JPH059519B2 - - Google Patents

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JPH059519B2
JPH059519B2 JP59088571A JP8857184A JPH059519B2 JP H059519 B2 JPH059519 B2 JP H059519B2 JP 59088571 A JP59088571 A JP 59088571A JP 8857184 A JP8857184 A JP 8857184A JP H059519 B2 JPH059519 B2 JP H059519B2
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JP
Japan
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phosphoric acid
acid
alkanolamine
water
alkanol
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JP59088571A
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JPS59211581A (ja
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Geeke Yurugen
Shutetorii Berunto
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Henkel AG and Co KGaA
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Henkel AG and Co KGaA
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Publication date
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Publication of JPH059519B2 publication Critical patent/JPH059519B2/ja
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G1/00Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
    • C23G1/24Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with neutral solutions
    • C23G1/26Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with neutral solutions using inhibitors
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23GCLEANING OR DE-GREASING OF METALLIC MATERIAL BY CHEMICAL METHODS OTHER THAN ELECTROLYSIS
    • C23G1/00Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts
    • C23G1/14Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with alkaline solutions
    • C23G1/16Cleaning or pickling metallic material with solutions or molten salts with alkaline solutions using inhibitors

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  • Cleaning And De-Greasing Of Metallic Materials By Chemical Methods (AREA)
  • Coating By Spraying Or Casting (AREA)
  • ing And Chemical Polishing (AREA)
  • Paints Or Removers (AREA)
  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野 本発明の課題は研摩水及び剪断水への添加物と
して及び冷却循環における不働態化剤としての、
射出法における金属の浄化及び不働態化のための
薬剤及び方法である。 従来技術 切削加工した金属表面の射出法での浄化は一般
に有機防錆剤、例えばアルカノールアミン及び脂
肪酸の組合わせ、界面活性剤、消泡剤及び/又は
ホスホネート並びに場合により殺生剤及びビルダ
ー物質を基礎とする水性浄化剤で行ない、この際
この記載した浄化剤を水性液体中でPH値7.5〜
10.5で使用する;これは通常“中性浄化剤”と呼
ばれる。 不所望な腐食現象を回避するために、金属表面
を相応する化学添加物を含有する水溶液で不働態
化することもしばしば有利である。この不働態化
は有利に浄化工程の際に、又は後に、もしくは金
属のその他の加工の中間貯蔵の前に行なう。 発明が解決しようとする問題点 従来常用の中性浄化剤もしくは腐食保護剤は他
の添加剤のない場合、鉄及び鋼の処理にのみ好適
である。この種の鉄及び鋼表面の腐食を抑制する
浄化及び不働態化剤は例えばアルカリ亜硝酸塩、
アルカノールアミン、石鹸及びベンゾエートを含
有する。 鉄金属の他にも非鉄金属及び軽金属及びこれら
の合金、特に亜鉛、アルミニウム及びその合金が
浄化剤もしくは不働態化剤と接触することがます
ます増えている。非鉄金属に対して腐食抑制剤と
して例えばメルカプトベンズチアゾールもしくは
ベンズトリアゾールを使用することができる。し
かし、これらの不働態化成分は、軽金属の表面の
変色(地下水による黒化)を阻止しないという欠
点を有する。更に、亜鉛、アルミニウム及びこれ
らの合金は浄化剤により腐食されるのである。相
応して高い金属脱離が見られ、この金属脱離は精
密な部材においては部分的にもはや許容されな
い。特にこのことは自動車の分野における軽金属
合金からなる新しい種類のモーター及び伝動装置
に関していえる。 他方、他の特別な浄化システムの自動化への傾
向が要求されている: 水道水中に浄化用液体を自動的に調節し、かつ
配量することを可能とするために(このことは一
般に導電性測定により行なわれる)、従来常用の
浄化剤は、特に高い温度でピロホスフエートもし
くはオルトホスフエートに分解するポリホスフエ
ートを含有している。この種の無機イオンの使用
はしばしば水の硬化性物質と共に沈殿、すなわち
燐酸カルシウム沈殿又は燐酸マグネシウム沈殿を
生じ、相応する合金の存在下には燐酸アルミニウ
ム沈殿をも生じる。この結果、加工すべき部材上
で妨害的に乾燥するだけでなく、接着、石化又は
装置及びポンプの目づまりを起こす。 更に析出した燐酸塩、特に燐酸アルミニウムは
不所望な凝集行程、例えば界面活性剤又は消泡剤
の逆行不可能な結合に導びく。このことは明らか
に高い起泡の傾向に導びき、これにより浄化剤溶
液の迅速な機能喪失に導びく。更に、この電解質
含有生成物は多くの場合高い金属脱離並びに軽金
属もしくは非鉄金属の非常に迅速な変色に作用す
る。 問題点を解決するための手段 特別な燐酸エステル及びアルカノールアミンと
射出可能な界面活性剤との組み合わせは金属脱離
を著しく減少させ;金属表面の変色はもはや観察
されなくなるということが意外にも判明した。 本発明は、 a) 燐酸エステル、 b) アルカノールアミン及び/又はアルカノー
ルアミン塩、 c) 少なくとも1種の射出可能な非イオン系界
面活性剤、並びに場合により d) ビルダー物質、錯化剤及び/又は殺生剤を
含有していることを特徴とする射出法における
金属の浄化及び不働態化剤に関する。 作 用 本発明による浄化剤は起泡することなく障害の
ない工程経過が達せられるような燐酸エステルを
使用しているということにおいてすぐれている。
このことはオーストリア特許第235149号明細書に
燐酸エステルが泡沫安定剤として記載されている
ので非常に意外なことであつた。 更に、有利に使用したエトキシル化脂肪アルコ
ールの燐酸エステルはカルシウムイオン及びマグ
ネシウムイオンに対して敏感ではない。従つて、
種々の軽金属の表面を抑制する効果は硬水中にお
いても達せられる。 本発明による薬剤にはホスフエートが含有され
ていないので、欠点である燐酸塩の析出もおこら
ない。 この燐酸エステルの良好な抑制作用により、ア
ルミニウム脱離も著しく僅かである。更に、浄化
した金属表面の変色は実質的にほぼみられない。
鉄金属に対するだけでなく、特に非鉄金属及び軽
金属及び亜鉛に対する抑制作用により本発明によ
る浄化剤はすべてに好適な浄化剤として使用可能
となり、例えば大きなセントラル装置に使用でき
る。 本発明による軽金属腐食抑制剤は種々の由来の
燐酸エステルであつてもよい: a) 炭素原子数10〜20のアルカノールと燐酸と
のモノ−及び/又はジエステル; b) 炭素原子数10〜20のエトキシル化及び/又
はプロポキシル化アルカノールと燐酸とのモノ
及び/又はジエステル; c) ポリエチレングリコール−及び/又はポリ
プロピレングリコールエーテルの燐酸エステ
ル;もしくはその水溶性の塩 全アルコールは直鎖、分枝鎖、飽和又は不飽和
であつてよい。直鎖の脂肪アルコール(炭素原子
数10〜20のアルカノール)を使用するのが有利で
ある。 本発明による薬剤中で炭素原子数10〜20の直鎖
エトキシル化アルカノールと燐酸とのモノエステ
ル、及びそのナトリウム−、カリウム−、アンモ
ニウム−又はアルカノールアミン塩を使用するの
が有利である。 この種の化合物はこれを本発明による組み合わ
せで水溶液中に使用する場合にも全く妨害的な泡
を形成せず、このことにより自動浄化装置中で摩
擦のない工程経過が達せられる。 このエトキシル化、親水性モノエステルは硬水
中でもカルシウム塩又はマグネシウム塩の析出に
作用しないので、腐食の原因でもある浄化部分上
での乾燥は回避される。更に、この種の析出は抑
制剤の不所望で、効果と結びつかない使用に作用
し、このことは実地での使用を不可能とする。こ
うして、抑制効果は硬水中でも何ら制限されるこ
とはない。 他の浄化剤(ヨーロツパ特許第81810136.6号明
細書)と異なり本発明による浄化剤の使用におい
ては亜鉛塩の使用を断念することができる。 本発明において好適なアルカノールアミンとし
ては例えば次の化合物を挙げることができる:モ
ノ−、ジ−及びトリイソプロパノールアミン、n
−プロパノールアミン、N,N,N′,N′−テト
ラキス−(2−ヒドロキシエチル)−エチレンジア
ミン及び有利にモノ−、ジ−及びトリエタノール
アミンを単独に又は混合物として。好適なアルカ
ノールアミン塩は例えば直鎖及び/又は分枝鎖モ
ノ−及び/又はジカルボン酸及び/又はスルホン
酸誘導体との前記化合物の塩である。この際モノ
−及び/又はジカルボン酸としては特に2−エチ
ルヘキシル酸、カプリル酸、イソノナン酸、カプ
リン酸及びセバシン酸を挙げることができる。好
適なスルホン酸誘導体は例えばベンゾールスルホ
ニル−N−メチル−ε−アミノカプロン酸であ
る。 この浄化剤溶液は、妨害する泡沫形成なしにこ
の薬剤をすべての温度範囲で使用可能とし、射出
可能とするような射出可能な非イオン系界面活性
剤を含有する。このような組み合わせの界面活性
剤は曇点の上で浄化剤溶液中に分散されており、
これは分離しない。これにより非常に良好で一様
な浄化効果が生じる。同時に、洗出された、あま
り自体乳化性ではない油状物質は貯蔵浴表面に分
離し、機械的に、例えば脱油用環状室又は分離装
置により分離することはこの種の組み合わせの使
用により達せられる。乳化を実質的には行なわ
ず、このことにより浴の耐用時間は著しく長くな
る。しかしながら、もし特別な場合とか、必要で
あれば場合により相応する乳化剤添加により乳化
作用は高まる。 本発明による薬剤が有するおもな利点は、浄化
工程の自動調節及び浄化剤溶液の配量を可能とす
ることである。本発明方法においては導電性を生
じさせるためにホスフエートを使用しなければな
らないということなしに、浄化剤溶液の導電性を
介して調節及び配量が行なわれる。一般に電解質
が軽金属脱離を強く高めるにもかかわらず、前記
燐酸エステルをアルカノールアミン及び/又は直
鎖及び/又は分枝鎖モノ−又はジカルボン酸及
び/又はスルホン酸誘導体のアルカノールアミン
塩と組み合わせて使用することにより実地にまさ
に適した導電性を達成するということに成功し
た。特に、この導電性組み合わせにとつてモノエ
タノールアミン(場合により他のアルカノールア
ミンの存在下に)及びモノ−及び/又はジカルボ
ン酸、有利にイソノナン酸からなる混合物が使用
される。 導電性組合せの作用及び安定化の上昇のために
ビルダー物質例えばボレート、グルコネート、水
酸化カリウム及び/又はアミノポリカルボン酸も
しくはその塩、有利にエチレンジアミン四酢酸塩
又はニトリロトリアセテートを添加する。 本発明による薬剤がそれにより所望の導電性を
示す組合わせの使用は、全組合せの範囲で全体で
0.5〜5重量%の量で行なわれる。そのPH値が7.5
〜10.5の間にある水溶液はこの際次の成分を含有
する。 アルカノールアミン 0.025〜2.5% モノ−及び/又はジカルボン酸 0.0025〜2% 並びに場合により ボレート及び/又はグルコネート0.0025〜1% 水酸化カリウム 0.005〜0.5% アミノポリカルボン酸 0.0005〜0.5% これら成分のそれぞれの濃度を、相応する工程
が水中の導電性自動配量及び調節を可能とするた
めに十分に大きいように選択する。同時にこの混
合物は析出に導びいてはならない。 場合により、本発明により浄化剤に殺生剤、例
えばヘキサヒドロトリアジンの誘導体、例えばモ
ノエタノールアミンとホルムアルデヒツドの反応
生成物を、この浄化剤の主な特性例えば浄化作用
及び不働態化作用、導電性又は低起泡性に影響を
与えずに、添加することができる。 場合により、この浄化剤に付加的に非鉄金属腐
食抑制剤、例えばメルカプトベンゾチアゾール又
はベンゾトリアゾールをも添加することができ
る。 使用溶液中での燐酸エステルの使用濃度は10〜
1000ppm、中性浄化剤としての薬剤の使用の際は
有利に10〜300ppmである。 通常の短かい処理時間の際に、良好な浄化と同
時に本発明による不働態化効果を達成するために
は使用液体中燐酸エステル約25ppmで十分であ
る。 類似の課題分野における、例えば冷却循環のよ
うな閉鎖システムにおいて不働態化剤として使用
する際には、この量は300ppmより多量であつて
よい。 本発明による方法は前記の薬剤を用いて実施
し、そのPH値は7.5〜10.5の範囲にある。燐酸エ
ステルを10〜1000ppm、有利に10〜300ppmの範
囲の濃度で含有する薬剤での浄化工程もしくは不
働態化工程は室温〜100℃、有利に35〜70℃で行
なわれる。 実施例 本発明による薬剤並びに浄化及び不働態化法を
実施例につき詳細に説明する: A 本発明による薬剤の製造 室温で撹拌下に、あらかじめ装入した多量の水
に順次、酸及びアルカリ成分、界面活性剤、非鉄
及び軽金属腐食抑制剤及び場合により殺生剤を添
加する。この際個々の例において、完全な脱塩水
(VEW)、水道水(LW)又は硫酸マグネシウム
もしくは塩化カルシウムで硬度5゜dに調節された
水(Mg2+5°dもしくはCa2+5゜d)を使用する。 B アルミニウム及び亜鉛脱離の測定 一定の濃度の試験溶液を室温で定義した水中に
配合した。試験溶液1000mlを相応するガラス容器
中で65℃に加熱した。大きさ50×100mmの試験板
をガラス製の鉤に自由懸垂させ機械的に揺動する
液体中に浸積し、このガラス容器をおおう。1時
間後、この試験片を取り去り、この液体を冷却
し、塩酸でPH=約2に調節し、この液体容積を脱
塩水で1000mlとし、この塩酸酸性溶液の1部を濾
過する。濁りが生じて、必要な場合には遠心分離
を行なつてもよい。 この透明な溶液中のアルミニウム濃度は原子吸
光により又は酢酸アンモニウムで緩衝した溶液中
のエリクロムシアニンで測光法(フイルタ−
535nm)により測定を行なうが、亜鉛濃度は原子
吸光を用いてのみ行なう。 C 抑制度の測定 亜鉛、アルミニウム及びアルミニウム合金に対
する本発明による薬剤の抑制特性をBに記載した
方法で調べる。抑制度kは次の式により計算す
る: k=a−b/a×100 k=%による抑制度 a=抑制剤なしの試験溶液中の金属イオン濃度 b=抑制剤を含有する試験溶液中の金属イオン
濃度 本発明による浄化剤の製造に使用した抑制剤の
組成は次に記載したリストから明らかである: 1 燐酸及びC1218アルカノール+10EOからな
るモノエステル、ナトリウム塩 約30%AS 2 燐酸及びC1416アルカノール+6EOからの
モノエステル、モノエタノールアミン塩
約100%AS 3 酸性ポリエーテルの燐酸エステル
(Korantin LUB(BASF)) 約100%AS 4 燐酸とC1218アルカノールからのモノエス
テル 約100%AS 5 a)ジプロピレングリコール 10部及び プロピレンオキシド 282部及び b)ポリ燐酸(84%) 30.5部 からなる反応生成物 (ここでAS=活性物質) 約100%AS 次の実施例には水溶液中の活性物質の濃度を重
量%で挙げる;この際EO=エチレンオキシド、
PO=プロピレンオキシドを表わす。 例 1 モノエタノールアミン 7% ジエタノールアミン 9% トリエタノールアミン 7% イソノナン酸 7% C911の分枝鎖カルボン酸の混合物 7% 硼 酸 5% 抑制剤1(30%) 1% イソトリデシルアルコール+3PO 5% 完全脱塩水(VEW) 52% 射出温度:35℃を上まわる。 例 2 モノエタノールアミン 7% ジエタノールアミン 9% トリエタノールアミン 7% イソノナン酸 7% C911の分枝カルボン酸の混合物 7% 硼 酸 5% 抑制剤1(30%) 3% エチレンジアミンへの30EO及び60POの付加物
3% C1218アルカノールへの2EO及び4POの付加
物 2% VEW 50% 射出温度:45℃を上まわる。 例 3 モノエタノールアミン 7% ジエタノールアミン 9% トリエタノールアミン 7% イソノナン酸 7% 分枝鎖C911カルボン酸の混合物 7% 硼 酸 5% 抑制剤1(30%) 2% 2−エチルヘキサノール+3PO 4% C1218アルカノールへの2EP及び4POの付加物
1% VEW 51% 射出温度:50℃を上まわる。 例 4 モノエタノールアミン 7% ジエタノールアミン 9% トリエタノールアミン 7% イソノナン酸 7% 分枝鎖C911カルボン酸の混合物 7% 硼 酸 5% 抑制剤1(30%) 2% C1218アルカノールへの2EO及び4POの付加
物 5% C1214アルカノールへの5EO及び4POの付加
物 3% VEW 48% 射出温度:60℃をうわまわる。 例 5 トリエタノールアミン 30% カプリル酸 10% ヘキサヒドロトリアジン誘導体 5% メルカプトベンゾチアゾール 0.5% 抑制剤1(30%) 0.3% イソトリデシルアルコールへの3POの付加生成
物 3% VEW 51.2% 射出温度:20℃をうわまわる。 例 6 トリエタノールアミン 30% カプリル酸 10% ヘキサヒドロトリアジン誘導体 5% メルカプトベンゾチアゾール 0.5% 抑制剤1(30%) 1% イソトリデシルアルコールへの3POの付加物
3% C1218アルカノールへの2EO及びPO4の付加
物 3% VEW 47.5% 射出温度:30℃を上まわる。 例 7 トリエタノールアミン 30% カプリル酸 10% ヘキサヒドロトリアジン誘導体 5% メルカプトベンゾチアゾール 0.5% 抑制剤1(30%) 0.5% C1218アルカノールへの2EO及び4POの付加
物 4% プロピレングリコール−1,2への5EO及び
3POの付加物 1% VEW 49% 射出温度:45℃をうわまわる。 例 8 トリエタノールアミン 30% カプリル酸 10% ヘキサヒドロトリアジン誘導体 5% メルカプトベンゾチアゾール 0.5% 抑制剤2 0.5% C1218アルカノールへの2EO及び4POの付加
物 3% C1214アルカノールへの5EO及び4POの付加
物 3% VEW 48% 射出温度:55℃をうわまわる。 例 9 ジエタノールアミン 20% セバシン酸 10% イソノナン酸 10% 抑制剤2 1% C1218アルカノールへの2EO及び4POの付加
物 5% VEW 54% 射出温度:60℃をうわまわる。 例 10 トリエタノールアミン 20% ベンゾールスルホニル−N−メチル−ε−アミ
ノカプロン酸 10% イソノナン酸 10% C1214アルカノールへの3POの付加物 3% 抑制剤1 2% エチレンジアミン四酢酸四ナトリウム 0.4% VEW 54.6% 射出温度:30℃を上まわる。 例 11 ジエタノールアミン 30% ベンゾールスルホニル−N−メチル−ε−アミ
ノカプロン酸 5% セバシン酸 5% カプリル酸 5% C1214アルカノールへの3POの付加物 3% C1218アルカノールへの2EO及び4POの付加
物 2% 抑制剤2 0.8% VEW 49.2% 射出温度:35℃をうわまわる。 例1〜11及び盲検a)及びb)の浄化剤のアル
ミニウム脱離値を次の第1表に記載する。
【表】
【表】 例 12〜22 例12〜22に例として記載した浄化剤は第2表中
に記載した抑制剤の他に次の成分を含有する: 水(VEW) 50% モノエタノールアミン 15% トリエタノールアミン 15% カプリル酸 10% フエルザテイツク(Versatic)10 10% この混合物をPH値9.7でLW又はVEW中の30g/
の濃度で使用した。 例12〜22の本発明による薬剤の抑制特性を第2
表中にまとめる。この際、例12,17,19及び21は
比較例であり、この例においてはこの浄化剤は本
発明による抑制剤を含有しない。
【表】 例 23〜29 例23〜29中に例として記載した浄化剤は例3中
に記載した抑制剤の他に次の成分を含有してい
る: 水(VEW) 50% モノイソプロパノールアミン 10% ジイソプロパノールアミン 10% ジエタノールアミン 10% トリエタノールアミン 10% 硼 酸 10% この混合物をPH値9.6でLW又はVEW中の25g/
の濃度で使用する。 例23〜31の本発明による薬剤の抑制特性を第3
表中に記載する。ここで例23及び27は比較例であ
り、この例の浄化剤は全く抑制剤を含有しない。
【表】 例 30〜32 例30〜32中に例として記載した浄化剤は例4表
中に記載した抑制剤の他に次の成分を含有する: VEW 50% トリエタノールアミン 50% Na−グルコネート 10% グリセリン 10% 分子量300のポリエチレングリコール 8% ベンゾトリアゾール 2% この混合物をPH値8.6でVEW中の10g/の濃
度で使用した。 例30〜32の本発明による薬剤の抑制特性を例4
中に記載する。この際、例30は比較例であり、こ
の浄化剤は本発明の抑制剤を含有していない。
【表】 例 33〜41 例33〜41に例として記載した浄化剤は第5表中
に記載された抑制剤の他に次の成分を含有する: VEW 51% モノエタノールアミン 7% ジエタノールアミン 9% トリエタノールアミン 7% イソノナン酸 7% フエルザテイツク(Versatic)911 7% 硼 酸 5% Na−グルコネート 5% プロピレングリコールへの5EO及び30POの付
加物 2% この混合物をPH値9.2でVEW又はLW中の20g/
の濃度で使用する。 例33〜41の本発明による薬剤の抑制特性を第5
表中に記載する。この際、例33,36及び39は比較
例であり、ここでは浄化剤は全く抑制剤を含有し
ない。
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 使用時にPH範囲が7.5〜10.5の間であり、燐
    酸エステルの濃度が10〜1000ppmになるように水
    希釈される、 a) 炭素原子数10〜20のアルカノールとの燐酸
    のモノエステル及び/又はジエステル、エトキ
    シル化及び/又はプロポキシル化アルカノール
    との燐酸のモノエステル及び/又はジエステル
    又はポリエチレングリコールエーテル及び/又
    はポリプロピレングリコールエーテルの燐酸エ
    ステル;もしくはこれらの水溶性塩、 b) アルカノールアミン及び/又は直鎖及び/
    又は分枝鎖のモノ−及び/又はジカルボン酸及
    び/又はスルホン酸誘導体のアルカノールアミ
    ン塩、 c) 少なくとも1種の射出可能な非イオン系界
    面活性剤並びに場合により d) ビルダー物質、殺生剤及び/又は非鉄金属
    腐食抑制剤 を含有することを特徴とする射出法における金属
    の浄化及び不働態化剤。 2 炭素原子数10〜20のエトキシル化直鎖アルカ
    ノールとの燐酸のモノエステルのアルカリ塩、ア
    ンモニウム塩及び/又はアルカノールアミン塩を
    含有する特許請求の範囲第1項記載の薬剤。 3 ビルダー物質として硼酸塩、グルコネート、
    水酸化カリウム及び/又はアミノポリカルボン酸
    もしくはその塩を含有する特許請求の範囲第1項
    又は第2項記載の薬剤。 4 a) C10〜C20のアルカノールとの燐酸のモ
    ノエステル及び/又はジエステル、エトキシル
    化及び/又はプロポキシル化アルカノールとの
    燐酸のモノエステル及び/又はジエステル又は
    ポリエチレングリコールエーテル及び/又はポ
    リプロピレングリコールエーテルの燐酸エステ
    ル;もしくはこれらの水溶性塩、 b) アルカノールアミン及び/又は直鎖及び/
    又は分枝鎖のモノ−及び/又はジカルボン酸及
    び/又はスルホン酸誘導体のアルカノールアミ
    ン塩、 c) 少なくとも1種の射出可能な非イオン系界
    面活性剤並びに場合により d) ビルダー物質、殺生剤及び/又は非鉄金属
    腐食抑制剤 を含有する薬剤の、PH範囲が7.5〜10.5の間であ
    り、燐酸エステルの濃度が10〜1000ppmである希
    釈水溶液を使用し、室温〜100℃の温度で浄化を
    行うことを特徴とする、射出法における金属の浄
    化及び不働態化法。
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