JPS6412003B2 - - Google Patents
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- JPS6412003B2 JPS6412003B2 JP56112403A JP11240381A JPS6412003B2 JP S6412003 B2 JPS6412003 B2 JP S6412003B2 JP 56112403 A JP56112403 A JP 56112403A JP 11240381 A JP11240381 A JP 11240381A JP S6412003 B2 JPS6412003 B2 JP S6412003B2
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- magnetic
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/127—Structure or manufacture of heads, e.g. inductive
- G11B5/187—Structure or manufacture of the surface of the head in physical contact with, or immediately adjacent to the recording medium; Pole pieces; Gap features
- G11B5/1871—Shaping or contouring of the transducing or guiding surface
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T29/00—Metal working
- Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
- Y10T29/49002—Electrical device making
- Y10T29/4902—Electromagnet, transformer or inductor
- Y10T29/49021—Magnetic recording reproducing transducer [e.g., tape head, core, etc.]
- Y10T29/49032—Fabricating head structure or component thereof
- Y10T29/49036—Fabricating head structure or component thereof including measuring or testing
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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- Y10T29/49055—Fabricating head structure or component thereof with bond/laminating preformed parts, at least two magnetic
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Magnetic Heads (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は単一トラツク磁気ヘツドに関するもの
である。
である。
従来のフエライト・コア・ヘツドは、製造の際
に非常に多くの工程を必要とし且つ正確な機械加
工及び心合せを必要としている。それにもかかわ
らず、大量生産中の工程の多様性及び規格外れの
組立てに基く不均一性の問題がある。これは規格
外れのヘツドによる損失や動作中のパフオーマン
スの低下につながつている。
に非常に多くの工程を必要とし且つ正確な機械加
工及び心合せを必要としている。それにもかかわ
らず、大量生産中の工程の多様性及び規格外れの
組立てに基く不均一性の問題がある。これは規格
外れのヘツドによる損失や動作中のパフオーマン
スの低下につながつている。
又、データ・トラツクの幅を非常に狭くしてト
ラツク密度を増すために非常に小さな変換ギヤツ
プを有するフエライト・ヘツドの製造は、種々の
点で難しさがある。更に、今までのところ、ヘツ
ドが完成するまでの製造の途中においてヘツドの
磁気的特性やその他の物理的特性を調べることは
できなかつた。従つて、ヘツドとして組立てられ
る部品が仕様どうりの特性を持たないときにも、
それによる欠陥は、ヘツドの組立てが完了するま
では検出不可能であつた。
ラツク密度を増すために非常に小さな変換ギヤツ
プを有するフエライト・ヘツドの製造は、種々の
点で難しさがある。更に、今までのところ、ヘツ
ドが完成するまでの製造の途中においてヘツドの
磁気的特性やその他の物理的特性を調べることは
できなかつた。従つて、ヘツドとして組立てられ
る部品が仕様どうりの特性を持たないときにも、
それによる欠陥は、ヘツドの組立てが完了するま
では検出不可能であつた。
本発明の目的は単純で比較的安価な構造の新規
な磁気ヘツドを提供することである。
な磁気ヘツドを提供することである。
本発明の他の目的は幅の狭いデータ・トラツク
をもたらす磁気ヘツドを提供することである。
をもたらす磁気ヘツドを提供することである。
本発明の更に他の目的は製造中にスロートの高
さを容易に制御しうる磁気ヘツドを提供すること
である。
さを容易に制御しうる磁気ヘツドを提供すること
である。
本発明の更に他の目的は最終的な組立ての前の
製造工程において磁気コアの磁気的及び物理的特
性を検査することを可能ならしめる磁気ヘツドを
提供することである。
製造工程において磁気コアの磁気的及び物理的特
性を検査することを可能ならしめる磁気ヘツドを
提供することである。
本発明の更に他の目的は予め巻回されたコイル
の使用を可能ならしめ、ウインドウ巻線を必要と
しない磁気ヘツドを提供することである。
の使用を可能ならしめ、ウインドウ巻線を必要と
しない磁気ヘツドを提供することである。
本発明の更に他の目的は大量生産中に均一性を
維持することを可能ならしめる磁気ヘツドを提供
することである。
維持することを可能ならしめる磁気ヘツドを提供
することである。
第1図は本発明による完成した単一トラツク磁
気ヘツドを示している。磁気ヘツドは非磁性ベー
ス10及びそれに付着させたエピタキシヤル単結
晶フエライト層12を有する。変換ギヤツプ14
は例えば電子ビーム・リングフライ技法によりフ
エライト層14に形成されている。フエライト層
12の厚さがトラツク幅を定める。フエライト層
12には、非磁性閉鎖体16及びその底部の磁性
ブリツジ18が結合されている。ベース10及び
閉鎖体16は、例えばシリコン、サフアイア、あ
るいは没食子酸マンガンで造られ、ブリツジ18
はマンガン―亜鉛フエライト、ニツケル―亜鉛フ
エライト、あるいはパーマロイで造られる。信号
回路に接続される予め巻回されたコイル20がブ
リツジ18のくぼみ32の所に取り付けられてい
る。
気ヘツドを示している。磁気ヘツドは非磁性ベー
ス10及びそれに付着させたエピタキシヤル単結
晶フエライト層12を有する。変換ギヤツプ14
は例えば電子ビーム・リングフライ技法によりフ
エライト層14に形成されている。フエライト層
12の厚さがトラツク幅を定める。フエライト層
12には、非磁性閉鎖体16及びその底部の磁性
ブリツジ18が結合されている。ベース10及び
閉鎖体16は、例えばシリコン、サフアイア、あ
るいは没食子酸マンガンで造られ、ブリツジ18
はマンガン―亜鉛フエライト、ニツケル―亜鉛フ
エライト、あるいはパーマロイで造られる。信号
回路に接続される予め巻回されたコイル20がブ
リツジ18のくぼみ32の所に取り付けられてい
る。
第2図は最終的な組立て前の輪郭形成及びラツ
ピ仕上げの済んでいない状態の第1図の磁気ヘツ
ドの部品を分解して示す図である。ベース10は
凹所24を有する。フエライト層12はこの凹所
24とスパンが同じで、それよりも長い凹所26
を有する。凹所26の頂点にはスロート高さ設定
のためのラツプ仕上げの際に用いられる切り込み
28が形成されている。
ピ仕上げの済んでいない状態の第1図の磁気ヘツ
ドの部品を分解して示す図である。ベース10は
凹所24を有する。フエライト層12はこの凹所
24とスパンが同じで、それよりも長い凹所26
を有する。凹所26の頂点にはスロート高さ設定
のためのラツプ仕上げの際に用いられる切り込み
28が形成されている。
閉鎖体16はベース10の凹所24の上部と同
等の形状を有する凹所30を有する。この凹所3
0及びブリツジ18のくぼみ32がコイル20を
取り付けるためのスペースを提供している。
等の形状を有する凹所30を有する。この凹所3
0及びブリツジ18のくぼみ32がコイル20を
取り付けるためのスペースを提供している。
第3A図乃至第3I図は本発明による磁気ヘツ
ドを製造するための工程を示している。第3A図
は第1図の非磁性ベース10として用いられる基
体34を示している。基体34は例えばシリコン
又は没食子酸マンガン等の非磁性セラミツク材料
で造られる。第3B図に示されている様に、エピ
タキシヤル単結晶フエライト層36を基体34に
付着させる。次に、基体34及びフエライト層3
6の両方に凹所24を形成する(第3C図)。更
に、凹所24より長い凹所26及びそれに付随す
る切り込み28を持たせる様にフオトリソグラフ
イ技法によつてフエライト層36を処理する(第
3D図)。
ドを製造するための工程を示している。第3A図
は第1図の非磁性ベース10として用いられる基
体34を示している。基体34は例えばシリコン
又は没食子酸マンガン等の非磁性セラミツク材料
で造られる。第3B図に示されている様に、エピ
タキシヤル単結晶フエライト層36を基体34に
付着させる。次に、基体34及びフエライト層3
6の両方に凹所24を形成する(第3C図)。更
に、凹所24より長い凹所26及びそれに付随す
る切り込み28を持たせる様にフオトリソグラフ
イ技法によつてフエライト層36を処理する(第
3D図)。
この段階において、第3E図に示されている様
にインダクタンス測定プローブ装置38をフエラ
イト層36に接続して、その磁気的特性を検査す
ることができる。プローブ装置38はフエライト
層36の2つの脚部の末端に跨つて接続される磁
性バーとそれに巻回されたコイルとを有する。他
の装置によつてフエライト層36の種々の特性を
調べることもできる。この様な検査によりフエラ
イト層36が所望の特性を持つていないことが分
かれば、このフエライト層36は磁気ヘツドの製
造に用いられなくなる。
にインダクタンス測定プローブ装置38をフエラ
イト層36に接続して、その磁気的特性を検査す
ることができる。プローブ装置38はフエライト
層36の2つの脚部の末端に跨つて接続される磁
性バーとそれに巻回されたコイルとを有する。他
の装置によつてフエライト層36の種々の特性を
調べることもできる。この様な検査によりフエラ
イト層36が所望の特性を持つていないことが分
かれば、このフエライト層36は磁気ヘツドの製
造に用いられなくなる。
フエライト層36が所望の特性を持つているこ
とが分かれば、フエライト層36(ひいては基体
34)の上部に非磁性閉鎖体40を結合する(第
3F図)。閉鎖体40は基体34の凹所24の上
部と同等の凹所30を有する。次に、第3G図及
び第4A図乃至第4D図に示されている様に、変
換ギヤツプ面42のラツプ仕上げを行う。第4A
図乃至第4D図は、フエライト層36の上部の初
期状態、磁気飽和状態、破断状態、最終スロート
高さ設定状態を順に示している。
とが分かれば、フエライト層36(ひいては基体
34)の上部に非磁性閉鎖体40を結合する(第
3F図)。閉鎖体40は基体34の凹所24の上
部と同等の凹所30を有する。次に、第3G図及
び第4A図乃至第4D図に示されている様に、変
換ギヤツプ面42のラツプ仕上げを行う。第4A
図乃至第4D図は、フエライト層36の上部の初
期状態、磁気飽和状態、破断状態、最終スロート
高さ設定状態を順に示している。
ラツプ仕上げ工程中、プローブ装置38をフエ
ライト層36に接続した状態に維持する。第4E
図に示されている様に、スロート高さが減少する
につれて、磁気回路のリラクタンスが減少し、且
つプローブ装置38の自己インダクタンスが減少
する。所望のコア・リラクタンスが得られると
き、ラツプ仕上げを停止する。なお、フエライト
層36の電気抵抗を測定する様にしてもよい。第
4C図に示されている様に、くぼみ28の所が破
断状態になると、電気抵抗は無限大になる。
ライト層36に接続した状態に維持する。第4E
図に示されている様に、スロート高さが減少する
につれて、磁気回路のリラクタンスが減少し、且
つプローブ装置38の自己インダクタンスが減少
する。所望のコア・リラクタンスが得られると
き、ラツプ仕上げを停止する。なお、フエライト
層36の電気抵抗を測定する様にしてもよい。第
4C図に示されている様に、くぼみ28の所が破
断状態になると、電気抵抗は無限大になる。
この様に所望の形状及びスロート高さが得られ
るまでラツプ仕上げ工程の間中、プローブ装置3
8によるサブアセンブリの監視を行う。次にこの
サブアセンブリに対して、予め巻回されたコイル
20を伴つた磁性ブリツジ18を、例えばエポキ
シ接着剤を用いて結合する(第3H図)。最後に
非磁性ハウジング44内に磁気ヘツドをセツトす
る。ハウジング44は、例えばアルミニウムで造
られており、有害な信号を遮蔽する。
るまでラツプ仕上げ工程の間中、プローブ装置3
8によるサブアセンブリの監視を行う。次にこの
サブアセンブリに対して、予め巻回されたコイル
20を伴つた磁性ブリツジ18を、例えばエポキ
シ接着剤を用いて結合する(第3H図)。最後に
非磁性ハウジング44内に磁気ヘツドをセツトす
る。ハウジング44は、例えばアルミニウムで造
られており、有害な信号を遮蔽する。
第5A図乃至第5D図はハウジング44を取り
除いた状態の磁気ヘツドの平面図、正面図、側面
図、底面図である。第6A図は磁気ヘツドの固定
のためのねじ48を有する非磁性ハウジング46
を示している。第6B図は楔52によつて磁気ヘ
ツドを固定する型の非磁性ハウジング50を示し
ている。
除いた状態の磁気ヘツドの平面図、正面図、側面
図、底面図である。第6A図は磁気ヘツドの固定
のためのねじ48を有する非磁性ハウジング46
を示している。第6B図は楔52によつて磁気ヘ
ツドを固定する型の非磁性ハウジング50を示し
ている。
本発明による磁気ヘツドは、デイスクやテープ
等の磁気記録媒体上に1ミクロン程度の幅のデー
タ・トラツクを設定する様に設計可能である。そ
して、最終的な組立て前にコアの検査又は試験を
行うことができる。又、コイルのための複雑なウ
インドウ巻線を必要としない。予め巻回されたコ
イルを、スロート高さ設定のためのラツプ仕上げ
工程におけるインダクタンス測定のために用いて
もよい。
等の磁気記録媒体上に1ミクロン程度の幅のデー
タ・トラツクを設定する様に設計可能である。そ
して、最終的な組立て前にコアの検査又は試験を
行うことができる。又、コイルのための複雑なウ
インドウ巻線を必要としない。予め巻回されたコ
イルを、スロート高さ設定のためのラツプ仕上げ
工程におけるインダクタンス測定のために用いて
もよい。
本発明が側示した実施例のみに限定されないこ
とはもちろんである。例えば、エピタキシヤル単
結晶フエライト・コアのみならず、ホイル型コア
や真空蒸着パーマロイ・コアも使用可能である。
凹所の形状は矩形でもよい。本発明による磁気ヘ
ツドはバツクギヤツプを持たないので、動作効率
が優れている。又、磁気ヘツド毎のコアを均一に
することができる。
とはもちろんである。例えば、エピタキシヤル単
結晶フエライト・コアのみならず、ホイル型コア
や真空蒸着パーマロイ・コアも使用可能である。
凹所の形状は矩形でもよい。本発明による磁気ヘ
ツドはバツクギヤツプを持たないので、動作効率
が優れている。又、磁気ヘツド毎のコアを均一に
することができる。
第1図は本発明による磁気ヘツドを示す図、第
2図は輪郭形成及びラツプ仕上げ前の磁気ヘツド
の分解図、第3A図乃至第3I図は磁気ヘツドの
製造工程を示す図、第4A図乃至第4D図はラツ
プ仕上げ工程のステツプを示す図、第4E図はラ
ツプ仕上げ工程中のスロート高さとプローブ装置
の自己インダクタンスとの関係を示す図、第5A
図は磁気ヘツドの平面図、第5B図は磁気ヘツド
の正面図、第5C図は磁気ヘツドの側面図、第5
D図は磁気ヘツドの底面図、第6A図及び第6B
図は磁気ヘツドを収容するためのハウジングを示
す図である。 10……非磁性ベース、12……フエライト
層、14……変換ギヤツプ、16……非磁性閉鎖
体、18……非磁性ブリツジ、20……コイル。
2図は輪郭形成及びラツプ仕上げ前の磁気ヘツド
の分解図、第3A図乃至第3I図は磁気ヘツドの
製造工程を示す図、第4A図乃至第4D図はラツ
プ仕上げ工程のステツプを示す図、第4E図はラ
ツプ仕上げ工程中のスロート高さとプローブ装置
の自己インダクタンスとの関係を示す図、第5A
図は磁気ヘツドの平面図、第5B図は磁気ヘツド
の正面図、第5C図は磁気ヘツドの側面図、第5
D図は磁気ヘツドの底面図、第6A図及び第6B
図は磁気ヘツドを収容するためのハウジングを示
す図である。 10……非磁性ベース、12……フエライト
層、14……変換ギヤツプ、16……非磁性閉鎖
体、18……非磁性ブリツジ、20……コイル。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 凹所を有する非磁性ベースと、 上記非磁性ベースの凹所よりも長くて幅がそれ
とほぼ同じである凹所を有し、互いの凹所を幅方
向において揃えた状態で上記非磁性ベースの一面
に結合された磁性薄膜と、 上記非磁性ベース及び上記磁性薄膜の凹所より
も短くて幅がそれとほぼ同じである凹所を有し、
且つ全体的に上記非磁性ベース及び上記磁性薄膜
よりも短くて、互いの凹所を幅方向において揃え
た状態で上記磁性薄膜の上部に結合された非磁性
閉鎖体と、 くぼみを有し、上記非磁性閉鎖体の底部におい
て上記磁性薄膜の下部に結合された磁性ブリツジ
と、 上記くぼみの所で上記磁性ブリツジに巻回され
たコイルと を有し、上記磁性薄膜に変換キヤツプを形成した
磁気ヘツド。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US06/208,766 US4390916A (en) | 1980-11-20 | 1980-11-20 | Single track magnetic head assembly |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS5788515A JPS5788515A (en) | 1982-06-02 |
JPS6412003B2 true JPS6412003B2 (ja) | 1989-02-28 |
Family
ID=22775969
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP56112403A Granted JPS5788515A (en) | 1980-11-20 | 1981-07-20 | Magnetic head |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4390916A (ja) |
EP (1) | EP0052708B1 (ja) |
JP (1) | JPS5788515A (ja) |
DE (1) | DE3167958D1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0582903U (ja) * | 1992-04-13 | 1993-11-09 | 幸夫 平野 | ゴミ容器用シート |
Families Citing this family (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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NL8200531A (nl) * | 1982-02-12 | 1983-09-01 | Philips Nv | Magneetkop met gedeeltelijk uitgeetste wikkelopening. |
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