JPH056945A - 半導体用アルミニウム基板 - Google Patents
半導体用アルミニウム基板Info
- Publication number
- JPH056945A JPH056945A JP18161491A JP18161491A JPH056945A JP H056945 A JPH056945 A JP H056945A JP 18161491 A JP18161491 A JP 18161491A JP 18161491 A JP18161491 A JP 18161491A JP H056945 A JPH056945 A JP H056945A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- aluminum
- anodic oxidation
- holes
- aluminum substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Landscapes
- Insulated Metal Substrates For Printed Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】 予め穴明けされた基板1表面及び穴部に絶縁
皮膜を、そしてその絶縁皮膜の表面に銅皮膜5を施して
なるピングリッドアレー用基板において、前記予め穴明
けされた基板1が、その表面及び穴部に陽極酸化皮膜2
を施したアルミニウム板からなる。 【効果】 熱伝導率に優れ、軽量で取り扱いが容易で、
しかも安価であるスルホールタイプのピングリッドアレ
ー用のアルミニウム基板を得る。
皮膜を、そしてその絶縁皮膜の表面に銅皮膜5を施して
なるピングリッドアレー用基板において、前記予め穴明
けされた基板1が、その表面及び穴部に陽極酸化皮膜2
を施したアルミニウム板からなる。 【効果】 熱伝導率に優れ、軽量で取り扱いが容易で、
しかも安価であるスルホールタイプのピングリッドアレ
ー用のアルミニウム基板を得る。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は半導体用、特にスルホー
ルタイプのピングリッドアレー用のアルミニウム基板に
関する。
ルタイプのピングリッドアレー用のアルミニウム基板に
関する。
【0002】
【従来の技術及びその問題点】近年の電子部品(ICパ
ッケージ、多層配線基板等)は、LSI/VLSIの発
達に伴い、高集積化、小型化、高速化等の要求が強くな
っている。従来のピングリッドアレータイプの素材とし
ては、Al2O3、AlN等のセラミックが使用されてい
る。セラミック製素材は絶縁性、信頼性等に優れた性能
を有するが、熱伝導性(放熱性)、誘電率、重量(軽量
化)、価格等の点において問題点を有する。例えば、熱
伝導率に関して言えば、今後のLSIの高速化による発
熱量の増加に対応するためは高放熱材料を用いる必要が
生じるが、従来のセラミック製材料では必ずしも十分な
放熱性が確保できるものではなかった。
ッケージ、多層配線基板等)は、LSI/VLSIの発
達に伴い、高集積化、小型化、高速化等の要求が強くな
っている。従来のピングリッドアレータイプの素材とし
ては、Al2O3、AlN等のセラミックが使用されてい
る。セラミック製素材は絶縁性、信頼性等に優れた性能
を有するが、熱伝導性(放熱性)、誘電率、重量(軽量
化)、価格等の点において問題点を有する。例えば、熱
伝導率に関して言えば、今後のLSIの高速化による発
熱量の増加に対応するためは高放熱材料を用いる必要が
生じるが、従来のセラミック製材料では必ずしも十分な
放熱性が確保できるものではなかった。
【0003】本発明は、放熱性、誘電率等が優れ、高集
積化、小型化、高速化等の要求に応じ得る半導体用アル
ミニウム基板を提供することを目的とする。
積化、小型化、高速化等の要求に応じ得る半導体用アル
ミニウム基板を提供することを目的とする。
【0004】
【問題点を解決するための手段】本発明は、予め穴明け
された基板表面及び穴部に絶縁皮膜を、そしてその絶縁
皮膜の表面に銅皮膜を施してなるピングリッドアレー用
基板において、前記予め穴明けされた基板として、その
表面及び穴部に陽極酸化皮膜を施したアルミニウム板を
用いることにより、前記課題を解決したものである。本
発明において、陽極酸化皮膜はリン酸アルマイトによる
ものが好ましい。
された基板表面及び穴部に絶縁皮膜を、そしてその絶縁
皮膜の表面に銅皮膜を施してなるピングリッドアレー用
基板において、前記予め穴明けされた基板として、その
表面及び穴部に陽極酸化皮膜を施したアルミニウム板を
用いることにより、前記課題を解決したものである。本
発明において、陽極酸化皮膜はリン酸アルマイトによる
ものが好ましい。
【0005】本発明において、アルミニウムとは、単に
アルミニウムのみでなくアルミニウム合金をも含むもの
である。以下に本発明に係る基板を製造する場合の工程
を図面を参照して説明する。
アルミニウムのみでなくアルミニウム合金をも含むもの
である。以下に本発明に係る基板を製造する場合の工程
を図面を参照して説明する。
【0006】図1において、1はアルミニウム板であ
り、その材質は問わず、アルミニウムもしくはその合金
のうち適宜のものが使用できるが、穴明け時のだれ防止
と強度の面から、A5052P−H34等の比較的硬質
の材料が好ましい。通常、複数個の製品を1枚の板(例
えば、0.6or0.8×255×340mm)で加工
し、後工程で切断する。
り、その材質は問わず、アルミニウムもしくはその合金
のうち適宜のものが使用できるが、穴明け時のだれ防止
と強度の面から、A5052P−H34等の比較的硬質
の材料が好ましい。通常、複数個の製品を1枚の板(例
えば、0.6or0.8×255×340mm)で加工
し、後工程で切断する。
【0007】NCドリルやプレス加工により所定個数
(4500〜5000穴/枚)の穴(1.5or1.8
φ)明けを行う。穴明け後、穴明けで生じたバリをサン
ダー、バフ布等を用いてバリ取りする。バリ高さは20
μm以下にすることが好ましい。
(4500〜5000穴/枚)の穴(1.5or1.8
φ)明けを行う。穴明け後、穴明けで生じたバリをサン
ダー、バフ布等を用いてバリ取りする。バリ高さは20
μm以下にすることが好ましい。
【0008】次いで、陽極酸化処理を施し、アルミニウ
ム基板1表面及び穴部上にアルマイト皮膜2を形成す
る。この陽極酸化処理はアルミニウム基板1と次工程で
形成する絶縁材との密着性を向上させるために行うもの
であり、特にリン酸アルマイト皮膜とすることが好まし
い。皮膜厚は、表面部で0.5〜1μm、穴部で0.3
〜0.5μm程度とする。
ム基板1表面及び穴部上にアルマイト皮膜2を形成す
る。この陽極酸化処理はアルミニウム基板1と次工程で
形成する絶縁材との密着性を向上させるために行うもの
であり、特にリン酸アルマイト皮膜とすることが好まし
い。皮膜厚は、表面部で0.5〜1μm、穴部で0.3
〜0.5μm程度とする。
【0009】陽極酸化処理を施したアルミニウム基板表
面及び穴部を絶縁材3で被覆し、その表裏に銅箔(18
μm)4を真空中でホットプレスする。銅箔4はその片
面を粗面化処理しておく。絶縁材3としては、フェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等の熱硬化性樹
脂が使用できるが、特にエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂
が好ましい。
面及び穴部を絶縁材3で被覆し、その表裏に銅箔(18
μm)4を真空中でホットプレスする。銅箔4はその片
面を粗面化処理しておく。絶縁材3としては、フェノー
ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等の熱硬化性樹
脂が使用できるが、特にエポキシ樹脂、ポリイミド樹脂
が好ましい。
【0010】次いで、再度、穴明け加工する。そして、
無電解銅メッキにより穴部の表面に銅皮膜5を形成す
る。そして、適宜の大きさに切断し、ここに所望のスル
ホール型アルミニウム基板が得られる。
無電解銅メッキにより穴部の表面に銅皮膜5を形成す
る。そして、適宜の大きさに切断し、ここに所望のスル
ホール型アルミニウム基板が得られる。
【0011】
以上のような本発明に係るアルミニウム基板の性能を従
来のセラミック製基板との性能を比較すると上表のよう
である。
来のセラミック製基板との性能を比較すると上表のよう
である。
【0012】上表より、本発明に係るアルミニウム基板
は熱伝導率に優れ、軽量で取り扱いが容易で、しかも安
価であることがわかる。
は熱伝導率に優れ、軽量で取り扱いが容易で、しかも安
価であることがわかる。
【図1】本発明に係るアルミニウム基板を製造する場合
の工程の一例を示す説明図である。
の工程の一例を示す説明図である。
1 アルミニウム基板
2 アルマイト皮膜
3 絶縁材
4 銅箔
5 銅皮膜
Claims (2)
- 【請求項1】 予め穴明けされた基板表面及び穴部に絶
縁皮膜を、そしてその絶縁皮膜の表面に銅皮膜を施して
なるピングリッドアレー用基板において、前記予め穴明
けされた基板が、その表面及び穴部に陽極酸化皮膜を施
したアルミニウム板からなることを特徴とする半導体用
アルミニウム基板。 - 【請求項2】 陽極酸化皮膜がリン酸アルマイトによる
請求項1記載の半導体用アルミニウム基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18161491A JP2965271B2 (ja) | 1991-06-27 | 1991-06-27 | 半導体用アルミニウム基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP18161491A JP2965271B2 (ja) | 1991-06-27 | 1991-06-27 | 半導体用アルミニウム基板 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH056945A true JPH056945A (ja) | 1993-01-14 |
JP2965271B2 JP2965271B2 (ja) | 1999-10-18 |
Family
ID=16103884
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP18161491A Expired - Lifetime JP2965271B2 (ja) | 1991-06-27 | 1991-06-27 | 半導体用アルミニウム基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2965271B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006515712A (ja) * | 2002-10-24 | 2006-06-01 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 熱伝導性基板パッケージ |
EP2068361A1 (en) * | 2007-12-04 | 2009-06-10 | Phoenix Precision Technology Corporation | Packaging substrate having chip embedded therein and manufacturing method thereof |
-
1991
- 1991-06-27 JP JP18161491A patent/JP2965271B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006515712A (ja) * | 2002-10-24 | 2006-06-01 | コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ | 熱伝導性基板パッケージ |
EP2068361A1 (en) * | 2007-12-04 | 2009-06-10 | Phoenix Precision Technology Corporation | Packaging substrate having chip embedded therein and manufacturing method thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2965271B2 (ja) | 1999-10-18 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US6711812B1 (en) | Method of making metal core substrate printed circuit wiring board enabling thermally enhanced ball grid array (BGA) packages | |
US6175084B1 (en) | Metal-base multilayer circuit substrate having a heat conductive adhesive layer | |
US6939738B2 (en) | Component built-in module and method for producing the same | |
US5220723A (en) | Process for preparing multi-layer printed wiring board | |
JP2001007468A (ja) | 配線基板,多層配線基板およびその製造方法 | |
JP3441368B2 (ja) | 多層配線基板およびその製造方法 | |
US6582616B2 (en) | Method for preparing ball grid array board | |
JPH056945A (ja) | 半導体用アルミニウム基板 | |
EP0574207A2 (en) | Multilayer printed circuit board and method for manufacturing the same | |
JP3085649B2 (ja) | 転写シート及びそれを用いた配線基板の製造方法 | |
JPH0799391A (ja) | 電子部品搭載用多層基板の製造方法 | |
JPH11317578A (ja) | 配線基板の製造方法 | |
KR100917028B1 (ko) | 아노다이징을 이용한 금속 기판 및 이의 제조방법 | |
JPH05114668A (ja) | 半導体用アルミニウム基板 | |
JPH08293579A (ja) | マルチチップモジュール | |
JPH01290279A (ja) | 配線板及びその製造方法 | |
JPH08125295A (ja) | 金属ベース回路基板 | |
JP3199193B2 (ja) | 半導体搭載用回路基板およびその製造方法 | |
JPH08181452A (ja) | 多層プリント配線板の製造方法 | |
JP3877358B2 (ja) | Ic搭載用多層プリント配線板 | |
JPS62114251A (ja) | 電子素子用チツプキヤリアの製造法 | |
JPH09283935A (ja) | 金属板ベース銅張積層板 | |
JPH05251510A (ja) | Tab用テープキャリヤ及びその製造方法 | |
JPH04133394A (ja) | 多層プリント配線板 | |
JPH06318782A (ja) | 金属ベース多層プリント配線板とその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 19990706 |