JPH0546007B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0546007B2 JPH0546007B2 JP58131464A JP13146483A JPH0546007B2 JP H0546007 B2 JPH0546007 B2 JP H0546007B2 JP 58131464 A JP58131464 A JP 58131464A JP 13146483 A JP13146483 A JP 13146483A JP H0546007 B2 JPH0546007 B2 JP H0546007B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic head
- processed
- magnetic
- throat height
- processing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 25
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 17
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 15
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims description 13
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 12
- 230000004907 flux Effects 0.000 claims description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 13
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 5
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 3
- 229910000889 permalloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000012993 chemical processing Methods 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/31—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive using thin films
- G11B5/3163—Fabrication methods or processes specially adapted for a particular head structure, e.g. using base layers for electroplating, using functional layers for masking, using energy or particle beams for shaping the structure or modifying the properties of the basic layers
- G11B5/3166—Testing or indicating in relation thereto, e.g. before the fabrication is completed
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1871—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/455—Arrangements for functional testing of heads; Measuring arrangements for heads
Description
【発明の詳細な説明】
〔発明の技術分野〕
この発明は磁気ヘツドの製造方法に関するもの
である。
である。
第１図に磁気ヘツドが例えばパーマロイヘツド
等である場合の構成を示す。第１図において１は
コアＡ、２はコアＢであつて、コアＢ２にコイル
３が巻いてある。コアＡ１とコアＢ２と突合せ部
にはギヤツプ４があり、このギヤツプ４により、
媒体５に記録あるいは再生を行う。コアＡ１及び
コアＢ２の突合せ部の図上δで示す部分をスロー
ト高さと称する。このスロート高さδが小さくな
ると、媒体５の情報を読み出す読み出し電圧は上
昇し感度が良くなる。一方記録の場合は、スロー
ト高さδが小さくなるにしたがつてギヤツプ４か
ら出る磁束は減少し、記録がしにくくなる。従つ
て記録と読み出しの特性を考慮してスロート高さ
δを定める。
等である場合の構成を示す。第１図において１は
コアＡ、２はコアＢであつて、コアＢ２にコイル
３が巻いてある。コアＡ１とコアＢ２と突合せ部
にはギヤツプ４があり、このギヤツプ４により、
媒体５に記録あるいは再生を行う。コアＡ１及び
コアＢ２の突合せ部の図上δで示す部分をスロー
ト高さと称する。このスロート高さδが小さくな
ると、媒体５の情報を読み出す読み出し電圧は上
昇し感度が良くなる。一方記録の場合は、スロー
ト高さδが小さくなるにしたがつてギヤツプ４か
ら出る磁束は減少し、記録がしにくくなる。従つ
て記録と読み出しの特性を考慮してスロート高さ
δを定める。
この磁気ヘツドのスロート高さδを加工時に制
御するにあたつては、一般にスロート高さδの機
械的寸法を例えば光学的に測定して行なつてい
る。この場合、加工精度が落ちると磁気ヘツドの
電磁変換特性が低下するために、従来の加工寸法
の精度向上を図つていた。しかし、各部分の寸法
の測定公差の積み重ねが影響して、寸法精度が落
ちるという欠点があつた。また、コアＡ１及びコ
アＢ２の厚みや幅、ギヤツプ４の寸法により、電
磁変換特性の最適なスロート高さδ0が異なり、製
造段階でギヤツプ４の寸法やコアＡ１、コアＢ２
の厚み、幅を公差を求めて加工しているが、スロ
ート高さδ0だけの管理では、上記ギヤツプ４及び
コアＡ１、コアＢ２の寸法公差により磁気ヘツド
の電磁変換特性がはらつくという問題点があつ
た。
御するにあたつては、一般にスロート高さδの機
械的寸法を例えば光学的に測定して行なつてい
る。この場合、加工精度が落ちると磁気ヘツドの
電磁変換特性が低下するために、従来の加工寸法
の精度向上を図つていた。しかし、各部分の寸法
の測定公差の積み重ねが影響して、寸法精度が落
ちるという欠点があつた。また、コアＡ１及びコ
アＢ２の厚みや幅、ギヤツプ４の寸法により、電
磁変換特性の最適なスロート高さδ0が異なり、製
造段階でギヤツプ４の寸法やコアＡ１、コアＢ２
の厚み、幅を公差を求めて加工しているが、スロ
ート高さδ0だけの管理では、上記ギヤツプ４及び
コアＡ１、コアＢ２の寸法公差により磁気ヘツド
の電磁変換特性がはらつくという問題点があつ
た。
この発明は上述の欠点を解消し、磁気ヘツドの
電磁変換特性の向上を図るため、この特性に合わ
せた磁気ヘツドの製造方法を提供することを目的
とするものである。
電磁変換特性の向上を図るため、この特性に合わ
せた磁気ヘツドの製造方法を提供することを目的
とするものである。
この発明の磁気ヘツドの製造方法は、磁気ヘツ
ドが所望を電磁変換特性を持つようにそのスロー
ト高さを加工する磁気ヘツドの製造方法であつ
て、被加工磁気ヘツドのギヤツプ部に外部から磁
束を与えて前記被加工磁気ヘツドのコイルに誘起
される電圧に基き被加工磁気ヘツドの電磁変換特
性を測定し、該測定値から前記スロート高さの加
工量を算出して該算出値に基き前記磁気ヘツドの
スロート高さを加工することを特徴とするもので
ある。
ドが所望を電磁変換特性を持つようにそのスロー
ト高さを加工する磁気ヘツドの製造方法であつ
て、被加工磁気ヘツドのギヤツプ部に外部から磁
束を与えて前記被加工磁気ヘツドのコイルに誘起
される電圧に基き被加工磁気ヘツドの電磁変換特
性を測定し、該測定値から前記スロート高さの加
工量を算出して該算出値に基き前記磁気ヘツドの
スロート高さを加工することを特徴とするもので
ある。
さらに、磁気ヘツドが所望の電磁変換特性を持
つようにそのスロート高さを加工する磁気ヘツド
の製造方法であつて、基板上にある複数個の被加
工磁気ヘツドの少なくとも２個以上の磁気ヘツド
のギヤツプ部のそれぞれに外部から磁束を与えて
前記被加工磁気ヘツドのコイルに誘起される電圧
に基き被加工磁気ヘツドの電磁変換特性を測定
し、該測定値からの前記スロート高さの加工量及
び前記基板の傾きを算出して該算出値に基き前記
複数個の磁気ヘツドのスロート高さを加工するこ
とを特徴とするものである。
つようにそのスロート高さを加工する磁気ヘツド
の製造方法であつて、基板上にある複数個の被加
工磁気ヘツドの少なくとも２個以上の磁気ヘツド
のギヤツプ部のそれぞれに外部から磁束を与えて
前記被加工磁気ヘツドのコイルに誘起される電圧
に基き被加工磁気ヘツドの電磁変換特性を測定
し、該測定値からの前記スロート高さの加工量及
び前記基板の傾きを算出して該算出値に基き前記
複数個の磁気ヘツドのスロート高さを加工するこ
とを特徴とするものである。
以下、この発明の磁気ヘツドの製造方法を実施
例に基いて説明する。
例に基いて説明する。
第２図に本発明の一実施例を示す。第１図と同
一符号は同一構成である。第２図において、磁気
ヘツドのギヤツプ４の外部に電磁石６を配置し、
電磁石６に図示しない制御部より電流値を任意の
一定の値にしたパルス状の電流を流す。次いで、
パルス電流により磁気ヘツドのコイルに誘起され
た電圧を測定する。測定された電圧は磁気ヘツド
のスロート高さδに換算することができるので、
所定の電磁変換特性となるスロート高さδの値を
得るための加工量を割出して、磁気ヘツドの加工
を行なう。これにより、寸法測定による公差の影
響なく、高精度の加工を行なうことができる。ま
た、電磁変換特性の均一な磁気ヘツドが得られ
る。
一符号は同一構成である。第２図において、磁気
ヘツドのギヤツプ４の外部に電磁石６を配置し、
電磁石６に図示しない制御部より電流値を任意の
一定の値にしたパルス状の電流を流す。次いで、
パルス電流により磁気ヘツドのコイルに誘起され
た電圧を測定する。測定された電圧は磁気ヘツド
のスロート高さδに換算することができるので、
所定の電磁変換特性となるスロート高さδの値を
得るための加工量を割出して、磁気ヘツドの加工
を行なう。これにより、寸法測定による公差の影
響なく、高精度の加工を行なうことができる。ま
た、電磁変換特性の均一な磁気ヘツドが得られ
る。
これを第５図に基づいてさらに詳しく説明す
る。第５図は、磁気ヘツドのギヤツプ部４の外部
に電磁石６を配置し、電磁石６に図示しない制御
より電流値を任意の一定の値にしたパルス状の電
流を流したときの磁気ヘツドのコイル３に誘起し
た電圧Ｖとスロート高さδとの関係を示す図であ
る。
る。第５図は、磁気ヘツドのギヤツプ部４の外部
に電磁石６を配置し、電磁石６に図示しない制御
より電流値を任意の一定の値にしたパルス状の電
流を流したときの磁気ヘツドのコイル３に誘起し
た電圧Ｖとスロート高さδとの関係を示す図であ
る。
同図において、磁気ヘツドとして最適な電磁変
換特性のポイントにおける磁気ヘツドに誘起した
電圧をV0とすると、そのときのスロート高さδ
はδ0となる。
換特性のポイントにおける磁気ヘツドに誘起した
電圧をV0とすると、そのときのスロート高さδ
はδ0となる。
今、スロート高さ加工前の磁気ヘツドに誘起さ
れた電圧V1であれば、第５図からスロートの加
工すべき量は（δ1−δ0）であることが判る。この
ように、本発明の方法では、直接磁気ヘツドの電
磁変換特性を測定しているので、コアＡ１、コア
Ｂ２、ギヤツプ４等の製造時の寸法公差を含めた
結果が得られ、したがつて精度の高い磁気ヘツド
を得ることができる。
れた電圧V1であれば、第５図からスロートの加
工すべき量は（δ1−δ0）であることが判る。この
ように、本発明の方法では、直接磁気ヘツドの電
磁変換特性を測定しているので、コアＡ１、コア
Ｂ２、ギヤツプ４等の製造時の寸法公差を含めた
結果が得られ、したがつて精度の高い磁気ヘツド
を得ることができる。
この実施例は従来のパーマロイヘツド、フエラ
イトヘツド等で説明したが、次に例えば薄膜ヘツ
ドの如く、複数の磁気ヘツドを化学処理、蒸着処
理を用いて同時に製造する場合の他の実施例を第
３図及び第４図に示す。
イトヘツド等で説明したが、次に例えば薄膜ヘツ
ドの如く、複数の磁気ヘツドを化学処理、蒸着処
理を用いて同時に製造する場合の他の実施例を第
３図及び第４図に示す。
第３図は薄膜ヘツドを使用した場合の一実施例
を、第４図は第３図のＡ−Ａ断面詳細図を示す。
第３図において６ａ，６ｂは電磁石、７は薄膜ヘ
ツドの基板、８ａ乃致８ｍは各々薄膜ヘツドを示
す。第４図において、１はコアＡ、２はコアＢ、
３はコイルを示し、第３図と同一符号は同一構成
を示す。
を、第４図は第３図のＡ−Ａ断面詳細図を示す。
第３図において６ａ，６ｂは電磁石、７は薄膜ヘ
ツドの基板、８ａ乃致８ｍは各々薄膜ヘツドを示
す。第４図において、１はコアＡ、２はコアＢ、
３はコイルを示し、第３図と同一符号は同一構成
を示す。
図に示すように２個所の薄膜ヘツド８ａ及び８
ｍの外部に電磁石６及び６ｂを置き、電磁石６ａ
及び６ｂに任意の一定電流をパスル状に送りコイ
ル３に各々誘起する電圧を測定し、電磁変換特性
よりスロータ高さδを求めて、薄膜ヘツドの加工
量及び基板１の傾きを割り出す。今、第５図にお
いて、基板７の一端の薄膜ヘツド８ａの誘起電圧
がV1の場合にはスロート高さの加工量は（δ1−
δ0）となり、基板７の他端の薄膜ヘツド８ｍの誘
起電圧がV2の場合にはスロート高さ加工量は
（δ2−δ0）となる。したがつて、これら基板端部
の加工量の差｛（δ2−δ0）−（δ1−δ0）｝が基板の
傾
きとして判るので、スロート高さ加工時に予め薄
膜ヘツドの基板７を上記傾き分だけ補正して加工
することにより、８ａ〜８ｍの薄膜ヘツドのスロ
ート高さδ0について最適範囲の加工が行える。こ
のことにより、薄膜ヘツドの同時加工が可能とな
る。
ｍの外部に電磁石６及び６ｂを置き、電磁石６ａ
及び６ｂに任意の一定電流をパスル状に送りコイ
ル３に各々誘起する電圧を測定し、電磁変換特性
よりスロータ高さδを求めて、薄膜ヘツドの加工
量及び基板１の傾きを割り出す。今、第５図にお
いて、基板７の一端の薄膜ヘツド８ａの誘起電圧
がV1の場合にはスロート高さの加工量は（δ1−
δ0）となり、基板７の他端の薄膜ヘツド８ｍの誘
起電圧がV2の場合にはスロート高さ加工量は
（δ2−δ0）となる。したがつて、これら基板端部
の加工量の差｛（δ2−δ0）−（δ1−δ0）｝が基板の
傾
きとして判るので、スロート高さ加工時に予め薄
膜ヘツドの基板７を上記傾き分だけ補正して加工
することにより、８ａ〜８ｍの薄膜ヘツドのスロ
ート高さδ0について最適範囲の加工が行える。こ
のことにより、薄膜ヘツドの同時加工が可能とな
る。
以上述べたように、本発明による磁気ヘツドの
製造方法においては、磁気ヘツドの特性を測定し
て加工を行なうことから電磁変換特性の均一な磁
気ヘツドを製造することができ、また機械的に加
工寸法を測定することなく磁気ヘツドが製造でき
るので加工精度を向上させることができ、また価
格低減にもつながる。さらに例えば薄膜ヘツドの
如く複数の磁気ヘツドを化学処理等を用いて同時
に製造する場合に、加工量と基板の傾きが割り出
せることから、同時加工が可能となり、加工時間
を短縮できるという効果を有する。
製造方法においては、磁気ヘツドの特性を測定し
て加工を行なうことから電磁変換特性の均一な磁
気ヘツドを製造することができ、また機械的に加
工寸法を測定することなく磁気ヘツドが製造でき
るので加工精度を向上させることができ、また価
格低減にもつながる。さらに例えば薄膜ヘツドの
如く複数の磁気ヘツドを化学処理等を用いて同時
に製造する場合に、加工量と基板の傾きが割り出
せることから、同時加工が可能となり、加工時間
を短縮できるという効果を有する。
第１図は磁気ヘツドがパーマロイヘツドである
場合の構成図、第２図はこの発明の一実施例の構
成図、第３図は磁気ヘツドが薄膜ヘツドである場
合のこの発明の他の実施例の構成図、第４図は第
３図のＡ−Ａ断面詳細図、第５図は磁気ヘツドの
ギヤツプ部の外部に電磁石を配置し、電磁石に任
意の一定値のパルス状の電流を流したときの磁気
ヘツドのコイルに誘起した電圧とスロート高さと
の関係を示す図である。 図中１はコアＡ、２はコアＢ、３はコイル、４
はギヤツプ、５は媒体、６，６ａ，６ｂは電磁
石、７は基板、８ａ乃至８ｍは薄膜ヘツドを示
す。なお各図中同一符号は同一または相当部分を
示すものとする。
場合の構成図、第２図はこの発明の一実施例の構
成図、第３図は磁気ヘツドが薄膜ヘツドである場
合のこの発明の他の実施例の構成図、第４図は第
３図のＡ−Ａ断面詳細図、第５図は磁気ヘツドの
ギヤツプ部の外部に電磁石を配置し、電磁石に任
意の一定値のパルス状の電流を流したときの磁気
ヘツドのコイルに誘起した電圧とスロート高さと
の関係を示す図である。 図中１はコアＡ、２はコアＢ、３はコイル、４
はギヤツプ、５は媒体、６，６ａ，６ｂは電磁
石、７は基板、８ａ乃至８ｍは薄膜ヘツドを示
す。なお各図中同一符号は同一または相当部分を
示すものとする。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 磁気ヘツドが所望の電磁変換特性を持つよう
にそのスロート高さを加工する磁気ヘツドの製造
方法であつて、 被加工磁気ヘツドのギヤツプ部に外部から磁束
を与えて前記被加工磁気ヘツドのコイルに誘起さ
れる電圧に基き被加工磁気ヘツドの電磁変換特性
を測定し、該測定値から前記スロート高さの加工
量を算出して該算出値に基き前記磁気ヘツドのス
ロート高さを加工することを特徴とする磁気ヘツ
ドの製造方法。 ２ 磁気ヘツドが所望の電磁変換特性を持つよう
にそのスロート高さを加工する磁気ヘツドの製造
方法であつて、 基板上にある複数個の被加工磁気ヘツドの少な
くとも２個以上の磁気ヘツドのギヤツプ部のそれ
ぞれに外部から磁束を与えて前記被加工磁気ヘツ
ドのコイルに誘起される電圧に基き被加工磁気ヘ
ツドの電磁変換特性を測定し、該測定値から前記
スロート高さの加工量及び前記基板の傾きを算出
して該算出値に基き前記複数個の磁気ヘツドのス
ロート高さを加工することを特徴とする磁気ヘツ
ドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13146483A JPS6022718A (ja) | 1983-07-19 | 1983-07-19 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13146483A JPS6022718A (ja) | 1983-07-19 | 1983-07-19 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6022718A JPS6022718A (ja) | 1985-02-05 |
| JPH0546007B2 true JPH0546007B2 (ja) | 1993-07-12 |
Family
ID=15058569
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13146483A Granted JPS6022718A (ja) | 1983-07-19 | 1983-07-19 | 磁気ヘツドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6022718A (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| SE440518B (sv) * | 1984-02-09 | 1985-08-05 | Svenska Traeforskningsinst | Forfarande och anordning for att i en pappersmaskins torkparti forhindra tverkrympning av pappersbanan |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS505572A (ja) * | 1973-05-21 | 1975-01-21 | ||
| JPS5219764A (en) * | 1975-08-05 | 1977-02-15 | Ciba Geigy Ag | Rotary impregnating or filling device |
| JPS543516A (en) * | 1977-06-09 | 1979-01-11 | Sanyo Electric Co Ltd | Depth fabricating method of audio magnetic heads |
| JPS5677915A (en) * | 1979-11-27 | 1981-06-26 | Toshiba Corp | Production of magnetic head |
| JPS56159830A (en) * | 1980-05-09 | 1981-12-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of magnetic head |
-
1983
- 1983-07-19 JP JP13146483A patent/JPS6022718A/ja active Granted
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS505572A (ja) * | 1973-05-21 | 1975-01-21 | ||
| JPS5219764A (en) * | 1975-08-05 | 1977-02-15 | Ciba Geigy Ag | Rotary impregnating or filling device |
| JPS543516A (en) * | 1977-06-09 | 1979-01-11 | Sanyo Electric Co Ltd | Depth fabricating method of audio magnetic heads |
| JPS5677915A (en) * | 1979-11-27 | 1981-06-26 | Toshiba Corp | Production of magnetic head |
| JPS56159830A (en) * | 1980-05-09 | 1981-12-09 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Production of magnetic head |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6022718A (ja) | 1985-02-05 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US6347983B1 (en) | ELG for both MRE sensor height and resistance monitoring | |
| EP0383738B1 (en) | Lapping control system for magnetic transducers | |
| JPH05290331A (ja) | 薄膜磁気変換器 | |
| US4861398A (en) | Method for making a thin film magnetic head | |
| JPS6149488A (ja) | 磁気抵抗変換器 | |
| US4646429A (en) | Method of making magnetic head | |
| JPS6412003B2 (ja) | ||
| JPH0546007B2 (ja) | ||
| US6859678B1 (en) | Method and apparatus for manufacturing magnetoresistive element, software and system for controlling manufacturing of magnetoresistive element, software for estimating resistance value of magnetoresistive element, and computer system | |
| US5305559A (en) | Method of grinding core blank for magnetic heads, using markers for determining grinding depth for nominal magnetic gap depth | |
| EP0508471B1 (en) | Flying-type magnetic heads | |
| JPH0249212A (ja) | 薄膜磁気ヘッド | |
| JPS6157809A (ja) | 磁束応答形マルチギヤップヘッド | |
| KR900006052Y1 (ko) | 부동식(浮動式) 자기 헤드 | |
| JPH04161874A (ja) | 磁気抵抗効果ヘッド | |
| KR100234177B1 (ko) | 자기헤드 제조공정에서의 갭깊이 제어/가공방법 | |
| JPS61283012A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JP2798428B2 (ja) | 磁性薄膜の磁化特性測定方法 | |
| JPS62266707A (ja) | 磁気ヘツド | |
| JP2842494B2 (ja) | 磁気ヘッドの測定方法及び測定装置 | |
| JPS581831A (ja) | 多素子磁気ヘツドの位置決め方法 | |
| JP2615467B2 (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS59144026A (ja) | 薄膜磁気センサ− | |
| JPH09320012A (ja) | 磁気ヘッドの製造方法 | |
| JPS61120075A (ja) | 比透磁率測定装置 |