JPH055622A - 微小変位検出方法 - Google Patents
微小変位検出方法Info
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- JPH055622A JPH055622A JP3157268A JP15726891A JPH055622A JP H055622 A JPH055622 A JP H055622A JP 3157268 A JP3157268 A JP 3157268A JP 15726891 A JP15726891 A JP 15726891A JP H055622 A JPH055622 A JP H055622A
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- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
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- G01B11/16—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring the deformation in a solid, e.g. optical strain gauge
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- G—PHYSICS
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- G01Q—SCANNING-PROBE TECHNIQUES OR APPARATUS; APPLICATIONS OF SCANNING-PROBE TECHNIQUES, e.g. SCANNING PROBE MICROSCOPY [SPM]
- G01Q20/00—Monitoring the movement or position of the probe
- G01Q20/02—Monitoring the movement or position of the probe by optical means
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- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/026—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness by measuring distance between sensor and object
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
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- G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
- G01B11/303—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces using photoelectric detection means
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- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Measurement Of Optical Distance (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Length Measuring Devices With Unspecified Measuring Means (AREA)
Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 原子間力を用いた表面形状測定装置におい
て、高精度に探針の変位を計測できる微小変位検出方法
を提供する。 【構成】 光源1から偏光方向が異なる2つのレーザ光
を射出させ、レンズA2を通して収束させた後に発散さ
せ、ビームスプリッタ3に入射し、プリズム4を通して
分離した2つの測定光P、Sを、レンズB5を通して、
探針6の先端付近に設けた反射面上と探針ホルダ7付近
に設けた反射面上に分けて焦点を結ぶように入射して反
射させた測定光P、Sを、再度レンズB5とプリズム4
とを通し、ビームスプリッタ3を再度通すことによっ
て、前記光源1とは異なる方向に反射させ、光の偏光方
向により透過または反射する偏光ビームスプリッタ8を
通して分離し、測定光Pの焦点位置を光検出器A9で検
出し、測定光Sの焦点位置を光検出器B10で検出し、
光検出器A9と光検出器B10からの焦点位置信号を信
号処理回路で処理して、探針6の微小変位を測定する。
て、高精度に探針の変位を計測できる微小変位検出方法
を提供する。 【構成】 光源1から偏光方向が異なる2つのレーザ光
を射出させ、レンズA2を通して収束させた後に発散さ
せ、ビームスプリッタ3に入射し、プリズム4を通して
分離した2つの測定光P、Sを、レンズB5を通して、
探針6の先端付近に設けた反射面上と探針ホルダ7付近
に設けた反射面上に分けて焦点を結ぶように入射して反
射させた測定光P、Sを、再度レンズB5とプリズム4
とを通し、ビームスプリッタ3を再度通すことによっ
て、前記光源1とは異なる方向に反射させ、光の偏光方
向により透過または反射する偏光ビームスプリッタ8を
通して分離し、測定光Pの焦点位置を光検出器A9で検
出し、測定光Sの焦点位置を光検出器B10で検出し、
光検出器A9と光検出器B10からの焦点位置信号を信
号処理回路で処理して、探針6の微小変位を測定する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明の微小変位検出方法は、集
積回路等の微細な表面形状を測定するAFM(原子間力
顕微鏡)に関し、特に、探針と試料間に働く原子間力の
変化によって生じる、探針のナノメートル以下の変位を
測定する微小変位検出方法に関するものである。
積回路等の微細な表面形状を測定するAFM(原子間力
顕微鏡)に関し、特に、探針と試料間に働く原子間力の
変化によって生じる、探針のナノメートル以下の変位を
測定する微小変位検出方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】微細な表面形状を測定するAFM(原子
間力顕微鏡)装置で使用されている従来の微小変位検出
方法は、試料と、この試料表面の極く近くに設置された
鋭く先の尖ったバネ状の片持ち梁状探針との間に働く原
子間力を、片持ち梁のタワミを検出することによって検
出し、この検出された力を一定に保ちつつ試料の位置を
前記探針と垂直方向に変化させることにより、試料と探
針との距離をナノメートルオーダからサブオングストロ
ームオーダの精度で一定に保ちながら、試料の被測定面
を、前記垂直方向に対して垂直な平面に沿って移動させ
ることによって、試料の表面形状を測定している。
間力顕微鏡)装置で使用されている従来の微小変位検出
方法は、試料と、この試料表面の極く近くに設置された
鋭く先の尖ったバネ状の片持ち梁状探針との間に働く原
子間力を、片持ち梁のタワミを検出することによって検
出し、この検出された力を一定に保ちつつ試料の位置を
前記探針と垂直方向に変化させることにより、試料と探
針との距離をナノメートルオーダからサブオングストロ
ームオーダの精度で一定に保ちながら、試料の被測定面
を、前記垂直方向に対して垂直な平面に沿って移動させ
ることによって、試料の表面形状を測定している。
【0003】図5に基づいて、従来の微小変位検出方法
を説明する。
を説明する。
【0004】図5において、光源1から図5の紙面に対
して45°傾いた偏光方向(P偏光方向とS偏光方向)
を有する直線偏光を出射させる。
して45°傾いた偏光方向(P偏光方向とS偏光方向)
を有する直線偏光を出射させる。
【0005】これら2つの直線偏光を、ビームスプリッ
タ3に入射する。
タ3に入射する。
【0006】ビームスプリッタ3を透過した2つの測定
光を、偏光方向によって分離角が異なるウォーラストン
プリズム4に入射し、P偏光方向とS偏光方向とに対す
る2方向に分離する。この場合、P偏光方向の直線偏光
Pは測定光Pとして上方向に分離され、S偏光方向の直
線偏光Sは測定光Sとして下方向に分離される。
光を、偏光方向によって分離角が異なるウォーラストン
プリズム4に入射し、P偏光方向とS偏光方向とに対す
る2方向に分離する。この場合、P偏光方向の直線偏光
Pは測定光Pとして上方向に分離され、S偏光方向の直
線偏光Sは測定光Sとして下方向に分離される。
【0007】前記測定光PをレンズB5を通して、変位
測定探針6の先端付近に集光して反射させる。
測定探針6の先端付近に集光して反射させる。
【0008】この反射した測定光Pを、再度レンズB5
とプリズム4を通す。
とプリズム4を通す。
【0009】プリズム4からの測定光Pを、ビームスプ
リッタ3に入射して、前記光源とは異なる方向に反射さ
せる。
リッタ3に入射して、前記光源とは異なる方向に反射さ
せる。
【0010】このビームスプリッタ3からの測定光P
を、光の偏光方向により透過または反射するプリズムB
8に入射して反射させる。
を、光の偏光方向により透過または反射するプリズムB
8に入射して反射させる。
【0011】このプリズムB8からの測定光Pを、光検
出器A9に入射させて、この光検出器A9によって、測
定光Pの焦点位置を検出させる。図5のプリズムB8か
らの測定光Pで、実線で示すものは変位測定探針6の変
位前のもの、点線で示すものは変位測定探針6の変位後
のものである。そして、焦点位置が上にズレておれば、
光検出器A9の上側からの焦点位置信号が下側よりも強
くなり、逆の場合は逆になる。
出器A9に入射させて、この光検出器A9によって、測
定光Pの焦点位置を検出させる。図5のプリズムB8か
らの測定光Pで、実線で示すものは変位測定探針6の変
位前のもの、点線で示すものは変位測定探針6の変位後
のものである。そして、焦点位置が上にズレておれば、
光検出器A9の上側からの焦点位置信号が下側よりも強
くなり、逆の場合は逆になる。
【0012】次いで、光検出器A9からの測定光Pの焦
点位置信号を、信号処理回路の減算器11、加算器1
3、除算器15によって、光源の信号強度の変化の影響
を受けないように演算されて電気信号に変換させる。
点位置信号を、信号処理回路の減算器11、加算器1
3、除算器15によって、光源の信号強度の変化の影響
を受けないように演算されて電気信号に変換させる。
【0013】前記測定光SをレンズB5を通して、変位
測定探針6の探針ホルダ7付近に集光して反射させる。
測定探針6の探針ホルダ7付近に集光して反射させる。
【0014】この反射した測定光Sを、再度レンズB5
とプリズム4を通す。
とプリズム4を通す。
【0015】プリズム4からの測定光Sを、ビームスプ
リッタ3に入射して、前記光源とは異なる方向に反射さ
せる。
リッタ3に入射して、前記光源とは異なる方向に反射さ
せる。
【0016】このビームスプリッタ3からの測定光S
を、光の偏光方向により透過または反射するプリズムB
8を通して透過させる。
を、光の偏光方向により透過または反射するプリズムB
8を通して透過させる。
【0017】このプリズムB8からの測定光Sを、光検
出器B10に入射させて、この光検出器B10によっ
て、測定光Sの焦点位置を測定光Pの場合と同様にして
検出させる。
出器B10に入射させて、この光検出器B10によっ
て、測定光Sの焦点位置を測定光Pの場合と同様にして
検出させる。
【0018】次いで、光検出器B10からの測定光Sの
焦点位置信号を、信号処理回路の減算器12、加算器1
4、除算器16によって、光源の信号強度の変化の影響
を受けないように演算されて電気信号に変換させる。
焦点位置信号を、信号処理回路の減算器12、加算器1
4、除算器16によって、光源の信号強度の変化の影響
を受けないように演算されて電気信号に変換させる。
【0019】この場合、光検出器A9では、変位測定探
針6の変位によって生じた角度変化の信号と、空気のゆ
らぎと、光学系の振動ノイズが混合された信号が検出さ
れる。光検出器B10では、空気のゆらぎと、光学系の
振動ノイズが混合された信号が検出される。
針6の変位によって生じた角度変化の信号と、空気のゆ
らぎと、光学系の振動ノイズが混合された信号が検出さ
れる。光検出器B10では、空気のゆらぎと、光学系の
振動ノイズが混合された信号が検出される。
【0020】従って、次に、減算器17によって、光検
出器A9からの前記電気信号から、光検出器B10から
の前記電気信号を減算することによって、空気のゆらぎ
と、光学系の振動ノイズの影響が無い変位測定探針6の
微小変位信号を得ることができる。
出器A9からの前記電気信号から、光検出器B10から
の前記電気信号を減算することによって、空気のゆらぎ
と、光学系の振動ノイズの影響が無い変位測定探針6の
微小変位信号を得ることができる。
【0021】このようにして得られた変位測定探針6の
微小変位信号を一定に保ちつつ、試料18を保持してい
るXYZスキャナ19によって、試料18の位置を前記
探針6と垂直方向に変化させ、試料18と探針6との距
離をナノメートルオーダからサブオングストロームオー
ダの精度で一定に保ちながら、試料18の被測定面を、
前記垂直方向に対して垂直な平面上に沿って移動させる
ことによって、試料18の表面形状を測定することがで
きる。
微小変位信号を一定に保ちつつ、試料18を保持してい
るXYZスキャナ19によって、試料18の位置を前記
探針6と垂直方向に変化させ、試料18と探針6との距
離をナノメートルオーダからサブオングストロームオー
ダの精度で一定に保ちながら、試料18の被測定面を、
前記垂直方向に対して垂直な平面上に沿って移動させる
ことによって、試料18の表面形状を測定することがで
きる。
【0022】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記の従来の
構成では、測定光P、Sを、変位測定探針6上と光検出
器A9、B10上に同時に集光し焦点を結ばせることが
できず、変位測定探針6上に集光し焦点を結ばせた場合
には、光検出器上に集光して焦点を結ばせることができ
ないので探針変位検出感度が下がり、光検出器上に焦点
を結ばせた場合には、変位測定探針6上に焦点を結ばせ
ることができないので、変位測定探針6に半導体リソグ
ラフィー等のプロセスを用いて作成した小型の変位測定
探針6を用いた場合、小型の変位測定探針6上での測定
光のビーム径が小型の変位測定探針6の幅よりも大きく
なり、測定光の一部が試料上に達し、試料表面で乱反射
された光が再度レンズ5により集められ光検出器A9、
B10で検出され、この信号がゴースト信号となって正
規の信号に重なるので、変位測定探針6が、その実際の
変位とは異なる位置に在るかのような信号を出力するこ
とになり、誤差を発生するという問題点がある。
構成では、測定光P、Sを、変位測定探針6上と光検出
器A9、B10上に同時に集光し焦点を結ばせることが
できず、変位測定探針6上に集光し焦点を結ばせた場合
には、光検出器上に集光して焦点を結ばせることができ
ないので探針変位検出感度が下がり、光検出器上に焦点
を結ばせた場合には、変位測定探針6上に焦点を結ばせ
ることができないので、変位測定探針6に半導体リソグ
ラフィー等のプロセスを用いて作成した小型の変位測定
探針6を用いた場合、小型の変位測定探針6上での測定
光のビーム径が小型の変位測定探針6の幅よりも大きく
なり、測定光の一部が試料上に達し、試料表面で乱反射
された光が再度レンズ5により集められ光検出器A9、
B10で検出され、この信号がゴースト信号となって正
規の信号に重なるので、変位測定探針6が、その実際の
変位とは異なる位置に在るかのような信号を出力するこ
とになり、誤差を発生するという問題点がある。
【0023】本発明は、上記の問題点を解決して、変位
測定探針上と光検出器上とに同時に測定光を集光し焦点
を結ばせることができるようにして、高精度に変位測定
探針の変位を計測できる微小変位検出方法を提供するこ
とをその課題とする。
測定探針上と光検出器上とに同時に測定光を集光し焦点
を結ばせることができるようにして、高精度に変位測定
探針の変位を計測できる微小変位検出方法を提供するこ
とをその課題とする。
【0024】
【課題を解決するための手段】本願第1発明の微小変位
検出方法は、上記の課題を解決するために、光源から偏
光方向が異なる2つのレーザ光を射出させ、これらのレ
ーザ光をレンズAを通して一旦収束させた後に発散さ
せ、これらの発散光をビームスプリッタに入射し、その
透過光を光の偏光方向により分離角が異なるプリズムを
通して分離し、このプリズムで分離した2つの測定光
P、Sを、レンズBを通して、微小変位を検出する変位
測定探針の先端付近に設けた反射面上と探針ホルダ付近
に設けた反射面上に分けて焦点を結ぶように入射して反
射させ、これらの反射した測定光P、Sを、再度前記レ
ンズBと前記プリズムとを通し、このプリズムからの測
定光P、Sを、前記ビームスプリッタを再度通すことに
よって、前記光源とは異なる方向に反射させ、これらの
測定光P、Sを、光の偏光方向により透過または反射す
る偏光ビームスプリッタを通して分離し、この測定光P
の焦点位置を光検出器Aで検出し、この測定光Sの焦点
位置を光検出器Bで検出し、前記光検出器Aと前記光検
出器Bからの焦点位置信号を信号処理回路で処理して、
前記変位測定探針の微小変位を測定することを特徴とす
る。
検出方法は、上記の課題を解決するために、光源から偏
光方向が異なる2つのレーザ光を射出させ、これらのレ
ーザ光をレンズAを通して一旦収束させた後に発散さ
せ、これらの発散光をビームスプリッタに入射し、その
透過光を光の偏光方向により分離角が異なるプリズムを
通して分離し、このプリズムで分離した2つの測定光
P、Sを、レンズBを通して、微小変位を検出する変位
測定探針の先端付近に設けた反射面上と探針ホルダ付近
に設けた反射面上に分けて焦点を結ぶように入射して反
射させ、これらの反射した測定光P、Sを、再度前記レ
ンズBと前記プリズムとを通し、このプリズムからの測
定光P、Sを、前記ビームスプリッタを再度通すことに
よって、前記光源とは異なる方向に反射させ、これらの
測定光P、Sを、光の偏光方向により透過または反射す
る偏光ビームスプリッタを通して分離し、この測定光P
の焦点位置を光検出器Aで検出し、この測定光Sの焦点
位置を光検出器Bで検出し、前記光検出器Aと前記光検
出器Bからの焦点位置信号を信号処理回路で処理して、
前記変位測定探針の微小変位を測定することを特徴とす
る。
【0025】本願第2発明の微小変位検出方法は、上記
の課題を解決するために、光源から偏光方向が異なる2
つのレーザ光を射出させ、これらのレーザ光をレンズA
を通して一旦収束させた後に発散させ、これらの発散光
をビームスプリッタに入射し、その透過光をレンズB及
び光の偏光方向により分離角が異なるプリズムを通して
分離し、このプリズムで分離した2つの測定光P、S
を、微小変位を検出する変位測定探針の先端付近に設け
た反射面上と探針ホルダ付近に設けた反射面上に分けて
焦点を結ぶように入射して反射させ、これらの反射した
測定光P、Sを、再度前記プリズムと前記レンズBとを
通し、このレンズBからの測定光P、Sを、前記ビーム
スプリッタを再度通すことによって、前記光源とは異な
る方向に反射させ、これらの測定光P、Sを、光の偏光
方向により透過または反射する偏光ビームスプリッタを
通して分離し、この測定光Pの焦点位置を光検出器Aで
検出し、この測定光Sの焦点位置を光検出器Bで検出
し、前記光検出器Aと前記光検出器Bからの焦点位置信
号を信号処理回路で処理して、前記変位測定探針の微小
変位を測定することを特徴とする。
の課題を解決するために、光源から偏光方向が異なる2
つのレーザ光を射出させ、これらのレーザ光をレンズA
を通して一旦収束させた後に発散させ、これらの発散光
をビームスプリッタに入射し、その透過光をレンズB及
び光の偏光方向により分離角が異なるプリズムを通して
分離し、このプリズムで分離した2つの測定光P、S
を、微小変位を検出する変位測定探針の先端付近に設け
た反射面上と探針ホルダ付近に設けた反射面上に分けて
焦点を結ぶように入射して反射させ、これらの反射した
測定光P、Sを、再度前記プリズムと前記レンズBとを
通し、このレンズBからの測定光P、Sを、前記ビーム
スプリッタを再度通すことによって、前記光源とは異な
る方向に反射させ、これらの測定光P、Sを、光の偏光
方向により透過または反射する偏光ビームスプリッタを
通して分離し、この測定光Pの焦点位置を光検出器Aで
検出し、この測定光Sの焦点位置を光検出器Bで検出
し、前記光検出器Aと前記光検出器Bからの焦点位置信
号を信号処理回路で処理して、前記変位測定探針の微小
変位を測定することを特徴とする。
【0026】又、請求項1又は2に記載の微小変位検出
方法において、光源からの光を収束させるレンズAの代
わりに、光源からの光を発散させるレンズAを使用する
ことが好適である。
方法において、光源からの光を収束させるレンズAの代
わりに、光源からの光を発散させるレンズAを使用する
ことが好適である。
【0027】
【作用】本発明の微小変位検出方法は、光源からの測定
光を、先ず、レンズAを通してそのレンズAの焦点から
の発散光にすることによって、この測定光が、光学系を
通り、変位測定探針の前に配されたレンズBで、変位測
定探針上に集光され焦点を結んで反射し、光の逆進の原
理に従って、レンズB及び前記光学系を通って戻る際
に、前記レンズAの焦点に相当する位置に、光検出器を
設置することによって、この光検出器上にも焦点を結ぶ
ことができる。
光を、先ず、レンズAを通してそのレンズAの焦点から
の発散光にすることによって、この測定光が、光学系を
通り、変位測定探針の前に配されたレンズBで、変位測
定探針上に集光され焦点を結んで反射し、光の逆進の原
理に従って、レンズB及び前記光学系を通って戻る際
に、前記レンズAの焦点に相当する位置に、光検出器を
設置することによって、この光検出器上にも焦点を結ぶ
ことができる。
【0028】従って、変位測定探針として、半導体リソ
グラフィー等のプロセスを用いて作成した極く小さい探
針を使用しても、探針上の測定光のビーム径を充分小さ
くできるので、測定光が探針からはみ出して試料上に達
することがなく、誤差の原因となる試料からのゴースト
信号の発生が無い。又、光検出器上の測定光のビーム径
を回折限界まで小さく絞れるので、光検出器上の測定光
の位置決め精度が向上する。このように、誤差の原因が
無くなり、位置決め精度が高精度になるので、探針の微
小変位を高精度で測定することができる。
グラフィー等のプロセスを用いて作成した極く小さい探
針を使用しても、探針上の測定光のビーム径を充分小さ
くできるので、測定光が探針からはみ出して試料上に達
することがなく、誤差の原因となる試料からのゴースト
信号の発生が無い。又、光検出器上の測定光のビーム径
を回折限界まで小さく絞れるので、光検出器上の測定光
の位置決め精度が向上する。このように、誤差の原因が
無くなり、位置決め精度が高精度になるので、探針の微
小変位を高精度で測定することができる。
【0029】又、光源からの光を収束させるレンズA
(凸レンズ)の代わりに、光源からの光を発散させるレ
ンズA(凹レンズ)を使用することによって、測定光の
光源側の焦点が、レンズA(凹レンズ)の試料側から光
源側に移るので、光学系全体を小型化できる。
(凸レンズ)の代わりに、光源からの光を発散させるレ
ンズA(凹レンズ)を使用することによって、測定光の
光源側の焦点が、レンズA(凹レンズ)の試料側から光
源側に移るので、光学系全体を小型化できる。
【0030】
【実施例】本発明の第1の実施例を図1に基づいて説明
する。
する。
【0031】図1において、光源1から図1の紙面に対
して45°傾いた偏光方向(P偏光方向とS偏光方向)
を有する直線偏光を出射させる。
して45°傾いた偏光方向(P偏光方向とS偏光方向)
を有する直線偏光を出射させる。
【0032】これら2つの直線偏光を、レンズA2を通
して、測定光として、一旦収束させた後に発散させる。
して、測定光として、一旦収束させた後に発散させる。
【0033】これら2つの測定光を、ビームスプリッタ
3に入射する。
3に入射する。
【0034】ビームスプリッタ3を透過した2つの測定
光を、偏光方向によって分離角が異なるウォーラストン
プリズム4(又はカルサイトプリズム)に入射し、P偏
光方向とS偏光方向とに対する2方向に分離する。この
場合、P偏光方向の直線偏光Pは測定光Pとして上方向
に分離され、S偏光方向の直線偏光Sは測定光Sとして
下方向に分離される。
光を、偏光方向によって分離角が異なるウォーラストン
プリズム4(又はカルサイトプリズム)に入射し、P偏
光方向とS偏光方向とに対する2方向に分離する。この
場合、P偏光方向の直線偏光Pは測定光Pとして上方向
に分離され、S偏光方向の直線偏光Sは測定光Sとして
下方向に分離される。
【0035】前記測定光PをレンズB5を通して、変位
測定探針6の先端付近に集光して反射させる。
測定探針6の先端付近に集光して反射させる。
【0036】この反射した測定光Pを、再度レンズB5
とプリズム4を通す。
とプリズム4を通す。
【0037】プリズム4からの測定光Pを、ビームスプ
リッタ3に入射して、前記光源とは異なる方向に反射さ
せる。
リッタ3に入射して、前記光源とは異なる方向に反射さ
せる。
【0038】このビームスプリッタ3からの測定光P
を、光の偏光方向により透過または反射する偏光ビーム
スプリッタ8を通して反射させる。
を、光の偏光方向により透過または反射する偏光ビーム
スプリッタ8を通して反射させる。
【0039】この偏光ビームスプリッタ8からの測定光
Pを、光検出器A9(光検出器は、2分割タイプの光検
出器でも、1次元位置測定タイプの光検出器でも良
い。)に焦点を結んで入射させて、この光検出器A9に
よって、測定光Pの焦点位置を検出させる。図1のプリ
ズムB8からの測定光Pで、実線で示すものは変位測定
探針6の変位前のもの、点線で示すものは変位測定探針
6の変位後のものである。
Pを、光検出器A9(光検出器は、2分割タイプの光検
出器でも、1次元位置測定タイプの光検出器でも良
い。)に焦点を結んで入射させて、この光検出器A9に
よって、測定光Pの焦点位置を検出させる。図1のプリ
ズムB8からの測定光Pで、実線で示すものは変位測定
探針6の変位前のもの、点線で示すものは変位測定探針
6の変位後のものである。
【0040】そして、焦点位置が上にズレておれば、光
検出器A9の上側からの焦点位置信号が下側よりも強く
なり、逆の場合は逆になる。尚、図1では、説明のため
に、変位測定探針6の変位後の測定光Pの変位を大きく
しているが、実際には極く僅かで、2分割タイプの光検
出器の場合、変位測定探針6の変位後の測定光Pの焦点
は、光検出器の両サイドに跨がっている。
検出器A9の上側からの焦点位置信号が下側よりも強く
なり、逆の場合は逆になる。尚、図1では、説明のため
に、変位測定探針6の変位後の測定光Pの変位を大きく
しているが、実際には極く僅かで、2分割タイプの光検
出器の場合、変位測定探針6の変位後の測定光Pの焦点
は、光検出器の両サイドに跨がっている。
【0041】次いで、光検出器A9からの測定光Pの焦
点位置信号を、信号処理回路の減算器11、加算器1
3、除算器15によって、光源の信号強度の変化の影響
を受けないように演算されて電気信号に変換させる。
点位置信号を、信号処理回路の減算器11、加算器1
3、除算器15によって、光源の信号強度の変化の影響
を受けないように演算されて電気信号に変換させる。
【0042】前記測定光SをレンズB5を通して、変位
測定探針6の探針ホルダ付近に集光して反射させる。
測定探針6の探針ホルダ付近に集光して反射させる。
【0043】この反射した測定光Sを、再度レンズB5
とプリズム4を通す。
とプリズム4を通す。
【0044】プリズム4からの測定光Sを、ビームスプ
リッタ3に入射して、前記光源とは異なる方向に反射さ
せる。
リッタ3に入射して、前記光源とは異なる方向に反射さ
せる。
【0045】このビームスプリッタ3からの測定光S
を、光の偏光方向により透過または反射する偏光ビーム
スプリッタ8を通して透過させる。
を、光の偏光方向により透過または反射する偏光ビーム
スプリッタ8を通して透過させる。
【0046】この偏光ビームスプリッタ8からの測定光
Sを、光検出器B10に焦点を結んで入射させて、この
光検出器B10によって、測定光Sの焦点位置を検出さ
せる。
Sを、光検出器B10に焦点を結んで入射させて、この
光検出器B10によって、測定光Sの焦点位置を検出さ
せる。
【0047】この場合、レンズA2によって収束された
光の焦点位置からレンズB5の主点までの距離とをs′
とし、レンズB5の主点から変位測定探針6までの距離
をsとし、レンズBの焦点距離をfとして、式(1)を
満足するように配置すると共に、光検出器A9上からレ
ンズB5の主点までの距離と、光検出器B10上からレ
ンズB5の主点までの距離とをs′とすると、測定光
P、Sの焦点は、夫々、変位測定探針6と光検出器A9
上と光検出器B10上に結ばれる。
光の焦点位置からレンズB5の主点までの距離とをs′
とし、レンズB5の主点から変位測定探針6までの距離
をsとし、レンズBの焦点距離をfとして、式(1)を
満足するように配置すると共に、光検出器A9上からレ
ンズB5の主点までの距離と、光検出器B10上からレ
ンズB5の主点までの距離とをs′とすると、測定光
P、Sの焦点は、夫々、変位測定探針6と光検出器A9
上と光検出器B10上に結ばれる。
【0048】
【数1】
【0049】次いで、光検出器B10からの測定光Sの
焦点位置信号を、信号処理回路の減算器12、加算器1
4、除算器16によって、光源の信号強度の変化の影響
を受けないように演算されて電気信号に変換させる。
焦点位置信号を、信号処理回路の減算器12、加算器1
4、除算器16によって、光源の信号強度の変化の影響
を受けないように演算されて電気信号に変換させる。
【0050】この場合、光検出器A9では、変位測定探
針6の変位によって生じた角度変化の信号と、空気のゆ
らぎと、光学系の振動ノイズが混合された信号が検出さ
れる。光検出器B10では、空気のゆらぎと、光学系の
振動ノイズが混合された信号が検出される。
針6の変位によって生じた角度変化の信号と、空気のゆ
らぎと、光学系の振動ノイズが混合された信号が検出さ
れる。光検出器B10では、空気のゆらぎと、光学系の
振動ノイズが混合された信号が検出される。
【0051】従って、次に、信号処理回路の減算器17
によって、光検出器A9からの前記電気信号から、光検
出器B10からの前記電気信号を減算することによっ
て、空気のゆらぎと、光学系の振動ノイズの影響が無い
変位測定探針6の微小変位信号を得ることができる。
によって、光検出器A9からの前記電気信号から、光検
出器B10からの前記電気信号を減算することによっ
て、空気のゆらぎと、光学系の振動ノイズの影響が無い
変位測定探針6の微小変位信号を得ることができる。
【0052】このようにして得られた変位測定探針6の
微小変位信号を一定に保ちつつ、試料18を保持してい
るXYZスキャナ19によって、試料18の位置を前記
探針6と垂直方向に変化させ、試料18と探針6との距
離をナノメートルオーダからサブオングストロームオー
ダの精度で一定に保ちながら、試料18の被測定面を、
前記垂直方向に対して垂直な平面上に沿って移動させる
ことによって、試料18の表面形状を測定することがで
きる。
微小変位信号を一定に保ちつつ、試料18を保持してい
るXYZスキャナ19によって、試料18の位置を前記
探針6と垂直方向に変化させ、試料18と探針6との距
離をナノメートルオーダからサブオングストロームオー
ダの精度で一定に保ちながら、試料18の被測定面を、
前記垂直方向に対して垂直な平面上に沿って移動させる
ことによって、試料18の表面形状を測定することがで
きる。
【0053】本発明の第2の実施例を図2に基づいて説
明する。
明する。
【0054】図2において、図1の第1の実施例におけ
るプリズム4とレンズB5の位置を入れ換え、プリズム
4にカルサイトプリズム(ウォーラストンプリズムでも
可)を使用する以外は、図1の第1の実施例と同様なの
で説明を省略する。
るプリズム4とレンズB5の位置を入れ換え、プリズム
4にカルサイトプリズム(ウォーラストンプリズムでも
可)を使用する以外は、図1の第1の実施例と同様なの
で説明を省略する。
【0055】本発明の第3の実施例を図3に基づいて説
明する。
明する。
【0056】図3において、図1の第1の実施例におけ
る光源からの光を収束させるレンズA(凸レンズ)の代
わりに、光源からの光を発散させるレンズA(凹レン
ズ)を使用する以外は、図1の第1の実施例と同様なの
で説明を省略する。
る光源からの光を収束させるレンズA(凸レンズ)の代
わりに、光源からの光を発散させるレンズA(凹レン
ズ)を使用する以外は、図1の第1の実施例と同様なの
で説明を省略する。
【0057】本発明の第4の実施例を図4に基づいて説
明する。
明する。
【0058】図4において、図2の第2の実施例におけ
る光源からの光を収束させるレンズA(凸レンズ)の代
わりに、光源からの光を発散させるレンズA(凹レン
ズ)を使用する以外は、図2の第2の実施例と同様なの
で説明を省略する。
る光源からの光を収束させるレンズA(凸レンズ)の代
わりに、光源からの光を発散させるレンズA(凹レン
ズ)を使用する以外は、図2の第2の実施例と同様なの
で説明を省略する。
【図1】本発明の第1の実施例方法の動作原理を示す図
である。
である。
【図2】本発明の第2の実施例方法の動作原理を示す図
である。
である。
【図3】本発明の第3の実施例方法の動作原理を示す図
である。
である。
【図4】本発明の第4の実施例方法の動作原理を示す図
である。
である。
【図5】従来例方法の動作原理を示す図である。
1 光源 2 レンズA 3 ビームスプリッタ 4 プリズム 5 レンズB 6 変位測定探針 7 探針ホルダ 8 偏光ビームスプリッタ 9 光検出器A 10 光検出器B 11 減算器A(信号処理回路) 12 減算器B(信号処理回路) 13 加算器A(信号処理回路) 14 加算器B(信号処理回路) 15 除算器A(信号処理回路) 16 除算器B(信号処理回路) 17 減算器C(信号処理回路) 18 試料 19 XYZスキャナ
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項1】 光源から偏光方向が異なる2つのレーザ
光を射出させ、これらのレーザ光をレンズAを通して一
旦収束させた後に発散させ、これらの発散光をビームス
プリッタに入射し、その透過光を光の偏光方向により分
離角が異なるプリズムを通して分離し、このプリズムで
分離した2つの測定光P、Sを、レンズBを通して、微
小変位を検出する変位測定探針の先端付近に設けた反射
面上と探針ホルダ付近に設けた反射面上に分けて焦点を
結ぶように入射して反射させ、これらの反射した測定光
P、Sを、再度前記レンズBと前記プリズムとを通し、
このプリズムからの測定光P、Sを、前記ビームスプリ
ッタを再度通すことによって、前記光源とは異なる方向
に反射させ、これらの測定光P、Sを、光の偏光方向に
より透過または反射する偏光ビームスプリッタを通して
分離し、この測定光Pの焦点位置を光検出器Aで検出
し、この測定光Sの焦点位置を光検出器Bで検出し、前
記光検出器Aと前記光検出器Bからの焦点位置信号を信
号処理回路で処理して、前記変位測定探針の微小変位を
測定することを特徴とする微小変位検出方法。 【請求項2】 光源から偏光方向が異なる2つのレーザ
光を射出させ、これらのレーザ光をレンズAを通して一
旦収束させた後に発散させ、これらの発散光をビームス
プリッタに入射し、その透過光をレンズB及び光の偏光
方向により分離角が異なるプリズムを通して分離し、こ
のプリズムで分離した2つの測定光P、Sを、微小変位
を検出する変位測定探針の先端付近に設けた反射面上と
探針ホルダ付近に設けた反射面上に分けて焦点を結ぶよ
うに入射して反射させ、これらの反射した測定光P、S
を、再度前記プリズムと前記レンズBとを通し、このレ
ンズBからの測定光P、Sを、前記ビームスプリッタを
再度通すことによって、前記光源とは異なる方向に反射
させ、これらの測定光P、Sを、光の偏光方向により透
過または反射する偏光ビームスプリッタを通して分離
し、この測定光Pの焦点位置を光検出器Aで検出し、こ
の測定光Sの焦点位置を光検出器Bで検出し、前記光検
出器Aと前記光検出器Bからの焦点位置信号を信号処理
回路で処理して、前記変位測定探針の微小変位を測定す
ることを特徴とする微小変位検出方法。 【請求項3】 光源からの光を収束させるレンズAの代
わりに、光源からの光を発散させるレンズAを使用する
請求項1又は2に記載の微小変位検出方法。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03157268A JP3073268B2 (ja) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | 微小変位検出方法 |
US07/904,730 US5315373A (en) | 1991-06-28 | 1992-06-26 | Method of measuring a minute displacement |
KR1019920011358A KR960013676B1 (ko) | 1991-06-28 | 1992-06-27 | 미소변위검출방법 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP03157268A JP3073268B2 (ja) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | 微小変位検出方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH055622A true JPH055622A (ja) | 1993-01-14 |
JP3073268B2 JP3073268B2 (ja) | 2000-08-07 |
Family
ID=15645946
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP03157268A Expired - Fee Related JP3073268B2 (ja) | 1991-06-28 | 1991-06-28 | 微小変位検出方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5315373A (ja) |
JP (1) | JP3073268B2 (ja) |
KR (1) | KR960013676B1 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101907443A (zh) * | 2010-06-23 | 2010-12-08 | 清华大学 | 一种能量天平可动互感线圈的位移测量装置 |
CN110326081A (zh) * | 2018-01-31 | 2019-10-11 | 可米卡仪器公司 | 从多角度输入原子探针样本的能量束 |
CN111077437A (zh) * | 2020-01-17 | 2020-04-28 | 天津市滨海新区军民融合创新研究院 | 一种辅助集成电路近场扫描仪精准定位的装置与方法 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4324983C2 (de) * | 1993-07-26 | 1996-07-11 | Fraunhofer Ges Forschung | Akustisches Mikroskop |
US5735028A (en) * | 1994-10-19 | 1998-04-07 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Processing apparatus with movable processing tool and processing method |
JPH08122026A (ja) * | 1994-10-20 | 1996-05-17 | Nikon Corp | 微小段差測定方法 |
US6455838B2 (en) | 1998-10-06 | 2002-09-24 | The Regents Of The University Of California | High sensitivity deflection sensing device |
KR100444913B1 (ko) * | 2002-01-28 | 2004-08-21 | 한국과학기술원 | 변위측정센서 |
CN1166914C (zh) * | 2002-05-31 | 2004-09-15 | 清华大学 | 频率分裂氦-氖激光回馈自混合非接触测微仪 |
WO2009070108A1 (en) * | 2007-11-28 | 2009-06-04 | Q-Sense Ab | Optical reflectometry setup |
CN110595366B (zh) * | 2019-09-19 | 2021-06-22 | 南京邮电大学 | 一种二维光学位移传感器 |
US11519935B2 (en) | 2020-08-18 | 2022-12-06 | Oxford Instruments Asylum Research, Inc. | Atomic force microscope |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4017188A (en) * | 1975-02-26 | 1977-04-12 | The Bendix Corporation | Surface profile measuring device and method |
US5067817A (en) * | 1990-02-08 | 1991-11-26 | Bauer Associates, Inc. | Method and device for noncontacting self-referencing measurement of surface curvature and profile |
-
1991
- 1991-06-28 JP JP03157268A patent/JP3073268B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-06-26 US US07/904,730 patent/US5315373A/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-06-27 KR KR1019920011358A patent/KR960013676B1/ko not_active IP Right Cessation
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN101907443A (zh) * | 2010-06-23 | 2010-12-08 | 清华大学 | 一种能量天平可动互感线圈的位移测量装置 |
CN110326081A (zh) * | 2018-01-31 | 2019-10-11 | 可米卡仪器公司 | 从多角度输入原子探针样本的能量束 |
CN110326081B (zh) * | 2018-01-31 | 2021-07-30 | 可米卡仪器公司 | 从多角度输入原子探针样本的能量束 |
CN111077437A (zh) * | 2020-01-17 | 2020-04-28 | 天津市滨海新区军民融合创新研究院 | 一种辅助集成电路近场扫描仪精准定位的装置与方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3073268B2 (ja) | 2000-08-07 |
US5315373A (en) | 1994-05-24 |
KR930000934A (ko) | 1993-01-16 |
KR960013676B1 (ko) | 1996-10-10 |
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---|---|---|---|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |