残して、６及び７位のヒドロキシ保護基
のみを後で脱保護できるように保護基を選択する。例え
ば、R4がt-ブチルジメチルシリル基又はベンジル基、R3
がイソプロピル基、メチル基、又はエチル基の場合、R1
及びR2として２，２−プロピリデン、２，２−シクロヘ
キシリデン等のアセタール型保護基を好都合に用いるこ
とができる。２，２−プロピリデン化はアセトンジメチ
ルアセタール中触媒量のｐ−トルエンスルホン酸を用い
て常法に従って行うことができる。
【００３２】すべての水酸基を保護した光学活性β,δ-
ジヒドロキシ酸エステル誘導体［VIII］又はその鏡像体
は、３，５位ヒドロキシ保護基と６，７位ヒドロキシ保
護基又はエステル基の組み合せに応じた方法で処理し
て、６，７位の水酸基のみを選択的に脱保護して光学活
性β,δ-ジヒドロキシ酸エステル-1,2-ジオール誘導体
［II］又はその鏡像体を得る。例えば、R4がt-ブチルジ
メチルシリル基、R3がイソプロピル基、メチル基、又は
エチル基、R1及びR2がアセトニド基、Ｒがt-ブチル基の
場合、β,δ-ジヒドロキシ酸エステル誘導体［VIII］を
THF中フッ化テトラブチルアンモニウムで処理すること
により容易に６，７位の脱保護ができる。
【００３３】光学活性β,δ-ジヒドロキシ酸エステル-
1,2-ジオール誘導体［II］又はその鏡像体は、１，２−
ジオール部を酸化分解して光学活性６−オキソ−３，５
−ジヒドロキシヘキサン酸誘導体［Ｉ］又はその鏡像体
を製造するにはメタ過ヨウ素酸ナトリウム、過ヨウ素
酸、ないしは四酢酸鉛を使用することができる。溶媒と
してはエーテル、水、t-ブチルアルコール、ジクロロメ
タン、THF、ヘキサン、ベンゼン、トルエン等を単独も
しくは混合して使用することができる。反応温度は０℃
から溶媒の沸点の範囲で行うことができるが、室温が好
ましい。
【００３４】
【発明の効果】本発明によれば、ＨＭＧ−ＣｏＡ還元酵
素阻害剤の共通合成中間体である光学活性６−オキソ−
３，５−ジヒドロキシヘキサン酸誘導体又はその鏡像体
を経済的かつ立体選択的に短行程で製造することができ
る。
【００３５】
【実施例】以下、参考例及び実施例により本発明を詳細
に説明する。 参考例１
【００３６】
【化１９】
【００３７】(D)-酒石酸ジイソプロピル(5.0 g, 21.3 m
mol)、イミダゾール(4.36 g, 64.0mmol)、塩化t-ブチル
ジメチルシリル(9.65 g, 64.0 mmol)をDMF(20 ml)中60
℃で12時間攪拌したのち、エーテルで希釈した。有機層
を希塩酸及び食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥
し、濃縮した。生成物を減圧下で加熱し過剰の塩化t-ブ
チルジメチルシリルを除き無色結晶の(2S,3S)-2,3-O-ビ
ス(t-ブチルジメチルシリル)酒石酸ジイソプロピル(9.7
8 g, 定量的収率)を得た。
【００３８】IR(CHCl3) 2925, 2850, 1750, 1705, 147
0, 1370, 1250, 1130, 1100, 920, 840 cm-1.1 H-NMR(CDCl3) d 0.01(s, 6H), 0.08(s, 6H), 0.89(s,
18H), 1.26(d, J=6.3Hz, 12H), 4.55(s, 2H), 5.01(m,
J=6.3 Hz, 2H). MS(m/z) 463(M++1, 1), 405(M+-But, 5), 363(9), 321
(32), 275(16), 231(12), 117(32), 73(100), 43(53). [α]D 20 -50.10°(c=2.04, CHCl3)
【００３９】参考例２
【００４０】
【化２０】
【００４１】参考例１と同様の方法によって(L)-酒石酸
ジメチルより(2R,3R)-2,3-O-ビス(t-ブチルジメチルシ
リル)酒石酸ジメチルを得た（定量的収率）。
【００４２】IR(CHCl3) 2950, 2850, 1760, 1730, 147
0, 1435, 1250, 1020, 840 cm-1.1 H-NMR(CDCl3) d -0.01(s, 6H), 0.08(s, 6H), 0.87(s,
18H), 3.72(s, 6H),4.64(s, 2H). MS(m/z) 349(M+-But, 72), 289(33), 175(9), 147(36),
89(42), 73(100). [α]D 20 +49.06°(c=2.03, CHCl3)
【００４３】参考例３
【００４４】
【化２１】
【００４５】参考例１と同様の方法によって(L)-酒石酸
ジエチルより(2R,3R)-2,3-O-ビス(t-ブチルジメチルシ
リル)酒石酸ジエチルを得た（定量的収率）。
【００４６】IR(CHCl3) 2925, 2850, 1755, 1720, 147
0, 1370, 1255, 1215, 1130, 1030,920, 840 cm-1.1 H-NMR(CDCl3) d -0.01(s, 6H), 0.09(s, 6H), 0.88(s,
18H), 1.29(t, J=7.2Hz, 6H), 4.09-4.25(m, 4H), 4.6
2(s, 2H). MS(m/z) 419(M+-Me, 2), 377(M+-But, 48), 231(3), 18
9(8), 161(11), 133(12), 73(100). [α]D 20 +47.00°(c=1.76, CHCl3)
【００４７】参考例４
【００４８】
【化２２】
【００４９】参考例１と同様の方法によって(L)-酒石酸
ジイソプロピルより(2R,3R)-2,3-O-ビス(t-ブチルジメ
チルシリル)酒石酸ジイソプロピルを得た（定量的収
率）。
【００５０】IR(CHCl3) 2925, 2850, 1750, 1705, 147
0, 1370, 1250, 1130, 1100, 920, 840 cm-1.1 H-NMR(CDCl3) d 0.01(s, 6H), 0.08(s, 6H), 0.89(s,
18H), 1.26(d, J=6.3Hz, 12H), 4.55(s, 2H), 5.01(m,
J=6.3 Hz, 2H). MS(m/z) 463(M++1, 1), 405(M+-But, 5), 363(9), 321
(32), 275(16),231(12,117(32), 73(100), 43(53). [α]D 20 +50.06°(c=2.02, CHCl3)
【００５１】実施例１
【００５２】
【化２３】
【００５３】水素化ナトリウム(3.03 g, 75.7 mmol)のT
HF懸濁液(150 ml)に0℃でアセト酢酸t-ブチル(12.0 g,
75.9 mmol)を加え-78℃で15分間攪拌した。ブチルリチ
ウム(1.60 M ヘキサン溶液, 47.3 ml, 75.7 mmol)を0℃
で５分間かけてゆっくり加え、反応混合物を-78℃で10
分間攪拌した。参考例１で得た(2S,3S)-2,3-O-ビス(t-
ブチルジメチルシリル)酒石酸ジイソプロピル(7.00 g,
15.1 mmol)のTHF溶液(50ml)を加え反応混合物を-78℃で
16時間攪拌した。希塩酸を加えて反応を停止させ、エー
テルで抽出した。有機層を食塩水で洗い、硫酸マグネシ
ウムで乾燥し、濃縮した。過剰のアセト酢酸ブチルを減
圧下で除き生成物をカラムクロマトグラフィー( ヘキサ
ン：酢酸エチル = 20 : 1) で精製し無色油状の(2S,3S)
-7-t-ブトキシカルボニル-4,6-ジオキソ-2,3-ビス(t-ブ
チルジメチルシリルオキシ)ヘプタン酸イソプロピル(6.
24 g, 74%)を得た。
【００５４】Rf = 0.64(ヘキサン：酢酸エチル = 5 :
1) IR(CHCl3) 2925, 2850, 1725, 1600, 1465, 1365, 129
0, 1250, 1140, 1100,915, 835 cm-1.1 H-NMR(CDCl3) d -0.09(s,3H), 0.03(s, 9H), 0.86(s,
9H), 0.91(s, 9H), 1.25(d, J=6.2 Hz, 6H), 1.46(s, 9
H), 3.25(d, J=1.7 Hz, 1H), 4.42(d, J=2.6 Hz,1H),
4.51(d, J=2.6 Hz, 1H), 5.00(m, J=6.2 Hz, 1H), 6.01
(s, 1H), 14.98(br-s, 1H). MS(m/z) 561(M++1, trace)503(M+-But, 1), 447(50), 4
07(21), 387(53), 315(7), 273(17), 185(6), 129(24),
73(100). [α]D 20 -91.84°(c=2.04, CHCl3)
【００５５】実施例２
【００５６】
【化２４】
【００５７】実施例１と同様の反応で参考例２で得た(2
R,3R)-2,3-O-ビス(t-ブチルジメチルシリル)酒石酸ジメ
チルより(2R,3R)-7-t-ブトキシカルボニル-4,6-ジオキ
ソ-2,3-ビス(t-ブチルジメチルシリルオキシ)ヘプタン
酸メチルを得た(76%)。
【００５８】Rf = 0.61(ヘキサン：酢酸エチル = 5 :
1) IR(CHCl3) 2950, 2925, 2850, 1760, 1725, 1600, 147
0, 1365, 1290, 1250,1150, 1110, 1030, 915, 835 cm
-1.1 H-NMR(CDCl3) d -0.09(s,3H), 0.00(s, 3H), 0.03(s,
6H), 0.86(s, 9H), 0.90(s, 9H), 1.46(s, 9H), 3.25
(d, J=1.9 Hz, 1H), 3.72(s, 3H), 4.52(s, 2H),6.02
(s, 1H), 14.99(br-s, 1H). MS(m/z) 532(M+, trace), 475(M+-But, 1), 419(25), 3
49(14), 289(12), 231(9), 227(6), 147(18), 73(100). [α]D 20 +94.54°(c=2.02, CHCl3)
【００５９】実施例３
【００６０】
【化２５】
【００６１】実施例１と同様の反応で参考例３で得た(2
R,3R)-2,3-O-ビス(t-ブチルジメチルシリル)酒石酸ジエ
チルより(2R,3R)-7-t-ブトキシカルボニル-4,6-ジオキ
ソ-2,3-ビス(t-ブチルジメチルシリルオキシ)ヘプタン
酸エチルを得た(74%)。
【００６２】Rf = 0.68(ヘキサン：酢酸エチル = 5 :
1) IR(CHCl3) 2950, 2925, 2850, 1760, 1725, 1600, 147
0, 1365, 1290, 1250,1110, 1020, 910, 835 cm-1.1 H-NMR(CDCl3) d -0.09(s,3H), 0.00(s, 3H), 0.02(s,
3H), 0.03(s, 3H), 0.85(s, 9H), 0.90(s, 9H), 1.28
(t, J=7.2 Hz, 3H), 1.46(s, 9H), 3.30(s, 1H),4.05-
4.25(m, 2H), 4.49(d, J=2.4 Hz, 1H), 4.53(d, J=2.4
Hz, 1H), 6.02(s,1H), 14.96(br-s, 1H). MS(m/z) 489(M+-But, 1), 433(29), 359(4), 301(7), 2
31(11), 185(5),129(13), 73(100), 57(91). [α]D 20 +94.09°(c=2.02, CHCl3)
【００６３】実施例４
【００６４】
【化２６】
【００６５】実施例１と同様の反応で参考例４で得た(2
R,3R)-2,3-O-ビス(t-ブチルジメチルシリル)酒石酸ジイ
ソプロピルより(2R,3R)-7-t-ブトキシカルボニル-4,6-
ジオキソ-2,3-ビス(t-ブチルジメチルシリルオキシ)ヘ
プタン酸イソプロピルを得た(74%)。
【００６６】Rf = 0.64(ヘキサン：酢酸エチル = 5 :
1) IR(CHCl3) 2925, 2850, 1725, 1600, 1465, 1365, 129
0, 1250, 1140, 1100,915, 835 cm-1.1 H-NMR(CDCl3) d -0.09(s,3H), 0.03(s, 9H), 0.86(s,
9H), 0.91(s, 9H), 1.25(d, J=6.2 Hz, 6H), 1.46(s, 9
H), 3.25(d, J=1.7 Hz, 1H), 4.42(d, J=2.6 Hz, 1H),
4.51(d, J=2.6 Hz, 1H), 5.00(m, J=6.2 Hz, 1H), 6.01
(s, 1H), 14.98(br-s, 1H). MS(m/z) 561(M++1, trace), 503(M+-But, 1), 447(50),
407(21), 387(53), 315(7), 273(17), 185(6), 129(2
4), 73(100). [α]D 20 +91.81°(c=2.02, CHCl3)
【００６７】実施例５
【００６８】
【化２７】
【００６９】実施例１で得た(2S,3S)-7-t-ブトキシカル
ボニル-4,6-ジオキソ-2,3-ビス(t-ブチルジメチルシリ
ルオキシ)ヘプタン酸イソプロピル(560 mg, 1.00 mmol)
のTHF/ヘキサン混合溶液(5.0 ml, 3.0 ml)に-78℃で水
素化ジイソブチルアルミニウム(1.0 m ヘキサン溶液,
2.2 ml, 2.20 mmol)をゆっくりと加えたのち反応混合物
を-78℃で４時間攪拌した。飽和硫酸ナトリウムを10滴
加えて反応を停止させ、十分に攪拌を行い有機塩を分解
した。硫酸マグネシウムを加えて乾燥し、無機塩をろ別
したのち、生成物をカラムクロマトグラフィー( ヘキサ
ン：酢酸エチル= 20 : 1) で精製し無色油状の(2S,3S,6
R)-7-t-ブトキシカルボニル-6-ヒドロキシ-4-オキソ-2,
3-ビス(t-ブチルジメチルシリルオキシ)ヘプタン酸イソ
プロピル(330 mg, 60%)を得た。
【００７０】Rf = 0.57(ヘキサン：酢酸エチル = 5 :
1) IR(CHCl3) 3525, 2925, 2850, 1710, 1470, 1365, 129
0, 1250, 1145, 1100,915, 835 cm-1.1 H-NMR(CDCl3) d -0.00(s,3H), 0.01(s, 3H), 0.04(s,
3H), 0.05(s, 3H), 0.90(s, 9H), 0.91(s, 9H), 1.25
(d, J=6.2 Hz, 6H), 1.45(s, 9H), 2.41(dd, J=16.0,
7.6 Hz, 1H), 2.46(dd, J=16.0, 5.1 Hz, 1H), 2.82(d
d, J=18.7, 7.5 Hz,1H), 2.92(dd, J=18.7, 4.8 Hz, 1
H), 3.38(d, J=3.5 Hz, 1H), 4.33(d, J=3.5Hz, 1H),
4.38-4.45(m, 1H), 4.43(d, J=3.5 Hz, 1H), 5.00(m, J
=6.2 Hz, 1H).MS(m/z) 487(M+-H2O-But, 4), 439(5), 4
31(5), 389(9), 371(4), 299(4), 239(7), 231(7), 201
(5), 149(10), 73(100). [α]D 20 -37.45°(c=2.02, CHCl3)
【００７１】実施例６
【００７２】
【化２８】
【００７３】実施例５と同様の反応によって実施例２で
得た(2R,3R)-7-t-ブトキシカルボニル-4,6-ジオキソ-2,
3-ビス(t-ブチルジメチルシリルオキシ)ヘプタン酸メチ
ルより(2R,3R,6S)-7-t-ブトキシカルボニル-6-ヒドロキ
シ-4-オキシ-2,3-ビス(t-ブチルジメチルシリルオキシ)
ヘプタン酸メチルを得た(51%)。
【００７４】Rf = 0.57(ヘキサン：酢酸エチル = 5 :
1) IR(CHCl3) 3475, 2925, 2850, 1710, 1470, 1365, 129
0, 1250, 1145, 1100,915, 835 cm-1.1 H-NMR(CDCl3) d -0.03(s,3H), -0.03(s, 3H), 0.02(s,
3H), 0.03(s, 3H), 0.88(s, 9H), 0.90(s, 9H), 1.43
(s, 9H), 2.39(dd, J=16.2, 7.5 Hz, 1H), 2.45(dd, J=
16.2, 5.1 Hz, 1H), 2.80(dd, J= 18.8, 7.4 Hz, 1H),
2.89(dd, J=18.8, 5.0 Hz, 1H), 3.34(d, J=3.6 Hz, 1
H), 3.69(s, 3H), 4.35(d, J=2.9 Hz, 1H), 4.36-4.41
(m, 1H), 4.53(d, J=2.9 Hz, 1H). MS(m/z) 535(M++1, 1), 517(M++1-H2O, trace), 478(tr
ace), 459(M+-H2O-But, 2), 403(6), 355(6), 289(15),
271(28), 201(15), 147(11), 73(100). [α]D 20 +43.08°(c=2.07, CHCl3)
【００７５】実施例７
【００７６】
【化２９】
【００７７】実施例５と同様の反応によって実施例３で
得た(2R,3R)-7-t-ブトキシカルボニル-4,6-ジオキソ-2,
3-ビス(t-ブチルジメチルシリルオキシ)ヘプタン酸エチ
ルより(2R,3R,6S)-7-t-ブトキシカルボニル-6-ヒドロキ
シ-4-オキソ-2,3-ビス(t-ブチルジメチルシリルオキシ)
ヘプタン酸エチルを得た(56%)。
【００７８】Rf = 0.49(ヘキサン：酢酸エチル = 5 :
1) IR(CHCl3) 3425, 2950, 2925, 2850, 1750, 1710, 147
0, 1390, 1365, 1255,1150, 1105, 1030, 915, 840 cm
-1.1 H-NMR(CDCl3) d -0.03(s,3H), -0.02(s, 3H), 0.03(s,
6H), 0.88(s, 9H), 0.90(s, 9H), 1.26(t, J=7.2 Hz,
3H), 1.44(s, 9H), 2.39(dd, J=16.2, 7.5 Hz,1H), 2.4
5(dd, J=16.2, 5.2 Hz, 1H), 2.80(dd, J= 18.8, 7.4 H
z, 1H), 2.90(dd, J=18.8, 4.9 Hz, 1H), 3.35(d, J=3.
5 Hz, 1H), 4.06-4.23(m, 2H), 4.35(d,J=3.0 Hz, 1H),
4.36-4.42(m, 1H), 4.50(d, J=3.0 Hz, 1H). MS(m/z) 549(M++1, 1), 531(trace), 493(trace), 473
(M+-H2O-But, 5), 435(3), 417(6), 361(13), 303(11),
285(15), 239(17), 231(16), 215(14), 201(8),133(1
0), 73(100). [α]D 20 +43.54°(c=2.03, CHCl3)
【００７９】実施例８
【００８０】
【化３０】
【００８１】実施例５と同様の反応によって実施例４で
得た(2R,3R)-7-t-ブトキシカルボニル-4,6-ジオキソ-2,
3-ビス(t-ブチルジメチルシリルオキシ)ヘプタン酸イソ
プロピルより(2R,3R, 6S)-7-t-ブトキシカルボニル-6-
ヒドロキシ-4-オキソ-2,3-ビス(t-ブチルジメチルシリ
ルオキシ)ヘプタン酸イソプロピルを得た(61%)。
【００８２】Rf = 0.57(ヘキサン：酢酸エチル = 5 :
1) IR(CHCl3) 3525, 2925, 2850, 1710, 1470, 1365, 129
0, 1250, 1145, 1100,915, 835 cm-1.1 H-NMR(CDCl3) d -0.00(s,3H), 0.01(s, 3H), 0.04(s,
3H), 0.05(s, 3H), 0.90(s, 9H), 0.91(s, 9H), 1.25
(d, J=6.2 Hz, 6H), 1.45(s, 9H), 2.41(dd, J=16.0,
7.6 Hz, 1H), 2.46(dd, J=16.0, 5.1 Hz, 1H), 2.82(d
d, J=18.7, 7.5 Hz,1H), 2.92(dd, J=18.7, 4.8 Hz, 1
H), 3.38(d, J=3.5 Hz, 1H), 4.33(d, J=3.5Hz, 1H),
4.38-4.45(m, 1H), 4.43(d, J=3.5 Hz, 1H), 5.00(m, J
=6.2 Hz, 1H).MS(m/z) 487(M+-H2O-But, 4), 439(5), 4
31(5), 389(9), 371(4), 299(4), 239(7), 231(7), 201
(5), 149(10), 73(100). [α]D 20 +37.39°(c=2.01, CHCl3)
【００８３】実施例９
【００８４】
【化３１】
【００８５】実施例５で得た(2S,3S,6R)-7-t-ブトキシ
カルボニル-6-ヒドロキシ-4-オキソ-2,3-ビス(t-ブチル
ジメチルシリルオキシ)ヘプタン酸イソプロピル(3.17 3
g, 5.63 mmol)のTHF/メタノール混合溶液(40 ml, 10 m
l)に-78℃でジエチルメトキシボラン(0.81 ml, 6.16 mm
ol)を加え-78℃から室温まで15分間攪拌した。-78℃に
冷却したのち水素化ホウ素ナトリウム(850 mg, 22.5 mm
ol)を加えて-78℃で４時間、-78℃から室温まで８時間
攪拌した。酢酸(2.0 ml)を加えて反応を停止させ、炭酸
水素ナトリウム水溶液に注ぎ、エーテルで抽出した。有
機層を食塩水で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮
した。生成物をカラムクロマトグラフィー( ヘキサン：
酢酸エチル = 10 : 1) で精製し無色油状の(2S,3R,4S,6
R)-7-t-ブトキシカルボニル-4,6-ジヒドロキシ-2,3-ビ
ス(t-ブチルジメチルシリルオキシ)ヘプタン酸イソプロ
ピル (2.39 g, 75%)を得た。
【００８６】Rf = 0.31(ヘキサン：酢酸エチル = 5 :
1) IR(CHCl3) 3500, 2925, 2850, 1720, 1470, 1390, 136
5, 1255, 1145, 1100,835 cm-1.1 H-NMR(CDCl3) d 0.05(s,3H), 0.07(s, 3H), 0.10(s, 3
H), 0.12(s, 3H), 0.90(s, 9H), 0.92(s, 9H), 1.26(d,
J=6.3 Hz, 6H), 1.45(s, 9H), 1.64-1.74(m,2H), 2.38
(dd, J=15.7, 5.1 Hz, 1H), 2.43(dd, J=15.7, 7.7 Hz,
1H), 3.01(d,J=5.4 Hz, 1H), 3.65(dd, J=4.2, 3.5 H
z, 1H), 3.91(d, J=1.8 Hz, 1H), 4.01-4.07(m, 1H),
4.16(d, J=4.2 Hz, 1H), 4.20-4.26(m, 1H), 5.03(m, J
=6.3 Hz,1H). MS(m/z) 509(M+-But, trace), 491(M+-H2O-But, 1), 45
1(4), 409(2), 391(11),373(4), 345(5), 289(4), 271
(5), 269(5), 231(16), 189(14), 145(38), 73(100). [α] D 20 +6.34°(c=2.10, CHCl3)
【００８７】実施例１０
【００８８】
【化３２】
【００８９】実施例９で得た(2S,3R,4S,6R)-7-t-ブトキ
シカルボニル-4,6-ジヒドロキシ-2,3-ビス(t-ブチルジ
メチルシリルオキシ)ヘプタン酸イソプロピル(2.74g,
4.85 mmol)、アセトンジメチルアセタール(5 ml)及び触
媒量のトルエンスルホン酸(40mg)の混合物を室温で２時
間攪拌したのち、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液に注
ぎ、エーテルで抽出した。有機層を食塩水で洗い、硫酸
マグネシウムで乾燥し、濃縮した。生成物をカラムクロ
マトグラフィー( ヘキサン：酢酸エチル = 20 :1) で精
製し無色油状の(2S,3R,4S,6R)-7-t-ブトキシカルボニル
-4,6-O-イソプロピリデンジオキシ-2,3-ビス(t-ブチル
ジメチルシリルオキシ)ヘプタン酸イソプロピル(2.93
g, 99%)を得た。
【００９０】Rf = 0.58(ヘキサン：酢酸エチル = 5 :
1) IR(CHCl3) 3500, 2925, 2850, 1720, 1470, 1390, 136
5, 1255, 1145, 1100,835 cm-1.1 H-NMR(CDCl3) d 0.03(s,3H), 0.04(s, 3H), 0.04(s, 3
H), 0.08(s, 3H), 0.86(s, 9H), 0.90(s, 9H), 1.24(d,
J=6.3 Hz, 6H), 1.35(s, 3H), 1.40(s, 3H),1.40(s, 9
H), 1.77(dt, J=12.7, 2.4 Hz, 1H), 2.29(dd, J=15.0,
5.7 Hz, 1H),2.40(dd, J=15.0, 7.3 Hz, 1H), 3.74(d
d, J=7.3, 2.9 Hz, 1H), 3.93(ddd, J=11.6, 7.3, 2.4
Hz, 1H), 4.18(d, J=2.9 Hz, 1H), 4.17-4.24(m, 1H),
5.01(m, J=6.3 Hz, 1H). MS(m/z) 547(M+-But, 1), 491(7), 433(8), 373(19), 3
17(14), 261(22), 259(24), 173(38), 73(90), 57(10
0). [α]D 20 -1.14°(c=2.11, CHCl3)
【００９１】実施例１１
【００９２】
【化３３】
【００９３】実施例10で得た(2S,3R,4S,6R)-7-t-ブトキ
シカルボニル-4,6-O-イソプロピリデンジオキシ-2,3-ビ
ス(t-ブチルジメチルシリルオキシ)ヘプタン酸イソプロ
ピル(2.93 g, 4.84 mmol)のTHF溶液(30 ml)に室温でフ
ッ化テトラブチルアンモニウム(1.0 M THF溶液, 15.0 m
l, 15.0 mmol)を加えて室温で３時間攪拌した。反応混
合物を水に注ぎ、エーテルで抽出した。有機層を食塩水
で洗い、硫酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。生成物
をカラムクロマトグラフィー( ヘキサン：酢酸エチル =
2 : 1) で精製し無色油状の(2S,3R,4S,6R)-7-t-ブトキ
シカルボニル-2,3-ジヒドロキシ-4,6-O-イソプロピリデ
ンジオキシヘプタン酸イソプロピル(1.79 g, 99%)を得
た。
【００９４】mp 85℃（ヘキサンより再結晶） Rf = 0.59(ヘキサン：酢酸エチル = 1 : 1) IR(CHCl3) 3500, 2925, 2850, 1720, 1470, 1390, 136
5, 1255, 1145, 1100,835 cm-1.1 H-NMR(CDCl3) d 1.2(d, J=6.3 Hz, 6H), 1.37(s, 3H),
1.44-1.47(m, 1H), 1.45(s, 9H), 1.46(s, 3H), 1.61
(dt, J=10.0, 2.6 Hz, 1H), 2.34(dd, J=15.1,5.8 Hz,
1H), 2.42(dd, J=15.1, 7.2 Hz, 1H), 2.64(d, J=5.8 H
z, 1H), 3.15(d,J=6.1 Hz, 1H), 3.74(ddd, J=8.5, 5.
9, 2.7 Hz, 1H), 4.09-4.16(m, 2H), 4.27-4.33(m, 1
H), 5.13(m, J=6.3 Hz, 1H). MS(m/z) 361(M+-Me, 3), 305(M+-Me-But, 4), 433(8),
263(12), 203(24), 173(33), 115(19), 59(79), 57(10
0). Anal. Calcd for C18H32O8: C, 57.43; H, 8.57;. Foun
d: C, 57.42; H, 8.40.[α]D 20 +18.13°(c=2.00, CHCl
3)
【００９５】実施例１２
【００９６】
【化３４】
【００９７】実施例11で得た(2S,3R,4S,6R)-7-t-ブトキ
シカルボニル-2,3-ジヒドロキシ-4,6-O-イソプロピリデ
ンジオキシヘプタン酸イソプロピル(1.79 g, 0.53mmol)
のエーテル溶液(10 ml)に室温でメタ過ヨウ素酸ナトリ
ウム(230 mg, 1.08 mmol)を加え攪拌しながら水(3.0 m
l)を加えた。反応混合物を室温で３時間激しく攪拌した
のちエーテル層を抽出した。有機層を食塩水で洗い、硫
酸マグネシウムで乾燥し、濃縮した。生成物をカラムク
ロマトグラフィー( ヘキサン：酢酸エチル= 2 :1) で精
製し(3R,5S)-6-オキソ-3,5-O-イソプロピリデンジオキ
シヘキサン酸t-ブチル(121 mg, 85%)を得た。
【００９８】Rf=0.39(ヘキサン：酢酸エチル=1 : 1) IR(CHCl3): 2950, 1735, 1435, 1380, 1080, 1030, 77
5, 730 cm-1.1 H-NMR(CDCl3):δ 1.40-1.48(m, 1H), 1.45(s, 9H), 1.
45(s, 3H), 1.49(s, 3H), 1.83(dt, J= 12.9, 2.8 Hz,
1H), 2.35(dd, J=15.4, 5.9 Hz, 1H), 2.46(dd, J=15.
4, 7.1 Hz, 1H), 4.29-4.37(m, 2H), 9.58(d, J=0.5 H
z, 1H). MS(m/z) 201(M+-Me, 24), 129(31), 97(36), 59(100). [α]D 20 -27.14°(c 1.75, CHCl3)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｃ 59/347 9356−4Ｈ 67/313 67/333 67/343 69/675 9279−4Ｈ 69/708 9279−4Ｈ 69/738 Ｚ 9279−4Ｈ Ｃ０７Ｄ 319/06 Ｃ０７Ｆ 7/18 Ａ 8018−4Ｈ (72)発明者 小原 義夫 千葉県船橋市坪井町722番地１ 日産化学 工業株式会社中央研究所内

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 式［Ｉ］ 【化１】 （式中、Ｒは水素原子又はC1-C8アルキル、アラルキ
    ル、アリール基又はシリル基を表す。R1、R2はそれぞれ
    水素原子又は水酸基の保護基を表すか、あるいはR1、R2
    は共同で環を形成していてもよい。）で表される光学活
    性６−オキソ−３，５−ジヒドロキシヘキサン酸誘導体
    又はその鏡像体の製造方法であって、式［II］ 【化２】 （式中、Ｒは水素原子又はC1-C8アルキル、アラルキ
    ル、アリール基又はシリル基を表す。R1、R2は水酸基の
    保護基を表すか、あるいはR1、R2は共同で環を形成して
    いてもよい。R3はC1-C8アルキル、アラルキル、アリー
    ル基を表す。）で示される光学活性β,δ-ジヒドロキシ
    酸エステル-1,2-ジオール誘導体又はその鏡像体を酸化
    分解して合成することを含んで成る方法。
  2. 【請求項２】 式［III］ 【化３】 （式中、R3はC1-C8アルキル、アラルキル、アリール基
    を表す。R4は水酸基の保護基を表す。）で示される光学
    活性酒石酸誘導体又はその鏡像体と、式［IV］ 【化４】 （式中、Ｒは水素原子又はC1-C8アルキル、アラルキ
    ル、アリール基又はシリル基を表す。）で示されるアセ
    ト酢酸エステルを２等量以上の塩基の存在下に反応さ
    せ、式［Ｖ］ 【化５】 （式中、Ｒは水素原子又はC1-C8アルキル、アラルキ
    ル、アリール基又はシリル基を表す。R3はC1-C8アルキ
    ル、アラルキル、アリール基を表す。R4は水酸基の保護
    基を表す。）で示される光学活性β,δ-ジケト酸エステ
    ル誘導体又はその鏡像体の製造方法。
  3. 【請求項３】 式［Ｖ］で示される光学活性β,δ-ジケ
    ト酸エステル誘導体又はその鏡像体を還元して得られる
    式［VI］ 【化６】 （式中、Ｒは水素原子又はC1-C8アルキル、アラルキ
    ル、アリール基又はシリル基を表す。R3はC1-C8アルキ
    ル、アラルキル、アリール基を表す。R4は水酸基の保護
    基を表す。）で示される光学活性β-ヒドロキシ-δ-ケ
    ト酸エステル誘導体又はその鏡像体の製造方法。
  4. 【請求項４】 式［VI］で示される光学活性β-ヒドロ
    キシ-δ-ケト酸エステル誘導体又はその鏡像体を還元し
    て得られる式［VII］ 【化７】 （式中、Ｒは水素原子又はC1-C8アルキル、アラルキ
    ル、アリール基又はシリル基を表す。R3はC1-C8アルキ
    ル、アラルキル、アリール基を表す。R4は水酸基の保護
    基を表す。）で示される光学活性β,δ-ジヒドロキシ酸
    エステル誘導体又はその鏡像体の製造方法。
  5. 【請求項５】 式［VII］で示される光学活性β,δ-ジ
    ヒドロキシ酸エステル誘導体又はその鏡像体の水酸基を
    保護及び脱保護して得られる請求項１記載の光学活性
    β, δ-ジヒドロキシ酸エステル-1,2-ジオール誘導体
    ［II］又はその鏡像体の製造方法。
  6. 【請求項６】 Ｒがt-ブチル基、R1及びR2がアセトニド
    基、R3がイソプロピル基、エチル基、又はメチル基であ
    る式［II］で示される化合物又はその鏡像体。
  7. 【請求項７】 Ｒがt-ブチル基、R3がイソプロピル基、
    エチル基、又はメチル基、R4がt-ブチルジメチルシリル
    基又はベンジル基である式［Ｖ］で示される化合物又は
    その鏡像体。
  8. 【請求項８】 Ｒがt-ブチル基、R3がイソプロピル基、
    エチル基、又はメチル基、R4がt-ブチルジメチルシリル
    基又はベンジル基である式［VI］で示される化合物又は
    その鏡像体。
  9. 【請求項９】 Ｒがt-ブチル基、R3がイソプロピル基、
    エチル基、又はメチル基、R4がt-ブチルジメチルシリル
    基又はベンジル基である式［VII］で示される化合物又
    はその鏡像体。
  10. 【請求項１０】 Ｒがt-ブチル基、R1及びR2がアセトニ
    ド基、R3がイソプロピル基、エチル基、又はメチル基、
    R4がt-ブチルジメチルシリル基又はベンジル基である式
    ［VIII］で示される化合物又はその鏡像体。 【化８】
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996029299A1 (fr) * 1995-03-17 1996-09-26 Shionogi & Co., Ltd. Procede d'oxydation d'acides 6-hydroxyhexanoiques
KR100379939B1 (ko) * 2000-10-20 2003-04-11 삼성정밀화학 주식회사 [(3ｒ,5ｒ)/(3ｒ,5ｓ)]-3,5-디히드록시헥사노익산에스테르 유도체의 제조방법
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WO2015168998A1 (zh) * 2014-05-09 2015-11-12 凯莱英医药集团（天津）股份有限公司 一种用于他汀类药物的手性中间体的制备方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996029299A1 (fr) * 1995-03-17 1996-09-26 Shionogi & Co., Ltd. Procede d'oxydation d'acides 6-hydroxyhexanoiques
KR100379939B1 (ko) * 2000-10-20 2003-04-11 삼성정밀화학 주식회사 [(3ｒ,5ｒ)/(3ｒ,5ｓ)]-3,5-디히드록시헥사노익산에스테르 유도체의 제조방법
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