JPH0574531B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0574531B2
JPH0574531B2 JP63134909A JP13490988A JPH0574531B2 JP H0574531 B2 JPH0574531 B2 JP H0574531B2 JP 63134909 A JP63134909 A JP 63134909A JP 13490988 A JP13490988 A JP 13490988A JP H0574531 B2 JPH0574531 B2 JP H0574531B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
temperature
superconductor
present
tlca
reduce
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP63134909A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH01305816A (ja
Inventor
Hideo Ihara
Masayuki Hirabayashi
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology AIST
Original Assignee
Agency of Industrial Science and Technology
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Agency of Industrial Science and Technology filed Critical Agency of Industrial Science and Technology
Priority to JP63134909A priority Critical patent/JPH01305816A/ja
Priority to EP89102644A priority patent/EP0344406B1/en
Priority to DE68926549T priority patent/DE68926549T2/de
Publication of JPH01305816A publication Critical patent/JPH01305816A/ja
Publication of JPH0574531B2 publication Critical patent/JPH0574531B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08Oxides
    • C23C14/087Oxides of copper or solid solutions thereof
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C04B35/45Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on copper oxide or solid solutions thereof with other oxides
    • C04B35/4512Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on copper oxide or solid solutions thereof with other oxides containing thallium oxide
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N60/00Superconducting devices
    • H10N60/01Manufacture or treatment
    • H10N60/0268Manufacture or treatment of devices comprising copper oxide
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N60/00Superconducting devices
    • H10N60/01Manufacture or treatment
    • H10N60/0268Manufacture or treatment of devices comprising copper oxide
    • H10N60/0296Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N60/00Superconducting devices
    • H10N60/01Manufacture or treatment
    • H10N60/0268Manufacture or treatment of devices comprising copper oxide
    • H10N60/0296Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers
    • H10N60/0408Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers by sputtering
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N60/00Superconducting devices
    • H10N60/01Manufacture or treatment
    • H10N60/0268Manufacture or treatment of devices comprising copper oxide
    • H10N60/0296Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers
    • H10N60/0436Processes for depositing or forming copper oxide superconductor layers by chemical vapour deposition [CVD]
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10NELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10N60/00Superconducting devices
    • H10N60/80Constructional details
    • H10N60/85Superconducting active materials
    • H10N60/855Ceramic superconductors
    • H10N60/857Ceramic superconductors comprising copper oxide

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Inorganic Compounds Of Heavy Metals (AREA)
  • Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
  • Superconductor Devices And Manufacturing Methods Thereof (AREA)
  • Superconductors And Manufacturing Methods Therefor (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は高温超伝導体に関し、特に液体窒素温
度以上で使用することができるTl,In,Ga,Sb
およびBi系超伝導体に関する。
〔従来の技術〕
従来のTl系超伝導体には、Tl2Ca2Ba1Cu3Oy
(通称2213)、Tl2Ca2Ba2Cu3Oy(通称2223)およ
びTl2CaBa2Cu2Oy(通称2122)などがあつた。こ
のうち、Tl2Ca2Ba2Cu3Oyの超伝導臨界温度Tc
は120Kであり、高いTc値をもつが、従来のTl系
超伝導体はTlの含有濃度が高いものが多かつた。
第3図は従来のTl系超伝導体の電気抵抗と温
度との関係を示す。
第3図において曲線AはTl2Ca2Ba1Cu3Oyの電
気抵抗と温度との関係を、曲線BはTl2Ca2Ba2
Cu3Oyのそれを示す。Tc(超伝導臨界温度)は両
者共に約110Kである。
〔発明が解決しようとする課題〕
Tlは毒性がある上に資源的にも乏しいにもか
かわらず、従来のTl系超伝導体はTlの使用量が
多く、作製技術上の除毒対策、コストの低減およ
び資源確保の困難等の点で大きな問題があつた。
本発明の目的は上述の問題点を解決し、Tl濃
度の低いTl,In,Ga,SbおよびBi系超伝導体を
提供することにある。
〔課題を解決するための手段〕
このような目的を達成するために、本発明の高
温超伝導体は、組成式TlCaxBa2Cux+1Oy(ただ
し、x=4〜10)で表わされることを特徴とす
る。また、組成式Tl2CaxBa2Cux+1Oy(ただし、x
=4〜10)で表されることを特徴とする。xを増
加させることによりTl濃度を減少させ、Tcを向
上させることができる。またTlをIn,Ga,Sbあ
るいはBiで置き換えることにより毒性の低減を
図るものである。
〔作用〕
本発明によれば、Tlの使用量を従来のTl系超
伝導体よりも減少することにより、Tlの毒性の
低下、Tl資源の節約および超伝導体のコストの
低減を実現し、かつCu−Oの層数を増加させる
ことによつて超伝導特性を向上させることができ
る。またTlをIn,Ga,SbあるいはBiで置き換え
ることにより毒性を低減させることもできる。
〔実施例〕
以下に、図面を参照して本発明を詳細に説明す
る。
まず、TlCaxBa2Cux+1Oyの製造法について説
明する。製造方法は、以下の(1)、(2)および(3)に示
す方法がある。
(1) Tl2O3,CaOおよびBaCu3O4それぞれの
粉末を、Tl2CaxBa2Cux+1Oyの組成で混合し、
直径10mm、厚さ1mmのペレツトに成型する。
このペレツトを890℃において10分間酸素
気流中で焼成した後、100℃/hの速さで炉
冷する。
Tlの濃度は焼成時間および温度を調節す
ることにより制御することができる。
焼成したペレツトを400℃において高圧の
酸素雰囲気中で3時間焼鈍する。ただしこの
工程は省くことも可能である。
(2) Tl2O3,CaO,BaO2およびCuOそれぞれの
粉末をTl2CaxBa2Cux+1Oyの組成で混合し、以
下上述の製造方法(1)と同様のプロセスによつて
超伝導体を作製する。
(1)および(2)の製造方法において、原料となる
粉末をTl2CaxBa2Cux+1Oyの組成となるように
混合するが、TloCaxBa2Cux+1Oy(n=0.5〜2)
とTlを少なくすることも可能である。
また、原料粉末の混合をペレツト成型した
が、これに限らずフアイバー成型してもよい。
成型後の焼成温度は890℃で行なつたが、880〜
920℃の範囲であればよい。
(3) Tl−Ca−Ba−Cu−O系のターゲツトを用
い、スパツタ法によつて基板温度500℃前後で
超伝導体を作製する。
以上の製造方法により作製した TlCa3Ba2Cu4OyのTl濃度は、従来のTl系超伝
導体(Tl2Ca1Ba2Cu2Oy)と比較すると約1/4に
減少している。
第1図は本発明の実施例のTlCa3Ba2Cu4Oy
電気抵抗と温度との関係を示す。超伝導臨界温度
は120〜131Kを示している。
第2図は本発明の実施例の超伝導体のX線回折
図を示す。格子定数は、a=5.45Å,c=38.2Å
またはa′=a/√2=3.85Å,c′=c/2=19.1
Åを示している。
以上はTlCaxBa2Cux+1Oyについての実施例の
説明であるが、xを増やしていけばTcは向上す
る。
Tlを従来の組成の約1/2とした Tl2CaxBa2Cux+1Oy(x=3〜10)としても
TlCaxBa2Cux+1Oyと同様の高いTcを示す。
さらにTlをIn,Ga,SbあるいはBiで置換すれ
ば毒性の低減に役立つ。
〔発明の効果〕
以上説明したように、本発明においては次のよ
うな効果を得ることができる。
本発明によれば、従来不可能であつたTl系
超伝導体の低濃度領域の高温超伝導体を実現す
ることができる。
またTlをIn,Ga,SbあるいはBiで置換する
ことにより原料の選択性の拡大、毒性の低下が
可能である。
しかも、超伝導特性は低下されず、高Tl濃
度の超伝導体と同等もしくはそれ以上の超伝導
特性を発揮することができる。
これにより、Tl超伝導体の毒性の低減、製
造プロセスの防毒設備費の低減、Tl資源の節
約、Ba資源の節約、原料の選択性の拡大およ
びコストの低減を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例の超伝導体の電気抵抗
と温度との相関図、第2図は本発明の実施例の超
伝導体のX線回折図、第3図は従来の超伝導体の
電気抵抗と温度との相関図である。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 組成式TlCaxBa2Cux+1Oy(ただし、x=4〜
    10)で表わされることを特徴とする高温超伝導
    体。 2 組成式TlCaxBa2Cux+1Oy(ただし、x=0〜
    10)で表わされる高温超伝導体のTlをIn,Ga,
    SbあるいはBiで置換したことを特徴とする高温
    超伝導体。 3 組成式Tl2CaxBa2Cux+1Oy(ただし、x=4〜
    10)で表わされることを特徴とする高温超伝導
    体。 4 組成式Tl2CaxBa2Cux+1Oy(ただし、x=0〜
    10)で表わされる高温超伝導体のTlをIn,Ga,
    SbあるいはBiで置換したことを特徴とする高温
    超伝導体。
JP63134909A 1988-06-01 1988-06-01 高温超伝導体 Granted JPH01305816A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63134909A JPH01305816A (ja) 1988-06-01 1988-06-01 高温超伝導体
EP89102644A EP0344406B1 (en) 1988-06-01 1989-02-16 Tl-based copper oxide superconductor
DE68926549T DE68926549T2 (de) 1988-06-01 1989-02-16 Tl-Kupferoxid-Supraleiter

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP63134909A JPH01305816A (ja) 1988-06-01 1988-06-01 高温超伝導体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH01305816A JPH01305816A (ja) 1989-12-11
JPH0574531B2 true JPH0574531B2 (ja) 1993-10-18

Family

ID=15139365

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP63134909A Granted JPH01305816A (ja) 1988-06-01 1988-06-01 高温超伝導体

Country Status (3)

Country Link
EP (1) EP0344406B1 (ja)
JP (1) JPH01305816A (ja)
DE (1) DE68926549T2 (ja)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2590275B2 (ja) * 1988-12-05 1997-03-12 住友電気工業株式会社 酸化物超電導材料の製造方法
GB2232664A (en) * 1989-06-17 1990-12-19 Atomic Energy Authority Uk Oxide materials
JPH0365512A (ja) * 1989-08-02 1991-03-20 Sumitomo Electric Ind Ltd 高温超電導材料およびその作製方法
JP2748161B2 (ja) * 1989-09-04 1998-05-06 株式会社日立製作所 In―Ba―Y及び/又はCa―Cu―O系超電導物質

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01264953A (ja) * 1988-04-13 1989-10-23 Fujikura Ltd タリウム系酸化物超電導体の製造方法
JPH01294560A (ja) * 1988-05-20 1989-11-28 Sumitomo Electric Ind Ltd 複合酸化物系超電導材料の製造方法
JPH029719A (ja) * 1988-03-08 1990-01-12 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 超伝導物質

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5061683A (en) * 1987-06-09 1991-10-29 E. I. Du Pont De Nemours And Company Process for making superconductors using barium hydroxide
DE3889024T2 (de) * 1987-07-13 1994-10-13 Sumitomo Electric Industries Verfahren zum Herstellen einer supraleitenden Dünnschicht.
JP2656855B2 (ja) * 1989-12-28 1997-09-24 ローガン,キャスリン・ブイ TiB▲下2▼及びAl▲下2▼O▲下3▼の造形された発泡耐火性生成物並びにその製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH029719A (ja) * 1988-03-08 1990-01-12 Internatl Business Mach Corp <Ibm> 超伝導物質
JPH01264953A (ja) * 1988-04-13 1989-10-23 Fujikura Ltd タリウム系酸化物超電導体の製造方法
JPH01294560A (ja) * 1988-05-20 1989-11-28 Sumitomo Electric Ind Ltd 複合酸化物系超電導材料の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0344406A2 (en) 1989-12-06
EP0344406B1 (en) 1996-05-29
DE68926549D1 (de) 1996-07-04
EP0344406A3 (en) 1990-07-18
DE68926549T2 (de) 1996-10-31
JPH01305816A (ja) 1989-12-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5409888A (en) Process for producing a high-temperature superconductor and also shaped bodies composed thereof
US5376623A (en) Method to enhance critical temperature of thallium-based superconductors
JPH0574531B2 (ja)
JPH02107520A (ja) Tl―Ba―Ca―CuーO超電導体の製造方法
Zhengping et al. BiPbSrCaCuO superconductor prepared by a three-step reaction process
JP2634187B2 (ja) タリウム系酸化物超電導体の製造方法
EP0389086A1 (en) Single crystalline fibrous superconductive composition and process for preparing the same
JPH02120227A (ja) Bi系酸化物超電導体の製造方法
JPH03131521A (ja) 酸化物超伝導体およびその製造方法
JPH061616A (ja) Bi系酸化物超電導体の製造方法
JP2648524B2 (ja) セラミックス及びその製法
JPH0292827A (ja) Bi系酸化物超電導体の製造方法
JPH05339008A (ja) Tl,Pb系酸化物超電導材及びその製造方法
JPH02192419A (ja) 酸化物超電導体組成物
JPH0251425A (ja) 酸化物超電導体
JPH02153823A (ja) 酸化物超電導体の作製方法
JPH01313326A (ja) 超電導体およびその製造方法
JPH03197347A (ja) 酸化物超電導体の製造方法
JPH04154623A (ja) Bi系又はBi―Pb系酸化物超伝導材料
JPH04285058A (ja) ビスマス系酸化物超伝導材の製造方法
JPH0412023A (ja) 酸化物超電導体
JPH02199025A (ja) Bi系酸化物超電導体の製造方法
JPH02239120A (ja) ビスマス系酸化物超電導材の製造方法
JPH03275557A (ja) タリウム系酸化物超電導線材の製造方法
JPH02149425A (ja) 酸化物超伝導材料およびその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
EXPY Cancellation because of completion of term