DE102007029837A1 - Zusatz für ein Reinigungs- und/oder Pflegemittel zur Verwendung in Haushaltsgeräten sowie derartiges Reinigungs- und/oder Pflegemittel - Google Patents
Zusatz für ein Reinigungs- und/oder Pflegemittel zur Verwendung in Haushaltsgeräten sowie derartiges Reinigungs- und/oder Pflegemittel Download PDFInfo
- Publication number
- DE102007029837A1 DE102007029837A1 DE102007029837A DE102007029837A DE102007029837A1 DE 102007029837 A1 DE102007029837 A1 DE 102007029837A1 DE 102007029837 A DE102007029837 A DE 102007029837A DE 102007029837 A DE102007029837 A DE 102007029837A DE 102007029837 A1 DE102007029837 A1 DE 102007029837A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- additive
- group
- cleaning
- groups
- substituted
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000000654 additive Substances 0.000 title claims abstract description 22
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 title claims abstract description 22
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 title claims abstract description 20
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title claims abstract description 17
- 238000004873 anchoring Methods 0.000 title abstract 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 10
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 9
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- -1 heterocyclic radicals Chemical class 0.000 claims description 7
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 6
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 5
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims description 4
- NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-3,3-dimethyl-7-nitro-4h-isoquinolin-1-one Chemical class C1=C([N+]([O-])=O)C=C2C(=O)N(O)C(C)(C)CC2=C1 NEAQRZUHTPSBBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims description 3
- FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene Chemical class C1=CC=C2SC=CC2=C1 FCEHBMOGCRZNNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VHMICKWLTGFITH-UHFFFAOYSA-N 2H-isoindole Chemical class C1=CC=CC2=CNC=C21 VHMICKWLTGFITH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ZPSJGADGUYYRKE-UHFFFAOYSA-N 2H-pyran-2-one Chemical compound O=C1C=CC=CO1 ZPSJGADGUYYRKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Chemical group 0.000 claims description 2
- CVQUWLDCFXOXEN-UHFFFAOYSA-N Pyran-4-one Chemical compound O=C1C=COC=C1 CVQUWLDCFXOXEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical group [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 claims description 2
- 229940111121 antirheumatic drug quinolines Drugs 0.000 claims description 2
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 2
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 claims description 2
- 150000001907 coumarones Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000004292 cyclic ethers Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000002240 furans Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000003827 glycol group Chemical group 0.000 claims description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002475 indoles Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002537 isoquinolines Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003854 isothiazoles Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002545 isoxazoles Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000002916 oxazoles Chemical class 0.000 claims description 2
- MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N oxidophosphanium Chemical group [PH3]=O MPQXHAGKBWFSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 150000003003 phosphines Chemical class 0.000 claims description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Chemical group 0.000 claims description 2
- 150000003216 pyrazines Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003217 pyrazoles Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003222 pyridines Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003230 pyrimidines Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003233 pyrroles Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000003248 quinolines Chemical class 0.000 claims description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 claims description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 claims description 2
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 claims description 2
- 229930192474 thiophene Natural products 0.000 claims description 2
- 150000003577 thiophenes Chemical class 0.000 claims description 2
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N isonitrile group Chemical group N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 125000003544 oxime group Chemical group 0.000 claims 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract description 5
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 abstract description 3
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 abstract 2
- 239000007769 metal material Substances 0.000 abstract 2
- 238000004659 sterilization and disinfection Methods 0.000 abstract 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 18
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 18
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 14
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- FTMKAMVLFVRZQX-UHFFFAOYSA-N octadecylphosphonic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCP(O)(O)=O FTMKAMVLFVRZQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 6
- 239000002094 self assembled monolayer Substances 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N hexadecane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC DCAYPVUWAIABOU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 3
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 3
- GJWAEWLHSDGBGG-UHFFFAOYSA-N hexylphosphonic acid Chemical compound CCCCCCP(O)(O)=O GJWAEWLHSDGBGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 3
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N trichloro(octadecyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl PYJJCSYBSYXGQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 1-Octanol Chemical compound CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 1-heptanol Chemical compound CCCCCCCO BBMCTIGTTCKYKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000002484 cyclic voltammetry Methods 0.000 description 2
- DZQISOJKASMITI-UHFFFAOYSA-N decyl-dioxido-oxo-$l^{5}-phosphane;hydron Chemical compound CCCCCCCCCCP(O)(O)=O DZQISOJKASMITI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N monobenzene Natural products C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003009 phosphonic acids Chemical class 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002824 redox indicator Substances 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 238000002174 soft lithography Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- LFXJGGDONSCPOF-UHFFFAOYSA-N trichloro(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl LFXJGGDONSCPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 2
- BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N (2r,3r,4s,5r)-2-[6-[[2-(3,5-dimethoxyphenyl)-2-(2-methylphenyl)ethyl]amino]purin-9-yl]-5-(hydroxymethyl)oxolane-3,4-diol Chemical compound COC1=CC(OC)=CC(C(CNC=2C=3N=CN(C=3N=CN=2)[C@H]2[C@@H]([C@H](O)[C@@H](CO)O2)O)C=2C(=CC=CC=2)C)=C1 BUHVIAUBTBOHAG-FOYDDCNASA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 1
- 125000004427 diamine group Chemical group 0.000 description 1
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 1
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000001978 electrochemical passivation Methods 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000003205 fragrance Substances 0.000 description 1
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 150000002527 isonitriles Chemical class 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000002923 oximes Chemical class 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 125000001174 sulfone group Chemical group 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- HLWCOIUDOLYBGD-UHFFFAOYSA-N trichloro(decyl)silane Chemical compound CCCCCCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl HLWCOIUDOLYBGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N trichlorosilicon Chemical group Cl[Si](Cl)Cl PPDADIYYMSXQJK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004417 unsaturated alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/0005—Other compounding ingredients characterised by their effect
- C11D3/0073—Anticorrosion compositions
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/162—Organic compounds containing Si
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/26—Organic compounds containing nitrogen
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/34—Organic compounds containing sulfur
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C11—ANIMAL OR VEGETABLE OILS, FATS, FATTY SUBSTANCES OR WAXES; FATTY ACIDS THEREFROM; DETERGENTS; CANDLES
- C11D—DETERGENT COMPOSITIONS; USE OF SINGLE SUBSTANCES AS DETERGENTS; SOAP OR SOAP-MAKING; RESIN SOAPS; RECOVERY OF GLYCEROL
- C11D3/00—Other compounding ingredients of detergent compositions covered in group C11D1/00
- C11D3/16—Organic compounds
- C11D3/36—Organic compounds containing phosphorus
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Oil, Petroleum & Natural Gas (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
Abstract
Die Erfindung betrifft einen Zusatz für ein Reinigungs- und/oder Pflegemittel zur Verwendung in Haushaltsgeräten. Erfindungsgemäß ist vorgesehen, dass der Zusatz in Form mindestens einer Verbindung vorliegt, die als lineares Molekül ausgebildet ist, welches eine Molekülkette und eine Ankergruppe aufweist, die an eine metallische Oberfläche bindet und eine korrosionsschützende monomolekulare Schicht bildet.
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft einen Zusatz für ein Reinigungs- und/oder Pflegemittel zur Verwendung in Haushaltsgeräten. Die vorliegende Erfindung betrifft ferner ein derartiges Reinigungs- und/oder Pflegemittel.
- Die vorliegende Erfindung betrifft insbesondere das Gebiet der Haushaltsgeräte, die im Betrieb korrosiven Medien ausgesetzt sind. Dazu zählen bspw. Waschmaschinen und Geschirrspüler. Die Edelstahloberflächen in derartigen Haushaltsgeräten werden stark korrosiven Medien, wie insbesondere den Waschlaugen, ausgesetzt. Dies kann in Verbindung mit Luftsauerstoff zur Korrosion der Oberflächen führen. Zusätzlich kann die Ablagerung edlerer metallischer Bestandteile bspw. aus Kleidungsstücken oder Geschirr (wie bspw. Kupferknöpfe oder Silberbesteck) in Verbindung mit der Waschlauge zu Elektrokorrosion führen. Insbesondere bei längerem Nichtgebrauch kann dieser Effekt die Qualität des Haushaltsgeräts und das äußere Erscheinungsbild negativ beeinflussen.
- Die Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht somit darin, die Gefahr der Korrosion in Haushaltsgeräten mit möglichst geringem apparativem Aufwand zu reduzieren.
- Gemäß der vorliegenden Erfindung wird diese Aufgabe dadurch gelöst, dass dem Reinigungs- und/oder Pflegemittel ein Zusatz beigefügt wird, der in Form mindestens einer Verbindung vorliegt, die als lineares Molekül ausgebildet ist, welches eine Molekülkette und eine Ankergruppe aufweist, die an eine metallisch Oberfläche bindet und eine korrosionsschützende monomolekulare Schicht bildet.
- Der erfindungsgemäße Zusatz enthält mindestens eine Verbindung, die auf den metallischen Oberflächen von Haushaltsgeräten eine monomolekulare Schicht ausbildet. Diese Schichten sind an sich bekannt und werden in der Literatur als „selbstorganisierende Monolagen" oder selbstaggregierende Monolagen (self-assembling monolayers) SAMs bezeichnet (Halik M. et al., „Low-voltage organic transistors with an amorphous molecular gate dielectric", Nature 431 (2004), 963-966; Xia Y., Whitesides G. M., „Softlithography", Angew. Chem. 110 (1998), 568-594). Bei der erfindungsgemäß zugesetzten mindestens einen Verbindung handelt es sich um ein oberflächenaktives Molekül, das beim Kontakt mit einem metallischen Substrat spontan ein molekulares Aggregat in Form einer selbstorganisierenden Monolage bildet. Bei einem derartigen Molekül lassen sich zwei funktionelle Bereiche unterscheiden, nämlich eine oberflächenaktive Ankergruppe und eine Molekülkette, die ihrerseits an ihrem freien Ende wiederum ein oder mehrere beliebige funktionelle Gruppen, die so genannten Kopfgruppen, tragen kann. Die Ankergruppe muss so beschaffen sein, dass sie mit der zu beschichtenden Oberfläche eine chemische Bindung, das heißt eine kovalente, ionische oder polare Bindung eingeht.
- Die metallischen Oberflächen der Haushaltsgeräte werden somit mit einer Schicht in Form einer selbstorganisierenden Monolage modifiziert. Diese Schicht deckt die Oberfläche des Objekts ab und bewirkt eine elektrochemische Passivierung der Oberfläche. Damit wird die Oberfläche zuverlässig gegenüber einem insbesondere wässrigen Medium, bspw. einer als wässriger Elektrolyt wirkenden Waschlauge für Waschmaschinen oder Spülmaschinen, isoliert. Die selbstorganisierende Monolage schützt die Oberfläche des damit beschichteten Objekts neben der abdeckenden Wirkung somit zuverlässig vor Korrosion. Diese Schicht ist sowohl chemisch als auch thermisch äußerst widerstandsfähig, so dass die schützende Wirkung auch bei den jeweiligen Betriebstemperaturen der Haushaltsgeräte erhalten bleibt. Da die ausgebildete Schicht monomolekular ist, liegt die Schichtdicke im Bereich einer Moleküllänge. Die Schicht dicke kann über die Kontrolle der Länge der Molekülkette frei gewählt werden.
- Vorteilhafte Weiterbildungen ergeben sich aus den Unteransprüchen.
- Die Schichtdicke der monomolekularen Schicht kann über die Kontrolle der Länge der Molekülkette frei gewählt werden und beträgt bevorzugt 0,5 bis 5,0 nm. Die mindestens eine Verbindung, welche die monomolekulare Schicht bildet, ist bevorzugt in geringen Konzentrationen von 1 ppm bis 10 mmol in dem Reinigungs- und/oder Pflegemittel enthalten.
- Die Ankergruppe wird abhängig von den chemischen und physikalischen Eigenschaften der zu beschichtenden Oberfläche ausgewählt. Bevorzugte Ankergruppen sind substituierte oder unsubstituierte Silangruppen, substituierte oder unsubstituierte Carbonylgruppen, substituierte oder unsubstituierte Phosphanoxidgruppen und substituierte oder unsubstituierte Sulfongruppen. Auch komplexere Ankersysteme wie die in der Literatur beschriebenen auf Hydroxamsäure, Oximen, Isonitrilen und Phosphinen basierenden Ankergruppen sind gut geeignet (Xia Y., Whitesides G. M., „Softlithography", Angew. Chem. 110 (1998), 568-594; Folkers J. P. et al., „Self-assembled Monolagers of Long-Chain Hydroxamic Acids an the Native Oxide of Metals", Langmiur 11(1995) 813-824).
- Die Molekülkette kann frei gewählt werden. Die Auswahl der Molekülkette wird dadurch charakterisiert, dass die Molekülkette die elektrischen Eigenschaften der entstehenden selbstorganisierenden Monolage bestimmt. Dieser Effekt ist aus Untersuchungen zum Einsatz derartiger Schichten als Dielektrikum bekannt (
DE 103 28 811 A1 ,DE 103 28 810 A1 ,DE 10 2004 025 423 A1 ,DE 10 2004 022 603 A1 ,US 2005/0189536 A1 - In einer bevorzugten Weiterbildung der vorliegenden Erfindung trägt das freie Ende der Molekülkette eine Kopfgruppe. Bevorzugt sind substituierte oder unsubstituierte, cyclische oder heterocyclische Gruppen als Kopfgruppen. Arylgruppen sind gut geeignet, da sie sich aufgrund der Ausbildung von π-π-Wechselwirkungen vorteilhaft auf die Stabilität der selbstorganisierenden Monolage auf der Oberfläche auswirken. Die Kopfgruppen können substituiert oder unsubstituiert sein. Als Substituenten kommen insbesondere gesättigte und ungesättigte Alkylgruppen in Frage, die auch Halogene, Schwefel, Stickstoff und/oder Phosphor enthalten können. Beispiele für gut geeignete Kopfgruppen sind Furane, Thiophene, Pyrrole, Oxazole, Thiazole, Imidazole, Isoxazole, Isothiazole, Pyrazole, Benzo[b]furane, Benzo[b]thiophene, Indole, 2H-Isoindole, Benzothiazole, Pyridine, Pyrazine, Pyrimidine, Pyryliumreste, α-Pyrone, γ-Pyrone, Chinoline, Isochinoline sowie Bipyridine und ihre Derivate (). Besonders bevorzugt ist die Phenoxygruppe. Die Kopfgruppe kann entweder direkt oder über einen der Reste O, N, P, C=C, C≡C mit der Molekülkette verknüpft sein.
- Beispiele für derartige erfindungsgemäß verwendete Verbindungen sind Verbindungen der allgemeinen Formeln (1) bis (4) gemäß der Darstellung der
6 . - Hierbei sind in (1) der Darstellung der
6 unabhängig voneinander R1, R2, R3 = H, Cl, Br, J, OH, O-Alkyl, wobei Alkyl = Methyl, Ethyl, n-Propyl, i-Propyl, n-Butyl, sec-Butyl, tert-Butyl sowie deren verzweigte und unverzweigte höheren Homologen. Im Sinne der Erfindung sind auch Gruppen wie Benzol oder ungesättigte Alkenylgruppen. Vorzugsweise ist wenigstens ein R1, R2, R3 nicht H. - Hierbei ist in (2) der Darstellung der
6 R4 = H, Cl, Br, J, OH, O-Si R1R2R3, O-Alkyl, wobei Alkyl = Methyl, Ethyl, n-Propyl, i-Propyl, n-Butyl, sec-Butyl, tert-Butyl sowie deren verzweigte und unverzweigte höheren Homologen, wobei R1, R2, R3 dieselbe Bedeutung wie in (1) der Darstellung der6 haben. Im Sinne der Erfindung sind auch Gruppen wie Benzyl oder ungesättigte Alkenylgruppen. Vorzugsweise sind im Rest O-Si R1R2R3 R1, R2, R3 nur Alkyl oder H. - Hierbei sind in (3) der Darstellung der
6 unabhängig voneinander R5, R6 = H, Cl, Br, J, OH, O-Alkyl, wobei Alkyl = Methyl, Ethyl, n-Propyl, i-Propyl, n-Butyl, sec-Butyl, tert-Butyl sowie deren verzweigte und unverzweigte höheren Homologen. Im Sinne der Erfindung sind auch Gruppen wie Benzyl oder ungesättigte Alkenylgruppen. - Hierbei ist in (4) der Darstellung der
6 R7 = Cl, Br, J, OH, O-Alkyl, wobei Alkyl = Methyl, Ethyl, n-Propyl, i-Propyl, n-Butyl, sec-Butyl, tert-Butyl sowie deren verzweigte und unverzweigte höheren Homologen. Im Sinne der Erfindung sind auch Gruppen wie Benzyl oder ungesättigte Alkenylgruppen. - Die selbstorganisierende Monolage wird bevorzugt aus einer verdünnten Lösung der mindestens einen Verbindung (0,001–30 Gew.-% bezogen auf die Lösung) aufgebracht, die sich aus der Verdünnung des Reinigungs- und/oder Pflegemittels mit dem Waschwasser ergibt. Je besser die chemischen und physikalischen Eigenschaften der Ankergruppe und der zu beschichtenden Oberfläche aufeinander abgestimmt sind, desto geringer kann die Konzentration der sich spontan abscheidenden mindestens einen Verbindung gewählt werden.
- Die mindestens eine Verbindung kann bspw. in fester Form mit festen Reinigungs- und/oder Pflegemitteln zu einem Reinigungstab verpresst werden. Die mindestens eine Verbindung kann ferner flüssigen Reinigungs- und/oder Pflegemitteln unmittelbar zugesetzt werden. Die mindestens eine Verbindung kann aber auch konzentriert oder verdünnt bevorzugt in einer Konzentration von 0,1 bis 1000 mMol in einem Lösemittel ge löst und in dieser Form einem flüssigen Reinigungs- und/oder Pflegemittel zugesetzt werden. Hierfür sind mit Wasser mischbare Lösemittel besonders gut geeignet. Beispiele sind Alkohole wie Methanol, n-Propanol, i-Propanol, Butanol, Pentanol, Hexanol, Heptanol, Octanol etc., cyclische Ether wie Tetrahydrofuran und Dioxan sowie Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid, N-Methylpyrrolidinon oder Cyclohexanon.
- Die Anlagerung der mindestens einen Verbindung auf der Oberfläche des zu beschichtenden Objekts, bspw. den mit Waschlauge in Kontakt kommenden Edelstahloberflächen von Haushaltsgeräten, erfolgt spontan.
- Ausführungsbeispiele der vorliegenden Erfindung werden anhand der beigefügten Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
-
1 : eine schematische Darstellung des Kontaktwinkels eines Wassertropfens auf einer erfindungsgemäß behandelten Oberfläche; -
2 : eine Graphik mit einer Zusammenstellung von Kontaktwinkelmessungen (in Grad) aufgetragen gegenüber verschiedenen Oberflächen aus den Ausführungsbeispielen; -
3 : eine Graphik der Cyclovoltametriespektren unbehandelter und erfindungsgemäß behandelter Oberflächen; -
4 : eine Graphik zur korrosionsschützenden Wirkung erfindungsgemäß behandelter Oberflächen; -
5 : eine Graphik mit Kontaktwinkelmessungen erfindungsgemäß behandelter Oberflächen; -
6 : Beispiele für chemische Verbindungen. - Beispiel 1
- Ein Edelstahlblech (Typ 1.4571) der Größe 15 mm × 25 mm (0,5 mm dick) wurde durch Spülen mit N-Methylpyrrolidon, dann durch Spülen mit Aceton und final durch Spülen mit Isopropanol entfettet. In einer wässrigen Lösung von Natriumhydrogencarbonat wurden die nativen Oxidschichten bei einem Strom von 150 mA (8 bis 10 V) durch Schalten des Edelstahlblechs als Kathode elektrochemisch entfernt. Anschließend wurde das Blech für 30 min in eine Lösung von 100 mg Octadecylphosphonsäure in 100 ml Isopropanol getaucht. Nach gründlichem Spülen mit Isopropanol und anschließendem Trocknen im Stickstoffstrom war die Oberfläche des Edelstahlblechs mit einer Monolage von Octadecylphosphonsäure versiegelt.
-
1 zeigt schematisch einen Wassertropfen1 auf einer derart behandelten Oberfläche2 eines Edelstahlblechs3 . Der Kontaktwinkel θ liegt im Bereich von 120° und demonstriert damit die starke Hydrophobisierung der Oberfläche des Edelstahlblechs. - Beispiel 2
- Anstelle eines Edelstahlblechs vom Typ 1.4571 wurde ein Edelstahlblech vom Typ 1.4301 wie in Beispiel 1 behandelt. Auch andere Typen von Edelstahlblech können derart behandelt werden.
- Beispiel 3
- Anstelle eines Edelstahlblechs wurden metallische Gegenstände aus Aluminium, Kupfer und Titan wie in Beispiel 1 behandelt. Auch Gegenstände aus anderen Metallen sowie aus Legierungen können derart behandelt werden.
- Beispiel 4
- Anstelle von Octadecylphosphonsäure wurden Hexylphosphonsäure und Decylphosphonsäure wie in den Beispielen 1 bis 3 beschrieben verwendet.
- Beispiel 5
- Anstelle von Phosphonsäuren wurden Trichlorosilylverbindungen wie in den Beispielen 1 bis 3 beschrieben verwendet. In diesen Fällen wurde wasserfreies Toluol als Lösemittel verwendet und in einer Inertatmosphäre, in diesem Fall unter Stickstoff oder Argon, gearbeitet.
-
2 zeigt eine Graphik, in der die auf einer Edelstahloberfläche gemessenen Kontaktwinkel zusammengestellt sind. - Mit der Bezugsziffer
4 ist der Kontaktwinkel für Wasser bezeichnet, mit der Bezugsziffer5 der Kontaktwinkel für Hexadecan, mit der Bezugsziffer6 der Kontaktwinkel für Ethylenglykol und mit der Bezugsziffer7 der Kontaktwinkel für DMSO. Die Punkte auf der horizontalen Achse bezeichnen mit 8 eine unbeschichtete Oberfläche, mit 9 Hexylphosphonsäure, mit 10 Decylphosphonsäure, mit 11 Octadecylphosphonsäure, mit 12 Hexyltrichlorsilan, mit 13 Decyltrichlorsilan und mit 14 Octadecyltrichlorsilan. - Dabei wurden die Moleküllänge (6 bis 18 C-Atome; Hexyl-, Decyl-, Octadecylreste), die Ankergruppe (Phosphonsäure, Trichlorosilylrest) sowie das Medium zur Messung des Kontaktwinkels (Wasser, Hexadecan, Ethylenglycol, Dimethylsulfoxid) variiert. Es zeigt sich, dass Moleküle mit Phosphonsäureanker die dichtesten selbstorganisierenden Monolagen bilden. Im Fall des Trichlorosilylankers liefert Octadecyltrichlorosilan, d. h. das längste Molekül im Test, nur wenig schlechtere Kontaktwinkel als die Moleküle mit den Phosphonsäureankern. Dies lässt den Schluss zu, dass Octadecylphosphonsäure eines der besonders bevorzugten Materialien darstellt.
- Beispiel 6
- Um die isolierenden Eigenschaften der Monolage zu evaluieren, wurden in einem Cyclovoltametrieexperiment die elektrochemischen Eigenschaften bestimmt. Ein gemäß Beispiel 1 behandeltes Edelstahlblech sowie ein unbehandeltes Edelstahlblech bildeten die Elektroden. Ein Platinblech diente als Gegenelektrode, eine Silber/Silberchloridelektrode als Referenzelektrode. Als Elektrolyt diente eine 1 M Na2SO4-Lösung, der 1 mM K3[Fe(CN)6] als Redoxindikator zugesetzt wurde. Es wurde bei einem Potentialvorschub von 50 mV/s gemessen.
-
3 zeigt klar erkennbar die Reduktion bzw. Oxidation des Redoxindikators mit einem unbehandelten Blech als Elektrode. Es ist der Strom in μA aufgetragen über dem Potential V gegen Ag/AgCl. Beim behandelten Edelstahlblech ist die Redoxaktivität fast vollständig unterbunden. Im Elektrolyten befindet sich keine Octadecylphosphonsäure, so dass eventuell auftretende Defekte nicht ausheilen können. - Beispiel 7
- In einem weiteren Cyclovoltametrieexperiment wurden gemäß Beispiel 1, 4 und 5 mit Hexylphosphonsäure, Octadecylphosphonsäure, Hexyltrichlorosilan sowie Octadecyltrichlorosilan behandelte Edelstahlbleche wie für Beispiel 7 beschrieben untersucht.
4 zeigt, dass die isolierende und damit korrosionsschützende Wirkung von Phosphonsäuren besser ist als von Silanen. Längere Ketten liefern bessere Ergebnisse als kürzere Ketten. Insgesamt betrachtet, sind jedoch alle Ergebnisse sehr gut. Es ist wiederum der Strom in μA aufgetragen über dem Potential V gegen Ag/AgCl. Die Kurven bezeichnen mit der Ziffer17 „18-Phosphonsäure", mit der Ziffer18 „6-Phosphonsäure", mit der Ziffer19 „18-Trichlorsilan" und mit der Ziffer20 „6-Trichlorsilan". - Beispiel 8
-
5 zeigt die Ergebnisse von Kontaktwinkelmessungen, die mit gemäß Beispiel 1 behandelten Edelstahlblechen erhalten wurden. Die Kontaktwinkel sind in Grad über der Beschichtungszeit aufgetragen. Dabei wurde die Eintauchzeit der Edelstahlbleche von 2 Sekunden bis 20 Stunden variiert. Es zeigte sich, dass die Beschichtung spontan erfolgt und sich die Kontaktwinkel im Rahmen statistischer Schwankungen bei verlängerter Beschichtungszeit faktisch nicht ändern. - Beispiel 9
- 100 mg Octadecylphosphonsäure wurden in 100 ml Ethanol gelöst. Dieser Lösung wurden noch Duftstoff und für den optischen Eindruck 1 mg Methylenblau zugesetzt. Das Produkt wurde in eine Sprühflasche gefüllt und war damit fertig zur Anwendung. Hierbei sprüht man die Oberfläche chirurgischer Instrumente ein und lässt das Lösemittel verdunsten. Optional kann die Oberfläche mit Wasser abgespült und mit einem weichen Tuch poliert werden.
- Beispiel 10
- Anstelle von Ethanol in Beispiel 9 wurde aus Kostengründen preisgünstigeres Isopropanol verwendet.
- Beispiel 11
- Um die Brennbarkeit der Produkte aus den Beispielen 9 und 10 herabzusetzen, wurden 100 mg Octadecylphosphonsäure in 30 ml Alkohol (Ethanol oder Isopropanol) gelöst und anschließend 70 ml Wasser zugesetzt.
- Beispiel 12
- Zur Herabsetzung der Kosten wurden 50 mg Octadecylphosphonsäure in 100 ml eines der in den Beispielen 9 bis 11 genannten Lösemittels gelöst.
- Beispiel 13
- Die Beispiele 9 bis 12 wurden mit Salzen der Octadecylphosphonsäure (Ammonium-, Natrium- und Kaliumsalze) durchgeführt. Es können auch andere Salze der Octadecylphosphonsäure verwendet werden.
- Beispiel 14
- Ein Pflege-Tab für Spülmaschinen und Waschmaschinen wurde wie folgt hergestellt: In 3 g Natriumcarbonat als Füllmaterial wurden 100 mg Octadecylphosphonsäure verrührt und verpresst. Das Pflege-Tab wurde in Kurzspülgängen der Spülmaschine bzw. Waschmaschine appliziert.
- Beispiel 15
- Standard-Spülmaschinen-Tabs wurden 10 mg Octadecylphosphonsäure zugesetzt. Die Applikation erfolgt während des normalen Wasch- und Spülvorgangs.
- ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
- Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
- Zitierte Patentliteratur
-
- - DE 10328811 A1 [0010]
- - DE 10328810 A1 [0010]
- - DE 102004025423 A1 [0010]
- - DE 102004022603 A1 [0010]
- - US 2005/0189536 A1 [0010]
- Zitierte Nicht-Patentliteratur
-
- - Halik M. et al., „Low-voltage organic transistors with an amorphous molecular gate dielectric", Nature 431 (2004), 963-966 [0005]
- - Xia Y., Whitesides G. M., „Softlithography", Angew. Chem. 110 (1998), 568-594 [0005]
- - Xia Y., Whitesides G. M., „Softlithography", Angew. Chem. 110 (1998), 568-594 [0009]
- - Folkers J. P. et al., „Self-assembled Monolagers of Long-Chain Hydroxamic Acids an the Native Oxide of Metals", Langmiur 11(1995) 813-824 [0009]
Claims (15)
- Zusatz für ein Reinigungs- und/oder Pflegemittel zur Verwendung in Haushaltsgeräten, dadurch gekennzeichnet, dass der Zusatz in Form mindestens einer Verbindung vorliegt, die als lineares Molekül ausgebildet ist, welches eine Molekülkette und eine Ankergruppe aufweist, die an eine metallisch Oberfläche bindet und eine korrosionsschützende monomolekulare Schicht bildet.
- Zusatz nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine Verbindung in einer Konzentration von 1 ppm bis 10 mmol im Reinigungs- und/oder Pflegemittel enthalten ist.
- Zusatz nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass sie eine monomolekulare Schicht mit einer Schichtdicke von 0,5 bis 5,0 nm ausbildet.
- Zusatz nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine Verbindung eine Ankergruppe enthält, die aus der Gruppe umfassend substituierte und unsubstituierte Silangruppen, substituierte und unsubstituierte Carbonylgruppen, substituierte und unsubstituierte Phosphanoxidgruppen, substituierte und unsubstituierte Sulfongruppen, substituierte oder unsubstituierte Hydroxamsäuregruppen und deren Derivate, substituierte oder unsubstituierte Oximgruppen, substituierte oder unsubstituierte Isonitrilgruppen sowie substituierte oder unsubstituierte Phosphine ausgewählt sind.
- Zusatz nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine Verbindung eine Molekülkette enthält, die aus der Gruppe umfassend Alkylketten oder fluorierte Alkylketten mit 2 bis 20, Kohlenstoffatomen, Polyethylenglycolketten und Polyethylendiaminketten ausgewählt ist.
- Zusatz nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die mindestens eine Verbindung eine Molekülkette enthält, die an ihrem freien Ende eine Kopfgruppe trägt.
- Zusatz nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Kopfgruppe aus der Gruppe umfassend substituierte oder unsubstituierte, cyclische oder heterocyclische Reste ausgewählt ist.
- Zusatz nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Kopfgruppe mindestens eine Arylgruppe enthält.
- Zusatz nach Anspruch 7 oder 8, dadurch gekennzeichnet dass die Kopfgruppe mindestens einen Substituenten aufweist, der aus der Gruppe umfassend gesättigte und ungesättigte, ggf. Halogene, Schwefel, Stickstoff und/oder Phosphor enthaltende Alkylgruppen ausgewählt ist.
- Zusatz nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass der mindestens eine Substituent aus der Gruppe umfassend Phenoxygruppen, Furane, Thiophene, Pyrrole, Oxazole, Thiazole, Imidazole, Isoxazole, Isothiazole, Pyrazole, Benzo[b]furane, Benzo[b]thiophene, Indole, 2H-Isoindole, Benzothiazole, Pyridine, Pyrazine, Pyrimidine, Pyryliumreste, α-Pyrone, γ-Pyrone, Chinoline, Isochinoline und Bipyridine sowie alle ihre Derivate ausgewählt ist.
- Zusatz nach einem der Ansprüche 6 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass die Kopfgruppe direkt oder über einen der Reste O, N, P, C=C, C≡C mit der Molekülkette verknüpft ist.
- Reinigungs- und/oder Pflegemittel zur Verwendung in Haushaltsgeräten, dadurch gekennzeichnet, dass es einen Zusatz nach einem der Ansprüche 1 bis 11 enthält.
- Reinigungs- und/oder Pflegemittel nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass es den Zusatz in gelöster Form enthält.
- Reinigungs- und/oder Pflegemittel nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, dass ein Lösemittel aus der Gruppe umfassend Alkohole, cyclische Ether, Dimethylformamid, Dimethylsulfoxid, N-Methylpyrrolidinon und Cyclohexanon vorhanden ist.
- Reinigungs- und/oder Pflegemittel nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass es den Zusatz in fester Form enthält.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102007029837A DE102007029837A1 (de) | 2007-06-28 | 2007-06-28 | Zusatz für ein Reinigungs- und/oder Pflegemittel zur Verwendung in Haushaltsgeräten sowie derartiges Reinigungs- und/oder Pflegemittel |
PCT/EP2008/057988 WO2009000820A2 (de) | 2007-06-28 | 2008-06-24 | Korrosionsschützender zusatz für flüssigkeiten |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE102007029837A DE102007029837A1 (de) | 2007-06-28 | 2007-06-28 | Zusatz für ein Reinigungs- und/oder Pflegemittel zur Verwendung in Haushaltsgeräten sowie derartiges Reinigungs- und/oder Pflegemittel |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE102007029837A1 true DE102007029837A1 (de) | 2009-01-02 |
Family
ID=40075929
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE102007029837A Withdrawn DE102007029837A1 (de) | 2007-06-28 | 2007-06-28 | Zusatz für ein Reinigungs- und/oder Pflegemittel zur Verwendung in Haushaltsgeräten sowie derartiges Reinigungs- und/oder Pflegemittel |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE102007029837A1 (de) |
Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3622401A (en) * | 1970-01-20 | 1971-11-23 | American Cyanamid Co | Chemical treatment of metal |
GB1523491A (en) * | 1976-11-23 | 1978-09-06 | Colgate Palmolive Co | Methods and compositions for cleaning ovens and the like |
DE2841641A1 (de) * | 1978-09-25 | 1980-04-03 | Henkel Kgaa | Korrosionsinhibitor fuer saure loesungen |
US4578208A (en) * | 1983-05-07 | 1986-03-25 | Henkel Kommanditgesellschaft Auf Aktien | Compositions and processes for cleaning and passivating metals |
DE4241478A1 (de) * | 1992-12-09 | 1994-06-16 | Bayer Ag | Fluorierter Carbonsäureester von Phosphono- und Phosphinocarbonsäuren sowie deren Verwendung |
WO1995007957A2 (en) * | 1993-09-17 | 1995-03-23 | Ecolab Inc. | Reduced misting oven cleaner |
DE4401104A1 (de) * | 1994-01-17 | 1995-07-20 | Henkel Kgaa | Maschinenpflegestift |
US6183815B1 (en) * | 1994-04-01 | 2001-02-06 | University Of Pittsburgh | Method and composition for surface treatment of metals |
DE19956237A1 (de) * | 1999-11-23 | 2001-05-31 | Henkel Kgaa | Emulgatorsystem und dieses enthaltende Metallbearbeitungsemulsion |
DE10328810A1 (de) | 2003-06-20 | 2005-01-20 | Infineon Technologies Ag | Syntheseverfahren für eine Verbindung zur Bildung einer selbstorganisierenden Monolage, Verbindung zur Bildung einer selbstorganisierenden Monolage und eine Schichtstruktur für ein Halbleiterbauelement |
DE10328811A1 (de) | 2003-06-20 | 2005-01-27 | Infineon Technologies Ag | Verbindung zur Bildung einer selbstorganisierenden Monolage, Schichtstruktur, Halbleiterbauelement mit einer Schichtstruktur und Verfahren zur Herstellung einer Schichtstruktur |
EP1568800A1 (de) * | 2004-02-25 | 2005-08-31 | Posco | Verfahren zum Korrosionschutz von Metallen unter Verwendung von Thiolverbindungen |
US20050189536A1 (en) | 2004-02-27 | 2005-09-01 | Ute Zschieschang | Self-assembly organic dielectric layers based on phosphonic acid derivatives |
DE102004022603A1 (de) | 2004-05-07 | 2005-12-15 | Infineon Technologies Ag | Ultradünne Dielektrika und deren Anwendung in organischen Feldeffekt-Transistoren |
DE102004025423A1 (de) | 2004-05-24 | 2005-12-22 | Infineon Technologies Ag | Dünnfilm-Feldeffekt-Transistor mit Gate-Dielektrikum aus organischem Material und Verfahren zu dessen Herstellung |
EP1206977B1 (de) * | 2000-10-06 | 2007-04-18 | Chemetall GmbH | Verfahren zur Beschichtung von Metalloberflächen |
-
2007
- 2007-06-28 DE DE102007029837A patent/DE102007029837A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3622401A (en) * | 1970-01-20 | 1971-11-23 | American Cyanamid Co | Chemical treatment of metal |
GB1523491A (en) * | 1976-11-23 | 1978-09-06 | Colgate Palmolive Co | Methods and compositions for cleaning ovens and the like |
DE2841641A1 (de) * | 1978-09-25 | 1980-04-03 | Henkel Kgaa | Korrosionsinhibitor fuer saure loesungen |
US4578208A (en) * | 1983-05-07 | 1986-03-25 | Henkel Kommanditgesellschaft Auf Aktien | Compositions and processes for cleaning and passivating metals |
DE4241478A1 (de) * | 1992-12-09 | 1994-06-16 | Bayer Ag | Fluorierter Carbonsäureester von Phosphono- und Phosphinocarbonsäuren sowie deren Verwendung |
WO1995007957A2 (en) * | 1993-09-17 | 1995-03-23 | Ecolab Inc. | Reduced misting oven cleaner |
DE4401104A1 (de) * | 1994-01-17 | 1995-07-20 | Henkel Kgaa | Maschinenpflegestift |
US6183815B1 (en) * | 1994-04-01 | 2001-02-06 | University Of Pittsburgh | Method and composition for surface treatment of metals |
DE19956237A1 (de) * | 1999-11-23 | 2001-05-31 | Henkel Kgaa | Emulgatorsystem und dieses enthaltende Metallbearbeitungsemulsion |
EP1206977B1 (de) * | 2000-10-06 | 2007-04-18 | Chemetall GmbH | Verfahren zur Beschichtung von Metalloberflächen |
DE10328810A1 (de) | 2003-06-20 | 2005-01-20 | Infineon Technologies Ag | Syntheseverfahren für eine Verbindung zur Bildung einer selbstorganisierenden Monolage, Verbindung zur Bildung einer selbstorganisierenden Monolage und eine Schichtstruktur für ein Halbleiterbauelement |
DE10328811A1 (de) | 2003-06-20 | 2005-01-27 | Infineon Technologies Ag | Verbindung zur Bildung einer selbstorganisierenden Monolage, Schichtstruktur, Halbleiterbauelement mit einer Schichtstruktur und Verfahren zur Herstellung einer Schichtstruktur |
EP1568800A1 (de) * | 2004-02-25 | 2005-08-31 | Posco | Verfahren zum Korrosionschutz von Metallen unter Verwendung von Thiolverbindungen |
US20050189536A1 (en) | 2004-02-27 | 2005-09-01 | Ute Zschieschang | Self-assembly organic dielectric layers based on phosphonic acid derivatives |
DE102004022603A1 (de) | 2004-05-07 | 2005-12-15 | Infineon Technologies Ag | Ultradünne Dielektrika und deren Anwendung in organischen Feldeffekt-Transistoren |
DE102004025423A1 (de) | 2004-05-24 | 2005-12-22 | Infineon Technologies Ag | Dünnfilm-Feldeffekt-Transistor mit Gate-Dielektrikum aus organischem Material und Verfahren zu dessen Herstellung |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
Folkers J. P. et al., "Self-assembled Monolagers of Long-Chain Hydroxamic Acids an the Native Oxide of Metals", Langmiur 11(1995) 813-824 |
Halik M. et al., "Low-voltage organic transistors with an amorphous molecular gate dielectric", Nature 431 (2004), 963-966 |
Xia Y., Whitesides G. M., "Softlithography", Angew. Chem. 110 (1998), 568-594 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE60219929T2 (de) | Verfahren zur pfropfung und zum wachstum von einem organischen elektrisch leitfähigen film auf einer oberfläche | |
EP0656958B1 (de) | Verfahren zur herstellung korrosionsgeschützter metallischer werkstoffe | |
Pernak et al. | Synthesis and properties of trigeminal tricationic ionic liquids | |
EP0656025B1 (de) | Lösung zur beschichtung von nichtleitern mit leitfähigen polymeren und verfahren zu deren metallisierung | |
EP2001961A2 (de) | Bodendickbeschichtung mit antistatischen eigenschaften | |
EP1285104B1 (de) | Elektrolyt und verfahren zur abscheidung von zinn-silber-legierungsschichten | |
DE112013006396B4 (de) | Verfahren zur Herstellung eines Anschlussverbinders sowie einen hierdurch erhältlicher Anschlussverbinder | |
DE2619670A1 (de) | Anode fuer elektrolytische prozesse | |
DE3148330A1 (de) | Verfahren zur stromlosen abscheidung von edelmetallschichten auf oberflaechen von unedlen metallen | |
DE1966931B2 (de) | Perfluoralkylsubstituierte, quartaere ammoniumsalze | |
DE1542736A1 (de) | Schaedlingsbekaempfungsmittel,insbesondere insektizide,mikrobizide und herbizide Mittel | |
DE2538179C2 (de) | 3-Alkoxy-benzo-1,2,4-triazine, Verfahren zu ihrer Herstellung sowie ihre Verwendung als Fungizide | |
DE102019219615A1 (de) | Herstellungsverfahren für Edelmetall-Elektroden | |
DE102007029837A1 (de) | Zusatz für ein Reinigungs- und/oder Pflegemittel zur Verwendung in Haushaltsgeräten sowie derartiges Reinigungs- und/oder Pflegemittel | |
TW201529886A (zh) | 金屬之表面處理方法 | |
DE102007029836A1 (de) | Zusatz für Kühlwasserkreisläufe in Kraftwerken sowie Verfahren zum Korrisionsschutz in Kühlwasserkreisläufen von Kraftwerken | |
WO2014048741A1 (de) | Salze des cyclopentadiens als n-dotierstoffe für die organische elektronik | |
WO2009000820A2 (de) | Korrosionsschützender zusatz für flüssigkeiten | |
DE3883332T2 (de) | Vorätzbehandlung eines Plastiksubstrats. | |
DE2637099A1 (de) | Verfahren zur herstellung von komposit-anordnungen mit duennschichtkomponenten und danach erhaltene bauteile | |
Thebault et al. | Self-assembled monolayers of semi-fluorinated thiols and disulfides with a potentially antibacterial terminal fragment on gold surfaces | |
DE202005010364U1 (de) | Zinnbeschichtete flexible Leiterplatten mit geringer Neigung zur Whiskerbildung | |
DE10014852A1 (de) | Verfahren zur Abscheidung einer Silber-Zinn-Legierung | |
Petty et al. | Electrochemical salt formation in bis (phthalocyaninato) ytterbium (III)–stearic acid Langmuir–Blodgett films | |
DE102008034757B4 (de) | Schichtüberzüge von Polyanilin und Polyanin-Derivaten auf Zinkoberflächen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |