JPS632917A - 香粧品基剤組成物 - Google Patents
香粧品基剤組成物Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は香粧品基剤組成物に関するものである。
従来香粧品基剤組成物たとえば毛髪処理剤(ヘアーリン
ス、コンディショナーなど)として第4級アンモニウム
とイソグロノζノール、エタノール、水又はこれらの混
液とからなるものがある。
ス、コンディショナーなど)として第4級アンモニウム
とイソグロノζノール、エタノール、水又はこれらの混
液とからなるものがある。
しかしこのものは固状や粉末状となシにくく、溶液状〜
ペーストとなシまた低級アルコールの臭気があり、作業
環境上問題となっている。
ペーストとなシまた低級アルコールの臭気があり、作業
環境上問題となっている。
本発明者らは固状又は粉末状で実際上、はとんど臭気が
なく作業環境上の問題のない香粧品基剤組成物を得るべ
く鋭意研究した結果、本発明に到達した。
なく作業環境上の問題のない香粧品基剤組成物を得るべ
く鋭意研究した結果、本発明に到達した。
すなわち、本発明は−般式
(式中、川、鳥、鳥および瓜はア/L/ギル基、ヒドロ
キシアルキル基又はベンジル基であシ・その内1個乃至
2個は炭素数10〜26のアルキル基又は炭5Hlo〜
26のヒドロキシアルキル基であシ、残りは炭素数1〜
8のアルキル基、炭素数1〜8のヒドロキシアルキル基
又はベンジル基である。
キシアルキル基又はベンジル基であシ・その内1個乃至
2個は炭素数10〜26のアルキル基又は炭5Hlo〜
26のヒドロキシアルキル基であシ、残りは炭素数1〜
8のアルキル基、炭素数1〜8のヒドロキシアルキル基
又はベンジル基である。
Xはハロゲン原子である。)で示される第4級アンモニ
ウム塩(a)80〜90重量%及び炭素数14 ′24
の脂肪族1価アルコ−/L/(b)を10〜70重量%
含有することを特徴とする香粧品基剤組成物(以下、本
発明の組成物と略記)である。
ウム塩(a)80〜90重量%及び炭素数14 ′24
の脂肪族1価アルコ−/L/(b)を10〜70重量%
含有することを特徴とする香粧品基剤組成物(以下、本
発明の組成物と略記)である。
本発明における炭素数14〜24の脂肪族1価アルコー
ル(b)としては、直鎖飽和1価アルコール、たとえば
テトラデシルアルコール、ヘキサデシルアルコール、オ
クタデシルアルコール、エイコシルアルコール、トコシ
ルアルコール、テトラデシルアルコールおよびこれらの
2種以上の混合物があげられる。これらのうち好ましく
は炭素数14〜20の脂肪族1価アルコールであシ、特
に好ましくはヘキサデシルアルコールおよびオクタデシ
ルアルコールである。
ル(b)としては、直鎖飽和1価アルコール、たとえば
テトラデシルアルコール、ヘキサデシルアルコール、オ
クタデシルアルコール、エイコシルアルコール、トコシ
ルアルコール、テトラデシルアルコールおよびこれらの
2種以上の混合物があげられる。これらのうち好ましく
は炭素数14〜20の脂肪族1価アルコールであシ、特
に好ましくはヘキサデシルアルコールおよびオクタデシ
ルアルコールである。
一般式(1)において几1.馬、几、および瓜のうちの
1個乃至2個は炭素数10〜26の7 /I/ キA/
基テアシ、このアルキル基としてはデシル基、ウンデ
シル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、
ペンタデシρ基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オ
クタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基、ヘンエイ
コシル基、トコシル基、トリデシル基、テトラコシル基
、ベンタコシル基、およびヘキサデシル基があげられる
。これらのうち好ましくは炭素数16〜24のアルキル
基であシ、とくに好ましくはヘキサデシル基、オクタデ
シル基およびテトラコシル基である。炭素数が10未満
では柔軟効果、および帯電防止効果が劣シ、炭素数が2
6を越えると、同様に柔軟効果、および帯電防止効果が
劣る。
1個乃至2個は炭素数10〜26の7 /I/ キA/
基テアシ、このアルキル基としてはデシル基、ウンデ
シル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、
ペンタデシρ基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オ
クタデシル基、ノナデシル基、エイコシル基、ヘンエイ
コシル基、トコシル基、トリデシル基、テトラコシル基
、ベンタコシル基、およびヘキサデシル基があげられる
。これらのうち好ましくは炭素数16〜24のアルキル
基であシ、とくに好ましくはヘキサデシル基、オクタデ
シル基およびテトラコシル基である。炭素数が10未満
では柔軟効果、および帯電防止効果が劣シ、炭素数が2
6を越えると、同様に柔軟効果、および帯電防止効果が
劣る。
また炭素数10〜24のヒドロキシアルキル基としては
ヒドロキシデシル基、ヒドロキシウンデシル基、ヒドロ
キシドデシル基、ヒドロキシトリデシρ基、ヒドロキシ
テトラデシル基、ヒドロキシペンタデシル基、ヒドロキ
シヘキサデシル基、ヒドロキシヘプタデシル基、ヒドロ
キシオクタデシル基1ヒドロキシノナデシル基、ヒドロ
キシエイコシル基、ヒドロキシヘンエイコシル基、ヒド
ロキシトコシル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシ
ウンデシル基、ヒドロキシペラタコシル基及びヒドロキ
シアキルコシル基があげられる。
ヒドロキシデシル基、ヒドロキシウンデシル基、ヒドロ
キシドデシル基、ヒドロキシトリデシρ基、ヒドロキシ
テトラデシル基、ヒドロキシペンタデシル基、ヒドロキ
シヘキサデシル基、ヒドロキシヘプタデシル基、ヒドロ
キシオクタデシル基1ヒドロキシノナデシル基、ヒドロ
キシエイコシル基、ヒドロキシヘンエイコシル基、ヒド
ロキシトコシル基、ヒドロキシアルキル基、ヒドロキシ
ウンデシル基、ヒドロキシペラタコシル基及びヒドロキ
シアキルコシル基があげられる。
これらのうち好ましくは炭素数16〜24のヒドロキシ
アルキル基であシ、とくに好ましくはヒドロキシヘキサ
デシル基、ヒドロキシオクタデシル基およびヒドロキシ
ウンデシル基である。
アルキル基であシ、とくに好ましくはヒドロキシヘキサ
デシル基、ヒドロキシオクタデシル基およびヒドロキシ
ウンデシル基である。
アルキル基の方がヒドロキシアルキル基よシ好ましい。
几+ 1 & lへおよび瓜のうちの残シは炭素数1〜
8 (7) 7 A/ キ/l/基、炭素数1〜8のヒ
ドロキシアルキル基またはベンジル基であシ、炭素数1
〜8のアルキル基としてはメチル基、エチル基、および
フロピル基カ、マた炭素数1〜8のヒドロキシアルキル
基としてはヒドロキシエチル基、ヒドロキシエチル基お
よびヒドロキシプロピル基があケラれる。これらのうち
好ましくは炭素数J〜2のアルキル基および炭素数1〜
2のヒドロキシアルキル基であ)とくに好ましくはメチ
ル基である。
8 (7) 7 A/ キ/l/基、炭素数1〜8のヒ
ドロキシアルキル基またはベンジル基であシ、炭素数1
〜8のアルキル基としてはメチル基、エチル基、および
フロピル基カ、マた炭素数1〜8のヒドロキシアルキル
基としてはヒドロキシエチル基、ヒドロキシエチル基お
よびヒドロキシプロピル基があケラれる。これらのうち
好ましくは炭素数J〜2のアルキル基および炭素数1〜
2のヒドロキシアルキル基であ)とくに好ましくはメチ
ル基である。
Xのハロゲン原子としては塩素原子、臭素原子および沃
素原子があげられ、好ましくは塩素原子である。
素原子があげられ、好ましくは塩素原子である。
一般式(1)で示される第4級アンモニウム塩としては
具体的には一般式(1)における各記号が表−1に示さ
れるような化合物があげられる。
具体的には一般式(1)における各記号が表−1に示さ
れるような化合物があげられる。
表−1
これらのうち特に好ましいものはヘキサデシルトリメチ
ルアンモニウムクロライド(Nnl)、オクタデジルト
リメチルアンモニウムクロライド(陽2)、およびトコ
ジルトリメチルアンモニウムクロライド(Nn8)であ
る。
ルアンモニウムクロライド(Nnl)、オクタデジルト
リメチルアンモニウムクロライド(陽2)、およびトコ
ジルトリメチルアンモニウムクロライド(Nn8)であ
る。
本発明の組成物には(a)と(b)の他他の成分(c)
たとえばアルコール(炭素数1〜Bの1価アルコールタ
トえばエタノール、イソプロピルアルコール、多価アル
コールとして、プロピレングリコールやhfリエチレン
グリコール、1.8ブタンジオール、グリセリン、ジプ
ロピレングリコールなど)および水を含有していてもよ
い。
たとえばアルコール(炭素数1〜Bの1価アルコールタ
トえばエタノール、イソプロピルアルコール、多価アル
コールとして、プロピレングリコールやhfリエチレン
グリコール、1.8ブタンジオール、グリセリン、ジプ
ロピレングリコールなど)および水を含有していてもよ
い。
本発明の組成物において第4級アンモニウム塩(a)及
び脂肪族1価アルコ−v (b)の含有量は組成物の重
量にもとづいて(a)が80〜90チ、好ましくは40
〜80%、(b)が10〜70チ好ましくは20〜60
チである。
び脂肪族1価アルコ−v (b)の含有量は組成物の重
量にもとづいて(a)が80〜90チ、好ましくは40
〜80%、(b)が10〜70チ好ましくは20〜60
チである。
(a)が80チ未満まだは(b)が70チを越えると、
柔軟効果および帯電防止効果が十分発揮できないしくb
)が10%未満または(a)が90係を越えると実際上
作成が困難である。(C)の量は通常θ〜80チ、好ま
しくは0〜10チである。
柔軟効果および帯電防止効果が十分発揮できないしくb
)が10%未満または(a)が90係を越えると実際上
作成が困難である。(C)の量は通常θ〜80チ、好ま
しくは0〜10チである。
本発明の組成物は8級アミン〔アベキル(Ct。〜C1
,)ジアルキル(C+〜Cs )アミン(たとえばオク
タデシルジメチルアミン)〕ト(b)の脂肪族1価アル
コ\−ル(たとえばヘキサデシルアルコ−/I/)およ
び必要によ!D (C)を反応装置に入れ窒素で気相部
を置換したのち温度50〜180℃で8級アミンに対し
略等モルの四級化剤〔アルキルI・ライド、(メチルク
ロライド、メチルブロマイドなど)またはアリールアル
キルハライド(ベンジルクロライドなど)〕で四級化す
ることによって得ることができる。
,)ジアルキル(C+〜Cs )アミン(たとえばオク
タデシルジメチルアミン)〕ト(b)の脂肪族1価アル
コ\−ル(たとえばヘキサデシルアルコ−/I/)およ
び必要によ!D (C)を反応装置に入れ窒素で気相部
を置換したのち温度50〜180℃で8級アミンに対し
略等モルの四級化剤〔アルキルI・ライド、(メチルク
ロライド、メチルブロマイドなど)またはアリールアル
キルハライド(ベンジルクロライドなど)〕で四級化す
ることによって得ることができる。
本発明の組成物は毛髪処理剤(ヘアーリンス、ヘアーコ
ンディショナーなど)の基剤として好適である0毛髪処
理剤を作成する場合、本発明の組成物を水で通常10〜
100倍に希釈し、必要によシ添加剤を加える。添加剤
としては高級脂肪酸の低級アルコールエステル(たとえ
ばミリスチン酸イソプロピル)非イオン界面活性剤(た
とえばぼりオキシエチレンオレイルエーテ/I/)着色
料、香料、防腐剤などがあげられる0毛髪処理剤の配合
処方例は次の通シである。チは重量%である。
ンディショナーなど)の基剤として好適である0毛髪処
理剤を作成する場合、本発明の組成物を水で通常10〜
100倍に希釈し、必要によシ添加剤を加える。添加剤
としては高級脂肪酸の低級アルコールエステル(たとえ
ばミリスチン酸イソプロピル)非イオン界面活性剤(た
とえばぼりオキシエチレンオレイルエーテ/I/)着色
料、香料、防腐剤などがあげられる0毛髪処理剤の配合
処方例は次の通シである。チは重量%である。
(a) (D 第4 級アンモニウム塩 0.1〜1
0チ[有])の脂肪族1価アルコール 0.1〜10
チ(clのアルコールおよび水 θ〜8チ添加剤
0.1〜10チ水
8o〜99チ毛髪処理剤の
調製は通常の方法、たとえば本発明の組成物を配合槽に
投入後、水にて希釈したシ、湯を徐々に攪拌上投入する
方法で得ることができる。
0チ[有])の脂肪族1価アルコール 0.1〜10
チ(clのアルコールおよび水 θ〜8チ添加剤
0.1〜10チ水
8o〜99チ毛髪処理剤の
調製は通常の方法、たとえば本発明の組成物を配合槽に
投入後、水にて希釈したシ、湯を徐々に攪拌上投入する
方法で得ることができる。
毛髪処理剤の濃度は固型分で通常1〜20 %好ましく
は8〜10チである。
は8〜10チである。
この毛髪処理剤の使用方法はとくに限定されず、たとえ
ば5〜15gを一旦、湯に溶解後毛髪に処理する方法、
濡らした毛髪に直接塗布する方法などがあげられる。
ば5〜15gを一旦、湯に溶解後毛髪に処理する方法、
濡らした毛髪に直接塗布する方法などがあげられる。
以下実施例によシ本発明をさらに説明するが本発明はこ
れに限定されるものではない、チは重量%である。
れに限定されるものではない、チは重量%である。
実施例1
全アミン価158.9のトコシルジメチルアミン858
gおよびヘキサデシルアルコール880.litをガラ
ス製耐圧反応装置に仕込み、60°Cで気相部を窒素に
て置換したのち、攪拌下100°Cにて5i、5gのメ
チルクロライドを2時間要して吹きこんだ0次いで4時
間同温度で攪拌したのち減圧下でメチルクロライドを途
去し四級化物を得た。
gおよびヘキサデシルアルコール880.litをガラ
ス製耐圧反応装置に仕込み、60°Cで気相部を窒素に
て置換したのち、攪拌下100°Cにて5i、5gのメ
チルクロライドを2時間要して吹きこんだ0次いで4時
間同温度で攪拌したのち減圧下でメチルクロライドを途
去し四級化物を得た。
この組成物はトコジルトリメチルアンモニウムクロライ
ド(a)が55係、ヘキサデシルアルコール(b)が4
5チで固状であった。これ皮粉砕機にて粉砕し、実際上
、はとんど無臭の本発明の組成物を得た。
ド(a)が55係、ヘキサデシルアルコール(b)が4
5チで固状であった。これ皮粉砕機にて粉砕し、実際上
、はとんど無臭の本発明の組成物を得た。
この組成物5gに、水95g、香料0.01 g、着色
料o、o o t gを加えてヘアーリンスを得た。
料o、o o t gを加えてヘアーリンスを得た。
実施例2
全アミン価208.5のヘキサデシルジメチルアミン2
69g才よび、オクタデシルアルコール261.4gを
ガラス製耐圧反応装置に仕込み、60℃で気相部を窒素
にて置換したのち攪拌下110℃で51.5 gのメチ
ルクロライドを1.5時間要して吹き込んだ0次いで4
時間同温度で攪拌したのち減圧下でメチルクロライドを
除去し四級化物を得た。
69g才よび、オクタデシルアルコール261.4gを
ガラス製耐圧反応装置に仕込み、60℃で気相部を窒素
にて置換したのち攪拌下110℃で51.5 gのメチ
ルクロライドを1.5時間要して吹き込んだ0次いで4
時間同温度で攪拌したのち減圧下でメチルクロライドを
除去し四級化物を得た。
この組成物はヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロ
ライド(a)が55チ、オクタデシルアルコール(b)
が45チで固状であった。これを粉砕機にて粉砕し、実
際上、はとんど無臭の本発明の組成物を得た。
ライド(a)が55チ、オクタデシルアルコール(b)
が45チで固状であった。これを粉砕機にて粉砕し、実
際上、はとんど無臭の本発明の組成物を得た。
この組成物5gに水95g香料0.01.lit着色料
0.001yを加えてヘアーコンディショナーヲ得り。
0.001yを加えてヘアーコンディショナーヲ得り。
実施例8
全アミン価188.9のオクタデシルジメチルアミン2
97g及ヒオクタデシルアルコール182gをガラヌ製
反応装置に仕込み80゛0にて気相部に窒素を通しなが
ら攪拌下ベンジルクロライドを8時間要して滴下した1
次いで8時間同温度で攪拌したのち四級化物を得た。
97g及ヒオクタデシルアルコール182gをガラヌ製
反応装置に仕込み80゛0にて気相部に窒素を通しなが
ら攪拌下ベンジルクロライドを8時間要して滴下した1
次いで8時間同温度で攪拌したのち四級化物を得た。
この組成物はオクタデシルジメチルベンジルアンモニウ
ムクロライド(a)が70%オクタデシルアルコール(
blが80優で固状であった。これを粉砕機にて粉砕し
、実際上、はとんど無臭の本発明の組成物を得た。
ムクロライド(a)が70%オクタデシルアルコール(
blが80優で固状であった。これを粉砕機にて粉砕し
、実際上、はとんど無臭の本発明の組成物を得た。
比較例1
全アミン価208.5のへキサデシルジメチルアミン2
69.iirとイソプロピルアルコ−/L/172gを
ガラス製耐圧反応装置に仕込み、40℃にて気相部を窒
素にて置換したのち攪拌下、80″Cにて51.5gの
メチルクロライドを1.5時間要して吹き込んだ1次い
で4時間同温度で攪拌したのち、50″0にて、メチル
クロライドを除去し四級化物を得た。
69.iirとイソプロピルアルコ−/L/172gを
ガラス製耐圧反応装置に仕込み、40℃にて気相部を窒
素にて置換したのち攪拌下、80″Cにて51.5gの
メチルクロライドを1.5時間要して吹き込んだ1次い
で4時間同温度で攪拌したのち、50″0にて、メチル
クロライドを除去し四級化物を得た。
この組成物はヘキサデシルトリメチルアンモニウムクロ
ライド(a)が65チイソプ口ピルアルコールが85チ
で、強いイソプロピルアルコール臭のする半固状のもの
であった。
ライド(a)が65チイソプ口ピルアルコールが85チ
で、強いイソプロピルアルコール臭のする半固状のもの
であった。
本発明の組成物は従来のエタノール、イソプロピルアル
コールなどの低級アルコールを主に用いる組成物と異な
シ、はとんど無臭であジイソプロピルアルコールやエタ
ノールなどの臭気がなく作業環境上問題のない香粧品基
剤組成物である。また本発明の組成物においては固状ま
たは粉末状であシ従来のものにくらべ取シ扱いが容易で
あることや、保存中、熱などによって組成物の分離など
の心配のないことの利点も有している。
コールなどの低級アルコールを主に用いる組成物と異な
シ、はとんど無臭であジイソプロピルアルコールやエタ
ノールなどの臭気がなく作業環境上問題のない香粧品基
剤組成物である。また本発明の組成物においては固状ま
たは粉末状であシ従来のものにくらべ取シ扱いが容易で
あることや、保存中、熱などによって組成物の分離など
の心配のないことの利点も有している。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、一般式 ▲数式、化学式、表等があります▼(1) (式中、R_1、R_2、R_3及びR_4はアルキル
基、ヒドロキシアルキル基又はベンジル基であり、その
内1個乃至2個は炭素数10〜26のアルキル基又は炭
素数10〜26のヒドロキシアルキル基であり残りは炭
素数1〜3のアルキル基、炭素数1〜3のヒドロキシア
ルキル基又はベンジル基である、Xはハロゲン原子であ
る。)で示される第4級アンモニウム塩(a)を30〜
90重量%及び炭素数14〜24の脂肪族1価アルコー
ル(b)を10〜70重量%含有することを特徴とする
香粧品基剤組成物。 2、(b)が直鎖の脂肪族飽和1価アルコールである特
許請求の範囲第1項記載の組成物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14593686A JPS632917A (ja) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | 香粧品基剤組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP14593686A JPS632917A (ja) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | 香粧品基剤組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS632917A true JPS632917A (ja) | 1988-01-07 |
JPH0586924B2 JPH0586924B2 (ja) | 1993-12-14 |
Family
ID=15396493
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP14593686A Granted JPS632917A (ja) | 1986-06-20 | 1986-06-20 | 香粧品基剤組成物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS632917A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2003300812A (ja) * | 2002-04-08 | 2003-10-21 | Kao Corp | 香粧品基剤組成物 |
JP2010163436A (ja) * | 1998-11-12 | 2010-07-29 | Croda Inc | 新規な脂肪アンモニウム第4組成物 |
JP4558098B2 (ja) * | 2008-08-08 | 2010-10-06 | 株式会社資生堂 | ヘアコンディショナー組成物 |
JP2011525541A (ja) * | 2008-06-25 | 2011-09-22 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー | ベヘニルトリメチルアンモニウムクロリドを含有し、高降伏点を有するヘアコンディショニング組成物 |
-
1986
- 1986-06-20 JP JP14593686A patent/JPS632917A/ja active Granted
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010163436A (ja) * | 1998-11-12 | 2010-07-29 | Croda Inc | 新規な脂肪アンモニウム第4組成物 |
JP2003300812A (ja) * | 2002-04-08 | 2003-10-21 | Kao Corp | 香粧品基剤組成物 |
JP2011525541A (ja) * | 2008-06-25 | 2011-09-22 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー | ベヘニルトリメチルアンモニウムクロリドを含有し、高降伏点を有するヘアコンディショニング組成物 |
JP2012508688A (ja) * | 2008-06-25 | 2012-04-12 | ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー | セチルトリメチルアンモニウムクロリド含有ヘアコンディショニング組成物 |
JP4558098B2 (ja) * | 2008-08-08 | 2010-10-06 | 株式会社資生堂 | ヘアコンディショナー組成物 |
JPWO2010016591A1 (ja) * | 2008-08-08 | 2012-01-26 | 株式会社 資生堂 | ヘアコンディショナー組成物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH0586924B2 (ja) | 1993-12-14 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
EXPY | Cancellation because of completion of term |