JPH0393037A - 磁気ディスク及びその製造方法 - Google Patents
磁気ディスク及びその製造方法Info
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- JPH0393037A JPH0393037A JP22932189A JP22932189A JPH0393037A JP H0393037 A JPH0393037 A JP H0393037A JP 22932189 A JP22932189 A JP 22932189A JP 22932189 A JP22932189 A JP 22932189A JP H0393037 A JPH0393037 A JP H0393037A
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- disk
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Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔概 要〕
磁気ディスク装置に用いる磁気ディスク及びその製造方
法に関し、 磁気ディスク中心部側に設けられたコンタクトスタート
ストップ領域の潤滑層をデータ領域より厚く形成するこ
とを目的とし、 非磁性基板上に磁性層を形成し、さらに該磁性層の上に
保護層、潤滑層を形威した磁気ディスクにおいて、他の
部分よりも表面粗さが粗い部分をディスク中心部側に円
周状に有しており、さらに該粗い部分に他の部分よりも
厚い潤滑層が形成されているように構或する。
法に関し、 磁気ディスク中心部側に設けられたコンタクトスタート
ストップ領域の潤滑層をデータ領域より厚く形成するこ
とを目的とし、 非磁性基板上に磁性層を形成し、さらに該磁性層の上に
保護層、潤滑層を形威した磁気ディスクにおいて、他の
部分よりも表面粗さが粗い部分をディスク中心部側に円
周状に有しており、さらに該粗い部分に他の部分よりも
厚い潤滑層が形成されているように構或する。
また上記磁気ディスクの保護層上に潤滑層をスピンコー
トにて形成する際、ディスク中心部側から潤滑剤希釈液
を滴下・塗布し、該粗い部分に潤滑層の形成が終了した
時点で、その時よりも濃度の低い潤滑剤希釈液を滴下・
塗布するか、又はスピンコート回転数を高くすることに
よって、該粗い部分に他の部分よりも厚い潤滑層を形成
するように構或する。
トにて形成する際、ディスク中心部側から潤滑剤希釈液
を滴下・塗布し、該粗い部分に潤滑層の形成が終了した
時点で、その時よりも濃度の低い潤滑剤希釈液を滴下・
塗布するか、又はスピンコート回転数を高くすることに
よって、該粗い部分に他の部分よりも厚い潤滑層を形成
するように構或する。
本発明は磁気ディスク装置に用いる磁気ディスク及びそ
の製造方法に関し、特にコンタクトスタートストップ(
以下CSSという)時のヘッド吸着を防止でき、さらに
高密度記録が可能な磁気ディスク及びその製造方法に関
する。
の製造方法に関し、特にコンタクトスタートストップ(
以下CSSという)時のヘッド吸着を防止でき、さらに
高密度記録が可能な磁気ディスク及びその製造方法に関
する。
現在の磁気ディスク装置では、磁気ディスク(以下ディ
スクという)の回転が停止している状態では、磁気ヘッ
ド(以下ヘッドという)はディスクと接触しており、デ
ィスクの回転とともにヘッドが浮上するCSS方式が用
いられている。この方式では、ディスクが回転を始めた
時、または停止する直前でヘッドはディスク上を接触し
ながら摺動ずる。この摺動によるヘッドとディスクの摩
擦損傷を防ぐため、ディスク表面には潤滑層を形成して
いる。
スクという)の回転が停止している状態では、磁気ヘッ
ド(以下ヘッドという)はディスクと接触しており、デ
ィスクの回転とともにヘッドが浮上するCSS方式が用
いられている。この方式では、ディスクが回転を始めた
時、または停止する直前でヘッドはディスク上を接触し
ながら摺動ずる。この摺動によるヘッドとディスクの摩
擦損傷を防ぐため、ディスク表面には潤滑層を形成して
いる。
またディスクの表面粗さは、ヘッド浮上量を下げていく
ために、より平滑にすることが望まれる。
ために、より平滑にすることが望まれる。
しかし平滑すぎるとディスク停止時にヘッドがディスク
上に吸着してしまいヘッドクラッシュに至ることがある
。このため、ディスク表面には適度な粗さを有すること
が要求されている。
上に吸着してしまいヘッドクラッシュに至ることがある
。このため、ディスク表面には適度な粗さを有すること
が要求されている。
従来、ディスク表面に適度な粗さを持たせるために、ま
ず非磁性基板の表面をラフピングテーブなどを用いて機
械的に適度な粗さを形威している。
ず非磁性基板の表面をラフピングテーブなどを用いて機
械的に適度な粗さを形威している。
(テクスチャリング法と呼ばれる)表面粗さとしては、
3〜7 nmRa程度にしている。
3〜7 nmRa程度にしている。
従来の媒体は基板をこのように粗面化した後、例えばス
パッタリング法によりCr 1500人、CoNiCr
800人を形成する。さらにヘッド摺動による摩擦・
摩耗を低減するために、保護層と潤滑層とを形成する。
パッタリング法によりCr 1500人、CoNiCr
800人を形成する。さらにヘッド摺動による摩擦・
摩耗を低減するために、保護層と潤滑層とを形成する。
この際ディスク表面では、基板表面の粗さがCoNiC
rなどを形成した後でも継承され、その結果ヘッドとデ
ィスクの接触面積が低減されヘッド吸着を防止すること
が可能となる。ところが媒体の最表面が粗れているため
にヘッドの浮上マージンがとれなくなる。これを防ぐた
めに、動作時におけるディスク回転方向の速度がより低
いディスク中心側のCSSゾーンだけが適度な粗さを持
ち、データゾーンの最表面は平滑である磁気ディスクが
提案されている。
rなどを形成した後でも継承され、その結果ヘッドとデ
ィスクの接触面積が低減されヘッド吸着を防止すること
が可能となる。ところが媒体の最表面が粗れているため
にヘッドの浮上マージンがとれなくなる。これを防ぐた
めに、動作時におけるディスク回転方向の速度がより低
いディスク中心側のCSSゾーンだけが適度な粗さを持
ち、データゾーンの最表面は平滑である磁気ディスクが
提案されている。
この磁気ディスクの製造方法は、第4図に示すように、
先ず(a)図の如< CSSゾーン1を粗面化した基板
2をスピンコータ3にセットし、次いで(b)の如くデ
ィスク中心部から潤滑剤の0.1%溶液4を適量滴下し
て基板2を回転さサ、遠心力により潤滑剤を基板の表面
に拡げて塗布し、(C)図の如く潤滑層5を形成し、そ
の後加熱して硬化させる。
先ず(a)図の如< CSSゾーン1を粗面化した基板
2をスピンコータ3にセットし、次いで(b)の如くデ
ィスク中心部から潤滑剤の0.1%溶液4を適量滴下し
て基板2を回転さサ、遠心力により潤滑剤を基板の表面
に拡げて塗布し、(C)図の如く潤滑層5を形成し、そ
の後加熱して硬化させる。
このようにCSSゾーンにだけ適度な粗さを設けても上
記のスピンコートによる潤滑層の形成法では、ディスク
ー面に同じような厚さの潤滑層が得られてしまう。
記のスピンコートによる潤滑層の形成法では、ディスク
ー面に同じような厚さの潤滑層が得られてしまう。
従って、潤滑層を厚めに形成するとデータゾーンで吸着
を起こしてしまい、逆に潤滑層を薄めに形成するとCS
Sゾーンでの耐久性が低下していまうという問題がある
。
を起こしてしまい、逆に潤滑層を薄めに形成するとCS
Sゾーンでの耐久性が低下していまうという問題がある
。
本発明は上記従来の問題点に鑑み、ディスク中心部側に
設けられたCSSゾーンの潤滑層を厚く、データゾーン
の潤滑層を薄く形威した磁気ディスク及びその製造方法
を提供することを目的とする。
設けられたCSSゾーンの潤滑層を厚く、データゾーン
の潤滑層を薄く形威した磁気ディスク及びその製造方法
を提供することを目的とする。
上記目的を達或するために本発明の磁気ディスクでは、
非磁性基板11上に磁性層12を形成し、さらに該磁性
層12の上に保護層13及び潤滑層14を形成した磁気
ディスクにおいて、他の部分よりも表面粗さが粗い部分
15を基板中心部側に円周状に有しており、さらに該粗
い部分15に他の部分よりも厚い潤滑層が形威されてい
ることを特徴とする。
非磁性基板11上に磁性層12を形成し、さらに該磁性
層12の上に保護層13及び潤滑層14を形成した磁気
ディスクにおいて、他の部分よりも表面粗さが粗い部分
15を基板中心部側に円周状に有しており、さらに該粗
い部分15に他の部分よりも厚い潤滑層が形威されてい
ることを特徴とする。
また本発明の磁気ディスクの製造方法では、上記潤滑層
14をスピンコートにて形成する際、基板11中心部側
から潤滑剤希釈液を滴下・塗布し、該粗い部分15に潤
滑層の形成が終了した時点で、その時よりも、濃度の低
い潤滑希釈液を滴下・塗布すること、またはスピンコー
ト回転数を高くすることによって、該粗い部分15に他
の部分よりも厚い潤滑層14を形成することを特徴とす
る。
14をスピンコートにて形成する際、基板11中心部側
から潤滑剤希釈液を滴下・塗布し、該粗い部分15に潤
滑層の形成が終了した時点で、その時よりも、濃度の低
い潤滑希釈液を滴下・塗布すること、またはスピンコー
ト回転数を高くすることによって、該粗い部分15に他
の部分よりも厚い潤滑層14を形成することを特徴とす
る。
本発明によれば、磁気ディスクの中心側のcssゾーン
は適度な粗さを持ち、且つ潤滑層が厚いため十分な耐久
性を持つことができ、またデータゾーンは潤滑層が薄い
ため動作時に磁気ヘッドが吸着をおこすことはない。
は適度な粗さを持ち、且つ潤滑層が厚いため十分な耐久
性を持つことができ、またデータゾーンは潤滑層が薄い
ため動作時に磁気ヘッドが吸着をおこすことはない。
さらに本発明の磁気ヘッドの製造方法では、スピンコー
トで潤滑層を或膜する際、潤滑剤溶液の濃度を途中で薄
くするか、又はスピンコート回転数を途中で高くするこ
とにより、CSSゾーンでは厚く、データゾーンでは薄
い潤滑層を形成することができる。
トで潤滑層を或膜する際、潤滑剤溶液の濃度を途中で薄
くするか、又はスピンコート回転数を途中で高くするこ
とにより、CSSゾーンでは厚く、データゾーンでは薄
い潤滑層を形成することができる。
第1図は本発明の磁気ディスクの実施例を示す図であり
、(a)は斜視図、(b)はa図のb一b線における部
分拡大断面図である。
、(a)は斜視図、(b)はa図のb一b線における部
分拡大断面図である。
同図において、11は非磁性材料よりなるディスク基板
であり、その中心部側には表面粗さが他の部分より粗い
部分15が形威されている。12は磁性層、13は保護
層であり、該磁性層12及び保護層13は順次基板11
上に形成されているが、基板11の粗い部分15の粗さ
はそのまま磁性層12及び保護層13に受け継がれてい
る。14は保護層13上に形成された潤滑層であり、該
潤滑層は基板11の表面粗さの粗い部分15の領域(C
SSゾーン)は厚く、他の部分、即ちデータゾーンは薄
く塗布されている。
であり、その中心部側には表面粗さが他の部分より粗い
部分15が形威されている。12は磁性層、13は保護
層であり、該磁性層12及び保護層13は順次基板11
上に形成されているが、基板11の粗い部分15の粗さ
はそのまま磁性層12及び保護層13に受け継がれてい
る。14は保護層13上に形成された潤滑層であり、該
潤滑層は基板11の表面粗さの粗い部分15の領域(C
SSゾーン)は厚く、他の部分、即ちデータゾーンは薄
く塗布されている。
このように構威された本実施例は、CSSゾーン15の
潤滑層14はディスク基板11の粗さを継承しているた
め、ディスク停止時のヘッド吸着を防止でき、且つ潤滑
層が厚いため低摩擦、低摩耗性が実現できる。またデー
タゾーンは潤滑層14が薄く形威されているため高密度
記録が可能となる。
潤滑層14はディスク基板11の粗さを継承しているた
め、ディスク停止時のヘッド吸着を防止でき、且つ潤滑
層が厚いため低摩擦、低摩耗性が実現できる。またデー
タゾーンは潤滑層14が薄く形威されているため高密度
記録が可能となる。
次に本発明の磁気ディスクの製造方法の実施例を第2図
により説明する。
により説明する。
本実施例での保護層としては、SiO。を、基板として
は、表面をNi−P処理した5.25インチφアルミ基
板を用いる。この基板の半径20mmから35mm(C
SSゾーン〉をテクスチャリングで表面粗さをlea
5 r+mに加工する。この後基板にスパッタリングに
よっ?Cr下地層をスパッタ雰囲気Ar ,ガス圧30
ffI7’orr ,基板温度150℃で1500人或
膜し、この上にCoNiCr磁性層をスパッタ雰囲気A
r1ガス圧30tnTarr ,基板温度150℃で8
00人連続或膜する。
は、表面をNi−P処理した5.25インチφアルミ基
板を用いる。この基板の半径20mmから35mm(C
SSゾーン〉をテクスチャリングで表面粗さをlea
5 r+mに加工する。この後基板にスパッタリングに
よっ?Cr下地層をスパッタ雰囲気Ar ,ガス圧30
ffI7’orr ,基板温度150℃で1500人或
膜し、この上にCoNiCr磁性層をスパッタ雰囲気A
r1ガス圧30tnTarr ,基板温度150℃で8
00人連続或膜する。
さらにこの上にスパッタリングによってSlO■保護層
をスバッタ雰囲気Ar ,ガス圧10mTorr 、基
板温度250℃で200人或膜する。基板上に以上のよ
うに戊膜しても、基板表面の粗さが継承されるため、媒
体最表面CSSゾーンに同じ粗さが形威される。
をスバッタ雰囲気Ar ,ガス圧10mTorr 、基
板温度250℃で200人或膜する。基板上に以上のよ
うに戊膜しても、基板表面の粗さが継承されるため、媒
体最表面CSSゾーンに同じ粗さが形威される。
上記のように処理した基板11を第2図(a)に示すよ
うにスピンコータl7にセットする。また潤滑剤の溶液
を次の様に用意する。潤滑剤はバーフロロポリエーテル
を用い、溶媒はふっ素オイルを用いる。潤滑溶液は溶媒
によって0.1%に希釈した溶液と、0.01%に希釈
した溶液の2種類を用意する。次に同図(b)に示すよ
うに、基板11をスピンコー夕により1000rpmで
回転させ、その中心部上方から0.1%潤滑剤溶液を適
量滴下する。次に同図(C)に示すように0.1%潤滑
剤溶液がCSSゾーン15を通過した時点で、その場所
に0.01%潤滑剤溶液を滴下する〈なお0。1%溶液
を滴下するチューブ18と、0.01%溶液を滴下する
チューブ19は別で、それぞれCSSゾーン15の最内
側、データゾーン16の最内側にセットしておく〉。こ
れによって同図(d)の如< CSSゾーン15に15
A1データゾーン16に4〜5人の膜厚の潤滑層l4を
得ることができる。
うにスピンコータl7にセットする。また潤滑剤の溶液
を次の様に用意する。潤滑剤はバーフロロポリエーテル
を用い、溶媒はふっ素オイルを用いる。潤滑溶液は溶媒
によって0.1%に希釈した溶液と、0.01%に希釈
した溶液の2種類を用意する。次に同図(b)に示すよ
うに、基板11をスピンコー夕により1000rpmで
回転させ、その中心部上方から0.1%潤滑剤溶液を適
量滴下する。次に同図(C)に示すように0.1%潤滑
剤溶液がCSSゾーン15を通過した時点で、その場所
に0.01%潤滑剤溶液を滴下する〈なお0。1%溶液
を滴下するチューブ18と、0.01%溶液を滴下する
チューブ19は別で、それぞれCSSゾーン15の最内
側、データゾーン16の最内側にセットしておく〉。こ
れによって同図(d)の如< CSSゾーン15に15
A1データゾーン16に4〜5人の膜厚の潤滑層l4を
得ることができる。
次に本発明の磁気ディスクの製造方法の他の実施例を第
3図により説明する。
3図により説明する。
本実施例は、前実施例と同様に処理した基板11を第3
図(a)に示すようにスピンコータ17にセットし、次
いで同図(b)に示すようにスピンコー夕により基板1
1を100Orpmで回転させ、その中心部上方からパ
ーフロ口ポリエーテルをふっ素オイルで0.1%に希釈
した溶液を適量滴下する。この溶液がCSSゾーン15
を通過した時点で同図(C)に示すように基板11の回
転数を500Orpmに上げ、溶液に加わる遠心力を増
加させる。これによりCSSゾーン15に15A1デー
タゾーン16に5〜6人の膜厚の潤滑層を得ることがで
きる。
図(a)に示すようにスピンコータ17にセットし、次
いで同図(b)に示すようにスピンコー夕により基板1
1を100Orpmで回転させ、その中心部上方からパ
ーフロ口ポリエーテルをふっ素オイルで0.1%に希釈
した溶液を適量滴下する。この溶液がCSSゾーン15
を通過した時点で同図(C)に示すように基板11の回
転数を500Orpmに上げ、溶液に加わる遠心力を増
加させる。これによりCSSゾーン15に15A1デー
タゾーン16に5〜6人の膜厚の潤滑層を得ることがで
きる。
以上説明した様に本発明によれば、潤滑層を形成する際
に、CSSゾーンは厚く、データゾーンは薄く形成する
ことができる。これによってスタートストップ時のヘッ
ド及びディスクの損傷防止機能を向上するとともに高密
度記録を可能にする。
に、CSSゾーンは厚く、データゾーンは薄く形成する
ことができる。これによってスタートストップ時のヘッ
ド及びディスクの損傷防止機能を向上するとともに高密
度記録を可能にする。
第1図は本発明の磁気ディスクの実施例を示す図、
第2図は本発明の磁気ディスクの製造方法の実施例を示
す図、 第3図は本発明の磁気ディスクの製造方法の他の実施例
を示す図、 第4図は従来の磁気ディスクの製造方法を示す図である
。 図において、 11は基板、 12は磁性層、 13は保護層、 14は潤滑層、 15はCSSゾーン(表面粗さの粗い部分)16はデー
タゾーン、 17はスピンコータ、 18.19は溶液滴下チューブ を示す。
す図、 第3図は本発明の磁気ディスクの製造方法の他の実施例
を示す図、 第4図は従来の磁気ディスクの製造方法を示す図である
。 図において、 11は基板、 12は磁性層、 13は保護層、 14は潤滑層、 15はCSSゾーン(表面粗さの粗い部分)16はデー
タゾーン、 17はスピンコータ、 18.19は溶液滴下チューブ を示す。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、非磁性基板(11)上に磁性層(12)を形成し、
さらに該磁性層(12)の上に保護層(13)及び潤滑
層(14)を形成した磁気ディスクにおいて、他の部分
よりも表面粗さが粗い部分(15)を基板中心部側に円
周状に有しており、さらに該粗い部分(15)に他の部
分よりも厚い潤滑層が形成されていることを特徴とする
磁気ディスク。 2、他の部分よりも表面粗さが粗い部分(15)を基板
中心部側に円周状に有する非磁性基板(11)上に、磁
性層(12)を形成し、さらに該磁性層(12)の上に
保護層(13)及び潤滑層(14)を形成する磁気ディ
スクの製造方法において、 上記潤滑層(14)をスピンコートにて形成する際、基
板(11)中心部側から潤滑剤希釈液を滴下・塗布し、
該粗い部分(15)に潤滑層の形成が終了した時点で、
その時よりも濃度の低い潤滑剤希釈液を滴下・塗布する
ことによって、該粗い部分(15)に他の部分よりも厚
い潤滑層(14)を形成することを特徴とする磁気ディ
スクの製造方法。 3、他の部分よりも表面粗さが粗い部分(15)を基板
中心部側に円周状に有する非磁性基板(11)上に、磁
性層(12)を形成し、さらに該磁性層(12)の上に
保護層(13)及び潤滑層(14)を形成する磁気ディ
スクの製造方法において、 上記潤滑層(14)をスピンコートにて形成する際、基
板(11)中心部側から潤滑剤希釈液を滴下・塗布し、
該粗い部分(15)に潤滑層の形成が終了した時点で、
その時よりもスピンコート回転数を高くすることによっ
て、該粗い部分(15)に他の部分よりも厚い潤滑層(
14)を形成することを特徴とする磁気ディスクの製造
方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22932189A JPH0393037A (ja) | 1989-09-06 | 1989-09-06 | 磁気ディスク及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP22932189A JPH0393037A (ja) | 1989-09-06 | 1989-09-06 | 磁気ディスク及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0393037A true JPH0393037A (ja) | 1991-04-18 |
Family
ID=16890313
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP22932189A Pending JPH0393037A (ja) | 1989-09-06 | 1989-09-06 | 磁気ディスク及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0393037A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997015049A1 (fr) * | 1995-10-18 | 1997-04-24 | Hitachi, Ltd. | Disque magnetique et dispositif d'enregistrement/lecture magnetiques |
-
1989
- 1989-09-06 JP JP22932189A patent/JPH0393037A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997015049A1 (fr) * | 1995-10-18 | 1997-04-24 | Hitachi, Ltd. | Disque magnetique et dispositif d'enregistrement/lecture magnetiques |
US6296917B1 (en) * | 1995-10-18 | 2001-10-02 | Hitachi, Ltd. | Magnetic disk and magnetic recording/reproduction apparatus |
KR100318175B1 (ko) * | 1995-10-18 | 2002-02-19 | 가나이 쓰도무 | 자기디스크및자기기록재생장치 |
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