JPH0562018B2 - - Google Patents
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- JPH0562018B2 JPH0562018B2 JP12821185A JP12821185A JPH0562018B2 JP H0562018 B2 JPH0562018 B2 JP H0562018B2 JP 12821185 A JP12821185 A JP 12821185A JP 12821185 A JP12821185 A JP 12821185A JP H0562018 B2 JPH0562018 B2 JP H0562018B2
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- drum
- molten metal
- drums
- slag
- cylindrical
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- Continuous Casting (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、ツインドラム方式の薄板連続鋳造装
置に関する。
置に関する。
従来の薄板連続鋳造装置(ツインドラム方式)
を第2図に基づいて説明すると、従来装置は2本
の内部水冷式ドラム1,1′、このドラム1,
1′端面に押し当てた2つのサイドダム2,2′、
タンデイツシユ5、ピンチロール6及びガイドロ
ール7を主要構成部材としている。なお、第2図
において、3は鋳片、4は溶湯である。
を第2図に基づいて説明すると、従来装置は2本
の内部水冷式ドラム1,1′、このドラム1,
1′端面に押し当てた2つのサイドダム2,2′、
タンデイツシユ5、ピンチロール6及びガイドロ
ール7を主要構成部材としている。なお、第2図
において、3は鋳片、4は溶湯である。
上記従来装置では、ドラム1,1′間の湯面上
でスラグ(酸化物)が浮遊するが、このスラグが
ドラム1,1′面と凝固シエル間に浸入し、凝固
シエル表面の性状を害する。ドラム1,1′間の
湯面には、次の理由によりスラグが生成する。
でスラグ(酸化物)が浮遊するが、このスラグが
ドラム1,1′面と凝固シエル間に浸入し、凝固
シエル表面の性状を害する。ドラム1,1′間の
湯面には、次の理由によりスラグが生成する。
(1) 注湯時に溶湯が酸化され、スラグが生成す
る。
る。
(2) 溶湯中に存在する微小な酸化物系介在物が湯
面で凝集しスラグとなる。
面で凝集しスラグとなる。
(3) 溶湯の温度低下(取鍋→タンデイツシユ→ノ
ズル→ドラム間)に伴い、溶解しうる酸素量が
減少し、酸化物となり、これが凝集してスラグ
となる。
ズル→ドラム間)に伴い、溶解しうる酸素量が
減少し、酸化物となり、これが凝集してスラグ
となる。
これらのうち(1)は注湯系全体を無酸化雰囲気と
することにより防止できるが、(2)及び(3)は防止す
ることができない。このため、湯面上のスラグが
ドラムと凝固シエルとの間に浸入し、鋳片の表面
性状を害し、良好な品質が得られない欠点を有す
る。
することにより防止できるが、(2)及び(3)は防止す
ることができない。このため、湯面上のスラグが
ドラムと凝固シエルとの間に浸入し、鋳片の表面
性状を害し、良好な品質が得られない欠点を有す
る。
本発明は、上記従来装置の欠点を解消するツイ
ンドラム方式の薄板連続鋳造装置を提供すること
を目的とする。
ンドラム方式の薄板連続鋳造装置を提供すること
を目的とする。
そして、本発明は、上記目的を達成する手段と
して、ドラムと湯面との接する個所に円筒状ある
いは円柱状の耐熱性セラミツクを配設する点にあ
る。すなわち、本発明は製造する金属帯板厚さに
相当する間隙を置いて水平に並列した互いに回転
方向の異なる2本の水冷ドラムとこの水冷ドラム
の端面に押し当てた2個のサイドダムによつて形
成される空間に溶湯を注ぎ薄板を得る連続鋳造装
置において、ドラムと湯面との接する箇所に比重
が4以下の耐熱性を有する円筒状あるいは円柱状
のセラミツクを配したことを特徴とする薄板連続
鋳造装置である。
して、ドラムと湯面との接する個所に円筒状ある
いは円柱状の耐熱性セラミツクを配設する点にあ
る。すなわち、本発明は製造する金属帯板厚さに
相当する間隙を置いて水平に並列した互いに回転
方向の異なる2本の水冷ドラムとこの水冷ドラム
の端面に押し当てた2個のサイドダムによつて形
成される空間に溶湯を注ぎ薄板を得る連続鋳造装
置において、ドラムと湯面との接する箇所に比重
が4以下の耐熱性を有する円筒状あるいは円柱状
のセラミツクを配したことを特徴とする薄板連続
鋳造装置である。
本発明では、ツインドラム方式薄板連続鋳造装
置におけるドラム間の溶湯の動きを利用し、ドラ
ムと湯面の接する箇所に円筒状(あるいは円柱
状)のセラミツクを設置することにより、湯面に
浮遊するスラグをこのセラミツクに付着させ、ド
ラムと凝固シエルとの間にスラグが浸入すること
を防止する。この円筒状のセラミツクはドラムと
湯面の接する箇所で、ドラムの回転と溶湯の動き
により自然にドラムと反対方向に回転するため、
常に湯面上のスラグを付着するため、ドラムと湯
面との間にスラグが浸入することがない。
置におけるドラム間の溶湯の動きを利用し、ドラ
ムと湯面の接する箇所に円筒状(あるいは円柱
状)のセラミツクを設置することにより、湯面に
浮遊するスラグをこのセラミツクに付着させ、ド
ラムと凝固シエルとの間にスラグが浸入すること
を防止する。この円筒状のセラミツクはドラムと
湯面の接する箇所で、ドラムの回転と溶湯の動き
により自然にドラムと反対方向に回転するため、
常に湯面上のスラグを付着するため、ドラムと湯
面との間にスラグが浸入することがない。
本発明における円筒状あるいは円柱状のセラミ
ツクに要求される性質としては、1500〜1600℃の
溶湯と接してもあまり溶損しない耐熱性を有して
いること及び湯面上で浮かせるために比重が4以
下であることが必要である。セラミツクの比重が
4以上となると、円筒状のセラミツクが溶湯中に
浸漬し、鋳片の表面性状を害する。また、このセ
ラミツクの材質は、アルミナ(Al2O3)、窒化珪
素(Si3N4系)、ボロンナイトライド(BN)等が
好適である。
ツクに要求される性質としては、1500〜1600℃の
溶湯と接してもあまり溶損しない耐熱性を有して
いること及び湯面上で浮かせるために比重が4以
下であることが必要である。セラミツクの比重が
4以上となると、円筒状のセラミツクが溶湯中に
浸漬し、鋳片の表面性状を害する。また、このセ
ラミツクの材質は、アルミナ(Al2O3)、窒化珪
素(Si3N4系)、ボロンナイトライド(BN)等が
好適である。
以下、本発明を第1図に基づいて詳細に説明す
る。第1図は本発明の実施例であるツインドラム
方式の薄板連続鋳造装置の縦断面図である。第1
図に示す実施例装置は、水冷ドラム1,1′は水
平に設置されており、図示しない駆動装置により
回転(矢示方向)駆動される。この水冷ドラム
1,1′は、例えば銅または銅合金あるいは鋼材
により形成され、内部に水冷機構を内蔵するもの
であり、溶湯4との接触面積を大きく得るため相
当大径のドラムとなつている。また、鋳造ドラム
1,1′の両端部にはサイドをシールするための
耐火材からなるサイドダム2,2′が押し当てら
れており、2本の水冷鋳造ドラム1,1′と2個
のサイドダム2,2′により形成される空間に溶
湯4が注湯される。溶湯4が水冷鋳造ドラム1,
1′の表面に接して冷却され、生成した凝固シエ
ルは一体化され鋳片3となる。この鋳片3はピン
チロール6により引抜かれる。なお、7はガイド
ロールである。8は本発明のスラグを付着し、ド
ラムと凝固シエルとの間へのスラグの浸入を防止
するための円筒状あるいは円柱状のセラミツクで
ある。このセラミツク8は、ドラム1,1′と湯
面との接する個所で、ドラム1,1′の回転並び
に溶湯4の動きにより自然にドラム1,1′と反
対方向に回転することとなる。そして、このセラ
ミツク8の表面は常に湯面上のスラグを付着する
こととなり、その結果、ドラム1,1′と湯面と
の間にスラグが浸入することがない。
る。第1図は本発明の実施例であるツインドラム
方式の薄板連続鋳造装置の縦断面図である。第1
図に示す実施例装置は、水冷ドラム1,1′は水
平に設置されており、図示しない駆動装置により
回転(矢示方向)駆動される。この水冷ドラム
1,1′は、例えば銅または銅合金あるいは鋼材
により形成され、内部に水冷機構を内蔵するもの
であり、溶湯4との接触面積を大きく得るため相
当大径のドラムとなつている。また、鋳造ドラム
1,1′の両端部にはサイドをシールするための
耐火材からなるサイドダム2,2′が押し当てら
れており、2本の水冷鋳造ドラム1,1′と2個
のサイドダム2,2′により形成される空間に溶
湯4が注湯される。溶湯4が水冷鋳造ドラム1,
1′の表面に接して冷却され、生成した凝固シエ
ルは一体化され鋳片3となる。この鋳片3はピン
チロール6により引抜かれる。なお、7はガイド
ロールである。8は本発明のスラグを付着し、ド
ラムと凝固シエルとの間へのスラグの浸入を防止
するための円筒状あるいは円柱状のセラミツクで
ある。このセラミツク8は、ドラム1,1′と湯
面との接する個所で、ドラム1,1′の回転並び
に溶湯4の動きにより自然にドラム1,1′と反
対方向に回転することとなる。そして、このセラ
ミツク8の表面は常に湯面上のスラグを付着する
こととなり、その結果、ドラム1,1′と湯面と
の間にスラグが浸入することがない。
鋼を鋳造した場合のドラムならびにスラグ除去
セラミツクおよび諸条件は次のとおりである。
セラミツクおよび諸条件は次のとおりである。
(1) 水冷鋳造ドラムおよび操業条件
溶湯接触部は銅製で内部水冷方式のドラムで
あり、このドラム直径は1200φmm、ドラム幅
1200wmmである。鋳片寸法は4mmt×1200mmw
であり、このときのドラム回転速度(鋳造速
度)は約11m/minである。
あり、このドラム直径は1200φmm、ドラム幅
1200wmmである。鋳片寸法は4mmt×1200mmw
であり、このときのドラム回転速度(鋳造速
度)は約11m/minである。
(2) スラグ除去セラミツク
寸法;30mm〓×1140mml(円筒状)
(外径) 15mmφ(内径)
材質;アルミナ(Al2O3) 比重 2.85
〔本発明の効果〕
本発明は、以上詳記したように、ドラムと湯面
との接する個所に比重4以下の耐熱性円筒状ある
いは円柱状セラミツクを配設したものであるか
ら、このセラミツクはドラムと湯面の接触する箇
所において、ドラムの回転方向と反対に回転し、
湯面状のスラグを付着させるため、ドラムと凝固
シエルとの間にスラグが混入することなく、優れ
た表面性状を有する鋳片が安定して得られる効果
が生ずるものである。
との接する個所に比重4以下の耐熱性円筒状ある
いは円柱状セラミツクを配設したものであるか
ら、このセラミツクはドラムと湯面の接触する箇
所において、ドラムの回転方向と反対に回転し、
湯面状のスラグを付着させるため、ドラムと凝固
シエルとの間にスラグが混入することなく、優れ
た表面性状を有する鋳片が安定して得られる効果
が生ずるものである。
第1図は本発明の実施例であるツインドラム方
式の薄板連続鋳造装置の縦断面図であり、第2図
は従来のツインドラム方式の薄板連続鋳造装置の
縦断面図である。
式の薄板連続鋳造装置の縦断面図であり、第2図
は従来のツインドラム方式の薄板連続鋳造装置の
縦断面図である。
Claims (1)
- 1 製造する金属帯板厚さに相当する間隙を置い
て水平に並列した互いに回転方向の異なる2本の
水冷ドラムと、この水冷ドラムの端面に押し当て
た2個のサイドダムによつて形成される空間に溶
湯を注ぎ薄板を得る連続鋳造装置において、ドラ
ムと湯面との接する箇所に比重が4以下の耐熱性
を有する円筒状あるいは円柱状のセラミツクを配
したことを特徴とする薄板連続鋳造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12821185A JPS61289949A (ja) | 1985-06-14 | 1985-06-14 | 薄板連続鋳造装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP12821185A JPS61289949A (ja) | 1985-06-14 | 1985-06-14 | 薄板連続鋳造装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61289949A JPS61289949A (ja) | 1986-12-19 |
JPH0562018B2 true JPH0562018B2 (ja) | 1993-09-07 |
Family
ID=14979233
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP12821185A Granted JPS61289949A (ja) | 1985-06-14 | 1985-06-14 | 薄板連続鋳造装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61289949A (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP6926966B2 (ja) * | 2017-11-08 | 2021-08-25 | 日本製鉄株式会社 | スカム吸収シート、双ロール式連続鋳造装置、及び、薄肉鋳片の製造方法 |
-
1985
- 1985-06-14 JP JP12821185A patent/JPS61289949A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61289949A (ja) | 1986-12-19 |
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