JPH056854A - レジスト塗布装置 - Google Patents
レジスト塗布装置Info
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Abstract
ト硬化を防止する。 【構成】 ノズル待機部13を、筐体22内に溶剤24
を貯留する槽と、溶剤雰囲気を発生させる空間30とに
構成し、溶剤24中に、気体導入パイプ26よりN2ガ
スを導入してバブリングを施すことにより、空間内の溶
剤雰囲気濃度を高めるようになっている。このため、ノ
ズル待機部13のノズル挿入孔29に挿入されたレジス
ト吐出ノズル15内のレジスト16は、高濃度な溶剤雰
囲気に晒され、レジスト硬化が防止される。
Description
ハ等に供給、塗布するレジスト塗布装置に関し、更に詳
しくは、レジスト吐出ノズルのレジストの硬化を防止す
る装置に係わる。
フィー工程では、高解像度,高コントラスト等の点から
フォトレジストは例えばバインダーとしてノボラック系
樹脂が用いられ、感光剤としてはナフトキノンジアジド
が用いられている。このようなフォトレジストにあって
は、ともすると室温程度の温度で感光基が遊離、結晶化
するなどの問題が生ずるため、ウエハにフォトレジスト
の供給を行なっていない待機状態に、溶剤の供給による
レジスト吐出ノズルの管理が行なわれている。また、上
記フォトレジスト以外の種類ものにおいても、レジスト
吐出ノズルでのフォトレジストの硬化の問題がある。
ト吐出ノズルにおけるレジスト硬化を防止する手段とし
ては、図5に示すようなノズル待機部1が用いられてい
る。このノズル待機部1は、直方体の容器状ものであ
り、上部にレジスト吐出ノズル2の先端を挿入する挿入
孔1Aが開設され、内部には溶剤3を貯留する溶剤貯留
槽1Bが形成されている。この溶剤貯留槽1Bへの溶剤
3の供給は、ノズル待機部1の側壁を貫通して連通する
溶剤供給路4で行なわれ、また、溶剤貯留槽1Bをオー
バーフローした溶剤3はノズル待機部1の下部に接続さ
れた溶剤排出路5から排出されるようになっている。同
図に示すように、レジスト吐出ノズル2の先端を挿入孔
1Aから挿入して内部空間1Cに臨ませた状態で待機さ
せることにより、ノズル2の先端は、溶剤貯留槽1Bよ
り揮発した溶剤雰囲気3aに晒され、ノズル2内で停止
しているフォトレジスト6の硬化を防止するようになっ
ている。
うな従来例においては、溶剤雰囲気が大気より重いた
め、溶剤雰囲気は溶剤液面付近のみが濃度が高い分布と
なっている。このため、高濃度雰囲気はレジスト吐出ノ
ズル2の先端部まで届かず、ノズル2先端部に存在する
レジスト残りが硬化してしまう問題が依然として存在し
ている。このようなレジスト残りの硬化は、回を重ねる
たびに、ノズル先端部の内径を狭める結果となり、レジ
ストの吐出量を不安定にし、塗布状態にムラを生じる問
題となっている。
して創案されたものであって、レジスト吐出ノズルの先
端部のレジスト硬化を確実に防止するレジスト塗布装置
を得んとするものである。
トレジストをレジスト吐出ノズルに供給可能なレジスト
供給手段と、前記レジスト吐出ノズルの先端を内部空間
に臨ませた状態で待機させると共に溶剤が前記内部空間
に揮発可能に開放された溶剤貯留槽を内蔵するノズル待
機部を備えたレジスト塗布装置において、前記ノズル待
機部の内部空間に前記溶剤中を経由させて気体を供給す
ることを、その解決手段としている。
揮発が促進され、ノズル待機部3の内部空間の溶剤雰囲
気濃度が高くなる。また、気体の供給により、溶剤雰囲
気の対流が起り、レジスト吐出ノズルが充分に溶剤雰囲
気に晒され、レジスト残りの硬化が防止される。
を図面に示す実施例に基づいて説明する。
る。図1はレジスト塗布装置の概略説明図である。同図
中10はレジスト塗布装置であり、この装置10は、レ
ジスト供給手段11と、ウエハ14を載せて回転させる
回転機構12と、レジスト供給手段11のレジスト吐出
ノズル15を待機させるノズル待機部13とから大略構
成されている。
16が収納されたレジスト容器17と、フォトレジスト
16の送出手段であるベローズポンプ18と、上記した
レジスト吐出ノズル15を備えたものである。レジスト
容器17には、フォトレジスト16を送り出すためのパ
イプ19が挿入され、その開口端はレジスト容器17の
底部付近に位置するように設定されている。また、この
パイプ19の送出側の端部は、ベローズポンプ18に接
続されている。そして、ベローズポンプ18の送出側に
は、パイプ20が接続されており、このパイプ20の端
部がレジスト吐出ノズル15となっている。このレジス
ト吐出ノズル15の上部には、下方に向けて拡径に形成
された弾発性を有するフッ素系樹脂で成る密閉カバー2
1が設けられている。
2の底部より立上り板23を形成し、この立上り板23
で筐体22下部を画成して溶剤24を貯留する溶剤貯留
槽と溶剤排出パイプ28を底部に連通させた空間とに区
切られている。なお、この空間は筐体22内の上部空間
30と連続したものである。また、溶剤貯留槽の底部に
は、窒素ガスを該槽内に導入する気体導入パイプ26が
接続されると共に、この気体導入パイプ26から導入さ
れた窒素ガスを底部に拡散させる網体25が敷かれてい
る。このように、気体導入パイプ26から窒素ガスを常
時導入することにより、溶剤24中を気泡32が上昇
し、溶剤24を空間30に揮発させ、空間30中の溶剤
雰囲気濃度を高めるようになっている。また、溶剤24
の液量が減った場合は、溶剤導入パイプ27を介して溶
剤を供給できるようになっている。そして、筐体22の
上部には、上記したレジスト吐出ノズル15が挿入され
るノズル挿入孔29が形成されている。図2は、ノズル
挿入孔29にレジスト吐出ノズル15を挿入した状態を
示しており、挿入に伴ない密閉カバー21が筐体22上
面に押し当てられてノズル挿入孔29から溶剤雰囲気が
逃げないよう塞いでいる。この密閉カバー21は、上記
したように弾発性を有しているため、ノズル挿入孔29
を確実に閉塞すると共に、フッ素系樹脂で形成されてい
るため、化学的及び物理的に安定であり、ダストを発生
させる問題もない。なお、図中31は、溶剤24の保有
量を管理するための静電容量センサを示している。
をレジスト吐出ノズル15より供給しないときのレジス
ト吐出ノズル15内のフォトレジスト16の硬化を、濃
度の高い溶剤雰囲気に晒すことにより有効に防止でき
る。
は、これに限定されるものではなく、構成の要旨に付随
する各種の設計変更が可能である。
パイプ26より溶剤24中に窒素ガスを導入したが、他
の気体を選択することも勿論可能である。
図に示すように、溶剤貯留槽の位置を待機中のレジスト
吐出ノズル15の下方よりずらした位置に設定し、レジ
スト吐出ノズル15よりフォトレジスト16を溶剤排出
パイプ28より排出させ得るように構成することも可能
である。この場合、レジスト吐出ノズル付近のフォトレ
ジスト16を捨てることによって粘度の変化ないフォト
レジスト16の供給を確実にすることができる。
供給手段11にベローズポンプ18を用いたが、他の送
出手段を採用しても勿論よい。
出ノズル15の上部に密閉カバー21を設けたが、レジ
スト吐出ノズル15がノズル待機部13に密嵌する構成
とすれば、これを省略してもよい。
パイプ26を溶剤貯留槽底部に接続したが、気体導入用
のパイプを溶剤24の上から導入してバブリング可能に
しても勿論よい。
に係るレジスト塗布装置においては、溶剤雰囲気の高濃
度化すると共に、雰囲気の対流を発生させるため、待機
中のレジスト吐出ノズルを溶剤雰囲気に充分に晒すこと
ができ、レジスト吐出ノズル内のレジスト残りの硬化を
防止する効果がある。さらに、ウエハ上に供給するフォ
トレジストの粘度の変動を防止することができ、塗布さ
れたレジスト膜圧を安定に維持する効果を有する。
3…ノズル待機部、15…レジスト吐出ノズル、16…
フォトレジスト、23…気泡、24…溶剤、26…気体
導入パイプ。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】 フォトレジストをレジスト吐出ノズルに
供給可能なレジスト供給手段と、前記レジスト吐出ノズ
ルの先端を内部空間に臨ませた状態で待機させると共に
溶剤が前記内部空間に揮発可能に開放された溶剤貯留槽
を内蔵するノズル待機部を備えたレジスト塗布装置にお
いて、前記ノズル待機部の内部空間に前記溶剤中を経由
させて気体を供給することを特徴とするレジスト塗布装
置。
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