JPS632917A - 香粧品基剤組成物 - Google Patents

香粧品基剤組成物

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JPS632917A
JPS632917A JP14593686A JP14593686A JPS632917A JP S632917 A JPS632917 A JP S632917A JP 14593686 A JP14593686 A JP 14593686A JP 14593686 A JP14593686 A JP 14593686A JP S632917 A JPS632917 A JP S632917A
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carbon atoms
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hydroxyalkyl
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JP14593686A
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Hiroshi Takahashi
博 高橋
Kunio Nagai
邦夫 永井
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Sanyo Chemical Industries Ltd
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Sanyo Chemical Industries Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は香粧品基剤組成物に関するものである。
〔従来の技術〕
従来香粧品基剤組成物たとえば毛髪処理剤(ヘアーリン
ス、コンディショナーなど)として第4級アンモニウム
とイソグロノζノール、エタノール、水又はこれらの混
液とからなるものがある。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかしこのものは固状や粉末状となシにくく、溶液状〜
ペーストとなシまた低級アルコールの臭気があり、作業
環境上問題となっている。
〔問題を解決するための手段〕
本発明者らは固状又は粉末状で実際上、はとんど臭気が
なく作業環境上の問題のない香粧品基剤組成物を得るべ
く鋭意研究した結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明は−般式 (式中、川、鳥、鳥および瓜はア/L/ギル基、ヒドロ
キシアルキル基又はベンジル基であシ・その内1個乃至
2個は炭素数10〜26のアルキル基又は炭5Hlo〜
26のヒドロキシアルキル基であシ、残りは炭素数1〜
8のアルキル基、炭素数1〜8のヒドロキシアルキル基
又はベンジル基である。
Xはハロゲン原子である。)で示される第4級アンモニ
ウム塩(a)80〜90重量%及び炭素数14 ′24
の脂肪族1価アルコ−/L/(b)を10〜70重量%
含有することを特徴とする香粧品基剤組成物(以下、本
発明の組成物と略記)である。
本発明における炭素数14〜24の脂肪族1価アルコー
ル(b)としては、直鎖飽和1価アルコール、たとえば
テトラデシルアルコール、ヘキサデシルアルコール、オ
クタデシルアルコール、エイコシルアルコール、トコシ
ルアルコール、テトラデシルアルコールおよびこれらの
2種以上の混合物があげられる。これらのうち好ましく
は炭素数14〜20の脂肪族1価アルコールであシ、特
に好ましくはヘキサデシルアルコールおよびオクタデシ
ルアルコールである。
一般式(1)において几1.馬、几、および瓜のうちの
1個乃至2個は炭素数10〜26の7 /I/ キA/
 基テアシ、このアルキル基としてはデシル基、ウンデ
シル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、
ペンタデシρ基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オ
クタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基、ヘンエイ
コシル基、トコシル基、トリデシル基、テトラコシル基
、ベンタコシル基、およびヘキサデシル基があげられる
。これらのうち好ましくは炭素数16〜24のアルキル
基であシ、とくに好ましくはヘキサデシル基、オクタデ
シル基およびテトラコシル基である。炭素数が10未満
では柔軟効果、および帯電防止効果が劣シ、炭素数が2
6を越えると、同様に柔軟効果、および帯電防止効果が
劣る。
また炭素数10〜24のヒドロキシアルキル基としては
ヒドロキシデシル基、ヒドロキシウンデシル基、ヒドロ
キシドデシル基、ヒドロキシトリデシρ基、ヒドロキシ
テトラデシル基、ヒドロキシペンタデシル基、ヒドロキ
シヘキサデシル基、ヒドロキシヘプタデシル基、ヒドロ
キシオクタデシル基1ヒドロキシノナデシル基、ヒドロ
キシエイコシル基、ヒドロキシヘンエイコシル基、ヒド
ロキシトコシル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシ
ウンデシル基、ヒドロキシペラタコシル基及びヒドロキ
シアキルコシル基があげられる。
これらのうち好ましくは炭素数16〜24のヒドロキシ
アルキル基であシ、とくに好ましくはヒドロキシヘキサ
デシル基、ヒドロキシオクタデシル基およびヒドロキシ
ウンデシル基である。
アルキル基の方がヒドロキシアルキル基よシ好ましい。
几+ 1 & lへおよび瓜のうちの残シは炭素数1〜
8 (7) 7 A/ キ/l/基、炭素数1〜8のヒ
ドロキシアルキル基またはベンジル基であシ、炭素数1
〜8のアルキル基としてはメチル基、エチル基、および
フロピル基カ、マた炭素数1〜8のヒドロキシアルキル
基としてはヒドロキシエチル基、ヒドロキシエチル基お
よびヒドロキシプロピル基があケラれる。これらのうち
好ましくは炭素数J〜2のアルキル基および炭素数1〜
2のヒドロキシアルキル基であ)とくに好ましくはメチ
ル基である。
Xのハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子および沃
素原子があげられ、好ましくは塩素原子である。
一般式(1)で示される第4級アンモニウム塩としては
具体的には一般式(1)における各記号が表−1に示さ
れるような化合物があげられる。
表−1 これらのうち特に好ましいものはヘキサデシルトリメチ
ルアンモニウムクロライド(Nnl)、オクタデジルト
リメチルアンモニウムクロライド(陽2)、およびトコ
ジルトリメチルアンモニウムクロライド(Nn8)であ
る。
本発明の組成物には(a)と(b)の他他の成分(c)
たとえばアルコール(炭素数1〜Bの1価アルコールタ
トえばエタノール、イソプロピルアルコール、多価アル
コールとして、プロピレングリコールやhfリエチレン
グリコール、1.8ブタンジオール、グリセリン、ジプ
ロピレングリコールなど)および水を含有していてもよ
い。
本発明の組成物において第4級アンモニウム塩(a)及
び脂肪族1価アルコ−v (b)の含有量は組成物の重
量にもとづいて(a)が80〜90チ、好ましくは40
〜80%、(b)が10〜70チ好ましくは20〜60
チである。
(a)が80チ未満まだは(b)が70チを越えると、
柔軟効果および帯電防止効果が十分発揮できないしくb
)が10%未満または(a)が90係を越えると実際上
作成が困難である。(C)の量は通常θ〜80チ、好ま
しくは0〜10チである。
本発明の組成物は8級アミン〔アベキル(Ct。〜C1
,)ジアルキル(C+〜Cs )アミン(たとえばオク
タデシルジメチルアミン)〕ト(b)の脂肪族1価アル
コ\−ル(たとえばヘキサデシルアルコ−/I/)およ
び必要によ!D (C)を反応装置に入れ窒素で気相部
を置換したのち温度50〜180℃で8級アミンに対し
略等モルの四級化剤〔アルキルI・ライド、(メチルク
ロライド、メチルブロマイドなど)またはアリールアル
キルハライド(ベンジルクロライドなど)〕で四級化す
ることによって得ることができる。
本発明の組成物は毛髪処理剤(ヘアーリンス、ヘアーコ
ンディショナーなど)の基剤として好適である0毛髪処
理剤を作成する場合、本発明の組成物を水で通常10〜
100倍に希釈し、必要によシ添加剤を加える。添加剤
としては高級脂肪酸の低級アルコールエステル(たとえ
ばミリスチン酸イソプロピル)非イオン界面活性剤(た
とえばぼりオキシエチレンオレイルエーテ/I/)着色
料、香料、防腐剤などがあげられる0毛髪処理剤の配合
処方例は次の通シである。チは重量%である。
(a) (D 第4 級アンモニウム塩  0.1〜1
0チ[有])の脂肪族1価アルコール  0.1〜10
チ(clのアルコールおよび水   θ〜8チ添加剤 
          0.1〜10チ水       
             8o〜99チ毛髪処理剤の
調製は通常の方法、たとえば本発明の組成物を配合槽に
投入後、水にて希釈したシ、湯を徐々に攪拌上投入する
方法で得ることができる。
毛髪処理剤の濃度は固型分で通常1〜20 %好ましく
は8〜10チである。
この毛髪処理剤の使用方法はとくに限定されず、たとえ
ば5〜15gを一旦、湯に溶解後毛髪に処理する方法、
濡らした毛髪に直接塗布する方法などがあげられる。
〔実施例〕
以下実施例によシ本発明をさらに説明するが本発明はこ
れに限定されるものではない、チは重量%である。
実施例1 全アミン価158.9のトコシルジメチルアミン858
gおよびヘキサデシルアルコール880.litをガラ
ス製耐圧反応装置に仕込み、60°Cで気相部を窒素に
て置換したのち、攪拌下100°Cにて5i、5gのメ
チルクロライドを2時間要して吹きこんだ0次いで4時
間同温度で攪拌したのち減圧下でメチルクロライドを途
去し四級化物を得た。
この組成物はトコジルトリメチルアンモニウムクロライ
ド(a)が55係、ヘキサデシルアルコール(b)が4
5チで固状であった。これ皮粉砕機にて粉砕し、実際上
、はとんど無臭の本発明の組成物を得た。
この組成物5gに、水95g、香料0.01 g、着色
料o、o o t gを加えてヘアーリンスを得た。
実施例2 全アミン価208.5のヘキサデシルジメチルアミン2
69g才よび、オクタデシルアルコール261.4gを
ガラス製耐圧反応装置に仕込み、60℃で気相部を窒素
にて置換したのち攪拌下110℃で51.5 gのメチ
ルクロライドを1.5時間要して吹き込んだ0次いで4
時間同温度で攪拌したのち減圧下でメチルクロライドを
除去し四級化物を得た。
この組成物はヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロ
ライド(a)が55チ、オクタデシルアルコール(b)
が45チで固状であった。これを粉砕機にて粉砕し、実
際上、はとんど無臭の本発明の組成物を得た。
この組成物5gに水95g香料0.01.lit着色料
0.001yを加えてヘアーコンディショナーヲ得り。
実施例8 全アミン価188.9のオクタデシルジメチルアミン2
97g及ヒオクタデシルアルコール182gをガラヌ製
反応装置に仕込み80゛0にて気相部に窒素を通しなが
ら攪拌下ベンジルクロライドを8時間要して滴下した1
次いで8時間同温度で攪拌したのち四級化物を得た。
この組成物はオクタデシルジメチルベンジルアンモニウ
ムクロライド(a)が70%オクタデシルアルコール(
blが80優で固状であった。これを粉砕機にて粉砕し
、実際上、はとんど無臭の本発明の組成物を得た。
比較例1 全アミン価208.5のへキサデシルジメチルアミン2
69.iirとイソプロピルアルコ−/L/172gを
ガラス製耐圧反応装置に仕込み、40℃にて気相部を窒
素にて置換したのち攪拌下、80″Cにて51.5gの
メチルクロライドを1.5時間要して吹き込んだ1次い
で4時間同温度で攪拌したのち、50″0にて、メチル
クロライドを除去し四級化物を得た。
この組成物はヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロ
ライド(a)が65チイソプ口ピルアルコールが85チ
で、強いイソプロピルアルコール臭のする半固状のもの
であった。
〔発明の効果〕
本発明の組成物は従来のエタノール、イソプロピルアル
コールなどの低級アルコールを主に用いる組成物と異な
シ、はとんど無臭であジイソプロピルアルコールやエタ
ノールなどの臭気がなく作業環境上問題のない香粧品基
剤組成物である。また本発明の組成物においては固状ま
たは粉末状であシ従来のものにくらべ取シ扱いが容易で
あることや、保存中、熱などによって組成物の分離など
の心配のないことの利点も有している。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中、R_1、R_2、R_3及びR_4はアルキル
    基、ヒドロキシアルキル基又はベンジル基であり、その
    内1個乃至2個は炭素数10〜26のアルキル基又は炭
    素数10〜26のヒドロキシアルキル基であり残りは炭
    素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のヒドロキシア
    ルキル基又はベンジル基である、Xはハロゲン原子であ
    る。)で示される第4級アンモニウム塩(a)を30〜
    90重量%及び炭素数14〜24の脂肪族1価アルコー
    ル(b)を10〜70重量%含有することを特徴とする
    香粧品基剤組成物。 2、(b)が直鎖の脂肪族飽和1価アルコールである特
    許請求の範囲第1項記載の組成物。
JP14593686A 1986-06-20 1986-06-20 香粧品基剤組成物 Granted JPS632917A (ja)

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JPH0586924B2 JPH0586924B2 (ja) 1993-12-14

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003300812A (ja) * 2002-04-08 2003-10-21 Kao Corp 香粧品基剤組成物
JP2010163436A (ja) * 1998-11-12 2010-07-29 Croda Inc 新規な脂肪アンモニウム第4組成物
JP4558098B2 (ja) * 2008-08-08 2010-10-06 株式会社資生堂 ヘアコンディショナー組成物
JP2011525541A (ja) * 2008-06-25 2011-09-22 ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー ベヘニルトリメチルアンモニウムクロリドを含有し、高降伏点を有するヘアコンディショニング組成物

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