JPH056736B2 - - Google Patents
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- JPH056736B2 JPH056736B2 JP57200816A JP20081682A JPH056736B2 JP H056736 B2 JPH056736 B2 JP H056736B2 JP 57200816 A JP57200816 A JP 57200816A JP 20081682 A JP20081682 A JP 20081682A JP H056736 B2 JPH056736 B2 JP H056736B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の利用分野〕
本発明は耐摩耗性に優れた磁気デイスクに関
し、特に液体潤滑剤を塗布した場合にも磁気ヘツ
ドとの粘着が起こるのを防止可能な磁気デイスク
に関する。
し、特に液体潤滑剤を塗布した場合にも磁気ヘツ
ドとの粘着が起こるのを防止可能な磁気デイスク
に関する。
従来から、例えば特開昭55−150134号公報、特
開昭56−19527号公報に開示されている如く、磁
気デイスクの摩耗を防止するために磁気デイスク
の磁性媒体層表面（以下、これを「磁気デイスク
表面」という。）に設けたマイクロクラツク、孔
等に潤滑剤を含浸させることが行われていた。
開昭56−19527号公報に開示されている如く、磁
気デイスクの摩耗を防止するために磁気デイスク
の磁性媒体層表面（以下、これを「磁気デイスク
表面」という。）に設けたマイクロクラツク、孔
等に潤滑剤を含浸させることが行われていた。
しかしながら、上述の磁気デイスク表面に設け
られたマイクロクラツク、孔等の寸法について
は、ビツトエラーが生じない程度に微小な寸法と
されており、これは、例えば、最近の高記録密度
磁気デイスクの記録密度15000BPI（bit per
inch）、800TPI（track per inch）において、面
積比20％の磁性媒体の欠落、すなわち孔でビツト
エラーが生ずるものとすると、孔の大きさは直径
3.7μm程度ということになる。これに対して、磁
気デイスク表面に磁気ヘツドを接触させたとき、
これらの間にできる間隙は約0.2μm以下となる。
従つて、前述の如き寸法のマイクロクラツク、孔
等を有する磁気デイスク表面に潤滑剤を塗布した
後、これに磁気ヘツドを接触させたまま放置する
と、潤滑剤が毛管現象によつて、磁気デイスク表
面と磁気ヘツド表面との間隙に集まつてきて、前
記磁気ヘツドと磁気デイスクとの粘着が起こり、
磁気デイスク起動時に磁気ヘツド、磁気デイスク
両方が損傷するという問題があつた。
られたマイクロクラツク、孔等の寸法について
は、ビツトエラーが生じない程度に微小な寸法と
されており、これは、例えば、最近の高記録密度
磁気デイスクの記録密度15000BPI（bit per
inch）、800TPI（track per inch）において、面
積比20％の磁性媒体の欠落、すなわち孔でビツト
エラーが生ずるものとすると、孔の大きさは直径
3.7μm程度ということになる。これに対して、磁
気デイスク表面に磁気ヘツドを接触させたとき、
これらの間にできる間隙は約0.2μm以下となる。
従つて、前述の如き寸法のマイクロクラツク、孔
等を有する磁気デイスク表面に潤滑剤を塗布した
後、これに磁気ヘツドを接触させたまま放置する
と、潤滑剤が毛管現象によつて、磁気デイスク表
面と磁気ヘツド表面との間隙に集まつてきて、前
記磁気ヘツドと磁気デイスクとの粘着が起こり、
磁気デイスク起動時に磁気ヘツド、磁気デイスク
両方が損傷するという問題があつた。
この問題を解決するために、磁気デイスク起動
直前に磁気ヘツドを磁気デイスクの半径方向に微
動させた後、磁気デイスクを起動するようにした
磁気デイスク装置も提案されているが、この装置
では、磁気ヘツドを微動させるための特別な機構
を要するという別の問題を生ずることになる。
直前に磁気ヘツドを磁気デイスクの半径方向に微
動させた後、磁気デイスクを起動するようにした
磁気デイスク装置も提案されているが、この装置
では、磁気ヘツドを微動させるための特別な機構
を要するという別の問題を生ずることになる。
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、そ
の目的とするところは、従来の磁気デイスクにお
ける上述の如き問題を完全に解消し、液体潤滑剤
を塗布し、該デイスク表面の孔等に含浸させた場
合にも磁気ヘツドとの粘着が起こるのを防止可能
な磁気デイスクを提供することにある。
の目的とするところは、従来の磁気デイスクにお
ける上述の如き問題を完全に解消し、液体潤滑剤
を塗布し、該デイスク表面の孔等に含浸させた場
合にも磁気ヘツドとの粘着が起こるのを防止可能
な磁気デイスクを提供することにある。
本発明の上記目的は、磁性媒体層内に液体潤滑
剤を保有するための微細な孔を多数有する磁気デ
イスクにおいて、前記微細な孔の径を、磁気デイ
スク表面粗さによつて決まる、磁気デイスク表面
と磁気ヘツドとの間にできる間〓の寸法より小さ
くしたことを特徴とする磁気デイスクによつて達
成される。
剤を保有するための微細な孔を多数有する磁気デ
イスクにおいて、前記微細な孔の径を、磁気デイ
スク表面粗さによつて決まる、磁気デイスク表面
と磁気ヘツドとの間にできる間〓の寸法より小さ
くしたことを特徴とする磁気デイスクによつて達
成される。
以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に
説明する。
説明する。
第１図は本発明の一実施例である磁気デイスク
を磁気ヘツドと接触させた状態を示す断面図であ
る。図において、１はバインダー２、磁性体３で
構成される磁性媒体であり、アルマイト処理され
たアルミ基板４と一体となつて磁気デイスクを構
成している。また、５は磁気ヘツドを示し、６は
磁気ヘツド表面と磁気デイスク表面との間にでき
る間隙、７は後述する如き方法で形成される磁性
媒体１中の微細孔である。該微細孔７の径は、前
記磁気ヘツド表面と磁気デイスク表面との間にで
きる間隙６の寸法より小さくなつている。また、
微細孔７内には液体潤滑剤が保有されている。
を磁気ヘツドと接触させた状態を示す断面図であ
る。図において、１はバインダー２、磁性体３で
構成される磁性媒体であり、アルマイト処理され
たアルミ基板４と一体となつて磁気デイスクを構
成している。また、５は磁気ヘツドを示し、６は
磁気ヘツド表面と磁気デイスク表面との間にでき
る間隙、７は後述する如き方法で形成される磁性
媒体１中の微細孔である。該微細孔７の径は、前
記磁気ヘツド表面と磁気デイスク表面との間にで
きる間隙６の寸法より小さくなつている。また、
微細孔７内には液体潤滑剤が保有されている。
磁気デイスクは、通常、次のような工程により
製造される。すなわち、表面を研磨しアルマイト
処理されたアルミ基板に磁性体としてのガンマ酸
化鉄等とバインダーとしての熱硬化性樹脂とから
成る塗料を、遠心塗布等の方法により塗布する。
この後、加熱により前記塗料をアルミ基板に焼付
け硬化させ、表面を研磨し、弗化炭素系液体潤滑
剤をその表面に塗布するものである。
製造される。すなわち、表面を研磨しアルマイト
処理されたアルミ基板に磁性体としてのガンマ酸
化鉄等とバインダーとしての熱硬化性樹脂とから
成る塗料を、遠心塗布等の方法により塗布する。
この後、加熱により前記塗料をアルミ基板に焼付
け硬化させ、表面を研磨し、弗化炭素系液体潤滑
剤をその表面に塗布するものである。
本実施例に示した磁気デイスクの微細孔７は、
前記塗料の焼付け硬化時の温度で蒸発する物質を
添加剤として前記塗料中に適量混入させることに
よつて形成されるものである。すなわち、熱硬化
性樹脂が硬化反応を起こしているときに、前記添
加剤が蒸発気化することにより、熱硬化性樹脂中
に前記添加剤蒸気の通過跡ができるのを利用して
いることになる。
前記塗料の焼付け硬化時の温度で蒸発する物質を
添加剤として前記塗料中に適量混入させることに
よつて形成されるものである。すなわち、熱硬化
性樹脂が硬化反応を起こしているときに、前記添
加剤が蒸発気化することにより、熱硬化性樹脂中
に前記添加剤蒸気の通過跡ができるのを利用して
いることになる。
液体潤滑剤の塗布は、浸漬法、吹付法等の方法
のいずれを用いて良いが、潤滑塗布入後、該潤滑
剤が蒸発しない範囲で磁気デイスクを加温するこ
とは、潤滑剤の粘度を低下させ、前記微細孔中へ
の潤滑剤の浸み込みを促進させる点で有効であ
る。
のいずれを用いて良いが、潤滑塗布入後、該潤滑
剤が蒸発しない範囲で磁気デイスクを加温するこ
とは、潤滑剤の粘度を低下させ、前記微細孔中へ
の潤滑剤の浸み込みを促進させる点で有効であ
る。
以下、本実施例の磁気デイスクの作用について
説明する。
説明する。
磁気デイスク表面は非常に精度良く（例えば表
面粗さ0.03μmRa以下に）仕上げられているが、
磁気ヘツドの大きさ（長さ）程度の寸法で見る
と、その表面にうねり、あるいは突起物を有する
ため、前述の如く、磁気デイスク表面と磁気ヘツ
ド表面との間には間隙６が生ずる。しかし、本実
施例の磁気デイスクは、前記間隙６より小さい径
を有する孔７を有し、この中に潤滑剤を保有して
いるので、磁気ヘツドを磁気デイスクに接触させ
たまま放置した場合でも、両者の毛細管現象の差
―毛細管現象は前記間隙６より、微細孔７の方に
より強く作用する―により、微細孔７内の潤滑剤
はそのまま保有される。このため、従来の如く潤
滑剤が磁気ヘツド表面と磁気デイスク表面との間
隙に集まることがなく、潤滑剤を介する磁気ヘツ
ドと磁気デイスクとの粘着が起こることはない。
面粗さ0.03μmRa以下に）仕上げられているが、
磁気ヘツドの大きさ（長さ）程度の寸法で見る
と、その表面にうねり、あるいは突起物を有する
ため、前述の如く、磁気デイスク表面と磁気ヘツ
ド表面との間には間隙６が生ずる。しかし、本実
施例の磁気デイスクは、前記間隙６より小さい径
を有する孔７を有し、この中に潤滑剤を保有して
いるので、磁気ヘツドを磁気デイスクに接触させ
たまま放置した場合でも、両者の毛細管現象の差
―毛細管現象は前記間隙６より、微細孔７の方に
より強く作用する―により、微細孔７内の潤滑剤
はそのまま保有される。このため、従来の如く潤
滑剤が磁気ヘツド表面と磁気デイスク表面との間
隙に集まることがなく、潤滑剤を介する磁気ヘツ
ドと磁気デイスクとの粘着が起こることはない。
また、磁気デイスクの起動時には、磁気デイス
クと磁気ヘツドとが摩擦されることにより、前記
微細孔中の潤滑剤が加圧、加温されるため、磁気
デイスク表面に滲み出して潤滑作用が行われる。
これにより、磁気ヘツドおよび磁気デイスクの摩
耗を防止することができる。磁気デイスクが停止
して、温度が低下した場合には、潤滑剤は最も安
定した状態である微細孔内に戻るため、粘着現象
は生じない。
クと磁気ヘツドとが摩擦されることにより、前記
微細孔中の潤滑剤が加圧、加温されるため、磁気
デイスク表面に滲み出して潤滑作用が行われる。
これにより、磁気ヘツドおよび磁気デイスクの摩
耗を防止することができる。磁気デイスクが停止
して、温度が低下した場合には、潤滑剤は最も安
定した状態である微細孔内に戻るため、粘着現象
は生じない。
第２図に、磁気ヘツドを磁気デイスク上に接触
させて放置した場合の粘着力の変化の状況を示し
た。図の曲線Ａは従来の磁気デイスクを用いた場
合、曲線Ｂは本実施例の磁気デイスクを用いた場
合を示している。図から明らかな通り、本実施例
の磁気デイスクは粘着を完全に防止することがで
きる。
させて放置した場合の粘着力の変化の状況を示し
た。図の曲線Ａは従来の磁気デイスクを用いた場
合、曲線Ｂは本実施例の磁気デイスクを用いた場
合を示している。図から明らかな通り、本実施例
の磁気デイスクは粘着を完全に防止することがで
きる。
上記実施例においては、微細孔７を形成するの
に、塗料の焼付け硬化時の温度で蒸発する物質を
添加剤として前記塗料中に適量混入させるという
方法を用いたが、微細孔７は他の適当な方法によ
つて形成しても良いことは言うまでもない。
に、塗料の焼付け硬化時の温度で蒸発する物質を
添加剤として前記塗料中に適量混入させるという
方法を用いたが、微細孔７は他の適当な方法によ
つて形成しても良いことは言うまでもない。
以上述べた如く、本発明によれば、潤滑剤を保
有するための微細な孔を多数有する磁気デイスク
において、前記微細な孔の径を、磁気デイスク表
面に接触する磁気ヘツド表面との間にできる間隙
の寸法より小さくしたので、毛細管現象の差を利
用して、潤滑剤の動きをコントロールし、潤滑と
粘着防止を完全に両立させることが可能な磁気デ
イスクを実現できるという顕著な効果を奏するも
のである。
有するための微細な孔を多数有する磁気デイスク
において、前記微細な孔の径を、磁気デイスク表
面に接触する磁気ヘツド表面との間にできる間隙
の寸法より小さくしたので、毛細管現象の差を利
用して、潤滑剤の動きをコントロールし、潤滑と
粘着防止を完全に両立させることが可能な磁気デ
イスクを実現できるという顕著な効果を奏するも
のである。
第１図は本発明の一実施例である磁気デイスク
を磁気ヘツドと接触させた状態を示す断面図、第
２図は本発明の効果を説明する図である。 １：磁性媒体、２：バインダー、３：磁性体、
４：アルミ基板、５：磁気ヘツド、６：間隙、
７：微細孔。
を磁気ヘツドと接触させた状態を示す断面図、第
２図は本発明の効果を説明する図である。 １：磁性媒体、２：バインダー、３：磁性体、
４：アルミ基板、５：磁気ヘツド、６：間隙、
７：微細孔。
Claims (1)
- １ 磁性媒体層内に液体潤滑剤を保有するための
微細な孔を多数有する磁気デイスクにおいて、前
記微細な孔の径を、磁気デイスク表面粗さによつ
て決まる、磁気デイスク表面と磁気ヘツドとの間
にできる間〓の寸法より小さくしたことを特徴と
する磁気デイスク。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57200816A JPS5990234A (ja) | 1982-11-15 | 1982-11-15 | 磁気デイスク |
| DE19833341205 DE3341205A1 (de) | 1982-11-15 | 1983-11-14 | Magnetscheibe und verfahren zu deren herstellung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP57200816A JPS5990234A (ja) | 1982-11-15 | 1982-11-15 | 磁気デイスク |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5990234A JPS5990234A (ja) | 1984-05-24 |
| JPH056736B2 true JPH056736B2 (ja) | 1993-01-27 |
Family
ID=16430669
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP57200816A Granted JPS5990234A (ja) | 1982-11-15 | 1982-11-15 | 磁気デイスク |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5990234A (ja) |
| DE (1) | DE3341205A1 (ja) |
Families Citing this family (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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| NL8402136A (nl) * | 1984-07-05 | 1986-02-03 | Pd Magnetics Bv | Magnetisch registratie element en methode voor de vervaardiging ervan. |
| US4803577A (en) * | 1985-06-12 | 1989-02-07 | Tdk Corporation | Vertical magnetic recording system using rigid disk |
| US4693908A (en) * | 1985-08-19 | 1987-09-15 | International Business Machines Corporation | Magnetic recording disk with improved lubricant retention |
| JPS6280827A (ja) * | 1985-10-04 | 1987-04-14 | Hitachi Ltd | 磁気デイスク |
| JPH0760508B2 (ja) * | 1985-12-10 | 1995-06-28 | ティーディーケイ株式会社 | 磁気記録ディスクおよびその製造方法 |
| US4985295A (en) * | 1987-01-23 | 1991-01-15 | Hitachi, Ltd. | Magnetic recording medium and method for producing the same |
| JP2520730B2 (ja) * | 1988-04-13 | 1996-07-31 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| JPH03116413A (ja) * | 1989-09-28 | 1991-05-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 磁気記録媒体 |
| US6822819B1 (en) | 2003-09-30 | 2004-11-23 | Hitachi Global Storage Technologies | Methods and apparatus for thermally bonding lubricant to a disk surface with use of a heating element formed in a magnetic head |
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Family Cites Families (1)
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| JPS503926B1 (ja) * | 1968-10-23 | 1975-02-12 |
-
1982
- 1982-11-15 JP JP57200816A patent/JPS5990234A/ja active Granted
-
1983
- 1983-11-14 DE DE19833341205 patent/DE3341205A1/de active Granted
Patent Citations (11)
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| JPS563435A (en) * | 1979-06-20 | 1981-01-14 | Fujitsu Ltd | Manufacture of magnetic recording medium |
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| JPS56143522A (en) * | 1980-04-07 | 1981-11-09 | Fuji Photo Film Co Ltd | Magnetic recording medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE3341205A1 (de) | 1984-05-17 |
| DE3341205C2 (ja) | 1990-08-09 |
| JPS5990234A (ja) | 1984-05-24 |
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