JPH0571652B2 - - Google Patents

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JPH0571652B2
JPH0571652B2 JP63051785A JP5178588A JPH0571652B2 JP H0571652 B2 JPH0571652 B2 JP H0571652B2 JP 63051785 A JP63051785 A JP 63051785A JP 5178588 A JP5178588 A JP 5178588A JP H0571652 B2 JPH0571652 B2 JP H0571652B2
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Yoshihiro Hosoya
Kunikazu Tomita
Toshiaki Urabe
Masaharu Jitsukawa
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    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
    • C21D8/00Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment
    • C21D8/12Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties
    • C21D8/1216Modifying the physical properties by deformation combined with, or followed by, heat treatment during manufacturing of articles with special electromagnetic properties the working step(s) being of interest
    • C21D8/1222Hot rolling
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C21METALLURGY OF IRON
    • C21DMODIFYING THE PHYSICAL STRUCTURE OF FERROUS METALS; GENERAL DEVICES FOR HEAT TREATMENT OF FERROUS OR NON-FERROUS METALS OR ALLOYS; MAKING METAL MALLEABLE, e.g. BY DECARBURISATION OR TEMPERING
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  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕 本発明は無方向性電磁鋼板の製造方法に関す
る。 〔従来の技術及び解決すべき課題〕 電磁鋼板の磁気特性を支配する重要な因子とし
て、鋼中に析出するAlN、MnS等のサイズおよ
び分布状態がある。これは、これらの析出物自体
が磁壁移動の障害物となつて低磁場磁気特性およ
び鉄損特性を劣化させることに加え、再結晶焼鈍
段階での粒成長性を阻害することに起因したフエ
ライト粒の粒成長不良により、磁気特性に好まし
い集合組織の発達に影響を及ぼすためである。 磁壁或いは粒界移動に対しては、こうした析出
物は粗大且つ疎に分布している程好ましいことが
知られており、こうした背景に基づいて、電磁鋼
板の製造プロセスにおいて、再結晶焼鈍前に
AlN或いはMnSの析出、粗大化を図る技術が開
示されている。例えば、スラブ加熱温度を低下さ
せて、スラブ中の粗大AlNの再固溶を抑制する
技術(特開昭49−38814号等)、微細な非金属介在
物の生成を伴うS、O量を低減する技術(特公昭
56−22931号等)、Ca、REM添加による硬化物の
形態制御技術(特開昭55−8409号等)、熱間圧延
前でのスラブ保熱によるAlN粗大化技術(特開
昭52−108318号、特開昭54−41219号、特開昭58
−123825号等)、熱延後の超高温巻取りによる自
己焼鈍効果を利用したAlNの粗大化とフエライ
ト粒成長技術(特開昭54−76422号等)等がその
例である。 ところで、製造プロセスにおける省エネルギー
の観点に立つと、熱間圧延時に連鋳スラブを直送
圧延することが有利である。しかし、このような
プロセスを採用する場合、上記したAlN、MnS
の析出粗大化が不十分となるという問題があり、
これを解決するため、スラブを熱延前に保熱する
という技術が開示されている。 しかし、実際の製造プロセスにおいて、連鋳ス
ラブをたとえ均熱時間が短くても一旦加熱炉や均
熱炉に装入するというような方法は、直送圧延本
来の省エネルギーのメリツトを享受できないばか
りか、AlNの析出を狙いとする場合、均熱時間
が短いとスラブ内外部での析出の不均一を生じて
しまう。 〔課題を解決するための手段〕 本発明はこのような問題に鑑みなされたもの
で、連鋳スラブを保熱、均熱を行うことなく直送
圧延することにより、不可避的に析出するAlN
以外はAlNの析出を抑えるとともに、粗圧延一
仕上圧延間でデイレイ時間を設け、且つAr3点以
下で仕上げることによりAlNの析出核の導入を
効果的に図り、さらに700℃以上での巻取りによ
つてAlNの凝集、粗大化を図るようにしたもの
で、これらにより再結晶焼鈍時に極めて均一且つ
良好なフエライト粒成長を可能としたものであ
る。 すなわち、本発明はC:0.005wt%以下、Si:
0.1〜1.5wt%、Mn:0.1〜1.0wt%、P:0.01〜
0.15wt%、S:0.005wt%以下を含有する連続鋳
造スラブを特定の温度域にて保熱または加熱する
ことなく直ちに圧下率10〜95%で20mm以上の厚さ
まで粗圧延し、続く仕上圧延との間で粗圧延バー
の表面温度が950〜1150℃の温度領域にて30秒以
上、6分以下の時間的間隔をおいた後、粗圧延バ
ーの表面温度が950℃以上で仕上圧延を開始し、
Ar3点以下での圧下率25〜75%、総圧下率78〜98
%、仕上圧延終了温度750〜880℃で仕上圧延を行
い、圧延後700〜800℃で巻取ることを特徴とす
る。 以下、本発明の詳細をその限定理由とともに説
明する。 本発明では、C:0.005wt%以下、Si:0.1〜
1.5wt%、Mn:0.1〜1.0wt%、P:0.01〜0.15wt
%、S:0.005wt%以下を含有する連鋳スラブを、
特定の温度域にて保熱または加熱することなく直
ちに圧下率10〜95%で20mm以上の厚さまで粗圧延
し、次いで所定の時間的間隔(以下、待機時間と
称す)をおいた後仕上圧延を行う。 本発明では、上記待機時間においてAlNの析
出核を導入し、巻取後におけるAlNの速か且つ
均一な析出、粗大化を図るものである。特に、Si
量の低い中低級クラスの電磁鋼板は、Si及びAl
の含有量が低く、γ→α変態による組織の微細
化、AlN等の微細析出に起因した組織の微細化
が低磁場磁気特性、鉄損等に悪影響を及ぼす。と
りわけ、省エネルギーの観点から直送圧延を実施
する場合、スラブ段階でのAlNの粗大化が困難
となり、磁気特性の向上が一層困難となる。この
ような問題に対し、本発明では粗圧延終了後、γ
相中でのAlNの歪誘起析出を狙いとして上記待
機を行う。 そして、上記粗圧延では、歪の導入と凝固組織
の破壊によつて、続く待機期間における短時間で
均一なAlN析出核の導入を促すものであり、こ
のため10%以上、好ましくは20%以上の圧下率を
確保する。なお、連続鋳造スラブの厚さと下記粗
圧延バーの厚さの下限(20mm)との関係から、圧
下率の上限は95%となる。 第1図は0.1%Si鋼及び1%Si鋼(第1表中鋼
−1、鋼−5)を例に、スラブ圧下率がスラブ中
のAlN析出核平均サイズに及ぼす影響を実験に
より調べたもので、8.0φmm×12lmmのサンプル素
材をAlNが完全に溶解する1350℃に20分、真空
中で加熱した後、1050℃で0〜87%圧下してガス
急冷したサンプルについて、鋼中に析出した
AlN析出核サイズを測定した結果である。同図
から判るように圧下率が10%未満ではスラブ中の
AlNの微細化が問題となる。 また、粗圧延バーの厚さが薄過ぎると待機期間
においてAlNの析出核が十分に導入される前に
バーの冷却が進み、適切な析出及び仕上圧延温度
の確保が難しくなる。このため粗圧延バーの厚さ
は20mm、好ましくは30mmをその下限とする。 粗圧延後、仕上圧延までの待機では、仕上圧延
温度の確保と、AlNの析出ノーズでの析出核の
生成を有効に促す目的から、粗圧延バー表面温度
で950℃以上を確保する。但し、1150℃を超える
高温ではせつかく導入されたAlN析出核が消失
してしまうため、1150℃を上限とする。 また、待機時間は30秒以上、6分以下とする。
第2図は0.1%Si鋼及び1%Si鋼(第1表中鋼−
1、鋼−5)を例に、粗圧延後の待機時間(粗圧
延終了〜仕上圧延開始間の時間)が熱延板中の
AlN析出核サイズに及ぼす影響を示したもので、
AlN析出核を十分導入するためには、待機時間
を30秒以上確保する必要があることが判る。一
方、待機時間を長くとり過ぎると、粗圧延バーの
表面温度が950℃よりも下がつてしまい、仕上圧
延温度とその後の700℃以上の巻取温度の確保が
難しくなる。待機時間は、粗圧延終了温度と粗圧
延バーの厚さに応じ、仕上開始温度が950℃を下
回らないように定める必要があるが、粗圧延終了
温度と粗圧延バーの厚さの下限(20mm)を考慮し
た場合、待機時間の上限はほぼ6分となる。以上
の理由から待機時間は40秒以上、6分以下と規定
する。 なお、この待機時間とは、通常の走行時間及び
デイレイ時間(意図的な待機時間)とを含む粗圧
延終了から仕上圧延開始までの時間を指す。本発
明を実施するには、通常はデイレイ時間を設ける
必要があると思われるが、圧延間の走行時間が上
記待機時間を満す場合には、特にデイレイ時間を
設ける必要はない。 また、待機時間中のエツジ部の温度補償を行う
ため、エツジ加熱を行うことができ、これにより
本発明をより効果的に実施することができる。 上記待機後の仕上圧延は950℃以上の温度で開
始される。上述したように仕上開始温度が950℃
を下回ると仕上圧延温度とその後の700℃以上の
巻取温度の確保が難しくなる。 仕上圧延では、AlN析出核の歪誘起成長、フ
エライト組織の均質化、磁束密度向上を狙いとし
たGoss集合組織の核導入の観点からAr3点以下で
の圧下率25%以上、好ましくは30%以上とする圧
延を行う。第3図は0.1%Si鋼および1%Si鋼を
例に仕上圧延におけるAr3点以下での圧下率が熱
延板中のAlN析出核平均サイズに及ぼす影響を
調べたもので、AlN析出核を十分導入するため
には圧下率を25%以上(好ましくは30%以上)確
保する必要があることが判る。 また、Ar3点以下での圧下率を過度に高めるこ
とは不可避的に圧延負荷の上昇をもたらし、ま
た、仕上圧延の終了温度が低下するために700℃
以上の巻取温度を確保することが困難となる。こ
のためAr3点以下での圧下率は75%以下とする。 仕上圧延の総圧下率については、78〜98%とす
る。総圧下率が78%未満では、熱延仕上厚が増大
し、冷間圧延時の圧延負荷を徒に増大させるため
好しくない。一方、総圧下率が98%を超えると、
仕上圧延時の圧延負荷を徒に増大させるため好し
くない。 また、仕上圧延終了温度は、700℃以上の巻取
温度を確保するため750℃以上とする必要がある。
一方、仕上圧延終了温度が880℃を超えると、本
発明の狙いとする仕上圧延中のAlN析出核の歪
誘起成長がα域での析出ノーズとの関係で遅滞す
るとともに、Goss集合組織形成上も好しくない。
このため、仕上圧延終了温度の上限は880℃とす
る必要がある。 本発明では、巻取り後の所謂自己焼鈍効果によ
り、前工程で鋼中に析出したAlNを効果的且つ
速かに粗大化させるものであり、このため仕上圧
延後、700℃以上の温度で巻取りを行う。但し、
巻取温度が800℃を超えるとスケールが厚く生成
してしまうため、巻取温度の上限は800℃とする。 このようにして得られた熱延板は通常、1回ま
たは中間焼鈍をはさむ2回以上の冷間圧延を経た
後、最終的に焼鈍される。 次に、本発明の鋼成分の限定理由を説明する。 Cは熱延巻取時におけるフエライト粒の粒成長
を確保し、フエライト相の安定化に伴うAlNの
固溶限の低下を通してAlNの凝集粗大化を図る
ため、製鋼段階で0.005wt%以下とする。 Siは中、低グレードの電磁鋼板に要求される磁
束密度レベルを維持するためと、本発明法がγ−
α変態を有する鋼種系を対象とするため、その上
限を1.5wt%とする。一方、電磁鋼板として必須
となる低く抑える目的から、下限を0.1wt%とす
る。 Sは、MnSの絶対量を減少させることによつ
て磁気特性の改善を図るためその上限を規定す
る。すなわち、Sは0.005wt%以下とすることに
より、直送圧延におけるMnSの悪影響を無視で
きるレベルとすることができる。 またAlは、0.001wt%以下であればAlNが析出
しないため本発明法の効果を十分発揮でき、した
がつて、下記するように有意に含有させる場合以
外は、上限を0.001wt%とすることが好ましい。
しかし、連続鋳造で造塊する場合、鋼中酸素レベ
ルの低減と最終焼鈍後における窒素の固定を狙い
として、必要量添加するのが好ましく、この場合
には0.005〜0.5wt%の含有量とする。このように
Alを有意に含有させる場合、Alが0.005wt%以下
であると、本発明法によつてもAlNを十分粗大
化させることが困難となる。また、中低級クラス
材に要求される磁束密度レベルを維持するため、
上限を0.5wt%とする。 〔実施例〕 実施例 1 第1表の組成の連鋳スラブ(鋼1、2、4、
6、7)を素材とし、熱間圧延−熱延板焼鈍−酸
洗−冷間圧延−最終焼鈍の工程を経て無方向性電
磁鋼板を製造した。得られた電磁鋼板の磁気特性
及び熱延板の性状を熱延条件等とともに第2表に
示す。
【表】
【表】
【表】 実施例 2 第1表の組成の連鋳スラブ(鋼1、3、5)を
素材とし、熱間圧延−熱延板焼鈍−酸洗−冷間圧
延−連続焼鈍の工程を経て無方向性電磁鋼板を製
造した。得られた電磁鋼板の磁気特性及び熱延板
の性状を熱延条件等とともに第3表に示す。
〔発明の効果〕
以上述べた本発明によれば、直送圧延を行いな
がら、熱延板段階でのAlNの析出粗大化を十分
確保し、再結晶焼鈍時に極めて均一且つ良好なフ
エライト粒成長を図ることができ、このため直送
圧延のメリツトを十分生かして磁気特性の優れた
無方向性電磁鋼板を経済的に製造することができ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図は粗圧延の圧下率がスラブ中のAlN析
出核サイズに及ぼす影響を示したものである。第
2図は粗圧延バーの待機時間が熱延板中のAlN
析出核サイズに及ぼす影響を示したものである。
第3図は仕上圧延におけるAr3点以下での圧下率
が熱延板中のAlN析出核サイズに及ぼす影響を
示したものである。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 C:0.005wt%以下、Si:0.1〜1.5wt%、
    Mn:0.1〜1.0wt%、P:0.01〜0.15wt%、S:
    0.005wt%以下を含む連続鋳造スラブを特定の温
    度域にて保熱または加熱することなく直ちに圧下
    率10〜95%で20mm以上の厚さまで粗圧延し、続く
    仕上圧延との間で粗圧延バーの表面温度が950〜
    1150℃の温度領域にて30秒以上、6分以下の時間
    的間隔をおいた後、粗圧延バーの表面温度が950
    ℃以上で仕上圧延を開始し、Ar3点以下での圧下
    率25〜75%、総圧下率78〜98%、仕上圧延終了温
    度750〜880℃で仕上圧延を行い、圧延後700〜800
    ℃で巻取ることを特徴とする無方向性電磁鋼板の
    製造方法。
JP63051785A 1988-03-07 1988-03-07 無方向性電磁鋼板の製造方法 Granted JPH01225726A (ja)

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