JPH0558606A - 高充填性窒化ケイ素粉末及びその製造方法 - Google Patents

高充填性窒化ケイ素粉末及びその製造方法

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JPH0558606A
JPH0558606A JP3078588A JP7858891A JPH0558606A JP H0558606 A JPH0558606 A JP H0558606A JP 3078588 A JP3078588 A JP 3078588A JP 7858891 A JP7858891 A JP 7858891A JP H0558606 A JPH0558606 A JP H0558606A
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nitride powder
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昭男 大塚
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 平均粒子径1〜10μm、BET比表面積1
〜5m2/g、純度99%以上の金属ケイ素粉末を13
50〜1450℃において水素濃度5〜20容量%の窒
素雰囲気中で窒素と反応させて得られた窒化ケイ素粉末
をボールを媒体とした乾式撹拌粉砕機を用いて粉砕する
ことによりタップ密度が0.9g/cm3以上である高
充填性窒化ケイ素粉末を得る。 【効果】 この窒化ケイ素粉末を用いて成形した場合、
得られる成形体の密度は1.70g/cm3以上と高い
成形密度を有し、焼結体の寸法精度や強度を高くするこ
とができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、充填密度が高く、この
ため成形体の成形密度を高くすることができる窒化ケイ
素粉末及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
窒化ケイ素はその優れた耐熱性、高強度、耐食性等の特
性が注目されているが、その製品化には従来より窒化ケ
イ素粉末を所定の形状に成形し、これを焼結することが
行われている。この場合、成形体の成形密度が高くなれ
ば焼結の際の密度が上がり、収縮が小さくなり、焼結体
の強度や寸法精度の点で有利である。
【0003】しかしながら、従来より窒化ケイ素粉末の
製造に採用されているシリカ還元法、イミド分解法、金
属ケイ素粉末の直接窒化法によって得られた窒化ケイ素
粉末を用いて成形体を成形しても、いずれも成形密度を
高くすることはできず、具体的には成形密度が1.70
g/cm3以上となるような窒化ケイ素粉末を得ること
は困難であった。
【0004】本発明は上記事情に鑑みなされたもので、
成形体の成形密度を高くすることができ、このため焼結
体の強度や寸法精度を向上させることができる窒化ケイ
素粉末及びその製造方法を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段及び作用】本発明者らは、
上記目的を達成するため鋭意検討を重ねた結果、直接窒
化法によって得られた窒化ケイ素粉末、特に平均粒子径
1〜10μm、BET比表面積1〜5m2/g、純度9
9%以上の金属ケイ素粉末を1350〜1450℃にお
いて水素濃度5〜20容量%の窒素雰囲気中で窒素と反
応させて得られた窒化ケイ素粉末をボールミルを併用し
た乾式撹拌粉砕機を用いて微粉砕することにより、アス
ペクト比が3以下の粒子が95重量%以上で、針状粒を
ほとんど含有せず、タップ密度が0.9g/cm3以上
という高充填性の窒化ケイ素粉末が得られ、これを用い
ると成形密度の高いものが得られるという知見に基づい
て本発明を完成した。
【0006】即ち、直接窒化法によって得られる窒化ケ
イ素には一般に針状粒が多く、このためじん肺等の問題
のみならず、成形密度を低下させる主な原因であること
が判明したことから分級によりこの針状粒を除去するこ
とが考えられる。しかし、この方法は窒化ケイ素の収率
が悪い上、このように針状粒を分級により除去しただけ
では高充填性の窒化ケイ素粉末は得られないものであ
る。本発明者らは窒化ケイ素粉末を得るための反応条
件、充填密度や、窒化ケイ素粒子のアスペクト比などが
成形密度に及ぼす影響を検討した結果、直接窒化法によ
って得られた針状粉を含む窒化ケイ素粉末に対し乾式撹
拌粉砕機例えば乾式アトライターによる粉砕を行い、そ
の際仕込み量を変化させるなどして粉砕能力を上げて窒
化ケイ素を乾式微紛化することにより、窒化ケイ素のア
スペクト比が3以下の粒子が95%重量以上となり、針
状粉がほとんどなくなり、健康上の問題がなくなる上、
窒化ケイ素を全量回収でき、しかも充填密度が高くなっ
て、従来得られなかったタップ密度が0.9g/cm3
以上という高充填性窒化ケイ素粉末が得られること、こ
の窒化ケイ素粉末を用いて成形した成形体の密度は1.
70g/cm3以上と極めて高く、このため焼結後の焼
結体の密度がアップし、また寸法精度を向上させること
ができること、しかも上記高充填性窒化ケイ素粉末はB
ET比表面積が大きいため焼結体の強度等の物性を向上
させ得ることを見い出した。
【0007】従って、本発明はタップ密度が0.9g/
cm3以上であることを特徴とする高充填性窒化ケイ素
粉末及び平均粒子径1〜10μm、BET比表面積1〜
5m2/g、純度99%以上の金属ケイ素粉末を135
0〜1450℃においてで水素濃度5〜20容量%の窒
素雰囲気中で窒素と反応させて得られた窒化ケイ素粉末
をボールを媒体とした乾式撹拌粉砕機を用いて粉砕する
ことを特徴とするタップ密度が0.9g/cm3の高充
填性窒化ケイ素粉末の製造方法を提供する。
【0008】なお、本発明において、タップ密度とは1
00cm3の金属製円筒容器に粉末を入れ、高さ2cm
より自然落下を180回繰り返した後の粉末の嵩密度を
いう。
【0009】以下、本発明について更に詳しく説明する
と、本発明の高充填性窒化ケイ素粉末はタップ密度が
0.9g/cm3以上、好ましくは1.0g/cm3以上
であり、またアスペクト比が3以下の粒子を95重量%
以上含有しているものである。このような高充填性窒化
ケイ素粉末を得る原料の窒化ケイ素としては、特に制限
されないが、例えば直接窒化法によって得られた窒化ケ
イ素をボールを媒体とした乾式撹拌粉砕機を用いて粉砕
することによって得ることができる。この場合、直接窒
化法は特に制限されず、通常の方法を採用することがで
きるが、本発明の窒化ケイ素の高充填性を生かすため、
次のような方法で高純度な窒化ケイ素を製造することが
好ましい。
【0010】原料となる金属ケイ素粉末としては、平均
粒子径が1〜10μm、BET比表面積が1〜5m2
g、純度が99%以上のものを使用することが好まし
い。平均粒子径が1μmより小さいとコストが高くな
り、しかも取り扱いにくくなり、逆に10μmを超える
と、反応性が低下し、未反応物が増加する場合がある。
また、BET比表面積が1m2/gより小さいと反応性
が低下し、未反応物が増加する場合があり、逆に5m2
/gを超えるとコストが高くなり、しかも酸素含有量が
増加する場合がある。更に純度が99%に満たないと焼
結体の純度の点で問題が生じる場合がある。
【0011】次に、窒化方法については従来公知の直接
窒化法により窒化反応を行うことができる。例えば窒化
の反応条件は、反応温度が1350〜1450℃、反応
時間は1〜5時間である。また、反応時の雰囲気は、窒
素と水素の混合ガス気流下で行うことが好ましく、この
場合混合ガスの組成比は窒素ガス/水素ガス=5/95
〜20/80容積比とすることがよい。なお、反応時の
圧力は10〜100mmAqとすることが好ましい。反
応に用いる炉としては特に制限はないが、一般にトンネ
ル式のプレッシャー炉や箱型炉等を用いることができ
る。
【0012】窒化反応により得られた窒化ケイ素は、通
常ジョークラッシャー等で解砕後、エアーサイクロンミ
ル(ACM)やローラーミルにより粉砕され、粉砕物と
されるが、この粉砕物は一般にタップ密度が0.9g/
cm3以下であり、また、アスペクト比が3以下のもの
が50重量%以下で、針状粒を10〜50重量%有し、
更に不純物として鉄、炭素、カルシウム、アルミニウム
等を0.1〜0.5重量%有するものである。この粉砕
物を成形した場合、得られる成形体の密度は1.60〜
1.69g/cm3であり、低い値を示す。
【0013】本発明の窒化ケイ素粉末は、このような針
状粒を含む窒化ケイ素を乾式微粉砕機により微粉砕する
ことによって得ることができる。ここで、乾式微粉砕機
としては、例えばローラミル、ボールミル等の媒体式、
ジェット粉砕機、圧縮摩砕式粉砕機等が挙げられるが、
特に針状粒を効果的に無くすように粉砕できるものとし
て、ボールを媒体(メディア)とした乾式撹拌粉砕機例
えば乾式アトライター等が好適に用いられる。この乾式
アトライターは固定された粉砕タンクの中に小径のボー
ルと被処理物を入れ、撹拌棒、回転ディスク等により強
制的に撹拌することにより粉砕を行うもので、図1に示
す構造のものが例示される。
【0014】図1の乾式アトライター1は、横型円筒状
粉砕タンク2内に軸方向に沿ってメディアを撹拌するた
めの撹拌棒3を多数突設した棒状回転アーム4が組み込
まれ、タンク2内に充填されたボール5を強制的に撹拌
するものである。原料の窒化ケイ素粉末はタンク2の一
端側(入口側)の原料投入口6からタンク2内に投入さ
れ、ボール5により微粉砕されてタンク2の他端側(出
口側)の製品取出口7から排出される。この際、必要に
より入口側に設けられた窒素ガス導入管8より窒素ガス
をタンク2内に流しながら粉砕を行うこともできる。な
お図中9はスクリーンである。また、上記乾式アトライ
ターは縦型やバッチ式とすることもできる。媒体として
用いるボールは金属製、セラミック製等の耐摩耗性、耐
熱性の高硬度のものが用いられ、鉄製、窒化ケイ素製の
ボールなどが例示される。
【0015】このような乾式アトライターを使用して本
発明の窒化ケイ素粉末を得る粉砕条件としては、仕込量
を粉砕機の能力容量の1/2〜1/4にし、例えば窒化
ケイ素製のボールを用いる場合、ボールの重量/窒化ケ
イ素の仕込量=2〜9の範囲として粉砕能力を上げるこ
とが好ましい。
【0016】このようにして得られた窒化ケイ素の粉末
は、針状粒をほどんど含まず、アスペクト比が3以下の
粒子を95重量%以上含有し、タップ密度が0.9g/
cm3以上の高充填性の窒化ケイ素を得ることができ
る。この場合、アスペクト比が3以下の粒子が95重量
%に達しないと、タップ密度が0.9g/cm3以上の
ものが得られないと共に針状粒が多くなり、成形密度が
1.70g/cm3以上の成形体を得ることができな
い。なお、平均粒径は測定方法や二次凝集等により正確
な測定は困難であるが、走査型電子顕微鏡による測定で
0.4〜0.7μmの範囲とすることが好ましい。
【0017】また、得られた窒化ケイ素粉末は、α化窒
化ケイ素の含有率が80重量%以上、特に90重量%以
上であることが好ましく、80重量%未満では焼結体の
強度が不十分となる場合があり、またBET比表面積は
6m2/g以上、特に7m2/g以上であることが好まし
く、6m2/g未満では焼結性が劣る場合がある。更に
酸素含有量は2重量%以下、特に1.5重量%以下とす
ることが好ましく、2重量%を超えると焼結体の強度が
低下する場合がある。なおまた、炭素含有量は0.6重
量%以下、特に0.4重量%以下とすることが好まし
く、0.6重量%を超えると焼結体の強度が低下する場
合がある。これに加えて、炭素以外の金属不純物、例え
ば鉄、アルミニウム、カルシウム等の合計量は0.7重
量%以下、特に0.5重量%以下とすることが好まし
く、0.7重量%を超えると焼結体の強度が低下する場
合がある。
【0018】
【実施例】以下、実施例と比較例を示し、本発明を具体
的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるも
のではない。
【0019】[実施例及び比較例]平均粒径が5μm、
BET比表面積が2.5m2/g、純度が99.5%の
原料金属ケイ素粉末を用い、15容量%の水素ガスを含
む水素ガスと窒素ガスとの混合ガス雰囲気下、1380
℃で1時間保持となるようにプッシャー式反応炉で窒化
反応を行い、窒化ケイ素を得た。これをジョークラッシ
ャーにより解砕し、エアーサイクロンミルにより粉砕し
た。
【0020】このようにして得られた窒化ケイ素粉末
は、α含有率が95重量%、BET比表面積が3.8m
2/g、酸素含有率が0.4重量%、アスペクト比が3
以下の粒子の比率が50重量%以下、針状粒の比率が4
3%、平均粒径が22μmであった。
【0021】次いで、この粉末を図1に示す乾式アトラ
イターを用い窒化ケイ素製ボール(直径5mm)をメデ
ィアとして3時間粉砕した。この際、窒化ケイ素の仕込
量を変え、ボール量/仕込量比を変化させて粉砕能力を
変動させた。
【0022】得られた窒化ケイ素微粉末のBET比表面
積、不純物(炭素及び炭素以外の金属不純物量)、タッ
プ密度、アスペクト比が3以下の粒子の割合、針状粒の
割合を測定すると共に、この窒化ケイ素微粉末を100
0kg/cm2加重でCIP成形して得られる成形体の
成形密度について測定した。
【0023】なお、タップ密度は細川鉄工所(株)製の
パウダーテスターを用い、100cm3の金属製の円筒
状の容器に粉末を入れ、高さ2cmより180回自然落
下を繰り返した後、円筒状容器上面の余分な粉をブレー
ドですり切り、重量を測定することにより求めた。
【0024】また、比較のため乾式アトライタによる粉
砕を行わないもの、イミド法によって得られた窒化ケイ
素について同様の測定を行った。結果を表1及び表2に
併記する。
【0025】
【表1】
【0026】
【表2】 * ボール/仕込量はボールミルの窒化ケイ素製ボール
と1時間当たりに仕込んだ窒化ケイ素粉末との重量比で
ある。
【0027】** アスペクト比が3以下の粒子の測定
は走査型電子顕微鏡(SEM写真)により1000個の
粒子数を測定して行った。 *** 針状粒の測定はSEM写真により1000個の
粒子数を測定して行った。
【0028】なお、実施例1で得られた窒化ケイ素及び
微粉砕前のもの(比較例1)の走査型電子顕微鏡写真を
それぞれ参考写真1,2に示した。これらの倍率はそれ
ぞれ10000倍である。
【0029】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の高充填性
窒化ケイ素粉末は充填密度が高く、このため成形体の成
形密度が高く、焼結体の強度や寸法精度を向上させるこ
とができるものであり、また、本発明の製造方法によれ
ば、かかる高充填性窒化ケイ素粉末を確実に製造するこ
とができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例で使用した乾式アトライターの
説明図である。
【符号の説明】
1 乾式アトライター 2 粉砕タンク 3 撹拌棒 4 回転アーム 5 ボール 6 原料投入口 7 製品取出口 8 窒素ガス導入管 9 スクリーン

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 タップ密度が0.9g/cm3以上であ
    ることを特徴とする高充填性窒化ケイ素粉末。
  2. 【請求項2】 アスペクト比が3以下の粒子を95重量
    %以上含有する請求項1記載の高充填性窒化ケイ素粉
    末。
  3. 【請求項3】 平均粒子径1〜10μm、BET比表面
    積1〜5m2/g、純度99%以上の金属ケイ素粉末を
    1350〜1450℃において水素濃度5〜20容量%
    の窒素雰囲気中で窒素と反応させて得られた窒化ケイ素
    粉末をボールを媒体とした乾式撹拌粉砕機を用いて粉砕
    することを特徴とする請求項1記載の高充填性窒化ケイ
    素粉末の製造方法。
JP3078588A 1991-03-18 1991-03-18 高充填性窒化ケイ素粉末及びその製造方法 Pending JPH0558606A (ja)

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JP3078588A JPH0558606A (ja) 1991-03-18 1991-03-18 高充填性窒化ケイ素粉末及びその製造方法
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US5382554A (en) 1995-01-17

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