JPH0563077A - 半導体ウエハの処理方法 - Google Patents
半導体ウエハの処理方法Info
- Publication number
- JPH0563077A JPH0563077A JP24488491A JP24488491A JPH0563077A JP H0563077 A JPH0563077 A JP H0563077A JP 24488491 A JP24488491 A JP 24488491A JP 24488491 A JP24488491 A JP 24488491A JP H0563077 A JPH0563077 A JP H0563077A
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- JP
- Japan
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- wafer
- adhesive tape
- semiconductor wafer
- roller
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ダイシング工程で半導体ウエハの裏面に粘着
テープを貼付ける際の外圧から半導体ウエハを保護す
る。 【構成】 ダイシング工程の前工程であるバックグライ
ンド工程でウエハWの表面に貼付けられた保護粘着テー
プ2を剥離せずに、ウエハWをウエハ貼付けローラ11と
押付けローラ12との間に送り込んで上方から加圧し、ウ
エハWの裏面に粘着テープ15を貼付ける。保護粘着テー
プ2によってウエハWの機械的強度は増し、押付けロー
ラ12の付勢力から保護される。また、ウエハWの表面に
形成された回路パターンと押付けローラ12とが直接に接
触することがなく、回路パターンの損傷, 汚染も防止さ
れる。
テープを貼付ける際の外圧から半導体ウエハを保護す
る。 【構成】 ダイシング工程の前工程であるバックグライ
ンド工程でウエハWの表面に貼付けられた保護粘着テー
プ2を剥離せずに、ウエハWをウエハ貼付けローラ11と
押付けローラ12との間に送り込んで上方から加圧し、ウ
エハWの裏面に粘着テープ15を貼付ける。保護粘着テー
プ2によってウエハWの機械的強度は増し、押付けロー
ラ12の付勢力から保護される。また、ウエハWの表面に
形成された回路パターンと押付けローラ12とが直接に接
触することがなく、回路パターンの損傷, 汚染も防止さ
れる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体ウエハ(以下、
単にウエハともいう)の処理方法に係り、特には、ウエ
ハの表面にIC素子等の回路パターンが形成された後の
処理工程に関するものである。
単にウエハともいう)の処理方法に係り、特には、ウエ
ハの表面にIC素子等の回路パターンが形成された後の
処理工程に関するものである。
【0002】
【従来の技術】回路パターン形成後の処理工程には、ウ
エハの裏面を切削・研磨して所要の厚みに仕上げるバッ
クグラインド工程,ウエハをカッテングして個々の素子
を分断するダイシング工程等がある。これらの各工程で
はウエハに機械的な応力を加えるので、ウエハ表面の回
路パターンを保護したり、あるいはウエハを固定するの
に粘着テープを貼付ける工程を別途設けている。
エハの裏面を切削・研磨して所要の厚みに仕上げるバッ
クグラインド工程,ウエハをカッテングして個々の素子
を分断するダイシング工程等がある。これらの各工程で
はウエハに機械的な応力を加えるので、ウエハ表面の回
路パターンを保護したり、あるいはウエハを固定するの
に粘着テープを貼付ける工程を別途設けている。
【0003】これらの各工程の流れは、およそ以下のよ
うである。まず、バックグラインド工程は、(1) 回路パ
ターンが形成されたウエハ表面に弱粘性の保護粘着テー
プを貼付ける。(2) 保護粘着テープが貼付けられたウエ
ハ表面を吸着部材で保持し、ウエハを位置固定してから
裏面の切削・研磨を行う。(3) ウエハ表面の保護粘着テ
ープを剥離する。次のダイシング工程は、(4) ウエハ裏
面に強粘性の粘着テープを貼付け、この粘着テープを介
してウエハをリング状のフレームにマウントする。(5)
高速回転するダイヤモンド・カッタでウエハをカッティ
ングし、個々の素子を分断する。
うである。まず、バックグラインド工程は、(1) 回路パ
ターンが形成されたウエハ表面に弱粘性の保護粘着テー
プを貼付ける。(2) 保護粘着テープが貼付けられたウエ
ハ表面を吸着部材で保持し、ウエハを位置固定してから
裏面の切削・研磨を行う。(3) ウエハ表面の保護粘着テ
ープを剥離する。次のダイシング工程は、(4) ウエハ裏
面に強粘性の粘着テープを貼付け、この粘着テープを介
してウエハをリング状のフレームにマウントする。(5)
高速回転するダイヤモンド・カッタでウエハをカッティ
ングし、個々の素子を分断する。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような工程中には次のような不都合が生じる。すなわ
ち、バックグラインド工程で裏面を切削・研磨されたウ
エハの厚みはかなり薄くなっており(大体 300μm以
下)、機械的な強度はかなり低い状態にある。特に、8
インチ以上の大口径のウエハでは割れやすい状態にな
る。このような状態のウエハに対して、次のダイシング
工程では上記の (4)に記載したように粘着テープを貼付
けている。この貼付け方法であるが、一般的には当接し
た上下一対の回転ローラに粘着テープとウエハとを挟み
込むことによってウエハ裏面と粘着テープとを貼合わせ
ている。このときにウエハに加わる外圧によって、薄く
削られたウエハが割れたり、ウエハ表面の回路パターン
が損傷を受けたり、汚染されたりするおそれがある。
ような工程中には次のような不都合が生じる。すなわ
ち、バックグラインド工程で裏面を切削・研磨されたウ
エハの厚みはかなり薄くなっており(大体 300μm以
下)、機械的な強度はかなり低い状態にある。特に、8
インチ以上の大口径のウエハでは割れやすい状態にな
る。このような状態のウエハに対して、次のダイシング
工程では上記の (4)に記載したように粘着テープを貼付
けている。この貼付け方法であるが、一般的には当接し
た上下一対の回転ローラに粘着テープとウエハとを挟み
込むことによってウエハ裏面と粘着テープとを貼合わせ
ている。このときにウエハに加わる外圧によって、薄く
削られたウエハが割れたり、ウエハ表面の回路パターン
が損傷を受けたり、汚染されたりするおそれがある。
【0005】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、ダイシング工程における粘着テープの
貼付けの際に、ウエハを保護することができる半導体ウ
エハの処理方法を提供することを目的とする。
たものであって、ダイシング工程における粘着テープの
貼付けの際に、ウエハを保護することができる半導体ウ
エハの処理方法を提供することを目的とする。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、このような目
的を達成するために次のような方法をとる。すなわち、
本発明は、半導体ウエハの表面に保護粘着テープを貼付
けて裏面を切削・研磨するバックグラインド工程と、バ
ックグラインドされた半導体ウエハの裏面に粘着テープ
を貼付けてリング状のフレームにマウントし、前記マウ
ントされた半導体ウエハをカッティングして個々の素子
を分断するダイシング工程とを順に処理していく半導体
ウエハの処理方法において、前記ダイシング工程で半導
体ウエハの裏面に粘着テープを貼付けてリング状のフレ
ームにマウントした後に、前記バックグラインド工程で
半導体ウエハの表面に貼付けられた前記保護粘着テープ
を剥離することを特徴とする。
的を達成するために次のような方法をとる。すなわち、
本発明は、半導体ウエハの表面に保護粘着テープを貼付
けて裏面を切削・研磨するバックグラインド工程と、バ
ックグラインドされた半導体ウエハの裏面に粘着テープ
を貼付けてリング状のフレームにマウントし、前記マウ
ントされた半導体ウエハをカッティングして個々の素子
を分断するダイシング工程とを順に処理していく半導体
ウエハの処理方法において、前記ダイシング工程で半導
体ウエハの裏面に粘着テープを貼付けてリング状のフレ
ームにマウントした後に、前記バックグラインド工程で
半導体ウエハの表面に貼付けられた前記保護粘着テープ
を剥離することを特徴とする。
【0007】
【作用】本発明の方法によれば、半導体ウエハの表面に
保護粘着テープを貼付けた状態でダイシング工程に進
み、半導体ウエハの裏面に粘着テープを貼付けてリング
状のフレームにマウントする。半導体ウエハの裏面に粘
着テープを貼付ける際に外圧が加えられても、半導体ウ
エハの表面には保護粘着テープが貼付けられているの
で、回路パターンの損傷や汚染が防止される。また、保
護粘着テープの貼付けにより、半導体ウエハの機械的強
度も高くなって、半導体ウエハも比較的割れにくくな
る。
保護粘着テープを貼付けた状態でダイシング工程に進
み、半導体ウエハの裏面に粘着テープを貼付けてリング
状のフレームにマウントする。半導体ウエハの裏面に粘
着テープを貼付ける際に外圧が加えられても、半導体ウ
エハの表面には保護粘着テープが貼付けられているの
で、回路パターンの損傷や汚染が防止される。また、保
護粘着テープの貼付けにより、半導体ウエハの機械的強
度も高くなって、半導体ウエハも比較的割れにくくな
る。
【0008】
【実施例】以下、本発明の一実施例について図面を参照
しながら説明する。なお、以下の例では本発明に係るウ
エハのバックグラインド工程とダイシング工程とについ
て説明する。図1はバックグラインド工程とダイシング
工程における処理流れを示したフローチャートで、ステ
ップS1とステップS2とがバックグラインド工程を、
ステップS3ないしステップS5がダイシング工程を示
している。また、図2ないし図7はフローチャートの各
ステップの処理を実行する装置の構成を簡単化した図で
ある。
しながら説明する。なお、以下の例では本発明に係るウ
エハのバックグラインド工程とダイシング工程とについ
て説明する。図1はバックグラインド工程とダイシング
工程における処理流れを示したフローチャートで、ステ
ップS1とステップS2とがバックグラインド工程を、
ステップS3ないしステップS5がダイシング工程を示
している。また、図2ないし図7はフローチャートの各
ステップの処理を実行する装置の構成を簡単化した図で
ある。
【0009】まず、ステップS1で、回路パターンが形
成されたウエハの表面に保護粘着テープを貼付ける。図
2を参照して説明する。ウエハWは回路パターン形成面
を上向きにしてテーブル1上に吸着保持される。一方、
図外の供給源から繰り出された保護粘着テープ2は繰り
出しガイドローラ3部においてセパレートフィルム6と
分離され、貼付け用の可動ガイドローラ4および可動貼
付けローラ5を介してウエハWの上に供給される。そし
て、可動カイドローラ4および可動貼付けローラ5を図
上左方から右方へ移動させて保護粘着テープ2をウエハ
Wの表面(回路パターン形成面)に貼付ける。
成されたウエハの表面に保護粘着テープを貼付ける。図
2を参照して説明する。ウエハWは回路パターン形成面
を上向きにしてテーブル1上に吸着保持される。一方、
図外の供給源から繰り出された保護粘着テープ2は繰り
出しガイドローラ3部においてセパレートフィルム6と
分離され、貼付け用の可動ガイドローラ4および可動貼
付けローラ5を介してウエハWの上に供給される。そし
て、可動カイドローラ4および可動貼付けローラ5を図
上左方から右方へ移動させて保護粘着テープ2をウエハ
Wの表面(回路パターン形成面)に貼付ける。
【0010】次に、ステップS2に進んでウエハWの裏
面を切削・研磨する。すなわち、図3に示すように、ウ
エハWの表面(保護粘着テープ2面)を吸着パッド7で
吸着保持し、ウエハWの下方に設置されている回転グラ
インダー8にウエハWの裏面を接触させて裏面を研磨
し、ウエハWを所要の厚みにする。なお、保護粘着テー
プ2は吸着パッド7の吸着保持力からウエハWの回路パ
ターン形成面を保護するとともに、研磨屑による汚染か
ら回路パターン形成面を保護している。
面を切削・研磨する。すなわち、図3に示すように、ウ
エハWの表面(保護粘着テープ2面)を吸着パッド7で
吸着保持し、ウエハWの下方に設置されている回転グラ
インダー8にウエハWの裏面を接触させて裏面を研磨
し、ウエハWを所要の厚みにする。なお、保護粘着テー
プ2は吸着パッド7の吸着保持力からウエハWの回路パ
ターン形成面を保護するとともに、研磨屑による汚染か
ら回路パターン形成面を保護している。
【0011】ステップS3では、ウエハWを粘着テープ
を介してリング状のフレームに貼付けてウエハマウント
フレームを得る。以下、図4を参照しながら説明する。
裏面が研磨されたウエハWは表面に保護粘着テープ2が
貼付けられた状態のままで、ウエハ送り込みベルト10に
よって、ウエハ貼付けローラ11と押付けローラ12との間
に送り込まれる。ウエハ貼付けローラ11から剥離ローラ
13と引き込みローラ14とその他のローラとにわたって粘
着テープ15が巻き掛けられており、粘着テープ15は図の
矢印Y方向に送られる。
を介してリング状のフレームに貼付けてウエハマウント
フレームを得る。以下、図4を参照しながら説明する。
裏面が研磨されたウエハWは表面に保護粘着テープ2が
貼付けられた状態のままで、ウエハ送り込みベルト10に
よって、ウエハ貼付けローラ11と押付けローラ12との間
に送り込まれる。ウエハ貼付けローラ11から剥離ローラ
13と引き込みローラ14とその他のローラとにわたって粘
着テープ15が巻き掛けられており、粘着テープ15は図の
矢印Y方向に送られる。
【0012】押付けローラ12は、ウエハ貼付けローラ11
の真上に位置して下方に付勢されている。ウエハWは、
押付けローラ12とウエハ貼付けローラ11との間を通過す
るときに、押付けローラ12の付勢力によって粘着テープ
15に貼付けられる。このとき、ウエハWの表面には保護
粘着テープ2が貼付けられたままなので、押付けローラ
12とウエハWの回路パターン形成面(表面)とが直接に
接触することなく、回路パターン面の損傷や汚染が防止
される。また、保護粘着テープ2の貼付けによってウエ
ハW自体の機械的強度も高くなり、押付けローラ11の付
勢力から保護される。
の真上に位置して下方に付勢されている。ウエハWは、
押付けローラ12とウエハ貼付けローラ11との間を通過す
るときに、押付けローラ12の付勢力によって粘着テープ
15に貼付けられる。このとき、ウエハWの表面には保護
粘着テープ2が貼付けられたままなので、押付けローラ
12とウエハWの回路パターン形成面(表面)とが直接に
接触することなく、回路パターン面の損傷や汚染が防止
される。また、保護粘着テープ2の貼付けによってウエ
ハW自体の機械的強度も高くなり、押付けローラ11の付
勢力から保護される。
【0013】ウエハWは、粘着テープ15の送りによって
マウント箇所Qまで搬送されて、ここで一旦停止する。
マウント箇所Qにあるフレーム位置決め機構16は、リン
グフレームFを吸着保持するもので、マウント箇所Qに
停止したウエハWの中心に対してリングフレームFの中
心が一致するように位置決めを行ったのち、下降して粘
着テープ15の上方から僅かに離れた位置に止まる。
マウント箇所Qまで搬送されて、ここで一旦停止する。
マウント箇所Qにあるフレーム位置決め機構16は、リン
グフレームFを吸着保持するもので、マウント箇所Qに
停止したウエハWの中心に対してリングフレームFの中
心が一致するように位置決めを行ったのち、下降して粘
着テープ15の上方から僅かに離れた位置に止まる。
【0014】マウント箇所Qにおいて粘着テープ15の下
方には、フレーム貼付けローラ18とテープカッタ19とを
周辺部に装着して縦軸周りに回転する回転テーブル17が
待機している。フレーム貼付けローラ18とテープカッタ
19とは互いに独立して昇降されるように構成されてい
る。まず、フレーム貼付けローラ18が上昇して粘着テー
プ15を押し上げてリングフレームFに接触させる。この
状態で回転テーブル17が回転し、フレーム貼付けローラ
18がリングフレームFに沿って転動し粘着テープ15を貼
付けていく。次いで、テープカッタ19を上昇させてリン
グフレームFに接触させ、リングフレームFと粘着テー
プ15の貼付け領域を外側と内側とに二分するように切り
目を入れる。
方には、フレーム貼付けローラ18とテープカッタ19とを
周辺部に装着して縦軸周りに回転する回転テーブル17が
待機している。フレーム貼付けローラ18とテープカッタ
19とは互いに独立して昇降されるように構成されてい
る。まず、フレーム貼付けローラ18が上昇して粘着テー
プ15を押し上げてリングフレームFに接触させる。この
状態で回転テーブル17が回転し、フレーム貼付けローラ
18がリングフレームFに沿って転動し粘着テープ15を貼
付けていく。次いで、テープカッタ19を上昇させてリン
グフレームFに接触させ、リングフレームFと粘着テー
プ15の貼付け領域を外側と内側とに二分するように切り
目を入れる。
【0015】そして、フレーム位置決め機構16によるリ
ングフレームFの吸着保持を解除し、フレーム位置決め
機構16の上昇, 回転テーブル17の下降の後、粘着テープ
15が送り出される。粘着テープ15が剥離ローラ13によっ
て鋭角的に引き取られる際に、前記の切り目によってリ
ングフレームFと粘着テープ15とが分離され、リングフ
レームFは水平に送られて、送り出しベルト20に受け渡
される。
ングフレームFの吸着保持を解除し、フレーム位置決め
機構16の上昇, 回転テーブル17の下降の後、粘着テープ
15が送り出される。粘着テープ15が剥離ローラ13によっ
て鋭角的に引き取られる際に、前記の切り目によってリ
ングフレームFと粘着テープ15とが分離され、リングフ
レームFは水平に送られて、送り出しベルト20に受け渡
される。
【0016】第1図のフローチャートに戻ってステップ
S4に進み、ウエハWの表面の保護粘着テープ2を剥離
する。以下、図5,図6,図7を参照しながら説明す
る。まず、図5に示すように、粘着テープ15を介してリ
ングフレームFにマウントされたウエハWを吸着テーブ
ル30上に吸着保持する。図外の供給源から繰り出される
剥離テープ31を巻き掛けた引き取りローラ32とピンチロ
ーラ33および貼付けローラ34とをウエハWの端部位置の
若干上方に移動させる。次いで、図6に示すように、貼
付けローラ34をウエハWの端部上に下降させて付勢し、
剥離テープ31と保護粘着テープ2とを貼付け合わせる。
そして、図7に示すように、ピンチローラ33を引き取り
ローラ32上に下降させて、元の位置に3本のローラ32,3
3,34を移動させる。このとき、貼付けローラ34が保護粘
着テープ2に剥離テープ31を圧着しながら移動し、引き
取りローラ32が剥離テープ31を介して保護粘着テープ2
を剥離する。
S4に進み、ウエハWの表面の保護粘着テープ2を剥離
する。以下、図5,図6,図7を参照しながら説明す
る。まず、図5に示すように、粘着テープ15を介してリ
ングフレームFにマウントされたウエハWを吸着テーブ
ル30上に吸着保持する。図外の供給源から繰り出される
剥離テープ31を巻き掛けた引き取りローラ32とピンチロ
ーラ33および貼付けローラ34とをウエハWの端部位置の
若干上方に移動させる。次いで、図6に示すように、貼
付けローラ34をウエハWの端部上に下降させて付勢し、
剥離テープ31と保護粘着テープ2とを貼付け合わせる。
そして、図7に示すように、ピンチローラ33を引き取り
ローラ32上に下降させて、元の位置に3本のローラ32,3
3,34を移動させる。このとき、貼付けローラ34が保護粘
着テープ2に剥離テープ31を圧着しながら移動し、引き
取りローラ32が剥離テープ31を介して保護粘着テープ2
を剥離する。
【0017】次のステップS5では、保護粘着テープ2
が剥離されたウエハWに高速回転するダイヤモンド・カ
ッタを作用させてこれをカッティングし、個々の回路パ
ターンを分断する。
が剥離されたウエハWに高速回転するダイヤモンド・カ
ッタを作用させてこれをカッティングし、個々の回路パ
ターンを分断する。
【0018】なお、上述の実施例では、各工程における
処理を理解しやすくするために、具体的な処理方法を例
示したが、本発明はこれらの処理方法に限定されるもの
ではない。
処理を理解しやすくするために、具体的な処理方法を例
示したが、本発明はこれらの処理方法に限定されるもの
ではない。
【0019】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
の半導体ウエハの処理方法は、バックグラインド工程で
半導体ウエハの回路パターン形成面(表面)に貼付けら
れた保護粘着テープを、次のダイシング工程で半導体ウ
エハの裏面に粘着テープを貼付けてリング状のフレーム
にマウントした後に剥離するようにしたから、半導体ウ
エハの裏面に粘着テープを貼付ける際には半導体ウエハ
の表面は保護粘着テープで保護された状態にある。した
がって、粘着テープを貼付ける際に半導体ウエハに外圧
が加えられても、半導体ウエハの割れや回路パターン形
成面の損傷,汚染等を防止することができる。
の半導体ウエハの処理方法は、バックグラインド工程で
半導体ウエハの回路パターン形成面(表面)に貼付けら
れた保護粘着テープを、次のダイシング工程で半導体ウ
エハの裏面に粘着テープを貼付けてリング状のフレーム
にマウントした後に剥離するようにしたから、半導体ウ
エハの裏面に粘着テープを貼付ける際には半導体ウエハ
の表面は保護粘着テープで保護された状態にある。した
がって、粘着テープを貼付ける際に半導体ウエハに外圧
が加えられても、半導体ウエハの割れや回路パターン形
成面の損傷,汚染等を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例に係る半導体ウエハの処理方
法の要部を示したフローチャートである。
法の要部を示したフローチャートである。
【図2】保護粘着テープの貼付け方法の一例を説明する
図である。
図である。
【図3】ウエハ裏面の切削・研磨方法の一例を説明する
図である。
図である。
【図4】ウエハマウントフレームを得る方法の一例を説
明する図である。
明する図である。
【図5】保護粘着テープの剥離方法の一例を説明する図
である。
である。
【図6】図5の続きである保護粘着テープの剥離方法の
一例を説明する図である。
一例を説明する図である。
【図7】図6の続きである保護粘着テープの剥離方法の
一例を説明する図である。
一例を説明する図である。
2・・・保護粘着テープ 15・・・粘着テープ F・・・リングフレーム W・・・ウエハ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 伊藤 英雄 大阪府茨木市下穂積1丁目1番2号 日東 電工株式会社内
Claims (1)
- 【請求項1】 半導体ウエハの表面に保護粘着テープを
貼付けて裏面を切削・研磨するバックグラインド工程
と、バックグラインドされた半導体ウエハの裏面に粘着
テープを貼付けてリング状のフレームにマウントし、前
記マウントされた半導体ウエハをカッティングして個々
の素子を分断するダイシング工程とを順に処理していく
半導体ウエハの処理方法において、 前記ダイシング工程で半導体ウエハの裏面に粘着テープ
を貼付けてリング状のフレームにマウントした後に、前
記バックグラインド工程で半導体ウエハの表面に貼付け
られた前記保護粘着テープを剥離することを特徴とする
半導体ウエハの処理方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24488491A JP2877997B2 (ja) | 1991-08-29 | 1991-08-29 | 半導体ウエハの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP24488491A JP2877997B2 (ja) | 1991-08-29 | 1991-08-29 | 半導体ウエハの処理方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0563077A true JPH0563077A (ja) | 1993-03-12 |
JP2877997B2 JP2877997B2 (ja) | 1999-04-05 |
Family
ID=17125423
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24488491A Expired - Lifetime JP2877997B2 (ja) | 1991-08-29 | 1991-08-29 | 半導体ウエハの処理方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2877997B2 (ja) |
Cited By (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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