JPH0586924B2 - - Google Patents

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JPH0586924B2
JPH0586924B2 JP14593686A JP14593686A JPH0586924B2 JP H0586924 B2 JPH0586924 B2 JP H0586924B2 JP 14593686 A JP14593686 A JP 14593686A JP 14593686 A JP14593686 A JP 14593686A JP H0586924 B2 JPH0586924 B2 JP H0586924B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
composition
alcohol
hydroxyalkyl
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP14593686A
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English (en)
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JPS632917A (ja
Inventor
Hiroshi Takahashi
Kunio Nagai
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sanyo Chemical Industries Ltd
Original Assignee
Sanyo Chemical Industries Ltd
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Application filed by Sanyo Chemical Industries Ltd filed Critical Sanyo Chemical Industries Ltd
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Publication of JPS632917A publication Critical patent/JPS632917A/ja
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Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 本発明は香粧品基剤組成物に関するものであ
る。 〔従来の技術〕 従来香粧品基剤組成物たとえば毛髪処理剤(ヘ
アーリンス、コンデイシヨナーなど)として第4
級アンモニウムとイソプロパノール、エタノー
ル、水又はこれらの混液とからなるものがある。 〔発明が解決しようとする問題点〕 しかしこのものは固状や粉末状となりにくく、
溶液状〜ペーストとなりまた低級アルコールの臭
気があり、作業環境上問題となつている。 〔問題を解決するための手段〕 本発明者らは固状又は粉未状で実際上、ほとん
ど臭気がなく作業環境上の問題のない香粧品基剤
組成物を得るべく鋭意研究した結果、本発明に到
達した。 すなわち、本発明は一般式
【化】 (式中、R1,R2,R3およびR4はアルキル基、
ヒドロキシアルキル基又はベンジル基であり、そ
の内1個乃至2個は炭素数10〜26のアルキル基又
は炭素数10〜26のヒドロキシアルキル基であり、
残りは炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3
のヒドロキシアルキル基又はベンジル基である。
Xはハロゲン原子である。)で示される第4級ア
ンモニウム塩(a)を30〜90重量%及び炭素数14〜24
の脂肪族1価アルコール(b)を10〜70重量%含有す
ることを特徴とする香粧品基剤組成物(以下、本
発明の組成物と略記)である。 本発明における炭素数14〜24の脂肪族1価アル
コール(b)としては、直鎖飽和1価アルコール、た
とえばテトラデシルアルコール、ヘキサデシルア
ルコール、オクタデシルアルコール、エイコシル
アルコール、ドコシルアルコール、テトラコシル
アルコールおよびこれらの2種以上の混合物があ
げられる。これらのうち好ましくは炭素数14〜20
の脂肪族1価アルコールであり、特に好ましくは
ヘキサデシルアルコールおよびオクタデシルアル
コールである。 一般式(1)においてR1,R2,R3およびR4のうち
の1個乃至2個は炭素数10〜26のアルキル基であ
り、このアルキル基としてはデシル基、ウンデシ
ル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル
基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデ
シル基、オクタデシル基、ノナデシル基、エイコ
シル基、ヘンエイコシル基、ドコシル基、トリコ
シル基、テトラコシル基、ペンタコシル基、およ
びヘキサコシル基があげられる。これらのうち好
ましくは炭素数16〜24のアルキル基であり、とく
に好ましくはヘキサデシル基、オクタデシル基お
よびテトラコシル基である。炭素数が10未満では
柔軟効果、および帯電防止効果が劣り、炭素数が
26を越えると、同様に柔軟効果、および帯電防止
効果が劣る。 また炭素数10〜24のヒドロキシアルキル基とし
てはヒドロキシデシル基、ヒドロキシウンデシル
基、ヒドロキシドデシル基、ヒドロキシトリデシ
ル基、ヒドロキシテトラデシル基、ヒドロキシペ
ンタデシル基、ヒドロキシヘキサデシル基、ヒド
ロキシヘプタデシル基、ヒドロキシオクタデシル
基、ヒドロキシノナデシル基、ヒドロキシエイコ
シル基、ヒドロキシヘンエイコシル基、ヒドロキ
シドコシル基、ヒドロキシトリコシル基、ヒドロ
キシテトラコシル基、ヒドロキシペンタコシル基
及びヒドロキシヘキサコシル基があげられる。こ
れらのうち好ましくは炭素数16〜24のヒドロキシ
アルキル基であり、とくに好ましくはヒドロキシ
ヘキサデシル基、ヒドロキシオクタデシル基およ
びヒドロキシテトラコシル基である。 アルキル基の方がヒドロキシアルキル基より好
ましい。 R1,R2,R3およびR4のうちの残りは炭素数1
〜3のアルキル基、炭素数1〜3のヒドロキシア
ルキル基またはベンジル基であり、炭素数1〜3
のアルキル基としてはメチル基、エチル基、およ
びプロピル基が、また炭素数1〜3のヒドロキシ
アルキル基としてはヒドロキシメチル基、ヒドロ
キシエチル基およびヒドロキシプロピル基があげ
られる。これらのうち好ましくは炭素数1〜2の
アルキル基および炭素数1〜2のヒドロキシアル
キル基でありとくに好ましくはメチル基である。 Xのハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子
および沃素原子があげられ、好ましくは塩素原子
である。 一般式(1)で示される第4級アンモニウム塩とし
ては具体的には一般式(1)における各記号が表−1
に示されるような化合物があげられる。
〔実施例〕
以下実施例により本発明をさらに説明するが本
発明はこれに限定されるものではない。%は重量
%である。 実施例 1 全アミン価158.9のドコシルジメチルアミン358
gおよびヘキサデシルアルコール330gをガラス
製耐圧反応装置に仕込み、60℃で気相部を窒素に
て置換したのち、撹拌下100℃にて51.5gのメチ
ルクロライドを2時間要して吹きこんだ。次いで
4時間同温度で撹拌したのち減圧下でメチルクロ
ライドを徐去し四級化物を得た。 この組成物はドコシルトリメチルアンモニウム
クロライド(a)が55%、ヘキサデシルアルコール(b)
が45%で固状であつた。これを粉砕機にて粉砕
し、実際上、ほとんど無臭の本発明の組成物を得
た。 この組成物5gに、水95g、香料0.01g、着色
料0.001gを加えてヘアーリンスを得た。 実施例 2 全アミン価208.5のヘキサデシルジメチルアミ
ン269gおよび、オクタデシルアルコール261.4g
をガラス製耐圧反応装置に仕込み、60℃で気相部
を窒素にて置換したのち撹拌下110℃で51.5gの
メチルクロライドを1.5時間要して吹き込んだ。
次いで4時間同温度で撹拌したのち減圧下でメチ
ルクロライドを除去し四級化物を得た。 この組成物はヘキサデシルトリメチルアンモニ
ウムクロライド(a)が55%、オクタデシルアルコー
ル(b)が45%で固状であつた。これを粉砕機にて粉
砕し、実際上、ほとんど無臭の本発明の組成物を
得た。 この組成物5gに水95g香料0.01g着色料
0.001gを加えてヘアーコンデイシヨナーを得た。 実施例 3 全アミン価188.9のオクタデシルジメチルアミ
ン297g及びオクタデシルアルコール182gをガラ
ス製反応装置に仕込み80℃にて気相部に窒素を通
しながら撹拌下ベンジルクロライドを3時間要し
て滴下した。次いで3時間同温度で撹拌したのち
四級化物を得た。 この組成物はオクタデシルジメチルベンジルア
ンモニウムクロライド(a)が70%オクタデシルアル
コール(b)が30%で固状であつた。これを粉砕機に
て粉砕し、実際上、ほとんど無臭の本発明の組成
物を得た。 比較例 1 全アミン価208.5のヘキサデシルジメチルアミ
ン269gとイソプロピルアルコール172gをガラス
製耐圧反応装置に仕込み、40℃にて気相部を窒素
にて置換したのち撹拌下、80℃にて51.5gのメチ
ルクロライドを1.5時間要して吹き込んだ。次い
で4時間同温度で撹拌したのち、50℃にて、メチ
ルクロライドを除去し四級化物を得た。 この組成物はヘキサデシルトリメチルアンモニ
ウムクロライド(a)が65%イソプロピルアルコール
が35%で、強いイソプロピルアルコール臭のする
半固状のものであつた。 〔発明の効果〕 本発明の組成物は従来のエタノール、イソプロ
ピルアルコールなどの低級アルコールを主に用い
る組成物と異なり、ほとんど無臭でありイソプロ
ピルアルコールやエタノールなどの臭気がなく作
業環境上問題のない香粧品基剤組成物である。ま
た本発明の組成物においては固状または粉末状で
あり従来のものにくらべ取り扱いが容易であるこ
とや、保存中、熱などによつて組成物の分離など
の心配のないことの利点も有している。 また本発明の組成物を毛髪処理剤の基剤として
用いた場合、得られる毛髪処理剤は臭気がないと
いう利点を有するとともに、一般式(1)で示される
ような第4級アンモニウム塩によるリンス効果
(柔軟効果、帯電防止効果)や脂肪族1価アルコ
ールが毛髪に対し艷を与える油成分としての利点
も有している。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 一般式 【化】 (式中、R1,R2,R3及びR4はアルキル基、ヒ
    ドロキシアルキル基又はベンジル基であり、その
    内1個乃至2個は炭素数10〜26のアルキル基又は
    炭素数10〜26のヒドロキシアルキル基であり残り
    は炭素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のヒ
    ドロキシアルキル基又はベンジル基である。Xは
    ハロゲン原子である。)で示される第4級アンモ
    ニウム塩(a)を30〜90重量%及び炭素数14〜24の脂
    肪族1価アルコール(b)を10〜70重量%含有するこ
    とを特徴とする香粧品基剤組成物。 2 (b)が直鎖の脂肪族飽和1価アルコールである
    特許請求の範囲第1項記載の組成物。
JP14593686A 1986-06-20 1986-06-20 香粧品基剤組成物 Granted JPS632917A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP14593686A JPS632917A (ja) 1986-06-20 1986-06-20 香粧品基剤組成物

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JP14593686A JPS632917A (ja) 1986-06-20 1986-06-20 香粧品基剤組成物

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JPS632917A JPS632917A (ja) 1988-01-07
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JP14593686A Granted JPS632917A (ja) 1986-06-20 1986-06-20 香粧品基剤組成物

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AU1714400A (en) * 1998-11-12 2000-06-05 Croda, Inc. Novel fatty ammonium quaternary compositions
JP3693976B2 (ja) * 2002-04-08 2005-09-14 花王株式会社 香粧品基剤組成物
CN102215807A (zh) * 2008-06-25 2011-10-12 宝洁公司 包含二十二烷基三甲基氯化铵并具有较高屈服点的毛发调理组合物
RU2464012C1 (ru) * 2008-08-08 2012-10-20 Шисейдо Компани Лтд. Композиция для кондиционирования волос

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JPS632917A (ja) 1988-01-07

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