JPH0582145B2 - - Google Patents

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JPH0582145B2
JPH0582145B2 JP60203213A JP20321385A JPH0582145B2 JP H0582145 B2 JPH0582145 B2 JP H0582145B2 JP 60203213 A JP60203213 A JP 60203213A JP 20321385 A JP20321385 A JP 20321385A JP H0582145 B2 JPH0582145 B2 JP H0582145B2
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pump
substrate
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Daburyu Ro Perii
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Texas Instruments Inc
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    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05FSYSTEMS FOR REGULATING ELECTRIC OR MAGNETIC VARIABLES
    • G05F3/00Non-retroactive systems for regulating electric variables by using an uncontrolled element, or an uncontrolled combination of elements, such element or such combination having self-regulating properties
    • G05F3/02Regulating voltage or current
    • G05F3/08Regulating voltage or current wherein the variable is dc
    • G05F3/10Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics
    • G05F3/16Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices
    • G05F3/20Regulating voltage or current wherein the variable is dc using uncontrolled devices with non-linear characteristics being semiconductor devices using diode- transistor combinations
    • G05F3/205Substrate bias-voltage generators

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
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  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Radar, Positioning & Navigation (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
  • Dc-Dc Converters (AREA)
  • Dram (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明は半導体装置、更に具体的に云えば、
マイクロプロセツサ又はメモリ装置等の様な
VLSI半導体集積回路に対する基板バイアス発生
器回路に関する。
従来の技術及び問題点 MOS LSI装置に対する基板バイアス発生器回
路は、例えばペリーW.ロウに付与された米国特
許第4115710号及びG.R.Mラオ及びC.N.レデイに
より1982年9月14日に出願された米国特許出願第
418899号(何れもテキサス・インスツルメンツ社
に譲渡されている)に記載される様に構成されて
いる。然し、ハイレベル・マイクロプロセツサ又
は現在設計中のダイナミツクRAMの様な密度が
非常に高い装置は、更に条件が厳しい。動作モー
ド及び待機モードの両方の間の調整作用及び消費
電力の問題が一層厳しい。
問題点を解決する為の手段及び作用 この発明の主な目的は、マイクロプロセツサの
様な半導体装置に対する改良された基板バイアス
発生器回路を提供することである。別の目的は、
更に効率がよくて一層高速に動作する電荷ポンプ
回路を提供することである。別の目的は、動作時
及び待機時の消費電力を減少させる基板バイアス
発生器を提供することである。
この発明の一実施例では、半導体装置の基板に
負のバイアスを発生する基板ポンプ回路が、発振
器の出力をポンプ節に結合するキヤパシタと、ポ
ンプ節をアース端子並びに基板の節に結合する
MOSダイオードとを用いる。基板の節に対する
MOSダイオードは、相補形のポンプ回路によつ
て制御される能動スイツチとして構成されてい
る。この回路は各々のポンプ・サイクルで、より
多くの電荷をポンピング・キヤパシタから基板の
静電容量に転送することが出来る様にする。更に
ポンプされた電荷が、順バイアスの注入接合を介
してではなく、オーミツク接続部を介して直接的
に基板に送出される。
この発明に特有と考えられる新規な特徴は特許
請求の範囲に記載してあるが、この発明自体並び
にその他の特徴及び利点は、以下図面について詳
しく説明する所から最もよく理解されよう。
実施例 基板電圧発生器又はポンプ回路は単純な電圧ダ
ブラ回路であり、バイポーラ・ダイオードの代り
にMOSトランジスタを使うのが普通である。第
1図の典型的なポンプ回路では、発振器10がド
ライバー(駆動)回路11に対して選ばれた周波
数の入力を発生し、こうしてこの駆動回路11の
出力節12は交互に強制的に+Vdd及びアースに
される。節14に接続されたポンプキヤパシタ1
3が、駆動回路の出力の1に向う縁で節14を高
にし、0に向う縁で低にしようとする。然し、ゲ
ートをソースに短絡したトランジスタ15がダイ
オードとして作用し、即ち一方向に導電し、1に
向う縁で節14を正にさせない。0に向う縁で、
キヤパシタ13が節14を負のレベルに引張ろう
とし、(ダイオードとして接続された)トランジ
スタ16が基板から導電することが出来る。基板
17は、この点で節14よりも更に正であれば、
トランジスタ16を介して導電し、この為基板が
負の電圧−Vbbにポンプされる。接合ダイオード
18は節14のソース/ドレインN+拡散部とP
形基板17の間の接合を表わす(極性はN−チヤ
ンネルのMOS処理の場合に対して示してある)
駆動回路の出力12が高になると、トランジスタ
15が節14をトランジスタ15の閾値電圧Vt1
に大体等しい電圧にクランプするので、キヤパシ
タ13はVdd−Vt1にプリチヤージされる。ポン
プ行程で節12が低になると、トランジスタ15
によつて形成されたMOSダイオードがターンオ
フし、この為節14も低になる。節14が基板1
7の電圧よりも十分に更に負になると、トランジ
スタ17並びに/又は接合ダイオード18によつ
て形成されたMOSダイオードが導電を開始し、
この為、電荷がキヤパシタ13から基板17の静
電容量Cssに転送される。基板をポンプし得る最
も負の電圧−Vbbは −(Vdd−Vt1−Vt2)又は −(Vdd−Vt1−Vd1)の何れかである。
ここでVt1は基板効果(body effect)を含む
トランジスタ15の閾値電圧であり、Vt2はVbs
=0(基板効果なし)の時のトランジスタ16の
閾値電圧であり、Vd1はダイオード18の順方向
ダイオード効果である。
或るNチヤンネル・プロセスでは、自然の閾値
電圧が0に近く、常に正である時、打込みをして
いない、即ち「自然のままの」トランジスタをト
ランジスタ16として使うことが出来る。この
時、トランジスタ16は、ダイオード18の代り
に、ポンプされる電荷転送の大部分を通す位に大
きく作ることが出来る。自然の閾値が時々負にな
れば、正の閾値電圧を保証する為に閾値調節用の
打込みを使う場合、トランジスタ16を使うこと
が出来る。然し、調節された閾値がVd1より高い
場合、ダイオード18が大部分の電荷を通し、ト
ランジスタ16は必要でなくなる。
然し、ダイオード18を介してポンプされる電
荷を通すことは一般的に望ましくない。これはシ
リコン表面に於ける電荷の局部的な注入になるか
らである。非抵抗の大きい基板では、注入電荷が
チツプを横切つてかなりの距離にわたつて移動す
ることがあり、その結果ダイナミツク記憶装置の
節にとつての信頼性の問題が生ずる。
第2図について説明すると、この発明による改
良された回路は相補形ポンプを用い、トランジス
タ16を能動スイツチとして構成している。この
図には基本的な回路を示してあり、図面を簡単に
する為に接合ダイオードを省略してある。トラン
ジスタ20,21、ポンプ・キヤパシタ22及び
駆動段23で構成される相補形ポンプ段が、第1
図の従来のポンプ段として構成されることが示さ
れているが、この変更した段では、ポンプ節24
がトランジスタ16をゲートする点が異なる。第
1段の出力25が低であり、節24が V3=−(Vdd−Vt3−Vt4)であると仮定する。
この時、第2段の出力節12は高であり、節14
はVt1である。基板電圧Vbbが第1段11によつ
てポンプシ得る最大値である場合、Vbb=−
(Vdd−Vt3−Vt4)=V3である。従つて、トラン
ジスタ16では、ゲート電圧Vg=V3=Vs=Vbb
であり、従つてトランジスタ16はカツトオフで
ある。この時、交代的な半サイクルで、節25が
Vddになり、節24が+Vt3に向う。この時、節
12の第2段11の出力が低になり始める少し前
に、トランジスタ16が導電を開始する。節12
が低になるまでのこの短い時間の間、若干の基板
の電荷が節14に転送され、節14の電圧を下
げ、MOSダイオード15を(それがまだオフで
なければ)ターンオフする。この基板の電荷は失
われず、節12が低になつて、節14を低に駆動
する時、基板に戻される。トランジスタ16がポ
ンプ行程の間、良好なゲート駆動を維持するの
で、トランジスタ16でVds=0の場合に対応し
て、一杯のプリチヤージ電圧(Vdd−Vt1)を基
板17に転送することが出来る。最終的にポンプ
し得る基板電圧−Vbbの最大値は、この時 (Vdd−Vt1)であり、第1図の従来の回路に
較べて、−Vt2だけ改善されている。
−Vbbが−(Vdd−Vt1)に等しい状態に近づ
く時、MOSダイオード21(又は節24の接合
ダイオード)が順バイアスされない為に、節24
が−(Vdd−Vt3)Vbbに下がるので、トラン
ジスタ16は依然として最初の半サイクルでカツ
トオフ状態に駆動さる(節25が低)。
利点は、所定規模のポンプ・キヤパシタを一層
効率よく使つていること、並びに接合ダイオード
18の順バイアスを避ける位にスイツチ・トラン
ジスタ16が導電すれば、ダイオードによる注入
が完全に避けられることである。
第2図に示す回路はこの発明の考えを示してい
るが、好ましい実施例は係属中の米国特許出願に
記載されたリング発振器と組合せた分布ポンプ装
置であり、これが第3図に示されている。この回
路では、奇数個のインバータ段11で構成された
リング発振器を使い、各々のインバータの出力1
2を用いてキヤパシタ13を介してポンプ回路を
駆動する。フイードバツク通路28が最終段の出
力を第1段の入力に接続し、この為回路は、RC
遅延に依存した速度で発振する(即ち、各々の節
12が状態を切換える)。各々のキヤパシタ13
が前と同じくポンプ節14に結合され、各々の節
14がMOSダイオードとして接続されたトラン
ジスタ15により、アース端子Vssに結合され
る。各々の節14がトランジスタ16によつて−
Vbb基板17に結合される。トランジスタ16の
ゲートは、第2図の回路と全く同じに、前段の節
14から駆動され、この為動作は第2図と同じで
ある。
第2図の基本的な回路の欠点は、追加の相補的
な位相段23が必要であるが、Vbbが −(Vdd−Vt3−Vt4)よりも更に負である時
に、この追加の段23が基板に電荷を供給しなく
なり、こうしてポンプの実効出力インピーダンス
を高めることである。調整電圧|Vb|<|(Vdd
−Vt3−Vt4)|を用いた基板電圧調整方式を用い
れば、この欠点が避けられる。この欠点は、第3
図のリング発振器と組合せた分布ポンプ装置で
も、各段がMOSスイツチを使う様に変更されて
いるので、避けられる。ポンプ・キヤパシタから
の電荷の小さな一部分を取出してスイツチをター
ンオフし、従つて基板に利用することが出来ない
ので、ポンプ効率が若干犠牲になる。このスイツ
チ・トランジスタのゲートの静電容量は普通はポ
ンプ・キヤパシタより1桁低い。勿論、この犠牲
は、基板を充電する為に余分の電圧が利用出来る
ことによつて埋合される。
この発明の考えは任意のPチヤンネル又はNチ
ヤンネルのMOS基板電荷ポンプ又はCMOSに応
用することが出来、3倍化、基板電圧調整方式の
様なこの他の公知の電荷ポンプの改良と、上に述
べた様に集積化したリング発振器とポンプの組合
せ形式と共に使うことが出来る。
例えば第4図に示す様に、第3図の回路の各々
ポンプ段は、基板17の電圧に応答して、節14
からトランジスタ15を介してVssに至る通路の
抵抗値を変える追加のトランジスタ45を含んで
いてよい。この回路が係属中の米国特許出願に記
載されている。基板電圧が所望の値−Vbbに近づ
くにつれて、制御線46が高から低になり、各段
に対するトランジスタ45の抵抗値を増加し、キ
ヤパシタ13の充電時定数を長くする。
この発明を実施例について説明したが、この説
明はこの発明を制御するものと解してはならな
い。以上の説明から、当業者にはこの実施例の
種々の変更並びにこの発明のその他の実施例が容
易に考えられよう。従つて、特許請求の範囲は、
この発明の範囲内に属する全ての変更を包括する
ものであることを承知されたい。
以上の説明に関連してさらに以下の項を開示す
る。
(1) 半導体チツプに対する基板ポンプ回路に於
て、何れも入力及び出力を持つていて、当該第
1の駆動回路の出力が当該第2の駆動回路の入
力に接続されている第1及び第2の駆動回路
と、該第1及び第2の駆動回路の出力を夫々第
1及び第2のポンプ節に接続する第1及び第2
のポンプ・キヤパシタと、各々ソースに短絡さ
れたゲートを持つていて、前記第1及び第2の
ポンプ節を電気的なアースに接続する第1及び
第2のクランプ・トランジスタと、ソース・ド
レイン通路が前記チツプ及び前記第1及び第2
のポンプ節の間に夫々接続されている第1及び
第2のポンプ・トランジスタとを有し、第2の
ポンプ・トランジスタのゲートが前記第1のポ
ンプ節に接続されている基板ポンプ回路 (2) 第1項に記載した基板ポンプ回路に於て、前
記第1のポンプ・トランジスタのゲートがその
ソースに接続されている基板ポンプ回路。
(3) 第1項に記載した基板ポンプ回路に於て、前
記第1及び第2の駆動回路がリング発振器回路
に入つている基板ポンプ回路。
(4) 第3項に記載した基板ポンプ回路に於て、前
記第1のポンプ・トランジスタのゲートが、前
記リング発振器の前段にあるポンプ節に結合さ
れている基板ポンプ回路。
(5) 第4項に記載した基板ポンプ回路に於て、ソ
ース・ドレイン通路が各々のクランプ・トラン
ジスタと直列に接続されている調整トランジス
タを有し、各々の調整トランジスタのゲートが
前記チツプに対するバイアスに応答して変化す
る電圧に接続されている基板ポンプ回路。
(6) 半導体チツプに対する基板ポンプ回路に於
て、ポンプ節と、該ポンプ節をスイツチング電
圧源に接続するキヤパシタと、前記ポンプ節を
アース端子に結合するソース・ドレイン通路を
持つと共に前記ポンプ節に接続されたゲートを
持つ第1のトランジスタと、前記ポンプ節を基
板の節に結合するソース・ドレイン通路を持つ
と共にゲートを持つ第2のトランジスタと、前
記スイツチング電圧の補数である電圧を前記第
2のトランジスタのゲートに印加する手段とを
有する基板ポンプ回路。
(7) 第6項に記載した基板ポンプ回路に於て、該
回路がチツプに設けられた複数個の同様な基板
ポンプ回路の内の1つであり、前記スイツチン
グ電圧源が複数個のインバータ段を持つリング
発振器である基板ポンプ回路。
(8) 第7項に記載した基板ポンプ回路に於て、
各々のポンプ回路にあるキヤパシタが前記複数
個のインバータ段の内の別々の1つの出力に結
合されている基板ポンプ回路。
(9) 第8項に記載した基板ポンプ回路に於て各々
のポンプ回路にある印加する手段がその前の1
つのポンプ回路のポンプ節に結合されている基
板ポンプ回路。
(10) 第9項に記載した基板ポンプ回路に於て、
各々のポンプ回路が前記第1のトランジスタと
直列のソース・ドレイン通路を持つ調整トラン
ジスタを含んでおり、各々の調整トランジスタ
のゲートが前記基板に対する電圧に応答して変
化する電圧に接続されている基板ポンプ回路。
【図面の簡単な説明】
第1図は従来の基板ポンプ回路の回路図、第2
図はこの発明に従つて構成された基板ポンプ回路
の回路図、第3図はこの発明の別の実施例による
多段発振器及びポンプ回路図、第4図はこの発明
の更に別の実施例の基板ポンプ回路の回路図であ
る。 主な符号の説明、11,23……ドライバ回
路、12,25……その出力、13,22……ポ
ンプ・キヤパシタ、14,24……ポンプ節、1
5,20……クランプ・トランジスタ、16,2
1……ポンプ・トランジスタ。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 半導体チツプに対する基板ポンプ回路に於
    て、何れも入力及び出力を持つていて、当該第1
    の駆動回路の出力が当該第2の駆動回路の入力に
    接続されている第1及び第2の駆動回路と、該第
    1及び第2の駆動回路の出力を夫々第1及び第2
    のポンプ節に接続する第1及び第2のポンプ・キ
    ヤパシタと、各々ソースに短絡されたゲートを持
    つていて、前記第1及び第2のポンプ節を電気的
    なアースに接続する第1及び第2のクランプ・ト
    ランジスタと、ソース・ドレイン通路が前記チツ
    プ及び前記第1及び第2のポンプ節の間に夫々接
    続されている第1及び第2のポンプ・トランジス
    タとを有し、第2のポンプ・トランジスタのゲー
    トが前記第1のポンプ節に接続されている基板ポ
    ンプ回路。 2 特許請求の範囲第1項に記載した基板ポンプ
    回路に於て、前記第1のポンプ・トランジスタの
    ゲートがそのソースに接続されている基板ポンプ
    回路。 3 特許請求の範囲第1項に記載した基板ポンプ
    回路に於て、前記第1及び第2の駆動回路がリン
    グ発振器回路に入つている基板ポンプ回路。 4 特許請求の範囲第3項に記載した基板ポンプ
    回路に於て、前記第1のポンプ・トランジスタの
    ゲートが、前記リング発振器の前段にあるポンプ
    節に結合されている基板ポンプ回路。 5 特許請求の範囲第4項に記載した基板ポンプ
    回路に於て、ソース・ドレイン通路が各々のクラ
    ンプ・トランジスタと直列に接続されている調整
    トランジスタを有し、各々の調整トランジスタの
    ゲートが前記チツプに対するバイアスに応答して
    変化する電圧に接続されている基板ポンプ回路。
JP60203213A 1984-09-17 1985-09-13 基板ポンプ回路 Granted JPS61117859A (ja)

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US06/651,140 US4628215A (en) 1984-09-17 1984-09-17 Drive circuit for substrate pump
US651140 1996-05-22

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Publication Number Publication Date
JPS61117859A JPS61117859A (ja) 1986-06-05
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