JPH0273518A - 磁気ディスク媒体の製造方法 - Google Patents
磁気ディスク媒体の製造方法Info
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- JPH0273518A JPH0273518A JP22523488A JP22523488A JPH0273518A JP H0273518 A JPH0273518 A JP H0273518A JP 22523488 A JP22523488 A JP 22523488A JP 22523488 A JP22523488 A JP 22523488A JP H0273518 A JPH0273518 A JP H0273518A
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Landscapes
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
磁性膜の表面に保護膜と潤滑膜が積層された磁気ディス
ク媒体の製造方法、特にＣＳ Ｓ （ＣｏｎｔａｃｔＳ
ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）特性と耐久性等を向上させる保護
膜の形成方法に関し、 記録磁性膜上に、表面の微小な凹凸が一様な保護膜と潤
滑膜を形成するようにして均一な表面潤滑性を得ること
を目的とし、 基板上に形成された記録磁性膜上に保護膜と潤滑膜を順
に設けた磁気ディスク媒体の製造において、前記磁性膜
の表面に珪素（Ｓｉ）を含む溶液を塗布して乾燥させた
後、その表面に溶剤からなる微小な液滴を散布し、焼成
することにより、無数の微小な凹部が一様に形成された
保護膜を当該記録磁性膜上に形成する工程と、この保護
膜の表面に潤滑膜を形成する工程とを含み構成する。
ク媒体の製造方法、特にＣＳ Ｓ （ＣｏｎｔａｃｔＳ
ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）特性と耐久性等を向上させる保護
膜の形成方法に関し、 記録磁性膜上に、表面の微小な凹凸が一様な保護膜と潤
滑膜を形成するようにして均一な表面潤滑性を得ること
を目的とし、 基板上に形成された記録磁性膜上に保護膜と潤滑膜を順
に設けた磁気ディスク媒体の製造において、前記磁性膜
の表面に珪素（Ｓｉ）を含む溶液を塗布して乾燥させた
後、その表面に溶剤からなる微小な液滴を散布し、焼成
することにより、無数の微小な凹部が一様に形成された
保護膜を当該記録磁性膜上に形成する工程と、この保護
膜の表面に潤滑膜を形成する工程とを含み構成する。
本発明は記録磁性膜の表面に保護膜と潤滑膜を積層した
磁気ディスク媒体の製造方法に係り、特にＣＳ Ｓ （
Ｃｏｎｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）特性と耐久性
等を向上させる保護膜の形成方法に関するものである。
磁気ディスク媒体の製造方法に係り、特にＣＳ Ｓ （
Ｃｏｎｔａｃｔ ５ｔａｒｔ ５ｔｏｐ）特性と耐久性
等を向上させる保護膜の形成方法に関するものである。
磁気ディスク装置においては、近来急激な情報量の増大
に伴い磁気ディスク媒体の記録容量も増加の一途をたど
り、益々高密度記録化が要求へされている。この高密度
記録化にあたっては記録磁性膜の磁気特性を向上させる
ことは勿論のこと、磁気ディスク媒体に対して記録再生
を行う磁気へラドスライダの浮上間隔も益々小さいする
ことが要求される。しかしこの両者間の間隔を小さくす
るとヘッドクラッシュが発生する確率も高くなり、場合
によってはディスク媒体に記録された情報が破壊される
という問題がある。
に伴い磁気ディスク媒体の記録容量も増加の一途をたど
り、益々高密度記録化が要求へされている。この高密度
記録化にあたっては記録磁性膜の磁気特性を向上させる
ことは勿論のこと、磁気ディスク媒体に対して記録再生
を行う磁気へラドスライダの浮上間隔も益々小さいする
ことが要求される。しかしこの両者間の間隔を小さくす
るとヘッドクラッシュが発生する確率も高くなり、場合
によってはディスク媒体に記録された情報が破壊される
という問題がある。
このような問題を避けるためにディスク媒体の記録磁性
膜の表面には、通常、耐久性に優れた保護膜、或いは該
保護膜とその表面に潤滑膜が設けられている。
膜の表面には、通常、耐久性に優れた保護膜、或いは該
保護膜とその表面に潤滑膜が設けられている。
しかしながら、この潤滑膜が設けられた磁気ディスク媒
体の表面が平滑過ぎると、Ｃ８Ｓ動作時等に磁気ヘッド
スライダがそのディスク面に潤滑剤により吸着されて摩
擦が大きくなり、この吸着が著しくなるとヘッドクラッ
シュを発生する傾向がある。このため、Ｃ８Ｓ動作時等
においてヘッド吸着がなく、かつ表面潤滑性（耐久性）
に優れた磁気ディスク媒体が要望されている。
体の表面が平滑過ぎると、Ｃ８Ｓ動作時等に磁気ヘッド
スライダがそのディスク面に潤滑剤により吸着されて摩
擦が大きくなり、この吸着が著しくなるとヘッドクラッ
シュを発生する傾向がある。このため、Ｃ８Ｓ動作時等
においてヘッド吸着がなく、かつ表面潤滑性（耐久性）
に優れた磁気ディスク媒体が要望されている。
従来、上記したＣ８Ｓ動作時等におけるヘッド吸着を防
止し、かつ耐クラツシユ性を向上する磁気ディスク媒体
としては、第２図（ａ）に示すように表面に硬化処理を
施したアルミニウム（＾ｌ）などからなる基板１１上に
スパンタリング法等により例えばγ−ＦｅｚＯ＝からな
る記録磁性膜１２と、ＳｉＯ□などからなる保護膜１３
を順に形成する。
止し、かつ耐クラツシユ性を向上する磁気ディスク媒体
としては、第２図（ａ）に示すように表面に硬化処理を
施したアルミニウム（＾ｌ）などからなる基板１１上に
スパンタリング法等により例えばγ−ＦｅｚＯ＝からな
る記録磁性膜１２と、ＳｉＯ□などからなる保護膜１３
を順に形成する。
次にこの保護膜１３の表面を第２図（ｂ）に示すように
ランピングテープ等を用いた機械的な研磨加工によって
、微小な凹凸を有する粗面１４にし、かかる粗面上に潤
滑剤を塗布して潤滑膜１５を形成することにより、前記
微小な凹凸を有する粗面１４により磁気へラドスライダ
との接触面積が減少するため、ヘッド吸着が防がれると
共に、潤滑膜１５の存在により低摩擦、低摩耗が維持さ
れて、耐クラツシユ性を向上している。
ランピングテープ等を用いた機械的な研磨加工によって
、微小な凹凸を有する粗面１４にし、かかる粗面上に潤
滑剤を塗布して潤滑膜１５を形成することにより、前記
微小な凹凸を有する粗面１４により磁気へラドスライダ
との接触面積が減少するため、ヘッド吸着が防がれると
共に、潤滑膜１５の存在により低摩擦、低摩耗が維持さ
れて、耐クラツシユ性を向上している。
ところが上記したような従来の保護膜１３表面を粗面化
する方法では、該保護膜１３表面に微小な凹凸を一様に
形成することが実際には困難であり、均一な表面潤滑性
が得られないため、耐久性が低下するといった欠点があ
った。
する方法では、該保護膜１３表面に微小な凹凸を一様に
形成することが実際には困難であり、均一な表面潤滑性
が得られないため、耐久性が低下するといった欠点があ
った。
本発明は上記した従来の問題点に鑑み、記録磁性膜上に
、表面の微小な凹凸が一様な保護膜を形成するようにし
て均一な表面潤滑性が得られる新規な磁気ディスク媒体
の製造方法を提供することを目的とするものである。
、表面の微小な凹凸が一様な保護膜を形成するようにし
て均一な表面潤滑性が得られる新規な磁気ディスク媒体
の製造方法を提供することを目的とするものである。
本発明は上記した目的を達成するため、基板上に形成さ
れた記録磁性膜上に保護膜と潤滑膜を順に設けた磁気デ
ィスク媒体の製造において、前記磁性膜の表面に珪素（
Ｓｉ）を含む溶液を塗布して乾燥させた後、その表面に
溶剤からなる微小な液滴を散布し、焼成することにより
、無数の微小な凹部が一様に形成された保護膜を当該記
録磁性膜上に形成し、この保護膜の表面に更に潤滑膜を
形成した構成とする。
れた記録磁性膜上に保護膜と潤滑膜を順に設けた磁気デ
ィスク媒体の製造において、前記磁性膜の表面に珪素（
Ｓｉ）を含む溶液を塗布して乾燥させた後、その表面に
溶剤からなる微小な液滴を散布し、焼成することにより
、無数の微小な凹部が一様に形成された保護膜を当該記
録磁性膜上に形成し、この保護膜の表面に更に潤滑膜を
形成した構成とする。
本発明の磁気ディスク媒体の製造方法では、上記したよ
うに記録磁性膜の表面に、珪素（Ｓｉ）を含む溶液、例
えば水とアルコールとからなる混合溶媒を適度に混ぜ合
わせたシリコンアルコキシド等からなる溶液を塗布し、
これを乾燥した後、その表面に前記混合溶媒の微小な液
滴を散布すると、該液滴が付着した塗布膜部分が溶けた
状態となる。
うに記録磁性膜の表面に、珪素（Ｓｉ）を含む溶液、例
えば水とアルコールとからなる混合溶媒を適度に混ぜ合
わせたシリコンアルコキシド等からなる溶液を塗布し、
これを乾燥した後、その表面に前記混合溶媒の微小な液
滴を散布すると、該液滴が付着した塗布膜部分が溶けた
状態となる。
このような塗布膜を乾燥すると周辺が盛り上がった微小
な凹部が形成され、更に焼成することにより無数の微小
な四部を一様に有する保護膜を形成することができる。
な凹部が形成され、更に焼成することにより無数の微小
な四部を一様に有する保護膜を形成することができる。
従って、磁気ヘントスライダとの接触面積が低減される
と共に、該保護膜上に形成した潤滑膜の膜厚が適度に保
持されるので、磁気へラドスライダの吸着防止と低摩擦
、低摩耗による表面潤滑耐久性が大幅に向上する。
と共に、該保護膜上に形成した潤滑膜の膜厚が適度に保
持されるので、磁気へラドスライダの吸着防止と低摩擦
、低摩耗による表面潤滑耐久性が大幅に向上する。
以下図面を用いて本発明の実施例について詳細に説明す
る。
る。
第１図（ａ）〜（ｅ）は本発明に係る磁気ディスク媒体
の製造方法の一実施例を工程順に示す要部断面図である
。
の製造方法の一実施例を工程順に示す要部断面図である
。
先ず第１図（ａ）に示すように、表面をアルマイト処理
したアルミニウム等かみなるディスク基板１１上に例え
ば特許第１０２４３６４号に示された周知の方法により
γ−Ｆｅ２０．からなる記録磁性膜１２を０．２μｍの
膜厚に形成する。ここまでは従来の工程と何ら変わりが
ないが、本実施例ではこの後、その記録磁性膜１２の表
面に珪素（Ｓｉ）を含む塗布溶液、例えば水（Ｈ２Ｏ）
とメチルアルコール（Ｃ１＋３０旧とからなる混合溶媒
を適度に混ぜ合わせたシリコンアルコキシド（（ＣＨｚ
Ｏ） ４ｓｉ ）からなる）各法をスピンコーティング
法により塗布する。そしてこれを乾燥（２０〜２５°Ｃ
）すると水酸化珪素（（Ｓ ｉ （ＯＨ） ４ ）膜２
１が形成される。
したアルミニウム等かみなるディスク基板１１上に例え
ば特許第１０２４３６４号に示された周知の方法により
γ−Ｆｅ２０．からなる記録磁性膜１２を０．２μｍの
膜厚に形成する。ここまでは従来の工程と何ら変わりが
ないが、本実施例ではこの後、その記録磁性膜１２の表
面に珪素（Ｓｉ）を含む塗布溶液、例えば水（Ｈ２Ｏ）
とメチルアルコール（Ｃ１＋３０旧とからなる混合溶媒
を適度に混ぜ合わせたシリコンアルコキシド（（ＣＨｚ
Ｏ） ４ｓｉ ）からなる）各法をスピンコーティング
法により塗布する。そしてこれを乾燥（２０〜２５°Ｃ
）すると水酸化珪素（（Ｓ ｉ （ＯＨ） ４ ）膜２
１が形成される。
次に第１図（ｂ）に示すように該水酸化珪素膜２１の表
面に前記混合溶媒（水、アルコール、或いはフレオン等
を用いてもよい）の微小な液滴２２を一様に散布する。
面に前記混合溶媒（水、アルコール、或いはフレオン等
を用いてもよい）の微小な液滴２２を一様に散布する。
この微小な液滴２２を散布する方法としては、噴霧装置
等を用いて行うことができる。
等を用いて行うことができる。
また、他の方法として、水酸化珪素膜２１を乾燥した後
の基板１１を前記溶媒の蒸気を飽和状態にした雰囲気の
容器内に入れて、結露現象により該水酸化珪素膜２１の
表面に無数の微小な溶媒液滴を一様に形成するようにし
てもよい。この場合、予め前記基板１１を冷却しておき
、この基板１１を前記容器内に入れることにより結露現
象が増進される。
の基板１１を前記溶媒の蒸気を飽和状態にした雰囲気の
容器内に入れて、結露現象により該水酸化珪素膜２１の
表面に無数の微小な溶媒液滴を一様に形成するようにし
てもよい。この場合、予め前記基板１１を冷却しておき
、この基板１１を前記容器内に入れることにより結露現
象が増進される。
この散布により液滴２２が付着した水酸化珪素膜２１部
分は第１図（Ｃ）で示すように該液滴２２により溶かさ
れた状態となり、このような状態の水酸化珪素膜２１を
乾燥すると、第１図（ｄ）で示されるように周辺が盛り
上げられた微小な窪み２３が形成される。
分は第１図（Ｃ）で示すように該液滴２２により溶かさ
れた状態となり、このような状態の水酸化珪素膜２１を
乾燥すると、第１図（ｄ）で示されるように周辺が盛り
上げられた微小な窪み２３が形成される。
従って、かかる水酸化珪素膜２１を更に２００〜３００
゛Ｃで焼成することにより、第１図（ｅ）に示すように
周辺か盛り上かった無数の微小な凹部２４が一様に形成
されたＳｉＯ□からなる保護膜２５を得ることができる
。
゛Ｃで焼成することにより、第１図（ｅ）に示すように
周辺か盛り上かった無数の微小な凹部２４が一様に形成
されたＳｉＯ□からなる保護膜２５を得ることができる
。
このようにして形成された保護膜２５表面の前記微小な
凹部２４の周辺の盛り上がり部分は滑らかであることか
ら、該保護膜２５上に潤滑剤を塗布して潤滑膜２６を形
成することにより、前記保護膜２５表面の微小な凹部２
４内に潤滑剤が適度に溜められ、耐ヘツドクラツシユ性
に優れた磁気ディスク媒体が得られる。
凹部２４の周辺の盛り上がり部分は滑らかであることか
ら、該保護膜２５上に潤滑剤を塗布して潤滑膜２６を形
成することにより、前記保護膜２５表面の微小な凹部２
４内に潤滑剤が適度に溜められ、耐ヘツドクラツシユ性
に優れた磁気ディスク媒体が得られる。
なお、以上の実施例では保護膜形成用の原料材としてシ
リコンアルコキシドを用いた場合の例について説明した
が、本発明はこの例に限定されるものではなく、例えば
シロキ酸等を用いた場合にも同様の効果が得られる。
リコンアルコキシドを用いた場合の例について説明した
が、本発明はこの例に限定されるものではなく、例えば
シロキ酸等を用いた場合にも同様の効果が得られる。
以上の説明から明らかなように、本発明に係る磁気ディ
スク媒体の製造方法によれば、記録磁性膜上に周辺が滑
らかに盛り上がった無数の微小な凹部が一様に形成され
た保護膜が容易に得られる優れた利点を存し、ヘッド吸
着のない、耐ヘツドクラツシユ性、表面潤滑耐久性が著
しく向上した磁気ディスク媒体を得ることができ、実用
上の効果は大きい。
スク媒体の製造方法によれば、記録磁性膜上に周辺が滑
らかに盛り上がった無数の微小な凹部が一様に形成され
た保護膜が容易に得られる優れた利点を存し、ヘッド吸
着のない、耐ヘツドクラツシユ性、表面潤滑耐久性が著
しく向上した磁気ディスク媒体を得ることができ、実用
上の効果は大きい。
第１図（ａ）〜（ｅ）は本発明に係る磁気ディスク媒体
の製造方法の一実施例を工程順に示す 要部断面図、 第２図（ａ）、［有］）は従来の磁気ディスク媒体の製
造工程を説明するための要部断面図であ る。 第１図（ａ）〜（ｅ）において、 １１はディスク基板、１２は記録磁性膜、２１は水酸化
珪素膜、２２は微小な液滴、２３は微小な窪み、２４は
微小な凹部、２５は保護膜、２６は潤滑膜をそれぞれ示
す。 ｔｅｌ 、悄抱柑予Ｚ旭鳥啄ａｌＪｆＱＩＷ ｔ＝ネ１おｐ畔ｊ
の第 図 （Ｏ） ｃｂ） ィ疋ノ知。ｉｔ気デｊス１４本の）昼超１丁Ｊ！任中月
わ雫云舌ｐ才牟面（カ第 図
の製造方法の一実施例を工程順に示す 要部断面図、 第２図（ａ）、［有］）は従来の磁気ディスク媒体の製
造工程を説明するための要部断面図であ る。 第１図（ａ）〜（ｅ）において、 １１はディスク基板、１２は記録磁性膜、２１は水酸化
珪素膜、２２は微小な液滴、２３は微小な窪み、２４は
微小な凹部、２５は保護膜、２６は潤滑膜をそれぞれ示
す。 ｔｅｌ 、悄抱柑予Ｚ旭鳥啄ａｌＪｆＱＩＷ ｔ＝ネ１おｐ畔ｊ
の第 図 （Ｏ） ｃｂ） ィ疋ノ知。ｉｔ気デｊス１４本の）昼超１丁Ｊ！任中月
わ雫云舌ｐ才牟面（カ第 図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 基板（１１）上に形成された記録磁性膜（１２）上に保
護膜（２５）と潤滑膜（２６）を順に設けた磁気ディス
ク媒体の製造において、 上記記録磁性膜（１２）の表面に珪素（Ｓｉ）を含む溶
液を塗布して乾燥させた後、その表面に溶剤からなる微
小な液滴（２２）を散布し、焼成することにより、無数
の微小な凹部（２４）が一様に形成された保護膜（２５
）を当該記録磁性膜（１２）上に形成する工程と、この
保護膜（２５）の表面に潤滑膜（２６）を形成する工程
とを含むことを特徴とする磁気ディスク媒体の製造方法
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22523488A JPH0273518A (ja) | 1988-09-07 | 1988-09-07 | 磁気ディスク媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22523488A JPH0273518A (ja) | 1988-09-07 | 1988-09-07 | 磁気ディスク媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0273518A true JPH0273518A (ja) | 1990-03-13 |
Family
ID=16826094
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22523488A Pending JPH0273518A (ja) | 1988-09-07 | 1988-09-07 | 磁気ディスク媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0273518A (ja) |
-
1988
- 1988-09-07 JP JP22523488A patent/JPH0273518A/ja active Pending
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