JPH0577683B2 - - Google Patents

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JPH0577683B2
JPH0577683B2 JP18116286A JP18116286A JPH0577683B2 JP H0577683 B2 JPH0577683 B2 JP H0577683B2 JP 18116286 A JP18116286 A JP 18116286A JP 18116286 A JP18116286 A JP 18116286A JP H0577683 B2 JPH0577683 B2 JP H0577683B2
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JP
Japan
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polymer
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JP18116286A
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JPS6337109A (ja
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Hiroshi Iwakiri
Yoshikuni Deguchi
Kazunari Iwamoto
Kazuya Yonezawa
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Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Original Assignee
Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
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  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
(産業上の利用分野) 本発明はグリシジル基を有する新規な重合体及
びその製造方法に関するものである。本発明の重
合体は、塗料、接着剤、ポリマー改質剤として、
又その成形体は構造材料などとして有用である。 (従来の技術と問題点) エポキシ樹脂は機械的強度、接着性、耐熱性、
電気的特性などに優れていることから接着、塗
料、電気、土木の分野で広く用いられてきてい
る。用いられるエポキシ樹脂としてはフエノール
系が一般的であるが、末端に数個のエポキシ基し
か入らないこと、溶媒として極性溶媒を必要とす
ること、などが難点としてあげられる。 (問題点を解決するための手段と作用効果) 本発明者らは、優れた耐熱性を有する、エポキ
シ官能基をもつた反応性樹脂について鋭意研究を
重ねた結果、本発明に到達した。すなわち本発明
は、一般式()
【化】 (式中、Arはグリシジルオキシ基を少なくと
も1つ以上有するC6〜C20の芳香族炭化水素基を
表わし、R1,R2は水素原子又はメチル基であり、
R3は水素原子、C1〜C10の炭化水素基、−
COOCH3,−COOC2H5,−COO(CH23CH3,ハ
ロゲン原子又はシアノ基を示し、mは1以上の整
数、nは整数を表わし、mとnの和に対するnの
比率は0〜0.99であり、mとnの和は10〜100000
である)で表わされる、グリシジル基を有する新
規重合体及びその製造方法に関する。 本発明のグリシジル基を有する新規重合体は、
下記一般式()で表わされるグリシジル基を有
する単量体単独あるいはこれと下記一般式()
で表わされる他のビニルモノマーとの共重合によ
つて製造される。
【化】 CH2=CR2R3 () (式中、Ar,R1,R2,R3は前記に同じ) 一般式()で表わされる化合物は、例えばフ
エノール性水酸基を少なくとも1つ以上有する芳
香族炭化水素と、N−メチロールアクリルアミド
あるいはN−メチロールメタクリルアミドあるい
は、N−メチロールメタクリルアミドまたはN−
メチロールメタクリルアミドのアルキルエーテル
誘導体(以下、これらをN−メチロールアクリル
アミド類という)を酸触媒で縮合させた後、フエ
ノール性水酸基をグリシジル化することにより容
易に得られる。 たとえば出発物質として、2,6−キシレノー
ルとN−メチロールアクリルアミド類を用いた場
合、下記構造式()で表わされるグリシジル化
合物を得ることができる。
【化】 (式中、R1は水素原子またはメチル基を示す) また出発物質として、オルトクレゾールとN−
メチロールアクリルアミド類を用いた場合、下記
構造式()で表わされるグリシジル化合物を得
ることができる。
【化】 (式中、R1は水素原子またはメチル基を示す) 上記一般式(),()で表わされる単量体の
重合について検討した結果、単量体()単独ま
たはこれと単量体()の溶液中でのラジカル重
合体により好適に前記一般式()で表わされる
共重合体が得られることが判つた。 上記の共重合に用いることができる単量体
()としては、ビニリデン基を有する任意のも
のが使用できるが、例示すれば、エチレン、プロ
ピレン、1−ブテン、イソブテン、スチレン、a
−メチルスチレン、o,m,p−アルキルスチレ
ン、ブタジエン、イソプレン、塩化ビニル、フツ
化ビニル、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチ
ル、アクリル酸エチル、メタクリル酸エチル、ア
クリル酸n−ブチル、アクリロニトリルなどがあ
げられる。 本発明における重合は、一般に用いられるラジ
カル開始剤により開始されるが、例示すればクメ
ンヒドロペルオキシド、第三ブチルヒドロペルオ
キシドのようなペルオキシド系、過酸化ベンゾイ
ル、過酸化ラウロイルなどの過酸化物系、或いは
アゾビスイソブチロニトリルのようなアゾ化合物
が用いられる。 ラジカル重合で得られた本発明のグリシジル基
を有する新規重合体は、常温で粘稠な液状〜固体
状であり、単独、あるいはアミン系、カルボン酸
無水物系などの一般にエポキシ樹脂硬化剤として
用いられる化合物との併用による熱硬化により硬
化物を得ることができる。 また本発明によつて得られた重合体は他のポリ
マーの反応性改質剤として用いることが可能であ
る。この用途に用いる場合、他のモノマーあるい
はポリマーへの溶解度が問題となる。そこで、
種々の溶媒に対する溶解度を測定したところ、9
〜10のsp値をもつたクロロホルム、酢酸エチル、
アセトンなどの溶媒に可溶であることがわかつ
た。 (実施例) 以下に本発明を実施例により説明するが、本発
明はこれら実施例のみに限定されるものではな
い。 実施例 1 N2雰囲気下、20mlのメチルエチルケトンへ、
撹拌中、加熱還流下、N−(4−グリシジルオキ
シ−3,5−ジメチルフエニルメチル)アクリル
アミド26.1g(0.1モル)スチレン10.4g(0.1モ
ル)、アゾビスイソブチロニトリル(AIBN)
1.64g(0.01モル)のメチルエチルケトン(120
ml)溶液を4〜5時間かけて滴下した。滴下後、
AIBN0.33g(2mM)のMEK(10ml)溶液を添加
し、1時間加熱還流し、その後、更にAIBN0.33
g(2mM)のMEK(10ml)溶液を添加し、1時
間加熱還流した。反応混合物を冷却後過し、減
圧下溶媒を留去した。その後、樹脂を80℃で2時
間減圧下乾燥した。 ここで得られた樹脂をアセトン(〜100ml)に
溶解し、メタノール(1)に注ぎ、再沈殿を行
ない、メタノール層をデカンテーシヨンで除き、
更にメタノールで数回洗浄し、得られた水飴状樹
脂を減圧下、80℃で2時間乾燥し、固体粉末状の
樹脂12.8gを得た。 得られた樹脂の塩酸−ジオキサン法によるエポ
キシ当量は439であつた。 実施例 2 スチレンの代わりに、メタクリル酸メチル10.1
g(0.1モル)用いた以外は実施例1と同様の操
作を行ない、固体粉末状樹脂を10.5g得た。エポ
キシ当量は398であつた。 実施例 3 スチレンの代わりにアクリル酸ブチル12.8g
(0.1モル)を用いた以外は実施例1と同様の操作
を行ない、固体粉末状樹脂10.1gを得た。エポキ
シ当量は414であつた。 実施例 4 N−(4−グリシジルオキシ−3,5−ジメチ
ルフエニルメチル)アクリルアミド26.1gとスチ
レン10.4gを用いる代わりに、N−(4−グリシ
ジルオキシ−3,5ジメチルフエニルメチル)ア
クリルアミド52.2g(0.2モル)用いた以外は実
施例1と同様の操作を行なうことにより固体粉末
状樹脂35.0gを得た。エポキシ当量は292であつ
た。 実施例 5〜10 下表の仕込み比で実施例1と同様の操作により
重合を行ない、それぞれ粉末状の樹脂を得た。樹
脂のエポキシ当量とあわせて表1に示す。
【表】
【表】 以上の実施例1〜10で得られたポリマーの
GPCによる分子量測定を行なつた結果、数平均
分子量(ポリスチレン換算)は表2の通りであつ
た。
【表】 実施例 11 実施例1で得られた重合体10g、無水メチルハ
イミツク酸3.45g、ベンジルジメチルアミン0.07
gを混合し、100℃で1時間150℃で2時間硬化さ
せた。得られた硬化物の熱変形温度(ASTM−
D−648)は108℃であつた。 実施例 12〜15 実施例3,4,5,7で得られた重合体、その
エポキシ当量の0.85倍当量の無水メチルハイミツ
ク酸、ベンジルジメチルアミン(重合体に対して
0.7wt%)を混合し、実施例11と同様の操作によ
り硬化物を得て、熱変形温度(HDT)を測定し
た。結果を表3に示す。
【表】 実施例 16 実施例1〜10で得られた重合体0.2gに下記表
4の溶媒1mlを加え、一昼夜放置後の溶解性を評
価した。結果を表4に示す。
【表】

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 下記一般式()で表わされる、グリシジル
    基を有する新規重合体。 【化】 (式中、Arはグリシジルオキシ基を少なくと
    も1つ以上有するC6〜C20の芳香族炭化水素基を
    表わし、R1,R2は水素原子又はメチル基であり、
    R3は水素原子、C1〜C10の炭化水素基、−
    COOCH3,−COOC2H5,−COO(CH23CH3,ハ
    ロゲン原子又はシアノ基を示し、mは1以上の整
    数、nは整数を表わし、mとnの和に対するnの
    比率は0〜0.99であり、mとnの和は10〜100000
    である) 2 グリシジル基を有する重合体が下記一般式
    ()で表わされる特許請求の範囲第1項記載の
    新規重合体。 【化】 (式中、R1,R2,R3,m,nは前記に同じ、
    R4,R5は水素原子、C1〜C4のアルキル基、又は
    C6〜C10の芳香族基を表わす) 3 グリシジル基を有する重合体が下記一般式
    ()で表わされる特許請求の範囲第1項記載の
    新規重合体。 【化】 (式中、R1,R2,R3,m,nは前記に同じ) 4 グリシジル基を有する重合体が下記一般式
    ()で表わされる特許請求の範囲第1項記載の
    新規重合体。 【化】 (式中、R1,R2,R3,m,nは前記に同じ) 5 下記一般式() 【化】 (式中、Arはグリシジルオキシ基を少なくと
    も1つ以上有するC6〜C20の芳香族炭化水素基を
    表わし、R1は水素原子又はメチル基を表わす) で表わされる単量体をラジカル重合することを特
    徴とするグリシジル基を有する新規重合体の製造
    方法。 6 下記一般式()と() 【化】 H2C=CR2R3 () (式中、Arはグリシジルオキシ基を少なくと
    も1つ以上有するC6〜C20の芳香族炭化水素基を
    表わし、R1,R2は水素原子又はメチル基であり、
    R3は水素原子、C1〜C10の炭化水素基、−
    COOCH3,−COOC2H5,−COO(CH23CH3,ハ
    ロゲン原子又はシアノ基を表わす) で表わされる単量体をラジカル共重合することを
    特徴とする一般式() 【化】 (式中、Ar,R1,R2,R3は前記に同じ、mは
    1以上の整数、nは整数を表わし、mとnの和に
    対するnの比率は0〜0.99であり、mとnとの和
    は10〜100000である) で表わされる、グリシジル基を有する新規重合体
    の製造方法。
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