JPH0563410B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0563410B2 JPH0563410B2 JP58135155A JP13515583A JPH0563410B2 JP H0563410 B2 JPH0563410 B2 JP H0563410B2 JP 58135155 A JP58135155 A JP 58135155A JP 13515583 A JP13515583 A JP 13515583A JP H0563410 B2 JPH0563410 B2 JP H0563410B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- metal
- support
- gel
- atoms
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000012528 membrane Substances 0.000 claims description 96
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 85
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 79
- 239000010457 zeolite Substances 0.000 claims description 78
- HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N dioxosilane;oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O HNPSIPDUKPIQMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 77
- 229910021536 Zeolite Inorganic materials 0.000 claims description 70
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 53
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 47
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 45
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 43
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 claims description 32
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 claims description 30
- 238000007873 sieving Methods 0.000 claims description 30
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 27
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 26
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 claims description 25
- 238000005342 ion exchange Methods 0.000 claims description 25
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 24
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 24
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 claims description 23
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 23
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 22
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical group [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 20
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 19
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical group [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 150000003863 ammonium salts Chemical class 0.000 claims description 17
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 15
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 14
- 238000010335 hydrothermal treatment Methods 0.000 claims description 14
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 14
- 238000005406 washing Methods 0.000 claims description 14
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 claims description 12
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 12
- 230000009471 action Effects 0.000 claims description 11
- 238000001035 drying Methods 0.000 claims description 11
- -1 alkali metal salts Chemical class 0.000 claims description 10
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 10
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 10
- 238000007747 plating Methods 0.000 claims description 10
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 8
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 8
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 8
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 claims description 8
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 8
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical class [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 claims description 7
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 7
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 7
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 7
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 6
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M hydroxide Chemical compound [OH-] XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 5
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 claims description 5
- 150000002910 rare earth metals Chemical class 0.000 claims description 5
- 150000002258 gallium Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000002861 polymer material Substances 0.000 claims description 4
- 150000002290 germanium Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 claims description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000004645 aluminates Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 claims description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 claims 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical group [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 claims 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical group [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical group [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 claims 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 claims 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 claims 1
- 238000006479 redox reaction Methods 0.000 claims 1
- 239000000499 gel Substances 0.000 description 34
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 34
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 30
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Chemical compound O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 19
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 18
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 14
- IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N N-Heptane Chemical compound CCCCCCC IMNFDUFMRHMDMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 13
- 239000002808 molecular sieve Substances 0.000 description 12
- URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N sodium aluminosilicate Chemical compound [Na+].[Al+3].[O-][Si]([O-])=O.[O-][Si]([O-])=O URGAHOPLAPQHLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 10
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 10
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 10
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 10
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 9
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N Propane Chemical compound CCC ATUOYWHBWRKTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N methylcyclohexane Chemical compound CC1CCCCC1 UAEPNZWRGJTJPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N palladium Substances [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 8
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 8
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000004817 gas chromatography Methods 0.000 description 7
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Natural products CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 7
- 238000001223 reverse osmosis Methods 0.000 description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 6
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 6
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 6
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000003208 petroleum Substances 0.000 description 6
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 5
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 5
- ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N aluminum;sodium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[Na+].[Al+3] ANBBXQWFNXMHLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 230000008859 change Effects 0.000 description 5
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 5
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- 229910001388 sodium aluminate Inorganic materials 0.000 description 5
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 5
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 4
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N ammonium sulfate Chemical compound N.N.OS(O)(=O)=O BFNBIHQBYMNNAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052921 ammonium sulfate Inorganic materials 0.000 description 4
- 235000011130 ammonium sulphate Nutrition 0.000 description 4
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000001879 gelation Methods 0.000 description 4
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N methyl-cycloheptane Natural products CC1CCCCCC1 GYNNXHKOJHMOHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000001294 propane Substances 0.000 description 4
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 4
- 238000004626 scanning electron microscopy Methods 0.000 description 4
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 4
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 4
- VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 1-Butene Chemical compound CCC=C VXNZUUAINFGPBY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 3
- OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N Ethane Chemical compound CC OTMSDBZUPAUEDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000007605 air drying Methods 0.000 description 3
- 150000008044 alkali metal hydroxides Chemical class 0.000 description 3
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 3
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 3
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 3
- AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N digallium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Ga+3].[Ga+3] AJNVQOSZGJRYEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- FNIHDXPFFIOGKL-UHFFFAOYSA-N disodium;dioxido(oxo)germane Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Ge]([O-])=O FNIHDXPFFIOGKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910001195 gallium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 3
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 3
- 239000003350 kerosene Substances 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 229910021645 metal ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 229920000620 organic polymer Polymers 0.000 description 3
- 239000000047 product Substances 0.000 description 3
- 238000011160 research Methods 0.000 description 3
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 3
- 238000005550 wet granulation Methods 0.000 description 3
- VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 4-[4-(4-methoxyphenyl)piperazin-1-yl]aniline Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1N1CCN(C=2C=CC(N)=CC=2)CC1 VXEGSRKPIUDPQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen sulfide Chemical compound S RWSOTUBLDIXVET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N Magnesium oxide Chemical compound [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical group C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HDYRYUINDGQKMC-UHFFFAOYSA-M acetyloxyaluminum;dihydrate Chemical compound O.O.CC(=O)O[Al] HDYRYUINDGQKMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 229940009827 aluminum acetate Drugs 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 229910052810 boron oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001768 cations Chemical class 0.000 description 2
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 2
- 239000004927 clay Substances 0.000 description 2
- 238000005354 coacervation Methods 0.000 description 2
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 2
- VEZUQRBDRNJBJY-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone oxime Chemical compound ON=C1CCCCC1 VEZUQRBDRNJBJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003795 desorption Methods 0.000 description 2
- JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N diboron trioxide Chemical compound O=BOB=O JKWMSGQKBLHBQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000000295 fuel oil Substances 0.000 description 2
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium dioxide Chemical compound O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 239000005049 silicon tetrachloride Substances 0.000 description 2
- FZHLWVUAICIIPW-UHFFFAOYSA-M sodium gallate Chemical compound [Na+].OC1=CC(C([O-])=O)=CC(O)=C1O FZHLWVUAICIIPW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000011882 ultra-fine particle Substances 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 2
- 150000003738 xylenes Chemical class 0.000 description 2
- LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 1-hexene Chemical compound CCCCC=C LIKMAJRDDDTEIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNDZQQSKSQTQQD-UHFFFAOYSA-N 3-methylcyclohex-2-en-1-ol Chemical compound CC1=CC(O)CCC1 XNDZQQSKSQTQQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N Acetaminophen Chemical compound CC(=O)NC1=CC=C(O)C=C1 RZVAJINKPMORJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018125 Al-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005995 Aluminium silicate Substances 0.000 description 1
- 229910018520 Al—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006237 Beckmann rearrangement reaction Methods 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007868 Raney catalyst Substances 0.000 description 1
- 229910000564 Raney nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000555745 Sciuridae Species 0.000 description 1
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 1
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004809 Teflon Substances 0.000 description 1
- 229920006362 Teflon® Polymers 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 description 1
- ZVQOOHYFBIDMTQ-UHFFFAOYSA-N [methyl(oxido){1-[6-(trifluoromethyl)pyridin-3-yl]ethyl}-lambda(6)-sulfanylidene]cyanamide Chemical compound N#CN=S(C)(=O)C(C)C1=CC=C(C(F)(F)F)N=C1 ZVQOOHYFBIDMTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPWHDDKQSYOYBF-UHFFFAOYSA-N ac1l2u0q Chemical compound Br[Br-]Br GPWHDDKQSYOYBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000274 adsorptive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 229910001615 alkaline earth metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 235000012211 aluminium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000323 aluminium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010923 batch production Methods 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N butene Natural products CC=CC IAQRGUVFOMOMEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004523 catalytic cracking Methods 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 229920001688 coating polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 1
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 1
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 1
- 238000002788 crimping Methods 0.000 description 1
- 239000010779 crude oil Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000006356 dehydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- WCOATMADISNSBV-UHFFFAOYSA-K diacetyloxyalumanyl acetate Chemical compound [Al+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O WCOATMADISNSBV-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- OJXGIEQGFSWUNM-UHFFFAOYSA-K diformyloxyalumanyl formate hydrate Chemical compound O.[Al+3].[O-]C=O.[O-]C=O.[O-]C=O OJXGIEQGFSWUNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- ABEDZSJPPBKPMC-UHFFFAOYSA-K diformyloxyalumanyl formate trihydrate Chemical compound O.O.O.C(=O)[O-].C(=O)[O-].C(=O)[O-].[Al+3] ABEDZSJPPBKPMC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- CDMADVZSLOHIFP-UHFFFAOYSA-N disodium;3,7-dioxido-2,4,6,8,9-pentaoxa-1,3,5,7-tetraborabicyclo[3.3.1]nonane;decahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.[Na+].[Na+].O1B([O-])OB2OB([O-])OB1O2 CDMADVZSLOHIFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 1
- JVQOASIPRRGMOS-UHFFFAOYSA-M dodecyl(trimethyl)azanium;hydroxide Chemical compound [OH-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C JVQOASIPRRGMOS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VICYBMUVWHJEFT-UHFFFAOYSA-N dodecyltrimethylammonium ion Chemical compound CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C VICYBMUVWHJEFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001493 electron microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000006056 electrooxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000000407 epitaxy Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 238000005755 formation reaction Methods 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011876 fused mixture Substances 0.000 description 1
- 229910000373 gallium sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K gallium trichloride Chemical compound Cl[Ga](Cl)Cl UPWPDUACHOATKO-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- SBDRYJMIQMDXRH-UHFFFAOYSA-N gallium;sulfuric acid Chemical compound [Ga].OS(O)(=O)=O SBDRYJMIQMDXRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940119177 germanium dioxide Drugs 0.000 description 1
- YIZVROFXIVWAAZ-UHFFFAOYSA-N germanium disulfide Chemical compound S=[Ge]=S YIZVROFXIVWAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000037 hydrogen sulfide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000005984 hydrogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007327 hydrogenolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004679 hydroxides Chemical class 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052500 inorganic mineral Inorganic materials 0.000 description 1
- NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N kaolin Chemical compound O.O.O=[Al]O[Si](=O)O[Si](=O)O[Al]=O NLYAJNPCOHFWQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010687 lubricating oil Substances 0.000 description 1
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 1
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 1
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007069 methylation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011707 mineral Substances 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 229910052680 mordenite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010955 niobium Substances 0.000 description 1
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N octane Chemical compound CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 230000003204 osmotic effect Effects 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 231100000572 poisoning Toxicity 0.000 description 1
- 230000000607 poisoning effect Effects 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000005373 porous glass Substances 0.000 description 1
- 230000001376 precipitating effect Effects 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000005297 pyrex Substances 0.000 description 1
- 230000002285 radioactive effect Effects 0.000 description 1
- 238000006722 reduction reaction Methods 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013464 silicone adhesive Substances 0.000 description 1
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 1
- 229910052665 sodalite Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001415 sodium ion Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000638 solvent extraction Methods 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000000271 synthetic detergent Substances 0.000 description 1
- 230000009897 systematic effect Effects 0.000 description 1
- PUGUQINMNYINPK-UHFFFAOYSA-N tert-butyl 4-(2-chloroacetyl)piperazine-1-carboxylate Chemical compound CC(C)(C)OC(=O)N1CCN(C(=O)CCl)CC1 PUGUQINMNYINPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N tetrachlorogermane Chemical compound Cl[Ge](Cl)(Cl)Cl IEXRMSFAVATTJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PPMWWXLUCOODDK-UHFFFAOYSA-N tetrafluorogermane Chemical compound F[Ge](F)(F)F PPMWWXLUCOODDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IAQRGUVFOMOMEM-ONEGZZNKSA-N trans-but-2-ene Chemical compound C\C=C\C IAQRGUVFOMOMEM-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N triacetyloxysilyl acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O YZVRVDPMGYFCGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000108 ultra-filtration Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0039—Inorganic membrane manufacture
- B01D67/0051—Inorganic membrane manufacture by controlled crystallisation, e,.g. hydrothermal growth
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D67/00—Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
- B01D67/0081—After-treatment of organic or inorganic membranes
- B01D67/0093—Chemical modification
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D69/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by their form, structure or properties; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D69/12—Composite membranes; Ultra-thin membranes
- B01D69/125—In situ manufacturing by polymerisation, polycondensation, cross-linking or chemical reaction
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/02—Inorganic material
- B01D71/028—Molecular sieves
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D71/00—Semi-permeable membranes for separation processes or apparatus characterised by the material; Manufacturing processes specially adapted therefor
- B01D71/02—Inorganic material
- B01D71/028—Molecular sieves
- B01D71/0281—Zeolites
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J20/00—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof
- B01J20/02—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material
- B01J20/10—Solid sorbent compositions or filter aid compositions; Sorbents for chromatography; Processes for preparing, regenerating or reactivating thereof comprising inorganic material comprising silica or silicate
- B01J20/16—Alumino-silicates
- B01J20/18—Synthetic zeolitic molecular sieves
- B01J20/183—Physical conditioning without chemical treatment, e.g. drying, granulating, coating, irradiation
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J29/00—Catalysts comprising molecular sieves
- B01J29/04—Catalysts comprising molecular sieves having base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J29/00—Catalysts comprising molecular sieves
- B01J29/04—Catalysts comprising molecular sieves having base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites
- B01J29/06—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J29/00—Catalysts comprising molecular sieves
- B01J29/04—Catalysts comprising molecular sieves having base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites
- B01J29/06—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof
- B01J29/08—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof of the faujasite type, e.g. type X or Y
- B01J29/084—Y-type faujasite
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J29/00—Catalysts comprising molecular sieves
- B01J29/04—Catalysts comprising molecular sieves having base-exchange properties, e.g. crystalline zeolites
- B01J29/06—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof
- B01J29/70—Crystalline aluminosilicate zeolites; Isomorphous compounds thereof of types characterised by their specific structure not provided for in groups B01J29/08 - B01J29/65
- B01J29/7003—A-type
-
- B01J35/59—
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D2323/00—Details relating to membrane preparation
- B01D2323/08—Specific temperatures applied
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2229/00—Aspects of molecular sieve catalysts not covered by B01J29/00
- B01J2229/60—Synthesis on support
- B01J2229/64—Synthesis on support in or on refractory materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01J—CHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
- B01J2229/00—Aspects of molecular sieve catalysts not covered by B01J29/00
- B01J2229/60—Synthesis on support
- B01J2229/66—Synthesis on support on metal supports
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は熱及び化学薬品に対してきわめて安定
で、高活性でありしかも選択性に富む分子ふるい
作用及び/又は触媒作用を有するいわゆる機能性
膜と呼ばれる型の新規な複合膜及びその製造法に
関する。
で、高活性でありしかも選択性に富む分子ふるい
作用及び/又は触媒作用を有するいわゆる機能性
膜と呼ばれる型の新規な複合膜及びその製造法に
関する。
天然に見いだされるゼオライトは1930年以前に
既に知られているが、分子ふるい作用をもつ合成
ゼオライトについてはBarrerとその協同研究者
が1940年代中頃から行つた系統的かつ総合的な研
究が有名であり、その研究はたとえばR.M.
Barrer:“Molecular Sieves”第39頁、Society
of the Chemical Industry発行(1968)などに
見られる。Barreらの研究成果は着目したUCC社
のLinde事業部の研究者らは、均一もしくは不均
一アルミノケイ酸ゲルを100℃付近の温度での水
熱条件下で結晶化させることにより単一結晶相の
分子ふるいゼオライトを工業的に製造するのに成
功した(たとえばD.M.Breck及びE.M.
Flanigan:“Molecular Sieves”第47頁Society
of the Chemical Industry発行(1968)参照)。
既に知られているが、分子ふるい作用をもつ合成
ゼオライトについてはBarrerとその協同研究者
が1940年代中頃から行つた系統的かつ総合的な研
究が有名であり、その研究はたとえばR.M.
Barrer:“Molecular Sieves”第39頁、Society
of the Chemical Industry発行(1968)などに
見られる。Barreらの研究成果は着目したUCC社
のLinde事業部の研究者らは、均一もしくは不均
一アルミノケイ酸ゲルを100℃付近の温度での水
熱条件下で結晶化させることにより単一結晶相の
分子ふるいゼオライトを工業的に製造するのに成
功した(たとえばD.M.Breck及びE.M.
Flanigan:“Molecular Sieves”第47頁Society
of the Chemical Industry発行(1968)参照)。
これらゼオライトで従来工業的に用いられてい
るものはいずれも粒子状形態であり、その機能は
吸着分離作用あるいは触媒作用のいずれかであ
る。粒子状分子ふるい上での吸着分離プロセス
は、吸着と脱着が交互に行われる不連続のバツ
チ・プロセスであり経済性が低かつた。ゼロライ
ト表層を有する膜状成形品が存在すればかゝるプ
ロセスは連続化が相変化を伴わずに実現し、著し
く経済性が向上するはずであるが、現在に至るも
そのような提案はなされていない。
るものはいずれも粒子状形態であり、その機能は
吸着分離作用あるいは触媒作用のいずれかであ
る。粒子状分子ふるい上での吸着分離プロセス
は、吸着と脱着が交互に行われる不連続のバツ
チ・プロセスであり経済性が低かつた。ゼロライ
ト表層を有する膜状成形品が存在すればかゝるプ
ロセスは連続化が相変化を伴わずに実現し、著し
く経済性が向上するはずであるが、現在に至るも
そのような提案はなされていない。
一方、触媒作用を粒子状ゼオライトの表面で行
えば、反応原料と反応生成物はその場(in sutu)
では分離が行えず別の分離工程を必要とし、場合
によつては反応生成物が粒子状ゼオライト上に長
く停留するためにさらに反応が進む結果目的生成
物以外の副生物を生ずる欠点もあつた。
えば、反応原料と反応生成物はその場(in sutu)
では分離が行えず別の分離工程を必要とし、場合
によつては反応生成物が粒子状ゼオライト上に長
く停留するためにさらに反応が進む結果目的生成
物以外の副生物を生ずる欠点もあつた。
ゼオライト表層を有する膜状成形体が存在すれ
ば、分子ふるい分離作用と触媒作用とが併存し、
相変化を伴わずに連続工程化を容易に達成し得る
筈であるが、そのようなものは未だ知られていな
い。又、粒子状ゼオライトの形態では吸着分離と
触媒作用を同時に行わせることは殆んど不可能で
あることは明らかである。
ば、分子ふるい分離作用と触媒作用とが併存し、
相変化を伴わずに連続工程化を容易に達成し得る
筈であるが、そのようなものは未だ知られていな
い。又、粒子状ゼオライトの形態では吸着分離と
触媒作用を同時に行わせることは殆んど不可能で
あることは明らかである。
一方、機能性膜としては、逆浸透膜あるいは限
外濾過膜が広く知られている。これらの機能性膜
はロブ=スリラージヤン(Loeb−Sourirajan)
膜(たとえば、S.Loeb及びS.Sourirajan:
Advan.Chem.Ser.、38、117(1963)参照)とし
て知られる、非対称有機高分子膜が広く普及し、
又最近では既成の多孔性支持体上に高分子物質を
コーテイングあるいはプラズマ重合のような方法
(たとえばJ.E.Cadotte、et al:“In−situ
formed condensation polymers for reserve
osmosis membranes”P B Report、
Nobember 1972、229〜337、NTIS、U.S.Dept.
of Commerce参照)で結合させた複合膜も知ら
れるようになつてきた。しかし、現在利用されて
いる機能性膜の活性表層は分子レベルの分離作用
としては十分なものではなく、触媒作用を併有す
るものは存在しない。
外濾過膜が広く知られている。これらの機能性膜
はロブ=スリラージヤン(Loeb−Sourirajan)
膜(たとえば、S.Loeb及びS.Sourirajan:
Advan.Chem.Ser.、38、117(1963)参照)とし
て知られる、非対称有機高分子膜が広く普及し、
又最近では既成の多孔性支持体上に高分子物質を
コーテイングあるいはプラズマ重合のような方法
(たとえばJ.E.Cadotte、et al:“In−situ
formed condensation polymers for reserve
osmosis membranes”P B Report、
Nobember 1972、229〜337、NTIS、U.S.Dept.
of Commerce参照)で結合させた複合膜も知ら
れるようになつてきた。しかし、現在利用されて
いる機能性膜の活性表層は分子レベルの分離作用
としては十分なものではなく、触媒作用を併有す
るものは存在しない。
ロブ=スリラージヤン膜は活性表層を形成する
原理に溶液のコアセルベーシヨン理論を用いてい
る。市販の複合膜は供給原料側の特定成分の選択
溶解性を一部有する高分子物質を多孔性支持体上
に薄膜形成させたものである。これに対し、本発
明は上述したごとき“溶解−拡散”によつて膜分
離を行う従来技術とは全く異なり、三次元的網目
構造を有する1μm未満の厚みのかご型ゼオライ
ト表層を多孔質支持体上に接着剤を用いず合体さ
せた複合膜の形態となすことにより、本発明で意
図する目的効果を達成しようとするものである。
原理に溶液のコアセルベーシヨン理論を用いてい
る。市販の複合膜は供給原料側の特定成分の選択
溶解性を一部有する高分子物質を多孔性支持体上
に薄膜形成させたものである。これに対し、本発
明は上述したごとき“溶解−拡散”によつて膜分
離を行う従来技術とは全く異なり、三次元的網目
構造を有する1μm未満の厚みのかご型ゼオライ
ト表層を多孔質支持体上に接着剤を用いず合体さ
せた複合膜の形態となすことにより、本発明で意
図する目的効果を達成しようとするものである。
したがつて本発明は、アルミニウム原子又はガ
リウム原子、ケイ素原子又はゲルマニウム原子及
び酸素原子を構成員とする6員、8員、10員又は
12員酸素環からなるかご型ゼオライトの1μm未
満の厚みの薄膜を金属、無機物又は高分子物質の
多孔質支持体の一表面に接着剤を用いず合体して
なる分子ふるい作用及び/又は触媒作用を有する
複合膜を提供するものである。
リウム原子、ケイ素原子又はゲルマニウム原子及
び酸素原子を構成員とする6員、8員、10員又は
12員酸素環からなるかご型ゼオライトの1μm未
満の厚みの薄膜を金属、無機物又は高分子物質の
多孔質支持体の一表面に接着剤を用いず合体して
なる分子ふるい作用及び/又は触媒作用を有する
複合膜を提供するものである。
本明細書において用語“薄膜”とは約数100Å
(オングストローム)から10Åの範囲の長さの薄
膜を意味するものとする。
(オングストローム)から10Åの範囲の長さの薄
膜を意味するものとする。
以下本発明の複合膜を具体的に説明すれば、そ
のゼオライト薄膜表層は三次元的網目構造を有す
るかご型ゼオライトからなつており、その結晶格
子を構成する網目は、Al又はGa原子とSi又はGe
原子を結ぶ環状の酸素結合(Si−O−Si、Si−O
−Al、Si−O−Ga、Ge−O−Ge、Ge−O−Al、
Ge−O−Ga、又はGa−O−Ga)で形成される
酸素環を有する。この酸素環は6員酸素環、8、
10又は12員酸素環からなる。6員酸素環の孔径は
平均2.2Å程度であり、水素の分子径は2.4Åであ
るから、これを通過する分子はきわめて少なく用
途も限定される。一方、8〜12員酸素環の孔径は
ほゞ3〜12Åの範囲で、同一員数の酸素環でもゼ
オライトの種類によつてその孔径に多少の差異が
ある。これは酸素環を構成する酸素原子が必ずし
も平面的に配列していないためである。またゼオ
ライトの細孔径は金属イオンの相違によつても差
異を生じ、イオン交換によつてある程度ゼオライ
トの細孔径を変化させることができる。このよう
な細孔径変化の原因は、ゼオライトの最大酸素環
付近に位置する金属イオンが細孔の一部を制約し
ており、イオン交換による金属イオンの数や位置
の変化、あるいはイオン半径の変化に基づくもの
と考えられている。このように主として8〜12員
酸素環構造のかご型ゼオライト薄膜は、原料組
成、ゲル化条件及び水熱処理(結晶化)条件の選
択によつてきわめて広範囲の条件設定が均一に膜
面全面にわたつて行えるので本発明の目的に特に
好ましいものである。このように分子レベルで一
定である細孔をもつかご型ゼオライト薄膜表層を
有する本発明の複合膜は、コアセルベーシヨン又
はコーテイングなどで成膜した溶解・拡散の差に
よつて分別する有機高分子物質からなる膜とは基
本的に異なるものである。
のゼオライト薄膜表層は三次元的網目構造を有す
るかご型ゼオライトからなつており、その結晶格
子を構成する網目は、Al又はGa原子とSi又はGe
原子を結ぶ環状の酸素結合(Si−O−Si、Si−O
−Al、Si−O−Ga、Ge−O−Ge、Ge−O−Al、
Ge−O−Ga、又はGa−O−Ga)で形成される
酸素環を有する。この酸素環は6員酸素環、8、
10又は12員酸素環からなる。6員酸素環の孔径は
平均2.2Å程度であり、水素の分子径は2.4Åであ
るから、これを通過する分子はきわめて少なく用
途も限定される。一方、8〜12員酸素環の孔径は
ほゞ3〜12Åの範囲で、同一員数の酸素環でもゼ
オライトの種類によつてその孔径に多少の差異が
ある。これは酸素環を構成する酸素原子が必ずし
も平面的に配列していないためである。またゼオ
ライトの細孔径は金属イオンの相違によつても差
異を生じ、イオン交換によつてある程度ゼオライ
トの細孔径を変化させることができる。このよう
な細孔径変化の原因は、ゼオライトの最大酸素環
付近に位置する金属イオンが細孔の一部を制約し
ており、イオン交換による金属イオンの数や位置
の変化、あるいはイオン半径の変化に基づくもの
と考えられている。このように主として8〜12員
酸素環構造のかご型ゼオライト薄膜は、原料組
成、ゲル化条件及び水熱処理(結晶化)条件の選
択によつてきわめて広範囲の条件設定が均一に膜
面全面にわたつて行えるので本発明の目的に特に
好ましいものである。このように分子レベルで一
定である細孔をもつかご型ゼオライト薄膜表層を
有する本発明の複合膜は、コアセルベーシヨン又
はコーテイングなどで成膜した溶解・拡散の差に
よつて分別する有機高分子物質からなる膜とは基
本的に異なるものである。
本発明の特徴とするかご型ゼオライト薄膜表層
を有する複合膜の出現によつて分子ふるい効果の
工業化は著しく容易になつた。すなわち従来の吸
着・脱着を交互に行うプロセスと異なり、本発明
の複合膜を使用すれば連続工程で相変化を伴わず
に、その場(in−situ)で分離を達成し得るいわ
ゆる分子ふるい逆浸透圧法が工業的に容易にかつ
きわめて経済的に実施可能となる。
を有する複合膜の出現によつて分子ふるい効果の
工業化は著しく容易になつた。すなわち従来の吸
着・脱着を交互に行うプロセスと異なり、本発明
の複合膜を使用すれば連続工程で相変化を伴わず
に、その場(in−situ)で分離を達成し得るいわ
ゆる分子ふるい逆浸透圧法が工業的に容易にかつ
きわめて経済的に実施可能となる。
以下分子ふるい効果を目的として本発明の複合
膜を使用する代表的具体例について説明する。こ
れらは従来既知の粒子状ゼオライトを使用した場
合には達成し得なかつた効果である。
膜を使用する代表的具体例について説明する。こ
れらは従来既知の粒子状ゼオライトを使用した場
合には達成し得なかつた効果である。
−CaA型かご型ゼオライト薄膜表層をもつ複合
膜はガソリンのオクタン価向上のためのn−パ
ラフイン及びn−オレフインの除去を容易に達
成し得る。またこゝで分離されたn−パラフイ
ン及びn−オレフインは化学原料として重要で
あり、したがつてこの方法は一石二鳥である。
同様にして、灯軽油留分からのn−パラフイン
の除去も容易である。n−パラフインを除去さ
れた軽油は流動点が低下するので、冬期、寒冷
地でのジーゼル車の運転不能の問題を解決し得
る。また、高価な高分子物質からなる流動点降
下剤の添加も不用となる。さらに潤滑油留分か
らのn−パラフインの除去も容易に達成でき、
したがつて繁雑で費用のかゝる低温処理や溶剤
抽出の必要を排除し得る。
膜はガソリンのオクタン価向上のためのn−パ
ラフイン及びn−オレフインの除去を容易に達
成し得る。またこゝで分離されたn−パラフイ
ン及びn−オレフインは化学原料として重要で
あり、したがつてこの方法は一石二鳥である。
同様にして、灯軽油留分からのn−パラフイン
の除去も容易である。n−パラフインを除去さ
れた軽油は流動点が低下するので、冬期、寒冷
地でのジーゼル車の運転不能の問題を解決し得
る。また、高価な高分子物質からなる流動点降
下剤の添加も不用となる。さらに潤滑油留分か
らのn−パラフインの除去も容易に達成でき、
したがつて繁雑で費用のかゝる低温処理や溶剤
抽出の必要を排除し得る。
−NaA型かご型ゼオライト薄膜表層をイオン交
換によつてCaA型に変換した複合膜はきわめ
て有用な分子ふるい作用を有し、たとえばC4
炭化水素留分中のブテン−1のみの選択分離、
芳香族炭化水素中の脂肪族炭化水素の選択分離
を達成し得る。
換によつてCaA型に変換した複合膜はきわめ
て有用な分子ふるい作用を有し、たとえばC4
炭化水素留分中のブテン−1のみの選択分離、
芳香族炭化水素中の脂肪族炭化水素の選択分離
を達成し得る。
−CaA型かご型ゼオライト薄膜表層をCsA型に変
換した複合膜は放射性同位元素の選択分離、硫
黄化合物の選択分離等に有用である。
換した複合膜は放射性同位元素の選択分離、硫
黄化合物の選択分離等に有用である。
−13X型ゼオライト薄膜表層をもつ複合膜は
LNG及びLPG中の不純物である硫化水素、メ
ルカプタン及び炭酸ガスを連続的に分離するこ
とを可能にする。また空気中の水分、炭酸ガ
ス、炭化水素及び窒素を選択的かつ連続的に分
離して高圧供給側に酸素とアルゴンを残留せし
め得る。この方法を応用すれば、内燃機関の排
気ターボによつて空気を圧縮させエンジン内の
富酸素化空気又は酸素95%とアルゴン5%の混
合ガスを供給することが可能となる。酸化反応
用の酸素供給装置や、医療用簡易酸素発生装置
としての用途にもこの複合膜を使用し得る。ま
た純酸素を必要とする場合及び/又は純アルゴ
ンを必要とする場合には、これに低温複合膜
(本発明の複合膜を低温で用いる)による分離
装置を追加することによつて達成可能である。
LNG及びLPG中の不純物である硫化水素、メ
ルカプタン及び炭酸ガスを連続的に分離するこ
とを可能にする。また空気中の水分、炭酸ガ
ス、炭化水素及び窒素を選択的かつ連続的に分
離して高圧供給側に酸素とアルゴンを残留せし
め得る。この方法を応用すれば、内燃機関の排
気ターボによつて空気を圧縮させエンジン内の
富酸素化空気又は酸素95%とアルゴン5%の混
合ガスを供給することが可能となる。酸化反応
用の酸素供給装置や、医療用簡易酸素発生装置
としての用途にもこの複合膜を使用し得る。ま
た純酸素を必要とする場合及び/又は純アルゴ
ンを必要とする場合には、これに低温複合膜
(本発明の複合膜を低温で用いる)による分離
装置を追加することによつて達成可能である。
−ZSM−5型ゼオライト薄膜表層をもつ複合膜
はキシレン異性体の分子ふるい効果にユニーク
な特性すなわちメタキシレンは分子ふるいに排
除されるが、パラキシレンは分子ふるいを通過
すると云う、著しい選択性を有している。
ZSM−5型ゼオライト薄膜は、たとえば、ト
リメチル・ラウリルアンモニウムハイドロオキ
サイド、水酸化ナトリウム、水酸化アルミニウ
ム及びシリカゾルからなる混合物からマイクロ
フイルター経由静かに沈降させてゲル薄膜を形
成させこれをたとえば100℃で2日間水熱化処
理することによつて製造される。この場合、ト
リメチル・ラウリルアンモニウムイオンは交換
することのできない有機塩基であるがNa2Oの
ナトリウム金属陽イオンはイオン交換可能であ
る。又、SiO2/Al2O3=32程度でケイ酸の比が
著しく高い安定なかご型ゼオライト表層の特徴
を有するものである。
はキシレン異性体の分子ふるい効果にユニーク
な特性すなわちメタキシレンは分子ふるいに排
除されるが、パラキシレンは分子ふるいを通過
すると云う、著しい選択性を有している。
ZSM−5型ゼオライト薄膜は、たとえば、ト
リメチル・ラウリルアンモニウムハイドロオキ
サイド、水酸化ナトリウム、水酸化アルミニウ
ム及びシリカゾルからなる混合物からマイクロ
フイルター経由静かに沈降させてゲル薄膜を形
成させこれをたとえば100℃で2日間水熱化処
理することによつて製造される。この場合、ト
リメチル・ラウリルアンモニウムイオンは交換
することのできない有機塩基であるがNa2Oの
ナトリウム金属陽イオンはイオン交換可能であ
る。又、SiO2/Al2O3=32程度でケイ酸の比が
著しく高い安定なかご型ゼオライト表層の特徴
を有するものである。
本発明の複合膜は上述のごとく分子ふるい効果
のみを目的とする用途に使用する場合には結晶化
ゲル薄層のイオン交換を行なわずにそのまゝ使用
することもできる。
のみを目的とする用途に使用する場合には結晶化
ゲル薄層のイオン交換を行なわずにそのまゝ使用
することもできる。
つぎに本発明の複合膜を触媒効果を目的として
使用する場合について説明する。この目的に対し
ては結晶化ゲル薄層中のアルカリ金属等はまずイ
オン交換することが必要である。たとえば代表的
なNaX型又はNaY型ゼオライトについて説明す
れば、かゝるゼオライト構造中においては
(AlO4)-グループの近傍には必ずNa+イオンが存
在し、これが触媒作用を低減するのでイオン交換
作用により触媒作用を付与、増大させることが必
要である。かゝるイオン交換法及びそれによつて
得られる個個特定の型のゼオライト構造体それ自
体の特性は粒子状ゼオライトについて周知の技術
であるので、これらについての詳細な説明は省略
する。触媒効果を目的とする本発明の複合膜の使
用の若干の具体例を示す。
使用する場合について説明する。この目的に対し
ては結晶化ゲル薄層中のアルカリ金属等はまずイ
オン交換することが必要である。たとえば代表的
なNaX型又はNaY型ゼオライトについて説明す
れば、かゝるゼオライト構造中においては
(AlO4)-グループの近傍には必ずNa+イオンが存
在し、これが触媒作用を低減するのでイオン交換
作用により触媒作用を付与、増大させることが必
要である。かゝるイオン交換法及びそれによつて
得られる個個特定の型のゼオライト構造体それ自
体の特性は粒子状ゼオライトについて周知の技術
であるので、これらについての詳細な説明は省略
する。触媒効果を目的とする本発明の複合膜の使
用の若干の具体例を示す。
−RbY型ゼオライト薄膜を有する複合膜にメタ
ノールとトルエンを通送することによつて分離
側にスチレン・モノマーとエチルベンゼンが得
られる。
ノールとトルエンを通送することによつて分離
側にスチレン・モノマーとエチルベンゼンが得
られる。
−CsY型ゼオライト薄膜を有する複合膜にホルム
アルデヒドとトルエンを通送することによつて
分離側にスチレン・モノマーが得られる。
アルデヒドとトルエンを通送することによつて
分離側にスチレン・モノマーが得られる。
−Pd−CuY型ゼオライト薄膜を有する複合膜に
約120℃でプロピレンと水蒸気を通送すると高
い選択性によつて分離側にアセトンが得られ
た。
約120℃でプロピレンと水蒸気を通送すると高
い選択性によつて分離側にアセトンが得られ
た。
−PhY型エゾライト薄膜を有する複合膜にエチ
レンを通送すると分離側にn−ブテンが得られ
る。
レンを通送すると分離側にn−ブテンが得られ
る。
−HY型ゼオライト薄膜を有する複合膜にヘキセ
ン−1を通送すると分離側にベンゼンが得られ
る。
ン−1を通送すると分離側にベンゼンが得られ
る。
以上分子ふるい効果と触媒効果を別々に有する
本発明の複合膜の機能について具体的に説明した
が、さらに本発明の複合膜は分子ふるい効果と触
媒効果を併有することを特徴とするものであり、
以下これらの目的に対する有用性を具体例をあげ
て説明する。
本発明の複合膜の機能について具体的に説明した
が、さらに本発明の複合膜は分子ふるい効果と触
媒効果を併有することを特徴とするものであり、
以下これらの目的に対する有用性を具体例をあげ
て説明する。
−Pt−CaAかご型ゼオライト薄膜表層を有する
複合膜に水素、プロピレン及びイソブチレンの
混合物を通送すれば、水素とプロパンのみが分
離側に得られる。これはプロピレンのみの選択
水添と分子ふるい分離が達成されたことを意味
する。同じ膜にトランス・ブテン−2とシス・
ブテン−2の混合物を水素とともに通送すれば
トランス型のみが選択的に水添されかつ分子ふ
るい分離される。
複合膜に水素、プロピレン及びイソブチレンの
混合物を通送すれば、水素とプロパンのみが分
離側に得られる。これはプロピレンのみの選択
水添と分子ふるい分離が達成されたことを意味
する。同じ膜にトランス・ブテン−2とシス・
ブテン−2の混合物を水素とともに通送すれば
トランス型のみが選択的に水添されかつ分子ふ
るい分離される。
−Pt−Y型又はPd−Y型かご型ゼオライト薄膜
表層を有する複合膜にシクロヘキサンを通送す
れば、接触脱水素反応により生成したベンゼン
が選択分子ふるい分離される。
表層を有する複合膜にシクロヘキサンを通送す
れば、接触脱水素反応により生成したベンゼン
が選択分子ふるい分離される。
−希土類又は遷移金属をイオン交換担持させたY
型かご型ゼオライト薄膜表層を有する複合膜に
重質油と水素を通送すれば水添分解された軽質
の炭化水素のみが分子ふるい分離される。又こ
の複合膜は原料重質油中の窒素、硫黄及びそれ
らの化合物に対して安定で触媒被毒に強いとい
う特徴を有する。
型かご型ゼオライト薄膜表層を有する複合膜に
重質油と水素を通送すれば水添分解された軽質
の炭化水素のみが分子ふるい分離される。又こ
の複合膜は原料重質油中の窒素、硫黄及びそれ
らの化合物に対して安定で触媒被毒に強いとい
う特徴を有する。
−NaA型ゼオライト薄膜表層をCa2+とPt又はPd
でイオン交換したゼオライト薄膜表層を有する
複合膜にミナス系工業用灯油を通送すると水添
分解反応が生起して低分子量のノルマル・パラ
フインが生成しかつ分子ふるい分離される。
でイオン交換したゼオライト薄膜表層を有する
複合膜にミナス系工業用灯油を通送すると水添
分解反応が生起して低分子量のノルマル・パラ
フインが生成しかつ分子ふるい分離される。
−希土類又は遷移金属でイオン交換したHY型か
ご型ゼオライト薄膜表層を有する複合膜にシク
ロヘキサノンオキシムと水素とを通送すると触
媒作用によりベツクマン転位及び水添分解が起
りさらに分子ふるい効果によつて分離側にオメ
ガ−アミノカルボン酸が得られる。また同じ複
合膜にフエノールとアルデヒド又はケトン(た
とえばアセトン)を通送すると、p,p′−ビス
フエノールが合成されかつ分子ふるい分離され
る。
ご型ゼオライト薄膜表層を有する複合膜にシク
ロヘキサノンオキシムと水素とを通送すると触
媒作用によりベツクマン転位及び水添分解が起
りさらに分子ふるい効果によつて分離側にオメ
ガ−アミノカルボン酸が得られる。また同じ複
合膜にフエノールとアルデヒド又はケトン(た
とえばアセトン)を通送すると、p,p′−ビス
フエノールが合成されかつ分子ふるい分離され
る。
−HZSM−5型ゼオライト薄膜表層を有する複
合膜は芳香族炭化水素の選択的分子ふるい効果
と触媒効果とを併用している。例えばキシレン
異性体混合物をこの複合膜に通送すればパラキ
シレン>エチルベンゼン>オルトキシレン>メ
タキシレンの順に分離側に透過選択性を有して
おりかつエチルベンゼン・オルトキシレン及び
メタキシレンをパラキシレンに異性化する触媒
効果も併有している。
合膜は芳香族炭化水素の選択的分子ふるい効果
と触媒効果とを併用している。例えばキシレン
異性体混合物をこの複合膜に通送すればパラキ
シレン>エチルベンゼン>オルトキシレン>メ
タキシレンの順に分離側に透過選択性を有して
おりかつエチルベンゼン・オルトキシレン及び
メタキシレンをパラキシレンに異性化する触媒
効果も併有している。
−HZSM−5型エゾライト薄膜部をイオン交換
によつてCo−P−ZSM−5型に変換した薄膜
表層をもつ複合膜はこれに400℃でトルエンと
メタノールを通送すると、接触メチル化反応が
生起しかつ分子ふるい効果によつてパラキシレ
ンが選択的に分離される。
によつてCo−P−ZSM−5型に変換した薄膜
表層をもつ複合膜はこれに400℃でトルエンと
メタノールを通送すると、接触メチル化反応が
生起しかつ分子ふるい効果によつてパラキシレ
ンが選択的に分離される。
上記した事例は単に本発明の複合膜の代表的な
具体例及びその適用についての代表的な具体例を
説明のために示したものであり、何等本発明をこ
れらのものに限定するものではない。
具体例及びその適用についての代表的な具体例を
説明のために示したものであり、何等本発明をこ
れらのものに限定するものではない。
本発明の複合膜は種々の方法によつて製造する
ことができ、好ましい製造法として以下に示すA
〜E法をあげることができる。
ことができ、好ましい製造法として以下に示すA
〜E法をあげることができる。
A法:
(a) アルカリ金属塩、アルカリ土金属塩、アンモ
ニムウ塩又はアルキル置換アンモニウム塩の形
であるアルミン酸塩又はガリウム酸塩とケイ酸
塩又はゲルマニウム酸塩とをアルカリ金属、ア
ルカリ土金属、アンモニウム又はアルキル置換
アンモニウムの水酸化物の水溶液に添加混合し
てゲルを生成させ: (b) 生成したゲルを金属、無機物又は高分子物質
の多孔質支持体又は後に化学的処理によつて多
孔質となし得る緻密質支持体の一表面上に沈着
させてゲル表層を形成させ: (c) 該ゲル表層を30℃以上の温度に加熱してゲル
を結晶化させ: (d) 所要ならば結晶化したゲル中のアルカリ金
属、アルカリ土金属、アンモニウム又はアルキ
ル置換アンモニウム含量をイオン交換処理によ
り1%以下に低下させ: (e) 前記支持体が緻密質である場合にはこれを化
学的処理によつて多孔質化し:そして (f) 得られた複合体を洗浄しかつ乾燥することか
らなる方法。
ニムウ塩又はアルキル置換アンモニウム塩の形
であるアルミン酸塩又はガリウム酸塩とケイ酸
塩又はゲルマニウム酸塩とをアルカリ金属、ア
ルカリ土金属、アンモニウム又はアルキル置換
アンモニウムの水酸化物の水溶液に添加混合し
てゲルを生成させ: (b) 生成したゲルを金属、無機物又は高分子物質
の多孔質支持体又は後に化学的処理によつて多
孔質となし得る緻密質支持体の一表面上に沈着
させてゲル表層を形成させ: (c) 該ゲル表層を30℃以上の温度に加熱してゲル
を結晶化させ: (d) 所要ならば結晶化したゲル中のアルカリ金
属、アルカリ土金属、アンモニウム又はアルキ
ル置換アンモニウム含量をイオン交換処理によ
り1%以下に低下させ: (e) 前記支持体が緻密質である場合にはこれを化
学的処理によつて多孔質化し:そして (f) 得られた複合体を洗浄しかつ乾燥することか
らなる方法。
以下本発明のA法について具体的に説明すれ
ば、好ましくはアルミン酸ナトリウム又はガリウ
ム酸ナトリウムとケイ酸ナトリウム又はゲルマニ
ウム酸ナトリウムとを好ましくは水酸化ナトリウ
ムまたは水酸化カリウムの水溶液に添加混合して
均一なゲルを形成させこれから支持体上に薄膜表
層を形成させる。支持体としては特にゲル物質と
親和性の高いものを用いて良好な結果が得られ
た。たとえばコーニング・グラス・ワークス社製
のNo.7930又は一般にバイコール(VYCOR)ガラ
スと称されるものが支持体として特に好ましい。
このガラスはケイ素とホウ素を高度に分散させて
焼き上げ、塩酸でホウ素酸化物を除去した多孔質
石英ガラスであり、その平均的な孔径は約40Åと
いわれている。支持体上に均一にかつピンホール
なしにゲルを沈着させるためには、0.2ミクロン
程度又はそれ以下のマイクロ・フイルターを通過
させたゲルを静かに均一に支持体上に沈着させる
ことが必要である。多孔質金属支持体あるいは後
に化学的処理によつて多孔質支持体となし得る緻
密質金属支持体を使用してもかなり良好な結果が
得られる。上記以外の種々のゲルの製造法、工業
的に有用なA型、X型、Y型、L型、FU−1型
又はZSM−5型かご型ゼオライトの製造法それ
自体は、いずれも常法に従つて行なうことができ
る。
ば、好ましくはアルミン酸ナトリウム又はガリウ
ム酸ナトリウムとケイ酸ナトリウム又はゲルマニ
ウム酸ナトリウムとを好ましくは水酸化ナトリウ
ムまたは水酸化カリウムの水溶液に添加混合して
均一なゲルを形成させこれから支持体上に薄膜表
層を形成させる。支持体としては特にゲル物質と
親和性の高いものを用いて良好な結果が得られ
た。たとえばコーニング・グラス・ワークス社製
のNo.7930又は一般にバイコール(VYCOR)ガラ
スと称されるものが支持体として特に好ましい。
このガラスはケイ素とホウ素を高度に分散させて
焼き上げ、塩酸でホウ素酸化物を除去した多孔質
石英ガラスであり、その平均的な孔径は約40Åと
いわれている。支持体上に均一にかつピンホール
なしにゲルを沈着させるためには、0.2ミクロン
程度又はそれ以下のマイクロ・フイルターを通過
させたゲルを静かに均一に支持体上に沈着させる
ことが必要である。多孔質金属支持体あるいは後
に化学的処理によつて多孔質支持体となし得る緻
密質金属支持体を使用してもかなり良好な結果が
得られる。上記以外の種々のゲルの製造法、工業
的に有用なA型、X型、Y型、L型、FU−1型
又はZSM−5型かご型ゼオライトの製造法それ
自体は、いずれも常法に従つて行なうことができ
る。
支持体上に沈着したゲルの水熱処理はそれ自体
粒子状ゼオライトの製造における水熱処理と同様
の方法で実施し得る。処理温度は100℃前後が特
に好ましい。一般に処理温度が低いと結晶化に時
間を要し、逆に処理温度が高いと結晶化速度は早
い。これら温度と処理時間の設定は粒子状ゼオラ
イトの製造法のノウハウを殆んど転用可能であ
る。一般にNa型及び又はK型カチオンに製造さ
れるかご型ゼオライト薄膜表層は常法に従いイオ
ン交換が可能である。完全にイオン交換を行いH
型に変換させるには、いわゆる“超安定ゼオライ
ト”の製造法に従い達成される。
粒子状ゼオライトの製造における水熱処理と同様
の方法で実施し得る。処理温度は100℃前後が特
に好ましい。一般に処理温度が低いと結晶化に時
間を要し、逆に処理温度が高いと結晶化速度は早
い。これら温度と処理時間の設定は粒子状ゼオラ
イトの製造法のノウハウを殆んど転用可能であ
る。一般にNa型及び又はK型カチオンに製造さ
れるかご型ゼオライト薄膜表層は常法に従いイオ
ン交換が可能である。完全にイオン交換を行いH
型に変換させるには、いわゆる“超安定ゼオライ
ト”の製造法に従い達成される。
ゲルを均一にかつきわめて薄く沈着させるため
には平滑な多孔質の支持体表面の使用が好まし
い。こゝでいう平滑とは100Å前後の平滑性を意
味している。したがつて、このような目的に適当
な多孔質支持体の入手が困難な場合には、緻密質
支持体の一表面にかご型ゼオライト薄膜表層を形
成させた後、化学的処理によつて多孔質化する方
法を採用することができる。かゝる方法によつて
得られる多孔質支持体の例としては、金属にあつ
ては、例えばラネー・ニツケルのごときエツチン
グによつて一部の金属が除去されたもの、無機物
にあつては、バイコール・ガラスのごとく石英ガ
ラス相からホウ砂ガラス相を鉱酸により除去した
もの、有機高分子物質にあつては耐化学薬品性の
低い重合体をブレンドしたものを化学薬品処理に
よつて多孔質化させたものをあげることができ
る。得られる複合体の洗浄と乾燥に関しては粒子
状ゼオライトに対して行われる方法と全く同様で
ある。
には平滑な多孔質の支持体表面の使用が好まし
い。こゝでいう平滑とは100Å前後の平滑性を意
味している。したがつて、このような目的に適当
な多孔質支持体の入手が困難な場合には、緻密質
支持体の一表面にかご型ゼオライト薄膜表層を形
成させた後、化学的処理によつて多孔質化する方
法を採用することができる。かゝる方法によつて
得られる多孔質支持体の例としては、金属にあつ
ては、例えばラネー・ニツケルのごときエツチン
グによつて一部の金属が除去されたもの、無機物
にあつては、バイコール・ガラスのごとく石英ガ
ラス相からホウ砂ガラス相を鉱酸により除去した
もの、有機高分子物質にあつては耐化学薬品性の
低い重合体をブレンドしたものを化学薬品処理に
よつて多孔質化させたものをあげることができ
る。得られる複合体の洗浄と乾燥に関しては粒子
状ゼオライトに対して行われる方法と全く同様で
ある。
B法:
(a) 金属、無機物又は高分子物質の多孔質支持体
又は後に化学的処理によつて多孔質となし得る
緻密質支持体の一表面にアルミニウム又はガリ
ウムとケイ素又はゲルマニウムからなる合金の
薄膜を形成させ; (b) 該合金薄膜を酸化処理し; (c) 酸化さた薄膜を、アルカリ金属、アルカリ土
金属、アンモニウム又はアルキル置換アンモニ
ウムの水酸化物の水溶液中に浸漬してゲル表層
を形成させ; (d) 形成されたゲル表層を30℃以上の水熱処理に
よつて結晶化させ; (e) 所要ならば、結晶化したゲル中のアルカリ金
属、アルカリ土金属、アンモニウム又はアルキ
ル置換アンモニウム含量をイオン交換処理によ
り1%以下に低下させ; (f) 前記支持体が緻密質である場合にはこれを化
学的処理によつて多孔質化し; (g) 得られた複合体を洗浄しかつ乾燥する; ことからなる方法。
又は後に化学的処理によつて多孔質となし得る
緻密質支持体の一表面にアルミニウム又はガリ
ウムとケイ素又はゲルマニウムからなる合金の
薄膜を形成させ; (b) 該合金薄膜を酸化処理し; (c) 酸化さた薄膜を、アルカリ金属、アルカリ土
金属、アンモニウム又はアルキル置換アンモニ
ウムの水酸化物の水溶液中に浸漬してゲル表層
を形成させ; (d) 形成されたゲル表層を30℃以上の水熱処理に
よつて結晶化させ; (e) 所要ならば、結晶化したゲル中のアルカリ金
属、アルカリ土金属、アンモニウム又はアルキ
ル置換アンモニウム含量をイオン交換処理によ
り1%以下に低下させ; (f) 前記支持体が緻密質である場合にはこれを化
学的処理によつて多孔質化し; (g) 得られた複合体を洗浄しかつ乾燥する; ことからなる方法。
以下本発明のB法について具体的に説明すれ
ば、支持体上へのアルミニウム又はガリウムとケ
イ素又はゲルマニウムとからなる合金の薄膜表層
の形成はメツキ、熔射、真空蒸着、陰極スパツタ
リングなどの薄膜形成の常法によつて行なうこと
ができる。合金薄膜の酸化は各種の化学的酸化
法、電気化学的陽極酸化法などにより行なわれ
る。ただしアルミニウム又はガリウムに比較して
ケイ素又はゲルマニウムははるかに酸化されにく
いのでその酸化には例えば、硝酸による化学酸
化、濃クロム酸による陽極酸化のような極めて厳
しい酸化法を採用する等の十分な配慮が必要であ
る。支持体は多孔質であるか、後に加賀的処理に
よつて多孔質化可能な緻密質のもののいずれも使
用することができる。その素材としては金属、無
機質あるいは高分子物質いずれでも利用可能であ
るが、合金との親和性の高い金属の使用が好まし
く、特に電気化学的酸化工程を行う場合には電気
伝導性のものが使用される。合金の薄膜を支持体
に形成した後、すみやかに強固に合体させるよう
に例えば、超音波インパクトグラインダー、静水
圧(アイソスタテイツク)プレス、高温高圧焼結
炉、爆発圧着のような高圧処理を行なうことが好
ましい。
ば、支持体上へのアルミニウム又はガリウムとケ
イ素又はゲルマニウムとからなる合金の薄膜表層
の形成はメツキ、熔射、真空蒸着、陰極スパツタ
リングなどの薄膜形成の常法によつて行なうこと
ができる。合金薄膜の酸化は各種の化学的酸化
法、電気化学的陽極酸化法などにより行なわれ
る。ただしアルミニウム又はガリウムに比較して
ケイ素又はゲルマニウムははるかに酸化されにく
いのでその酸化には例えば、硝酸による化学酸
化、濃クロム酸による陽極酸化のような極めて厳
しい酸化法を採用する等の十分な配慮が必要であ
る。支持体は多孔質であるか、後に加賀的処理に
よつて多孔質化可能な緻密質のもののいずれも使
用することができる。その素材としては金属、無
機質あるいは高分子物質いずれでも利用可能であ
るが、合金との親和性の高い金属の使用が好まし
く、特に電気化学的酸化工程を行う場合には電気
伝導性のものが使用される。合金の薄膜を支持体
に形成した後、すみやかに強固に合体させるよう
に例えば、超音波インパクトグラインダー、静水
圧(アイソスタテイツク)プレス、高温高圧焼結
炉、爆発圧着のような高圧処理を行なうことが好
ましい。
工程(c)以降の各工程はA法に準じて行なうこと
ができる。
ができる。
C法:
(a) アルミニウム又はガリウムの塩とケイ素又は
ゲルマニウムの塩との混合物を酸化・還元反応
(銀鏡反応)により多孔質金属支持体又は後に
化学的処理によつて多孔質となし得る緻密質金
属支持体の一表面上に化学メツキし; (b) 得られたメツキ薄膜を酸化処理し; (c) 酸化された薄膜をアルカリ金属、アルカリ土
金属、アンモニウム又はアルキル置換アンモニ
ウムの水酸化物の水溶液中に浸漬してゲル表層
を形成させ; (d) 形成されたゲル表層を30℃以上の水熱水処理
によつて結晶化させ; (e) 所要ならば、結晶化したゲル中のアルカリ金
属、アルカリ土金属、アンモニウム又はアルキ
ル置換アンモニウム含量をイオン交換処理によ
り1%以下に低下させ; (f) 前記支持体が緻密質である場合には、これを
化学的処理によつて多孔質化し;そして (g) 得られた複合体を洗浄しかつ乾燥する; ことからなる方法。
ゲルマニウムの塩との混合物を酸化・還元反応
(銀鏡反応)により多孔質金属支持体又は後に
化学的処理によつて多孔質となし得る緻密質金
属支持体の一表面上に化学メツキし; (b) 得られたメツキ薄膜を酸化処理し; (c) 酸化された薄膜をアルカリ金属、アルカリ土
金属、アンモニウム又はアルキル置換アンモニ
ウムの水酸化物の水溶液中に浸漬してゲル表層
を形成させ; (d) 形成されたゲル表層を30℃以上の水熱水処理
によつて結晶化させ; (e) 所要ならば、結晶化したゲル中のアルカリ金
属、アルカリ土金属、アンモニウム又はアルキ
ル置換アンモニウム含量をイオン交換処理によ
り1%以下に低下させ; (f) 前記支持体が緻密質である場合には、これを
化学的処理によつて多孔質化し;そして (g) 得られた複合体を洗浄しかつ乾燥する; ことからなる方法。
以下本発明のC法について具体的に説明すれ
ば、アルミニウム又はガリウムの塩とケイ素又は
ゲルマニウムの塩の混合物を化学メツキにより塩
から金属に変換させて支持体金属表面に薄膜を形
成させる。化学メツキに使用される塩としては慣
用のもの、たとえばハロケン化物、硝酸塩、シア
ン化物、ハロゲン化金属シアン化物又は硫酸塩を
あげることができる。又、メツキ浴には、シアン
化アルカリ金属、アルカリ金属及び/又はアルカ
リ土金属のハロゲン化物等を化学メツキ促進助剤
として使用し得る。支持体としては多孔質金属あ
るいは後に化学的処理によつて多孔質に変換し得
る緻密質金属支持体のいずれを使用してもよい。
工程(b)以降の各工程はB法に準じて行なうことが
できる。
ば、アルミニウム又はガリウムの塩とケイ素又は
ゲルマニウムの塩の混合物を化学メツキにより塩
から金属に変換させて支持体金属表面に薄膜を形
成させる。化学メツキに使用される塩としては慣
用のもの、たとえばハロケン化物、硝酸塩、シア
ン化物、ハロゲン化金属シアン化物又は硫酸塩を
あげることができる。又、メツキ浴には、シアン
化アルカリ金属、アルカリ金属及び/又はアルカ
リ土金属のハロゲン化物等を化学メツキ促進助剤
として使用し得る。支持体としては多孔質金属あ
るいは後に化学的処理によつて多孔質に変換し得
る緻密質金属支持体のいずれを使用してもよい。
工程(b)以降の各工程はB法に準じて行なうことが
できる。
D法:
(a) 金属、無機物又は高分子物質の多孔質支持体
又は後に化学的処理によつて多孔質となし得る
緻密質支持体の一表面にアルミニムム又はガリ
ウムとケイ素又はゲルマニウムとからなる金属
酸化物の薄膜を形成させ; (b) 該金属酸化物の薄膜をアルカリ金属、アルカ
リ土金属、アンモニウム又はアルキル置換アン
モニウムの水酸化物の水溶液中に浸漬してゲル
表層を形成させ; (c) 形成されたゲル表層を30℃以上の水熱処理に
よつて結晶化させ; (d) 所要ならば、結晶化したゲル中のアルカリ金
属、アルカリ土金属、アンモニウム又はアルキ
ル置換アンモニウム含量をイオン交換処理によ
り1%以下に低下させ; (e) 前記支持体が緻密質である場合には、これを
化学的処理によつて多孔質化し;そして (f) 得られた複合体を洗浄しかつ乾燥する; ことからなる方法。
又は後に化学的処理によつて多孔質となし得る
緻密質支持体の一表面にアルミニムム又はガリ
ウムとケイ素又はゲルマニウムとからなる金属
酸化物の薄膜を形成させ; (b) 該金属酸化物の薄膜をアルカリ金属、アルカ
リ土金属、アンモニウム又はアルキル置換アン
モニウムの水酸化物の水溶液中に浸漬してゲル
表層を形成させ; (c) 形成されたゲル表層を30℃以上の水熱処理に
よつて結晶化させ; (d) 所要ならば、結晶化したゲル中のアルカリ金
属、アルカリ土金属、アンモニウム又はアルキ
ル置換アンモニウム含量をイオン交換処理によ
り1%以下に低下させ; (e) 前記支持体が緻密質である場合には、これを
化学的処理によつて多孔質化し;そして (f) 得られた複合体を洗浄しかつ乾燥する; ことからなる方法。
以下本発明のD法について具体的に説明すれ
ば、薄膜形成用の出発物質としては、シリカ・ア
ルミナ、カオリンのような粘土、粘土とシリカ・
アルミナの混合物、シリカ・アルミナ・マグネシ
ア、シリカ・アルミナ・ジルコニアのごとき粒状
触媒に用いられている原料が廉価に入手可能であ
りかつ良質であるので好ましく使用される。これ
らの原料から粒状触媒を得るには湿式造粒による
ことが多いが、この工程中に得られる安定で均一
な薄い溶液を本発明の製造法に用いることができ
る。この方法による薄膜の製造法の好ましい一実
施態様においては、ケイ酸ナトリウム又はゲルマ
ニウム酸ナトリウムの水溶液を製造し、これに最
終薄膜に必要な量の硫酸アルミニウム又は硫酸ガ
リウムの水溶液を添加し、十分撹拌して、任意の
対応する酸化物ゲルを形成させ、これをマイクロ
フイルターを通過させて支持体上に均一に沈着さ
せる。
ば、薄膜形成用の出発物質としては、シリカ・ア
ルミナ、カオリンのような粘土、粘土とシリカ・
アルミナの混合物、シリカ・アルミナ・マグネシ
ア、シリカ・アルミナ・ジルコニアのごとき粒状
触媒に用いられている原料が廉価に入手可能であ
りかつ良質であるので好ましく使用される。これ
らの原料から粒状触媒を得るには湿式造粒による
ことが多いが、この工程中に得られる安定で均一
な薄い溶液を本発明の製造法に用いることができ
る。この方法による薄膜の製造法の好ましい一実
施態様においては、ケイ酸ナトリウム又はゲルマ
ニウム酸ナトリウムの水溶液を製造し、これに最
終薄膜に必要な量の硫酸アルミニウム又は硫酸ガ
リウムの水溶液を添加し、十分撹拌して、任意の
対応する酸化物ゲルを形成させ、これをマイクロ
フイルターを通過させて支持体上に均一に沈着さ
せる。
支持体は金属、無機物あるいは高分子物質のい
ずれでも使用可能であり、また多孔質であつて
も、後に化学的処理によつて多孔質となし得る緻
密質であつてもよい。好ましい支持体は酸化物ゲ
ルと親和性の高い安定な物質であつて、特に多孔
質ガラス、多孔質セラミツクスが好ましい。オイ
ルレスメタルと称される無給油軸受金属類も支持
体として使用可能である。
ずれでも使用可能であり、また多孔質であつて
も、後に化学的処理によつて多孔質となし得る緻
密質であつてもよい。好ましい支持体は酸化物ゲ
ルと親和性の高い安定な物質であつて、特に多孔
質ガラス、多孔質セラミツクスが好ましい。オイ
ルレスメタルと称される無給油軸受金属類も支持
体として使用可能である。
理想的な超薄膜の形成は陰極スパツタリング、
分子エピタキシー、真空蒸着のような技法によつ
て達成される。たとえば日本真空技術(株)製又は日
電アネルバ(株)製の底部に2個のルツボを有し、か
つ2つのシヤツターを備えた真空蒸着装置が好ま
しく使用できる。すなわちルツボに金属酸化物を
入れ、熔融させて目的の真空度に到達させ、熔融
ルツボと支持体の一表面との中間にシヤツターを
配置して該支持体の一表面上に2〜20Åの任意の
厚さに酸化物を交互に蒸着可能である。工程(b)以
降はB法は工程(c)の以降に準じて行なうことがで
きる。
分子エピタキシー、真空蒸着のような技法によつ
て達成される。たとえば日本真空技術(株)製又は日
電アネルバ(株)製の底部に2個のルツボを有し、か
つ2つのシヤツターを備えた真空蒸着装置が好ま
しく使用できる。すなわちルツボに金属酸化物を
入れ、熔融させて目的の真空度に到達させ、熔融
ルツボと支持体の一表面との中間にシヤツターを
配置して該支持体の一表面上に2〜20Åの任意の
厚さに酸化物を交互に蒸着可能である。工程(b)以
降はB法は工程(c)の以降に準じて行なうことがで
きる。
E法:
(a) アルミニウム又はガリウムの酸化物あるいは
ケイ素又はゲルマニウムの酸化物のいずれか一
方からなる多孔質の又は後に化学的処理によつ
て多孔質となし得る緻密質の支持体の一表面に
支持体を構成しない上記他方の酸化物の薄膜を
形成させ; (b) これをアルカリ金属、アルカリ土金属、アン
モニウム又はアルキル置換アンモニウムの水酸
化物の水溶液中に浸漬して上記薄膜の酸化物及
び薄膜に隣接する支持体の酸化物をゲル化さ
せ; (c) 形成されたゲルを30℃以上の水熱処理によつ
て結晶化させ; (d) 所要ならば、結晶化したゲル中のアルカリ金
属、アルカリ土金属、アンモニウム又はアルキ
ル置換アンモニウム含量をイオン交換処理によ
つり1%以下に低下させ; (e) 前記支持体が緻密質である場合にはこれを化
学的処理によつて多孔質化し;そして (f) 得られた複合体を洗浄しかつ乾燥する; ことからなる方法。
ケイ素又はゲルマニウムの酸化物のいずれか一
方からなる多孔質の又は後に化学的処理によつ
て多孔質となし得る緻密質の支持体の一表面に
支持体を構成しない上記他方の酸化物の薄膜を
形成させ; (b) これをアルカリ金属、アルカリ土金属、アン
モニウム又はアルキル置換アンモニウムの水酸
化物の水溶液中に浸漬して上記薄膜の酸化物及
び薄膜に隣接する支持体の酸化物をゲル化さ
せ; (c) 形成されたゲルを30℃以上の水熱処理によつ
て結晶化させ; (d) 所要ならば、結晶化したゲル中のアルカリ金
属、アルカリ土金属、アンモニウム又はアルキ
ル置換アンモニウム含量をイオン交換処理によ
つり1%以下に低下させ; (e) 前記支持体が緻密質である場合にはこれを化
学的処理によつて多孔質化し;そして (f) 得られた複合体を洗浄しかつ乾燥する; ことからなる方法。
以下本発明のE法について具体的に説明すれ
ば、本法は上記Dは特定の一変形であると考えら
れる。なわち酸化物の一方を支持体として使用
し、その一表面に他方の酸化物薄膜を形成させ、
この薄膜とそれに隣接する支持体酸化物とをゲル
化し、これらのゲルを水熱処理することにより所
望のかご型ゼオライト結晶を残部の支持体上に形
成させる方法である。
ば、本法は上記Dは特定の一変形であると考えら
れる。なわち酸化物の一方を支持体として使用
し、その一表面に他方の酸化物薄膜を形成させ、
この薄膜とそれに隣接する支持体酸化物とをゲル
化し、これらのゲルを水熱処理することにより所
望のかご型ゼオライト結晶を残部の支持体上に形
成させる方法である。
アルミニウム又はガリウムの酸化物を支持体と
する場合には、たとえば活性アルミナ、活性ボー
キサイド、多孔質酸化ガリウム等を使用すること
ができる。支持体としてアルミナと酸化ホウ素の
共熔混合物からなる緻密質支持体を用い、後に化
学的処理によつて多孔質化とすることもできる。
する場合には、たとえば活性アルミナ、活性ボー
キサイド、多孔質酸化ガリウム等を使用すること
ができる。支持体としてアルミナと酸化ホウ素の
共熔混合物からなる緻密質支持体を用い、後に化
学的処理によつて多孔質化とすることもできる。
支持体の一表面に、シリカ又は二酸化ゲルマニ
ウムの湿式造粒による直径約50Åの超微粒子を、
マイクロフイルターを経由して沈着させる。蒸
着、陰極スパツタリング、メツキなどによつて酸
化物からなる薄膜を形成することも可能である。
またケイ素又はゲルマニウムの他の誘導体を支持
体上の一表面に薄膜形成させて、その場(ni−
sute)で酸化させる方法もある。このような方法
に供されるケイ素又はゲルマニウムの他の誘導体
の例としては、四塩化ケイ素、シリコン・テトラ
アセテート、テトラエトキシシラン、二硫化ゲル
マニウム、四塩化ゲルマニウム四弗化ゲルマニウ
ムのようなものがある。
ウムの湿式造粒による直径約50Åの超微粒子を、
マイクロフイルターを経由して沈着させる。蒸
着、陰極スパツタリング、メツキなどによつて酸
化物からなる薄膜を形成することも可能である。
またケイ素又はゲルマニウムの他の誘導体を支持
体上の一表面に薄膜形成させて、その場(ni−
sute)で酸化させる方法もある。このような方法
に供されるケイ素又はゲルマニウムの他の誘導体
の例としては、四塩化ケイ素、シリコン・テトラ
アセテート、テトラエトキシシラン、二硫化ゲル
マニウム、四塩化ゲルマニウム四弗化ゲルマニウ
ムのようなものがある。
一方、バイコール・ガラスのようなシリカから
なる多孔質ガラス支持体あるいは二酸化ゲルマニ
ウムの多孔質支持体又は後に化学的処理によつて
シリカ又は二酸化ゲルマニウム多孔質体となし得
る緻密質支持体上にアルミナあるいは酸化ガリウ
ムの湿式造粒による直径約50Åの超微粒子をマイ
クロフイルターを用いて沈着させることによつて
薄膜を形成させることもできる。また、この場合
アルミナ又は酸化ガリウムの蒸着、陰極スパツタ
などによる薄膜表層を形成させることもできる。
なる多孔質ガラス支持体あるいは二酸化ゲルマニ
ウムの多孔質支持体又は後に化学的処理によつて
シリカ又は二酸化ゲルマニウム多孔質体となし得
る緻密質支持体上にアルミナあるいは酸化ガリウ
ムの湿式造粒による直径約50Åの超微粒子をマイ
クロフイルターを用いて沈着させることによつて
薄膜を形成させることもできる。また、この場合
アルミナ又は酸化ガリウムの蒸着、陰極スパツタ
などによる薄膜表層を形成させることもできる。
さらに、アルミニウム又はガリウムの他の誘導
体を支持体上に薄膜形成させて、その場で酸化さ
せる方法も採用できる。このような方法にはアル
ミニウム・トリアセテートの水溶液、塩基性アル
ミニウム・アセテート(モルデナイト・ルージ
ユ)の水溶液、アルミニウム・トリフオーメー
ト・3水和物の沸騰水溶液、塩基性アルミニウ
ム・フオーメート・1水和物の水溶液、塩化アル
ミニウムの水溶液、臭化アルミニウムの水溶液、
硝酸アルミニウム9水和物の水溶液、三塩化ガリ
ウムの水溶液、三臭化ガリウムの水溶液のような
溶液を支持体の一表面上に薄く均一に塗付してか
ら酸化処理し、ついで上述のごとくゲル化して結
晶化する方法もある。
体を支持体上に薄膜形成させて、その場で酸化さ
せる方法も採用できる。このような方法にはアル
ミニウム・トリアセテートの水溶液、塩基性アル
ミニウム・アセテート(モルデナイト・ルージ
ユ)の水溶液、アルミニウム・トリフオーメー
ト・3水和物の沸騰水溶液、塩基性アルミニウ
ム・フオーメート・1水和物の水溶液、塩化アル
ミニウムの水溶液、臭化アルミニウムの水溶液、
硝酸アルミニウム9水和物の水溶液、三塩化ガリ
ウムの水溶液、三臭化ガリウムの水溶液のような
溶液を支持体の一表面上に薄く均一に塗付してか
ら酸化処理し、ついで上述のごとくゲル化して結
晶化する方法もある。
上記A〜Eの方法に従つて本発明のかご型ゼオ
ライト薄膜表層を有する複合膜を製造する場合に
は、ゲル化に際してアルカリ金属、アルカリ土金
属、アンモニウム又はアルキル置換アンモニウム
の水酸化のいずれも使用可能でありまたこれらを
併用することも可能である。しかし、X線回折や
走査型電子顕微鏡の観察によつて高度に発達した
結晶相を得ようとするならば、水酸化ナトリウム
及び/又は水酸化カリウムのようなアルカリ金属
水酸化物を用いるか、また併用の場合にはこれら
を過剰に使用することが好ましい。なお、X線回
折や走査型電子顕微鏡の観察によつて十分な結晶
相の発達が認められなくとも、本発明の機能であ
る分子ふるい作用及び/又は触媒作用は達成可能
である。
ライト薄膜表層を有する複合膜を製造する場合に
は、ゲル化に際してアルカリ金属、アルカリ土金
属、アンモニウム又はアルキル置換アンモニウム
の水酸化のいずれも使用可能でありまたこれらを
併用することも可能である。しかし、X線回折や
走査型電子顕微鏡の観察によつて高度に発達した
結晶相を得ようとするならば、水酸化ナトリウム
及び/又は水酸化カリウムのようなアルカリ金属
水酸化物を用いるか、また併用の場合にはこれら
を過剰に使用することが好ましい。なお、X線回
折や走査型電子顕微鏡の観察によつて十分な結晶
相の発達が認められなくとも、本発明の機能であ
る分子ふるい作用及び/又は触媒作用は達成可能
である。
かく形成されたアルカリ金属カチオンかご型ゼ
オライト薄膜は上述のごとく所要に応じてイオン
交換処理により多価イオンや希土類金属、遷移金
属を担持させることができる。この場合、ケイ素
又はゲルマニウム原子がアルミニウム又はガリウ
ム原子に対して十分過剰である構造のかご型ゼオ
ライト薄膜は堅固であるのでイオン交換などの化
学処理に対して耐性があまり問題はない。しかし
アルミニウム又はガリウム原子が比較的豊富なか
ご型ゼオライト薄膜を有する複合膜はイオン交換
などの化学処理に対して必ずしも安定ではない。
したがつてこのような構造にあつては、できるだ
けイオン交換などの化学的処理を避ける目的で、
はじめから水酸化物としてアルカリ土金属、アン
モニウム又はアルキル置換アンモニウムの水酸化
物を用いるか、あるいはこれらをアルカリ金属の
水酸化物と併用することが好ましい。またN−A
型、ZK−5型及びZSM−5型ゼオライト薄膜を
有する複合膜にあつては、交換不可能な低級アル
キル及び高級アルキルアンモニウムイオンを有し
ており、このようなゼオライト膜を製造するため
には、はじめのゲル化工程中に低級アルキル又は
高級アルキルアンモニウムイオンを導入しなけれ
ばならない。
オライト薄膜は上述のごとく所要に応じてイオン
交換処理により多価イオンや希土類金属、遷移金
属を担持させることができる。この場合、ケイ素
又はゲルマニウム原子がアルミニウム又はガリウ
ム原子に対して十分過剰である構造のかご型ゼオ
ライト薄膜は堅固であるのでイオン交換などの化
学処理に対して耐性があまり問題はない。しかし
アルミニウム又はガリウム原子が比較的豊富なか
ご型ゼオライト薄膜を有する複合膜はイオン交換
などの化学処理に対して必ずしも安定ではない。
したがつてこのような構造にあつては、できるだ
けイオン交換などの化学的処理を避ける目的で、
はじめから水酸化物としてアルカリ土金属、アン
モニウム又はアルキル置換アンモニウムの水酸化
物を用いるか、あるいはこれらをアルカリ金属の
水酸化物と併用することが好ましい。またN−A
型、ZK−5型及びZSM−5型ゼオライト薄膜を
有する複合膜にあつては、交換不可能な低級アル
キル及び高級アルキルアンモニウムイオンを有し
ており、このようなゼオライト膜を製造するため
には、はじめのゲル化工程中に低級アルキル又は
高級アルキルアンモニウムイオンを導入しなけれ
ばならない。
以下に本発明の複合膜の製造法及びそれらの分
子ふるい作用及び/又は触媒作用の達成を目的と
した使用例を実施例によつて説明するが、勿論本
発明はこれらの実施例によつて限定されるもので
はない。
子ふるい作用及び/又は触媒作用の達成を目的と
した使用例を実施例によつて説明するが、勿論本
発明はこれらの実施例によつて限定されるもので
はない。
実施例 1
(A法)
Na2O/SiO2=0.5、SiO2/Al2O3=4及び
H2O/NaO=246の組成を与えるような割合で、
アルミン酸ナトリウム(NaAlO287%)を水に溶
解し、これにシリカゾル(SiO2、30%)を加え
る。ゲルを生成させてから均一になるよう室温で
30分間撹拌を続け、ついで水酸化ナトリウム水溶
液をPH=10になるように加えて上記の組成のゲル
を得る。
H2O/NaO=246の組成を与えるような割合で、
アルミン酸ナトリウム(NaAlO287%)を水に溶
解し、これにシリカゾル(SiO2、30%)を加え
る。ゲルを生成させてから均一になるよう室温で
30分間撹拌を続け、ついで水酸化ナトリウム水溶
液をPH=10になるように加えて上記の組成のゲル
を得る。
市販の直径0.5cm厚み2.0mmの平膜逆浸透圧実験
装置用の平膜支持対であるステンレス焼結体の片
面を熔融ワツクスでコートする。このワツクス・
コート面を下にしてビーカの底に置き水酸化ナト
リウム水溶液(PH=10)に浸漬させる。この液面
に0.2ミクロンのマイクロフイルターを接して置
き、上記ゲル液を静かに流下させる。1時間後
后、支持体を静かに取り出し密封パイレツクス中
で約5時間、110℃で水熱処理する。その后熱水
で良く洗浄し風乾する。形成されたゼオライト薄
膜の厚みはX線回折及び電子顕微鏡の観察から約
100Åであることが確認され、その構造はX線フ
ーリエ解析によつてA型であることが確認され
た。又NaA型の8員酸素環の孔径は約4Åで空
洞内径は約11Åのかご型ゼオライト薄膜であつ
た。
装置用の平膜支持対であるステンレス焼結体の片
面を熔融ワツクスでコートする。このワツクス・
コート面を下にしてビーカの底に置き水酸化ナト
リウム水溶液(PH=10)に浸漬させる。この液面
に0.2ミクロンのマイクロフイルターを接して置
き、上記ゲル液を静かに流下させる。1時間後
后、支持体を静かに取り出し密封パイレツクス中
で約5時間、110℃で水熱処理する。その后熱水
で良く洗浄し風乾する。形成されたゼオライト薄
膜の厚みはX線回折及び電子顕微鏡の観察から約
100Åであることが確認され、その構造はX線フ
ーリエ解析によつてA型であることが確認され
た。又NaA型の8員酸素環の孔径は約4Åで空
洞内径は約11Åのかご型ゼオライト薄膜であつ
た。
このNaA型かご型ゼオライト薄膜表層の分子
ふるい効果を確認するために次の実験を行つた。
ULVAC製平膜逆浸透圧実験装置を用いた。常温
で供給側15気圧、分離側常圧の条件で、フリツプ
ス・ペトロリアム社製標準炭化水素、メタン、エ
タン及びプロパンをそれぞれ33.3モル%になるよ
う混合して供給側に入れた。分離側にはメタン
73.5モル%、エタン26.0モル%、プロパン0.5モル
%の存在が、ガスクロマトグラフ分析によつて確
かめられた。これは従来未知の炭化水素分離膜で
あり実用に供しうるものである。
ふるい効果を確認するために次の実験を行つた。
ULVAC製平膜逆浸透圧実験装置を用いた。常温
で供給側15気圧、分離側常圧の条件で、フリツプ
ス・ペトロリアム社製標準炭化水素、メタン、エ
タン及びプロパンをそれぞれ33.3モル%になるよ
う混合して供給側に入れた。分離側にはメタン
73.5モル%、エタン26.0モル%、プロパン0.5モル
%の存在が、ガスクロマトグラフ分析によつて確
かめられた。これは従来未知の炭化水素分離膜で
あり実用に供しうるものである。
実施例 2
実施例1で得られた複合膜のNaA型ゼオライ
ト表層を常法により0.5%以下を目標にCa2+イオ
ンで交換した。X線フーリエ解析で孔径約5Åに
拡大していることが確認された。
ト表層を常法により0.5%以下を目標にCa2+イオ
ンで交換した。X線フーリエ解析で孔径約5Åに
拡大していることが確認された。
こゝで得られた複合膜の分子ふるい効果を確認
するために以下の実験を行つた。フイリツプス・
ペトロリアム社製の標準炭化水素、n−ヘプタン
とメチルシクロヘキサンを準備した。ULVAC社
製平膜逆浸透圧実験装置の分離側にガスクロマト
グラフ装置を直結した。n−ヘプタン12.3重量%
とメチルシクロヘキサン87.5重量%の混合物を供
給側16気圧で加圧した。室温で分離側に純度98.5
重量%のn−ヘプタンが得られた。
するために以下の実験を行つた。フイリツプス・
ペトロリアム社製の標準炭化水素、n−ヘプタン
とメチルシクロヘキサンを準備した。ULVAC社
製平膜逆浸透圧実験装置の分離側にガスクロマト
グラフ装置を直結した。n−ヘプタン12.3重量%
とメチルシクロヘキサン87.5重量%の混合物を供
給側16気圧で加圧した。室温で分離側に純度98.5
重量%のn−ヘプタンが得られた。
実施例 3
実施例1で得られたNaA型かご型ゼオライト
薄膜表層を有する複合膜を次の反応によつてHA
型に変換させた。
薄膜表層を有する複合膜を次の反応によつてHA
型に変換させた。
実施例1と同様の直径5.0cm支持体上のNaA型
かご型ゼオライト薄膜を硫酸アンモニウム100g
を水500gに溶解した水溶液中で100℃で15分間撹
拌しながら処理した。溶出した固体を濾別除去
し、再び40gの硫酸アンモニウムを水500gに溶
解した水溶液で処理した。ついでかご型ゼオライ
ト表層中の硫酸イオンが消失するまで水洗した。
かご型ゼオライト薄膜を硫酸アンモニウム100g
を水500gに溶解した水溶液中で100℃で15分間撹
拌しながら処理した。溶出した固体を濾別除去
し、再び40gの硫酸アンモニウムを水500gに溶
解した水溶液で処理した。ついでかご型ゼオライ
ト表層中の硫酸イオンが消失するまで水洗した。
水洗后540℃で3時間処理し、さらに硫酸アン
モニウム25gを水500gに溶解した水溶液で撹拌
しながら処理し、固体を濾別後、硫酸イオンが消
失するまで水洗した。25gの硫酸アンモニウムを
水500gに溶解した水溶液と水洗の組合せ処理を
引き続いて2回行つた。十分に水洗してから815
℃で3時間加熱処理した。Na+カチオンが完全に
除去された超安定HA型ゼオライト表層を有する
複合膜が得られた。この複合膜の分子ふるい効果
と触媒効果を確認するために次の実験を行つた。
市販ULVAC製平膜逆浸透圧実験装置を改造して
平膜上の温度が最高1000℃にまで昇温可能な構造
とした。フイリツプス・ペトロリアム社製標準炭
化水素であるクメンを原料として準備した。分離
側をガスクロマトグラフイー装置に直結し、膜面
の温度を450℃、クメン圧を18気圧として運転し
た。450℃に到達して5分后、ガスクロマトグラ
フイーはプロピレンの発生を確認した。
モニウム25gを水500gに溶解した水溶液で撹拌
しながら処理し、固体を濾別後、硫酸イオンが消
失するまで水洗した。25gの硫酸アンモニウムを
水500gに溶解した水溶液と水洗の組合せ処理を
引き続いて2回行つた。十分に水洗してから815
℃で3時間加熱処理した。Na+カチオンが完全に
除去された超安定HA型ゼオライト表層を有する
複合膜が得られた。この複合膜の分子ふるい効果
と触媒効果を確認するために次の実験を行つた。
市販ULVAC製平膜逆浸透圧実験装置を改造して
平膜上の温度が最高1000℃にまで昇温可能な構造
とした。フイリツプス・ペトロリアム社製標準炭
化水素であるクメンを原料として準備した。分離
側をガスクロマトグラフイー装置に直結し、膜面
の温度を450℃、クメン圧を18気圧として運転し
た。450℃に到達して5分后、ガスクロマトグラ
フイーはプロピレンの発生を確認した。
実施例 4
(A法)
Na2O/SiO2=0.8、SiO2/Al2O3=18及び
H2O/Na2O=50の組成を与えるような割合で、
アルミン酸ナトリウム(NaAlO287%)を水に溶
解し、これにケイ酸ナトリウム(市販合成洗剤用
のもの)を加える。以下実施例1に従いゲル化、
成膜、水熱処理、水洗及び風乾する。形成された
ゼオライト薄膜の厚みはX線回析及び走査型電子
顕微鏡の観察から約70Åであることが認められ、
その構造はX線フーリエ解析によつて孔径約10Å
のNaY型であることが確認された。
H2O/Na2O=50の組成を与えるような割合で、
アルミン酸ナトリウム(NaAlO287%)を水に溶
解し、これにケイ酸ナトリウム(市販合成洗剤用
のもの)を加える。以下実施例1に従いゲル化、
成膜、水熱処理、水洗及び風乾する。形成された
ゼオライト薄膜の厚みはX線回析及び走査型電子
顕微鏡の観察から約70Åであることが認められ、
その構造はX線フーリエ解析によつて孔径約10Å
のNaY型であることが確認された。
実施例 5
市販ダビソンY型ゼオライトからREY型を合
成する常法により。上記NaY型かご型ゼオライ
ト薄膜を希土類元素混合(ランタン36%、セシウ
ム28%、ニオブ25%その他11%)REY型に変換
した。
成する常法により。上記NaY型かご型ゼオライ
ト薄膜を希土類元素混合(ランタン36%、セシウ
ム28%、ニオブ25%その他11%)REY型に変換
した。
このREY型かご型ゼオライトを有する複合膜
の分子ふるい効果と触媒効果を確認するたに次の
実験を行つた。実施例3で改造された装置を用
い、フイリツプス・ペトロリアム社製標準炭化水
素、n−ヘキサンを原料とした。n−ヘキサンを
15気圧で供給し、平膜面が450℃に昇温されるの
を待つた。450℃に到達した時点で圧を17気圧に
上昇させた。その瞬間、分離側のガスクロマトグ
ラフイーは68.3重量%のエチレン31.8重量%のプ
ロピレンの存在を確認した。
の分子ふるい効果と触媒効果を確認するたに次の
実験を行つた。実施例3で改造された装置を用
い、フイリツプス・ペトロリアム社製標準炭化水
素、n−ヘキサンを原料とした。n−ヘキサンを
15気圧で供給し、平膜面が450℃に昇温されるの
を待つた。450℃に到達した時点で圧を17気圧に
上昇させた。その瞬間、分離側のガスクロマトグ
ラフイーは68.3重量%のエチレン31.8重量%のプ
ロピレンの存在を確認した。
実施例 6
実施例4によつて得られた複合膜の表層をイオ
ン交換して得たCaY型かご型ゼオライト表層を
有する複合膜を常法に従いPd(NH3)4 2+でイオン
交換させた。乾燥后、500℃で焼成し、300℃で水
素還元した。かご型ゼオライト表層内には0.5重
量%の遷移金属パラジウムが担体されていた。
ン交換して得たCaY型かご型ゼオライト表層を
有する複合膜を常法に従いPd(NH3)4 2+でイオン
交換させた。乾燥后、500℃で焼成し、300℃で水
素還元した。かご型ゼオライト表層内には0.5重
量%の遷移金属パラジウムが担体されていた。
こゝに得られたPd担体Y型ゼオライト薄膜を
有する複合膜の分子ふるい効果と触媒効果を確認
するための実施例5と同じ装置、同じ試薬を用い
た。すなわちフイリツプス・ペトロリアム社製標
準炭化水素、n−ヘキサンを15気圧で供給し、平
膜面が450℃に昇温されるのを待つた。450℃に到
達した時点で17気圧に昇圧した瞬間、分離側のガ
スクロマトグラフイーはエチレンとプロピレンを
検出した。しかし希土類金属よりも遷移金属の方
がより低温で反応するであろうとの推定から反応
温度を下げる実験を追加した。
有する複合膜の分子ふるい効果と触媒効果を確認
するための実施例5と同じ装置、同じ試薬を用い
た。すなわちフイリツプス・ペトロリアム社製標
準炭化水素、n−ヘキサンを15気圧で供給し、平
膜面が450℃に昇温されるのを待つた。450℃に到
達した時点で17気圧に昇圧した瞬間、分離側のガ
スクロマトグラフイーはエチレンとプロピレンを
検出した。しかし希土類金属よりも遷移金属の方
がより低温で反応するであろうとの推定から反応
温度を下げる実験を追加した。
その結果最低251℃まで接触分解反応が認めら
れた。
れた。
実施例 7
(B表)
アルミン酸ソーダ、ケイ酸ソーダ、青化ソー
ダ、水酸化ナトリウム及び水からなる合金メツキ
浴で、温度20℃、電流密度0.5A/dm2、電圧2V
で陽極にアルミニウムを用いた。
ダ、水酸化ナトリウム及び水からなる合金メツキ
浴で、温度20℃、電流密度0.5A/dm2、電圧2V
で陽極にアルミニウムを用いた。
直径5.0cm厚み2.0mmのニツケル製多孔質支持板
の片面上、直径4.0cmの部分を熔融ワツクスでコ
ートし、エポキシ樹脂含浸ガラスマツト(直径
5.0cm)をワツク・コートの上にのせて別量のエ
ポキシ樹脂でコートして硬化させた。この多孔質
支持体の一表面を上記メツキ浴を用いて引続いて
Al−Siメツキ部分を常法により電解酸化した。
エポキシ・カート部分を除去した後、酸化表層を
上に向けて水酸化ナトリウムの水溶液(PH=10)
の入つたビーカー中に浸漬した。溶液を十分撹拌
しながら30℃で8時間、ついで40℃で12時間処理
してゲル化させた。続いて密封パイレツクス中で
110℃、100時間水熱処理を行つた。熱水洗浄と風
乾を2回繰り返し後、厚さ約30Å(X線光電子分
光法により測定)孔径約8ÅのNaX型かご型ゼ
オライト構造(X線フーリエ解析により確認)か
らなる薄膜を有する複合膜を得た。この複合膜の
分子ふるい硬化を確認する実験をCaX型にイオ
ン交換したもので行ない、ガソリン留分からノル
マルパラフインを選択的に分離した。
の片面上、直径4.0cmの部分を熔融ワツクスでコ
ートし、エポキシ樹脂含浸ガラスマツト(直径
5.0cm)をワツク・コートの上にのせて別量のエ
ポキシ樹脂でコートして硬化させた。この多孔質
支持体の一表面を上記メツキ浴を用いて引続いて
Al−Siメツキ部分を常法により電解酸化した。
エポキシ・カート部分を除去した後、酸化表層を
上に向けて水酸化ナトリウムの水溶液(PH=10)
の入つたビーカー中に浸漬した。溶液を十分撹拌
しながら30℃で8時間、ついで40℃で12時間処理
してゲル化させた。続いて密封パイレツクス中で
110℃、100時間水熱処理を行つた。熱水洗浄と風
乾を2回繰り返し後、厚さ約30Å(X線光電子分
光法により測定)孔径約8ÅのNaX型かご型ゼ
オライト構造(X線フーリエ解析により確認)か
らなる薄膜を有する複合膜を得た。この複合膜の
分子ふるい硬化を確認する実験をCaX型にイオ
ン交換したもので行ない、ガソリン留分からノル
マルパラフインを選択的に分離した。
又、アルミン酸ソーダをガリウム酸ソーダに、
ケイ酸ソーダをゲルマニウム酸ソーダに置換する
実験を上記と同様の方法を用いて行なつた結果、
いずれも対応するかご型ゼオライト表層を有する
複合膜が得られることが確認さた。
ケイ酸ソーダをゲルマニウム酸ソーダに置換する
実験を上記と同様の方法を用いて行なつた結果、
いずれも対応するかご型ゼオライト表層を有する
複合膜が得られることが確認さた。
実施例 8
(D法)
珪酸ナトリウム溶液を炭酸ガスでゲル化し、こ
れに硫酸アルミニウム溶液を添加混合し、濾過、
洗浄、乾燥してシリカ・アルミナを得た。
れに硫酸アルミニウム溶液を添加混合し、濾過、
洗浄、乾燥してシリカ・アルミナを得た。
ニツケル、アルミニウムからなる合金緻密質支
持体(直径5.0cm、厚み2.0mm)の片面にエポキシ
樹脂を塗付硬化させた。真空度0.0002mmHgに15
分で到達させ、約10秒、上記のシリカ・アルミナ
を緻密質支持体の一表面に厚み20Åで真空蒸着さ
せた。
持体(直径5.0cm、厚み2.0mm)の片面にエポキシ
樹脂を塗付硬化させた。真空度0.0002mmHgに15
分で到達させ、約10秒、上記のシリカ・アルミナ
を緻密質支持体の一表面に厚み20Åで真空蒸着さ
せた。
水酸化ナトリウム(固型)約20gを水680gに
溶解させてビーカーに入れた。この中に、上記で
得られた真空蒸着緻密体をエポキシ面を下にして
30℃で浸漬し、良く撹拌した。温度を40℃で上昇
させて約18時間撹拌を続けた。熱水で3回洗浄し
てから100℃で約18時間水熱処理した。エポキシ
層を除去後、強アルカリ(45%NaOH)水溶液
処理によつて緻密質支持体からアルミニウムを除
去して多孔質支持体に変換させた。X線フーリエ
解析によつて表層はNaY型かご型ゼオライトで
あることが確認され、その厚みは高性能角度分解
X線光学分光装置で測定して約20Åであつた。
溶解させてビーカーに入れた。この中に、上記で
得られた真空蒸着緻密体をエポキシ面を下にして
30℃で浸漬し、良く撹拌した。温度を40℃で上昇
させて約18時間撹拌を続けた。熱水で3回洗浄し
てから100℃で約18時間水熱処理した。エポキシ
層を除去後、強アルカリ(45%NaOH)水溶液
処理によつて緻密質支持体からアルミニウムを除
去して多孔質支持体に変換させた。X線フーリエ
解析によつて表層はNaY型かご型ゼオライトで
あることが確認され、その厚みは高性能角度分解
X線光学分光装置で測定して約20Åであつた。
得られた複合膜のNaY型表層を常法に従つて
イオン交換処理してCaY型に変換し、さらにパ
ラジウム担体型に変換した。
イオン交換処理してCaY型に変換し、さらにパ
ラジウム担体型に変換した。
得られた複合膜の分子ふるい効果と触媒効果を
確認するために実施例6と同じ実験を行つた。最
低温度248℃まで触媒作用が認められ、実質的に
実施例6と同等の結果が得られた。
確認するために実施例6と同じ実験を行つた。最
低温度248℃まで触媒作用が認められ、実質的に
実施例6と同等の結果が得られた。
さらに上記のごとく緻密質支持体から後に形成
した多孔質支持体それ自体に触媒作用が期待され
たので以下の実験を行つた。
した多孔質支持体それ自体に触媒作用が期待され
たので以下の実験を行つた。
フイリツプス・ペトロリアム社製標準炭化水素
であるn−ヘプタン及びメチルシクロヘキサンと
水素とをn−ヘキサン23.3モル%、メチルシクロ
ヘキサン48.2モル%、水素28.5モル%の割合で混
合した混合物を実施例3で改造した装置に平膜面
270℃、16気圧の条件で供給した。分離側のガス
クロマトグラフイーはエタンとプロパンを検出し
た。
であるn−ヘプタン及びメチルシクロヘキサンと
水素とをn−ヘキサン23.3モル%、メチルシクロ
ヘキサン48.2モル%、水素28.5モル%の割合で混
合した混合物を実施例3で改造した装置に平膜面
270℃、16気圧の条件で供給した。分離側のガス
クロマトグラフイーはエタンとプロパンを検出し
た。
これは分子ふるい作用によつてn−ヘプタンが
選択分離され(通過し)、パラジウムによつて接
触分解(触媒作用)されてエチレンとプロピレン
に転化され、さらに支持体によつて水添作用(触
媒作用)を受けたことを証明している。
選択分離され(通過し)、パラジウムによつて接
触分解(触媒作用)されてエチレンとプロピレン
に転化され、さらに支持体によつて水添作用(触
媒作用)を受けたことを証明している。
実施例 9
(E法)
バイコール・ガラス(多孔質支持体)の一表面
に薄く均一に塗付する目的で塩基性アルミニウ
ム・アセテート(モルデナント赤液)の酢酸水溶
液を塗付した。これを電気炉中で除々に昇温して
約500℃で不溶化させて酸化アルミニウム表層を
得た。これを等モルの水酸化ナトリウムと水酸化
カリウムの水溶液(PH=10)中に40℃で18時間浸
漬して酸化アルミニウム表層及びそれに隣接する
支持体の表面層をゲル化させた。
に薄く均一に塗付する目的で塩基性アルミニウ
ム・アセテート(モルデナント赤液)の酢酸水溶
液を塗付した。これを電気炉中で除々に昇温して
約500℃で不溶化させて酸化アルミニウム表層を
得た。これを等モルの水酸化ナトリウムと水酸化
カリウムの水溶液(PH=10)中に40℃で18時間浸
漬して酸化アルミニウム表層及びそれに隣接する
支持体の表面層をゲル化させた。
ついでテフロン・コーテイングのオートグレー
ブ中で100℃で4日間水熱処理を行つた。
ブ中で100℃で4日間水熱処理を行つた。
X線回折及び走査型電子顕微鏡の観察によつて
ソーダライト結晶特有のかご型ゼオライト構造が
厚さ約20Åで均一に支持体上に形成されているこ
とが確認された。NaA型薄膜の約2/3をCaA型に
イオン交換してから治具を用いて実施例1で用い
た逆浸透圧実験装置に用いられるように加工し
た。ついで円周部をシリコン接着剤処理を行つて
装置内に密封した。
ソーダライト結晶特有のかご型ゼオライト構造が
厚さ約20Åで均一に支持体上に形成されているこ
とが確認された。NaA型薄膜の約2/3をCaA型に
イオン交換してから治具を用いて実施例1で用い
た逆浸透圧実験装置に用いられるように加工し
た。ついで円周部をシリコン接着剤処理を行つて
装置内に密封した。
この装置にミナス原油から得られた工業用灯油
を常温、17気圧で供給した。分離側のガス・クロ
マトグラフイーによつて以下の分析データが得ら
れた。
を常温、17気圧で供給した。分離側のガス・クロ
マトグラフイーによつて以下の分析データが得ら
れた。
C10ノルマル・パラフイン 6.3重量%
C11ノルマル・パラフイン 19.8重量%
C12ノルマル・パラフイン 30.2重量%
C13ノルマル・パラフイン 24.7重量%
C14ノルマル・パラフイン 13.7重量%
C15ノルマル・パラフイン 3.5重量%
実施例 10
(E法)
活性アルミナからなる多孔質支持体(直径50.0
mm、厚さ2.0mm)の一表面を十分研磨して均質な
表面とした。この一表面に4塩化ケイ素を薄く均
一に塗付してから、湿気を付与してシリカ薄膜に
変換させた。その後実施例9の方法に従いアルカ
リ金属水酸化物によるゲル化、水熱処理、水洗及
び風乾を行つた。
mm、厚さ2.0mm)の一表面を十分研磨して均質な
表面とした。この一表面に4塩化ケイ素を薄く均
一に塗付してから、湿気を付与してシリカ薄膜に
変換させた。その後実施例9の方法に従いアルカ
リ金属水酸化物によるゲル化、水熱処理、水洗及
び風乾を行つた。
高性能角度分解X線光電子分光装置によつて均
一なNaA型ゼオライト構造が厚さ約20Åで均一
に支持体上に形成されていることが確認された。
一なNaA型ゼオライト構造が厚さ約20Åで均一
に支持体上に形成されていることが確認された。
NaA型薄膜部の約2/3をイオン交換によつて
CaA型とし、実施例9に従つて加工及び密封を
行つた。逆浸透圧実験を実施例9と同様に行つた
結果、分離側のガスクロマトグラフイーのデータ
は以下のごとくであつた。
CaA型とし、実施例9に従つて加工及び密封を
行つた。逆浸透圧実験を実施例9と同様に行つた
結果、分離側のガスクロマトグラフイーのデータ
は以下のごとくであつた。
炭素数10のノルマル・パラフイン 6.5重量%
炭素数11のノルマル・パラフイン 19.7重量%
炭素数12のノルマル・パラフイン 30.5重量%
炭素数13のノルマル・パラフイン 25.2重量%
炭素数14のノルマル・パラフイン 13.3重量%
炭素数15のノルマル・パラフイン 3.1重量%
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 アルミニウム原子又はガリウム原子、ケイ素
原子又はゲルマニウム原子及び酸素原子を構成員
とする6員、8員、10員又は12員酸素環からなる
かご型ゼオライトの1μm未満の厚みの薄膜を金
属、無機物又は高分子物質の多孔質支持体の一表
面に接着剤を用いず合体してなる分子ふるい作用
及び/又は触媒作用を有する複合膜。 2 アルミニウム、ガリウム、ケイ素又はゲルマ
ニウム原子の一部をリン、ヒ素又はベリリウム原
子で置換した特許請求の範囲第1項記載の複合
膜。 3 かご型ゼオライトがアルカリ金属、アルカリ
土金属、アンモニウム又はアルキル置換アンモニ
ウム型である特許請求の範囲第1項記載の複合
膜。 4 かご型ゼオライトがH型である特許請求の範
囲第1項記載の複合膜。 5 かご型ゼオライトが希土類金属型である特許
請求の範囲第1項記載の複合膜。 6 かご型ゼオライトが遷移金属型である特許請
求の範囲第1項記載の複合膜。 7 (a) アルカリ金属塩、アルカリ土金属塩、ア
ンモニムウ塩又はアルキル置換アンモニウム塩
の形であるアルミン酸塩又はガリウム塩とケイ
酸塩又はゲルマニウム酸塩とをアルカリ金属、
アルカリ土金属、アンモニウム又はアルキル置
換アンモニウムの水酸化物の水溶液に添加混合
してゲルを生成させ: (b) 生成したゲルを金属、無機物又は高分子物質
の多孔質支持体又は後に化学的処理によつて多
孔質となし得る緻密質支持体の一表面上に沈着
させてゲル表層を形成させ: (c) 該ゲル表層を30℃以上の温度に加熱してゲル
を結晶化させ: (d) 所望ならば、結晶化したゲル中のアルカリ金
属、アルカリ土金属、アンモニウム又はアルキ
ル置換アンモニウム含量をイオン交換処理によ
り1%以下に低下させ: (e) 前記支持体が緻密質である場合にはこれを化
学的処理によつて多孔質化し:そして (f) 得られた複合体を洗浄しかつ乾燥する: ことからなるアルミニウム原子又はガリウム原
子、ケイ素原子又はゲルマニウム原子及び酸素原
子を構成員とする6員、8員、10員又は12員酸素
環からなるかご型ゼオライトの1μm未満の厚み
の薄膜を金属、無機物又は高分子物質の多孔質支
持体の一表面に接着剤を用いず合体してなる分子
ふるい作用及び/又は触媒作用を有する複合膜の
製造法。 8 (a) 金属、無機物又は高分子物質の多孔質支
持体又は後に化学的処理によつて多孔質となし
得る緻密質支持体の一表面にアルミニウム又は
ガリウム、ケイ素又はゲルマニウムからなる合
金の薄膜を形成させ: (b) 該合金薄膜を酸化処理し: (c) 酸化された薄膜を、アルカリ金属、アルカリ
土金属、アンモニウム又はアルキル置換アンモ
ニウムの水酸化物の水溶液中に浸漬してゲルを
形成させ: (d) 形成されたゲルを30℃以上の水熱処理によつ
て結晶化させ: (e) 所望ならば、結晶化したゲル中のアルカリ金
属、アルカリ土金属又はアンモニウム又はアル
キル置換アンモニウム含量をイオン交換処理に
よつて1%以下に低下させ: (f) 前記支持体が緻密質である場合には、これを
化学的処理によつて多孔質化し:そして (g) 得られた複合体を洗浄しかつ乾燥する: ことからなるアルミニウム原子又はガリウム原
子、ケイ素又はゲルマニウム原子及び酸素原子を
構成員とする6員、8員、10員又は12員酸素環か
らなるかご型ゼオライトの1μm未満の厚みの薄
膜を金属、無機物又は高分子物質の多孔質支持体
の一表面に接着剤を用いず合体してなる分子ふる
い作用及び/又は触媒作用を有する複合膜の製造
法。 9 (a) アルミニウム又はガリウムの塩とケイ素
又はゲルマニウムの塩との混合物を酸化・還元
反応(銀鏡反応)により多孔質金属支持体又は
後に化学的処理によつて多孔質となし得る緻密
質金属支持体の一表面上に化学メツキし: (b) 得られたメツキ薄膜を酸化処理し: (c) 酸化された薄膜をアルカリ金属、アルカリ土
金属、アンモニウム又はアルキル置換アンモニ
ウム水酸化物の水溶液中に浸漬してゲルを形成
させ: (d) 形成されたゲルを30℃以上の水熱処理によつ
て結晶化させ: (e) 所望ならば、結晶化したゲル中のアルカリ金
属、アルカリ土金属、アンモニウム又はアルキ
ル置換アンモニウム含量をイオン交換処理によ
つて1%以下に低下させ: (f) 前記支持体が緻密質である場合には、これを
化学的処理によつて多孔質化し:そして (g) 得られた複合体を洗浄しかつ乾燥する: ことからなるアンモニウム原子又はガリウム原
子、ケイ素又はゲルマニウム原子及び酸素原子を
構成員とする6員、8員、10員又は12員酸素環か
らなるかご型ゼオライトの1μm未満の厚みの薄
膜を多孔質支持体の一表面に接着剤を用いず合体
してなる分子ふるい作用及び/又は触媒作用を有
する複合膜の製造法。 10 (a) 金属、無機物又は高分子物質の多孔質
支持体又は後に化学的処理によつて多孔質とな
し得る緻密質支持体の一表面にアルミニウム又
はガリウムとケイ素又はゲルマニウムとからな
る金属酸化物の薄膜を形成させ: (b) 該金属酸化物薄膜の薄膜を、アルカリ金属、
アルカリ土金属、アンモニウム又はアルカリ置
換アンモニウム水酸化物の水溶液中に浸漬して
ゲルを形成させ: (c) 形成されたゲルを30℃以上の水熱処理によつ
て結晶化させ: (d) 所望ならば、結晶化したゲル中のアルカリ金
属、アルカリ土金属、アンモニウム又はアルカ
リ置換アンモニウム含量をイオン交換によつて
1%以下に低下させ: (e) 前記支持体が緻密質である場合にはこれを化
学的処理によつて多孔質化し:そして (f) 得られた複合体を清浄しかつ乾燥する: ことからなるアルミニウム原子又はガリウム原
子、ケイ素原子又はゲルマニウム原子及び酸素原
子を構成員とする6員、8員、10員又は12員酸素
環からなるかご型ゼオライトの1μm未満の厚み
の薄膜を多孔質支持体の一表面に接着剤を用いず
合体してなる分子ふるい作用及び/又は触媒作用
を有する複合膜の製造法。 11 (a) アルミニウム又はガリウムの酸化物あ
るいはケイ素又はゲルマニウムの酸化物のいず
れか一方からなる多孔質の又は後に化学的処理
によつて多孔質となし得る緻密質の支持体の一
表面に支持体を構成しない上記他方の酸化物の
薄膜を:形成させ: (b) これをアルカリ金属、アルカリ土金属、アン
モニウム又はアルキル置換アンモニウム水酸化
物の水溶液中に浸漬して上記薄膜をゲル化さ
せ: (c) 形成されたゲルを30℃以上の水熱処理によつ
て結晶化させ: (d) 所望ならば、結晶化したゲル中のアルカリ金
属、アルカリ土金属、アンモニウム又はアルキ
ル置換アンモニウム含量をイオン交換処理によ
つて1%以下に低下させ: (e) 前記支持体が緻密質である場合にはこれを化
学的処理によつて多孔質化し:そして (f) 得られた複合体を洗浄しかつ乾燥する: ことからなるアルミニウム原子又はガリウム原
子、ケイ素原子又はゲルマニウム原子及び酸素原
子を構成員とする6員、8員、10員又は12員酸素
環からなるかご型ゼオライトの1μm未満の厚み
の薄膜を前記一方の酸化物からなる多孔質支持体
の一表面に接着剤を用いず合体してなる分子ふる
い作用及び/又は触媒作用を有する複合膜の製造
法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58135155A JPS6028826A (ja) | 1983-07-26 | 1983-07-26 | かご型ゼオライト薄膜表層を有する複合膜及びその製造法 |
EP84108871A EP0135069A3 (en) | 1983-07-26 | 1984-07-26 | Composite membrane having a surface layer of an ultrathin film of cage-shaped zeolite and processes for production thereof |
US06/823,105 US4699892A (en) | 1983-07-26 | 1986-01-27 | Composite membrane having a surface layer of an ultrathin film of cage-shaped zeolite and processes for production thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP58135155A JPS6028826A (ja) | 1983-07-26 | 1983-07-26 | かご型ゼオライト薄膜表層を有する複合膜及びその製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS6028826A JPS6028826A (ja) | 1985-02-14 |
JPH0563410B2 true JPH0563410B2 (ja) | 1993-09-10 |
Family
ID=15145097
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP58135155A Granted JPS6028826A (ja) | 1983-07-26 | 1983-07-26 | かご型ゼオライト薄膜表層を有する複合膜及びその製造法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4699892A (ja) |
EP (1) | EP0135069A3 (ja) |
JP (1) | JPS6028826A (ja) |
Families Citing this family (88)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0628706B2 (ja) * | 1984-10-30 | 1994-04-20 | 宏志 鈴木 | ゼオライト,層間利用化合物又は結晶格子間利用化合物を多孔質支持体の細孔内に保有する複合体及びその製造法 |
US4689150A (en) * | 1985-03-07 | 1987-08-25 | Ngk Insulators, Ltd. | Separation membrane and process for manufacturing the same |
JPS62160121A (ja) * | 1985-12-28 | 1987-07-16 | Ngk Insulators Ltd | 多孔質隔膜 |
GB8609249D0 (en) * | 1986-04-16 | 1986-05-21 | Alcan Int Ltd | Anodic oxide membrane catalyst support |
DE3679990D1 (de) * | 1986-07-29 | 1991-08-01 | Gft Ges Fuer Trenntechnik | Pervaporationsverfahren und -membran. |
FR2604920B1 (fr) * | 1986-10-10 | 1988-12-02 | Ceraver | Membrane de filtration ceramique et procede de fabrication |
JP2507660Y2 (ja) * | 1989-07-03 | 1996-08-14 | 多木農工具株式会社 | 乗用田植機に付設する空気式繰出装置 |
US5507860A (en) * | 1989-11-14 | 1996-04-16 | Air Products And Chemicals, Inc. | Composite porous carbonaceous membranes |
EP0428052B1 (en) * | 1989-11-14 | 1998-01-21 | Air Products And Chemicals, Inc. | Gas separation by adsorbent membranes |
US5069794A (en) * | 1990-06-05 | 1991-12-03 | Mobil Oil Corp. | Separation of mixture components over membrane composed of a pure molecular sieve |
US5019263A (en) * | 1990-06-05 | 1991-05-28 | Mobil Oil Corp. | Membrane composed of a pure molecular sieve |
US5110478A (en) * | 1990-06-05 | 1992-05-05 | Mobil Oil Corp. | Catalytic conversion over membrane composed of a pure molecular sieve |
US5100596A (en) * | 1990-06-05 | 1992-03-31 | Mobil Oil Corp. | Synthesis of membrane composed of a pure molecular sieve |
GB9022836D0 (en) * | 1990-10-19 | 1990-12-05 | British Petroleum Co Plc | Membranes |
GB9022837D0 (en) * | 1990-10-19 | 1990-12-05 | British Petroleum Co Plc | Deposition process |
NL9100217A (nl) * | 1991-02-07 | 1992-09-01 | Univ Delft Tech | Moleculaire-zeefkristallen bevattend anorganisch composietmembraan. |
NL9101126A (nl) * | 1991-06-28 | 1993-01-18 | Univ Delft Tech | Werkwijze voor het aanbrengen van moleculaire-zeefkristallen op een drager, alsmede aldus verkregen beladen drager. |
US5258339A (en) * | 1992-03-12 | 1993-11-02 | Worcester Polytechnic Institute | Formation of zeolite membranes from sols |
GB9206783D0 (en) * | 1992-03-27 | 1992-05-13 | British Petroleum Co Plc | Deposition process |
US5779904A (en) * | 1992-03-31 | 1998-07-14 | Inrad | Synthesis of inorganic membranes on supports |
DE4216846A1 (de) * | 1992-05-21 | 1993-11-25 | Basf Ag | Verfahren zur Fixierung großer zeolithischer und zeolithanaloger Molekularsieb-Kristalle auf Formkörper |
NL9201204A (nl) * | 1992-07-06 | 1994-02-01 | Stichting Tech Wetenschapp | Membraan. |
US5316661A (en) * | 1992-07-08 | 1994-05-31 | Mobil Oil Corporation | Processes for converting feedstock organic compounds |
US5310714A (en) * | 1992-07-08 | 1994-05-10 | Mobil Oil Corp. | Synthesis of zeolite films bonded to substrates, structures and uses thereof |
US5468699A (en) * | 1992-07-30 | 1995-11-21 | Inrad | Molecular sieve - photoactive semiconductor membranes and reactions employing the membranes |
EP0695215B2 (en) | 1993-04-23 | 2002-03-27 | ExxonMobil Chemical Patents Inc. | Process for the manufacture of molecular sieve layers |
US5554286A (en) * | 1993-12-27 | 1996-09-10 | Mitsui Engineering & Shipbuilding Co., Ltd. | Membrane for liquid mixture separation |
JP3431973B2 (ja) * | 1993-12-27 | 2003-07-28 | 三井造船株式会社 | 液体混合物分離膜の製造方法 |
US5464798A (en) * | 1994-02-24 | 1995-11-07 | Jia; Meng-Dong | Ceramic-zeolite composite membranes and use for separation of vapor/gas mixtures |
GB9413863D0 (en) * | 1994-07-08 | 1994-08-24 | Exxon Chemical Patents Inc | Molecular sieves and processes for their manufacture |
US5824617A (en) * | 1994-07-08 | 1998-10-20 | Exxon Research & Engineering Company | Low alkaline inverted in-situ crystallized zeolite membrane |
US5871650A (en) * | 1994-07-08 | 1999-02-16 | Exxon Research And Engineering Company | Supported zeolite membranes with controlled crystal width and preferred orientation grown on a growth enhancing layer |
US5672388A (en) * | 1994-07-08 | 1997-09-30 | Exxon Research & Engineering Company | Membrane reparation and poer size reduction using interfacial ozone assisted chemical vapor deposition |
US5707148A (en) * | 1994-09-23 | 1998-01-13 | Ford Global Technologies, Inc. | Catalytic calorimetric gas sensor |
US6232253B1 (en) | 1994-09-23 | 2001-05-15 | Ford Global Technologies, Inc. | Sol-gel alumina membrane for lean NOx catalysts and method of making same |
US5654061A (en) * | 1995-01-17 | 1997-08-05 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Sulfide scavenging packaging materials |
GB9502292D0 (en) * | 1995-02-06 | 1995-03-29 | Bratton Graham J | Adsorbent material |
US5772735A (en) * | 1995-11-02 | 1998-06-30 | University Of New Mexico | Supported inorganic membranes |
FR2742070B1 (fr) * | 1995-12-08 | 1998-01-09 | Inst Francais Du Petrole | Procede d'elaboration controlee de membranes de zeolithe supportee |
FR2742071B1 (fr) * | 1995-12-08 | 1998-01-09 | Inst Francais Du Petrole | Procede d'elaboration de membranes de zeolithe supportee par du verre poreux |
EP0880487B1 (en) * | 1996-01-25 | 2001-09-05 | ExxonMobil Research and Engineering Company | Separation process in which a membrane is used |
US6043177A (en) * | 1997-01-21 | 2000-03-28 | University Technology Corporation | Modification of zeolite or molecular sieve membranes using atomic layer controlled chemical vapor deposition |
US6060415A (en) * | 1997-02-10 | 2000-05-09 | National Science Council | Aligned molecular sieve crystals grown on anodic alumina membrane |
JP3686262B2 (ja) | 1998-07-27 | 2005-08-24 | 三井造船株式会社 | 混合物分離膜 |
DE19853971B4 (de) | 1998-11-23 | 2011-06-16 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Anorganisch/organische Polysiloxanhybridpolymere und ihre Verwendung |
US6649255B1 (en) | 1999-03-04 | 2003-11-18 | Douglas E. Fain, Sr. | Article and method for producing extremely small pore inorganic membranes |
US6767384B1 (en) * | 2000-01-21 | 2004-07-27 | The Regents Of The University Of Colorado | Isomorphously substituted molecular sieve membranes |
US6329062B1 (en) | 2000-02-29 | 2001-12-11 | Novellus Systems, Inc. | Dielectric layer including silicalite crystals and binder and method for producing same for microelectronic circuits |
US6500490B1 (en) * | 2000-03-23 | 2002-12-31 | Honeywell International Inc. | Hydrophilic zeolite coating |
JP3871501B2 (ja) * | 2000-08-07 | 2007-01-24 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | ゼオライト膜とその製造方法と膜リアクター |
JP2002069012A (ja) | 2000-08-23 | 2002-03-08 | Ngk Insulators Ltd | p−キシレンの分離方法 |
US6448199B1 (en) * | 2000-09-05 | 2002-09-10 | Council Of Scientific & Industrial Research | Hydrophobic composite Pd-membrane catalyst useful for non-hazardous direct oxidation of hydrogen by oxygen to hydrogen peroxide and method of its preparation |
US6340433B1 (en) * | 2000-09-15 | 2002-01-22 | Engelhard Corporation | Water purification using titanium silicate membranes |
US6486086B1 (en) * | 2000-09-15 | 2002-11-26 | Engelhard Corporation | Simplified methods of manufacturing titanium silicate membranes |
DE10051910A1 (de) * | 2000-10-19 | 2002-05-02 | Membrana Mundi Gmbh | Flexible, poröse Membranen und Adsorbentien, und Verfahren zu deren Herstellung |
US6489259B2 (en) * | 2000-12-29 | 2002-12-03 | Delphi Technologies, Inc. | Mixed zeolite NOx catalyst |
US6517611B1 (en) * | 2001-07-23 | 2003-02-11 | Engelhard Corporation | Olefin separations employing CTS molecular sieves |
JP4860851B2 (ja) * | 2001-09-19 | 2012-01-25 | 日本碍子株式会社 | ゼオライト積層複合体及びそれを用いたゼオライトメンブレンリアクタ |
US7442367B2 (en) | 2002-08-16 | 2008-10-28 | Ngk Insulators, Ltd. | Production method for zeolite shaped body and production method for zeolite layered composite |
GB2397651B (en) * | 2003-01-15 | 2005-08-24 | Schlumberger Holdings | Methods and apparatus for the measurement of hydrogen sulphide and thiols in fluids |
US7022593B2 (en) * | 2003-03-12 | 2006-04-04 | Asm America, Inc. | SiGe rectification process |
WO2004081986A2 (en) * | 2003-03-12 | 2004-09-23 | Asm America Inc. | Method to planarize and reduce defect density of silicon germanium |
US8518845B2 (en) * | 2003-09-17 | 2013-08-27 | Uchicago Argonne, Llc | Catalytic nanoporous membranes |
US8758593B2 (en) * | 2004-01-08 | 2014-06-24 | Schlumberger Technology Corporation | Electrochemical sensor |
DE102004001974A1 (de) * | 2004-01-13 | 2005-08-04 | Basf Ag | Komposit-Membran |
JP4318225B2 (ja) * | 2004-02-27 | 2009-08-19 | 株式会社島津製作所 | 二酸化炭素の吸着装置と吸着用具およびその製造方法 |
EP1827662A1 (en) * | 2004-12-01 | 2007-09-05 | Bussan Nanotech Research Institute Inc. | Method for manufacturing zeolite membrane |
ES2430552T3 (es) * | 2005-04-29 | 2013-11-21 | Vlaamse Instelling Voor Technologisch Onderzoek N.V. (Vito) | Aparato y procedimiento para la purificación y desinfección de sustancias líquidas o gaseosas |
TWI292340B (en) * | 2005-07-13 | 2008-01-11 | Ind Tech Res Inst | Antireflective transparent zeolite hardcoat film, method for fabricating the same, and solution capable of forming said transparent zeolite film |
CA2626235A1 (en) * | 2005-10-19 | 2007-04-26 | Vlaamse Instelling Voor Technologisch Onderzoek N.V. (Vito) | Zeolite-like membranes from nano-zeolitic particles |
JP5261875B2 (ja) * | 2006-01-10 | 2013-08-14 | 東ソー株式会社 | 酸素6員環からなるアルミノホスフェート系ゼオライト吸着剤及びその製造方法並びにその用途 |
WO2009158013A1 (en) * | 2008-06-26 | 2009-12-30 | Nano Terra Inc. | Methods for reducing the sensory effects of odorous compounds |
US20100071559A1 (en) * | 2008-09-19 | 2010-03-25 | Sylvain Miachon | Membranes and devices for gas separation |
US8399139B2 (en) | 2008-12-16 | 2013-03-19 | Utc Power Corporation | Corrosion resistant membrane condenser for recovery of fuel cell electrolyte |
US8791037B1 (en) * | 2009-06-11 | 2014-07-29 | U.S. Department Of Energy | Robust, high temperature-ceramic membranes for gas separation |
WO2010144972A1 (en) * | 2009-06-18 | 2010-12-23 | Newsquare Trading Limited | A catalytic material, method of manufacture and method of use |
ITCS20100003A1 (it) | 2010-02-09 | 2011-08-10 | Univ Calabria | Membrana zeolitica per adesioni e colture di cellule, procedimento per la preparazione ed applicazione. |
DE102010009542A1 (de) * | 2010-02-26 | 2011-09-01 | Dbi - Gastechnologisches Institut Ggmbh Freiberg | Verfahren zur Abtrennung von Erdgas- oder Erdölbegleitgaskomponenten an anorganisch porösen Membranen |
US10259723B2 (en) | 2010-05-21 | 2019-04-16 | Znano Llc | Self-assembled surfactant structures |
EP2571607A4 (en) * | 2010-05-21 | 2016-12-21 | Adrian Brozell | SURFACE ASSISTING SURFACE STRUCTURES |
CN103203249B (zh) * | 2012-01-12 | 2014-12-17 | 中国科学院大连化学物理研究所 | 一种H型β分子筛膜包裹的胶囊催化剂制备方法 |
US9592469B2 (en) * | 2012-07-25 | 2017-03-14 | Koninklijke Philips N.V. | Oxygen separation device for a pressure swing adsorption system |
BR112015026567A2 (pt) * | 2013-05-07 | 2017-07-25 | Dow Global Technologies Llc | processo para efetuar a troca iônica de uma membrana de zeólito suportada em alfa-alumina |
US9649601B2 (en) * | 2014-05-08 | 2017-05-16 | Bettergy Corp. | Composite membranes for olefin/paraffin separation |
EP2990378B1 (en) * | 2014-08-27 | 2019-08-07 | Diehl Aviation Gilching GmbH | Zeolite components for use in solid chemical oxygen generators |
US11024859B2 (en) | 2016-02-04 | 2021-06-01 | Board Of Regents, The University Of Texas System | High temperature humidification membranes |
US11154823B2 (en) * | 2018-10-05 | 2021-10-26 | The Board Of Regents For Oklahoma State University | Zeolite-coated mesh for oil-water separation |
US10570071B1 (en) | 2018-12-12 | 2020-02-25 | Saudi Arabian Oil Company | Membrane-based process for butanols production from mixed butenes |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5244775A (en) * | 1975-10-06 | 1977-04-08 | Shintouhoku Kagaku Kogyo Kk | Method of purifying air by using zeolite air filter |
JPS59213615A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-12-03 | Toa Nenryo Kogyo Kk | 膜状合成ゼオライト及びその製造方法 |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3244643A (en) * | 1965-02-03 | 1966-04-05 | Socony Mobil Oil Co Inc | Method of preparing supported crystalline aluminosilicate composition |
US3468815A (en) * | 1967-09-11 | 1969-09-23 | Texaco Inc | Extended zeolitic structures |
US3567666A (en) * | 1968-02-02 | 1971-03-02 | Carl Berger | Separation means |
NL6808526A (ja) * | 1968-06-18 | 1969-12-22 | ||
DD77696A1 (ja) * | 1969-06-20 | 1970-11-20 | ||
FR2079460A5 (en) * | 1970-02-02 | 1971-11-12 | Rhone Poulenc Sa | Polyorganosiloxane elastomer membranes - contng zeolite for gaseous separation procedures in conventional appts |
DE2025893B2 (de) * | 1970-05-27 | 1979-12-06 | Bayer Ag, 5090 Leverkusen | Glasfaserverstärkte Zeolith-Granulate |
US3781225A (en) * | 1972-04-17 | 1973-12-25 | Mobil Oil Corp | Treatment of colloidal zeolites |
US4013566A (en) * | 1975-04-07 | 1977-03-22 | Adsorbex, Incorporated | Flexible desiccant body |
NZ188666A (en) * | 1977-10-21 | 1980-12-19 | Unisearch Ltd | Anisotropic synthetic membrane |
US4288346A (en) * | 1978-07-18 | 1981-09-08 | Johnson Matthey Inc. | Catalyst for catalytic heat exchange |
-
1983
- 1983-07-26 JP JP58135155A patent/JPS6028826A/ja active Granted
-
1984
- 1984-07-26 EP EP84108871A patent/EP0135069A3/en not_active Withdrawn
-
1986
- 1986-01-27 US US06/823,105 patent/US4699892A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5244775A (en) * | 1975-10-06 | 1977-04-08 | Shintouhoku Kagaku Kogyo Kk | Method of purifying air by using zeolite air filter |
JPS59213615A (ja) * | 1983-05-13 | 1984-12-03 | Toa Nenryo Kogyo Kk | 膜状合成ゼオライト及びその製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS6028826A (ja) | 1985-02-14 |
US4699892A (en) | 1987-10-13 |
EP0135069A3 (en) | 1986-04-02 |
EP0135069A2 (en) | 1985-03-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JPH0563410B2 (ja) | ||
EP0808655B1 (en) | Molecular sieve layers and processes for their manufacture | |
US6090289A (en) | Molecular sieves and processes for their manufacture | |
RU2174044C2 (ru) | Молекулярные сита и способы их получения | |
RU2183499C2 (ru) | Способ получения тонкослойных молекулярных сит | |
AU642499B2 (en) | Membrane formed of crystalline molecular sieve material | |
KR101186912B1 (ko) | 나노결정 제올라이트 와이 촉매를 이용한 탄화수소 알킬화 방법 | |
JP2003500190A (ja) | 多孔質無機酸化物の金属含有マクロ構造体、その製造及び使用 | |
JP2002533216A (ja) | ゼオライト膜およびその製造方法 | |
KR20020024575A (ko) | 결정질 분자체 층 및 그의 제조방법 | |
JPH0628706B2 (ja) | ゼオライト,層間利用化合物又は結晶格子間利用化合物を多孔質支持体の細孔内に保有する複合体及びその製造法 | |
US20080064912A1 (en) | Process for Preparing a Layered Molecular Sieve Composition | |
Teng et al. | Silicalite-1 membrane on millimeter-sized HZSM-5 zeolite extrudates: Controllable synthesis and catalytic behavior in toluene disproportionation | |
JP4860851B2 (ja) | ゼオライト積層複合体及びそれを用いたゼオライトメンブレンリアクタ | |
US20110053762A1 (en) | Layered molecular sieve composition | |
JPH11511685A (ja) | モレキュラーシーブおよびその製造法 | |
Caglione et al. | JA Barton | |
Liu et al. | PATENTS REPORT | |
AU3510301A (en) | Molecular sieve layers and processes for their manufacture | |
AU9416798A (en) | Molecular sieve layers and processes for their manufacture |