JPS62298024A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ３、発明の詳細な説明 〔概要〕 この発明は連続磁性膜上に保護膜を形成するにあたり、
保護膜を２層に分けて形成し、１層目で凹凸を形成、２
層目でその凹凸の段差を緩和することにより、磁気記録
媒体の機械的耐久強度の向上および磁気ヘッドの吸着や
摩耗を低減できるようにしたものである。

〔産業上の利用分野〕

この発明は、磁気ディスク装置等に使用される磁気記録
媒体の製造方法、特に連続磁性膜の表面に保護膜を形成
するためめ方法に関するものである。

情報量の増大に伴い磁気ディスクの容量は、年々上昇の
一途をたどり、ますます高密度化を図ることが要望され
ている。記録密度の高密度化に当たっては、記録層の磁
気特性を向上させることの他に、磁気ヘッドと磁気ディ
スク間の間隙を小さくすることが必要である。しかし、
ヘッドとディスフとの間隙を小さくすると、それらが接
触する確率が増え、その接触度合によってはディスクに
記録された情報が破壊されるという大きな問題を生じる
。

これを避けるためにディスクの連続磁性膜の表面には、
通常耐久性に優れた保護膜が設けられている。

〔従来の技術〕

このような保護膜とその形成方法として、特開昭６０−
５４２３号の発明が知られている。これを第３図に従っ
て簡単に説明する。

第３図において、１１はディスク基板、１２は連続磁性
膜、１４は熱硬化性樹脂から成る保護膜、１５は該保護
膜に設けられた孔、１６はその孔の周辺部に存在する突
起、１７は表面潤滑膜である。

その製造工程は、まず第３図（ａ）の工程において基板
１１上にスパッタ法でｒ−Ｆｅ２０３の連続磁性膜１２
を形成する。次に第３図（ｂｌの工程において、熱硬化
性樹脂を含む溶剤と易熱分解性物質（または易熱分解性
￥！ｉＪ譬）の混合液１３を塗布する。次に第３図（Ｃ
）の工程において、この混合液を加熱することにより熱
硬化性樹脂の硬化と易熱分解性物質の蒸発を同時に行う
。この結果、連続磁性膜１２上には多数の孔１５を有す
る熱硬化性樹脂膜すなわち保護膜１４が形成される。こ
のとき答礼１５の周辺部には、易熱蒸発性あるいは易熱
分解性物質の茶発、分解に伴う突起１６が形成される。

そして最後の工程において、潤滑剤を塗布して表面潤滑
膜１７を形成し第３図Ｆｄｌの磁気ディスクを完成する
。

なお、前記保護膜１４に多数の孔１５および突起１６を
設ける理由は、その表面を粗すことによりＣＳＳ　（Ｃ
ｏｔａｃｔ　５ｔａｒｔ　５ｔｏｐ）時の磁気ヘッドの
吸着を防止することにある。またこの孔と突起は、保護
膜の平均膜厚（中間レベル）よりも窪んだ凹部分および
それよりも高い凸部分として表現できる。

〔発明が解決しようとする問題点〕

ところが、上記従来の保護膜形成方法では、保護膜１４
の突起１６の先端が高くかつ鋭くなるため、磁気ヘッド
との接触により該突起の欠けが生じやすくなり、その欠
けによってディスク表面に傷がついたり、あるいはヘッ
ドが摩耗されるという問題がある。

そこで突起１６の先端を丸めるために表面を研磨するこ
とが考えられるが、保護膜１４は硬いため十分な研磨効
果を得ることができない。

この発明は、以上のような従来の状況から、孔と突起の
段差が少ない、つまり表面の凹凸が小さい保護膜を形成
できる磁気記録媒体の製造方法の提供を目的とするもの
である。

〔問題点を解決するための手段〕

この発明は、第１図に示すように連続磁性膜１２上に、
孔（凹部）１５と突起（凸部）１６を備えた熱硬化性樹
脂膜より成る第１の保護膜２２と、この保護膜の凹凸部
の段差を緩和するための熱硬化性樹脂より成る第２の保
護膜２３とを順次積層形成する。

前記第１の保護膜２２は、熱硬化性樹脂を含む溶剤と易
熱分解性あるいは易熱萎発性の物質の混合液を塗布後、
加熱により混合液の硬化と易熱分解性あるいは易熱蒸発
性の物質の分解、蒸発を同時に行う工程で形成される。

前記第２の保護膜２３は、熱硬化性樹脂を含む溶剤を塗
布した後、加熱により熱硬化性樹脂を硬化させる工程で
形成される。

〔実施例〕

以下、この発明の好ましい実施例につき第２図の工程順
に沿ったディスク断面図を参照して説明する。なお、前
記第３図と同一部分には同一符号を記している。

第２図（ａｌに示す工程において、表面をアルマイト処
理したアルミ基板１１の上に例えば特許第１０２４３６
４号に示される方法でｒ−Ｆｅ２０３の連続磁性膜１２
を膜厚０．２μｍに形成する。

第２図（ｂｌに示す工程において、連続磁性膜１２の上
に熱硬化性樹脂の一種であるガラスレジン（加熱効果さ
せることにより５ｉ０２になるもので、オーエンスイリ
ノイ社の商品名）を溶剤で溶かしたものと、湯熱蒸発性
物質である流動パラフィンとを混合した混合液２１を平
均膜厚〜０．０２μｍになるように塗布する。

第２図（Ｃ）に示す工程において、前記磁性膜１２上に
混合液２１が塗布されたアルミ基板１１を約３００℃で
加熱する。この加熱によって混合液中の流動パラフィン
と溶剤が蒸発すると同時にガラスレジンが硬化する。こ
のときガラスレジン膜２２には、流動パラフィンの蒸発
に伴う多数の孔（凹部）１５とその孔周辺部に高さ〜０
．０５μｍの突起（凸部）１６が形成される。このガラ
スレジン膜により第１の保護膜２２が形成される。

ここまでは従来の方法と同じであるが、本発明ではこの
後第２図（ｄｌに示す工程において、前記第１の保護膜
２２上にガラスレジンを溶剤で溶かしたガラスレジン溶
液２３を塗布し、再度３００℃で加熱する。この加熱に
よりガラスレジン溶液が硬化する。この硬化したガラス
レジン膜により第２の保護膜２３が形成され、前記第１
の保護膜２２の急峻な凹凸が滑らかな凹凸に変化する。

なお、この第２の保護膜の平均膜厚は、第１の保護膜の
最大突起高さ以下にするのが望ましい。なぜなら最大突
起高さ以上にすればその膜表面が平滑になりすぎ、ヘッ
ド吸着を引き起こしやすくなるからである。

この後、従来法同様に第２図ｔｅｌに示す工程において
第２の保護膜２３上に潤滑剤１７を塗布し、磁気ディス
クを完成する。

以上、この発明の一実施例について説明したが次のよう
な変形も可能である。

■　第１の保護膜２２を形成する際の加熱温度は、第２
の保護膜２３のそれと同じ３００℃に限らず混合した溶
剤と湯熱蒸発性物質が蒸発する温度でありさえすればよ
く硬化温度以下でも差支えない。

■　第１および第２の保護膜を形成するための熱硬化性
物質は、各々異なるものを適用可能である。

■　連ｙ、磁性膜１２はＣｏ−ＮｉやＣｏ−Ｎｉ−Ｃｒ
等の金属磁性膜も適用できる。

〔発明の効果〕

以上説明したようにこの発明によれば、低く滑らかな表
面凹凸を有する保護膜形成することができる。したがっ
て、ヘッド吸着がな（て機械的耐久強度の高い磁気ディ
スクが製造でき、またそのディスク使用によって磁気ヘ
ッドの摩耗を低減させる効果を奏する。

【図面の簡単な説明】

第１図はこの発明を説明するための磁気記録媒体の断面
図、 第２図はこの発明の一実施例を工程順に示した磁気ディ
スクの断面図、 第３図は従来の保護膜を備えた磁気ディスクを説明する
ための断面図である。 第１図と第２図において、 １１は基板、 １２は連続磁性膜、 １５は孔（凹部）、 １６は突起（凸部）、 １７は表面潤滑膜、 ２１は熱硬化性樹脂の溶液と湯熱蒸発性物質の混合液、 ２２は第１の保護膜、 ２３は第２の保護膜を示す。 千串ｒヨ小二ｒろχシミれ乙夕ゑ斐Ｕ少トビ汀６ｈ５む
第１図

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 基板上に形成された連続磁性膜の上に保護膜を下記工程
   をすべて含んで形成することを特徴とする磁気記録媒体
   の製造方法。 （ａ）前記連続磁性膜（１２）上に熱硬化性樹脂を含む
   溶剤と易熱分解性あるいは易熱蒸発性の物質の混合液（
   ２１）を塗布した後、加熱により混合液の硬化と易熱分
   解性あるいは易熱蒸発性の物質の分解、蒸発を同時に行
   い、その平均膜厚よりも凹部分（１５）と凸部分（１６
   ）を有する第１の保護膜（２２）を形成する工程。 （ｂ）前記第１の保護膜（２２）の上に熱硬化性樹脂を
   含む溶剤を塗布した後、加熱により熱硬化性樹脂を硬化
   させ、当該第１の保護膜表面の凹部分（１５）と凸部分
   （１６）の段差を緩和する第２の保護膜（２３）を形成
   する工程。