JPH054185A - 真空供給装置 - Google Patents

真空供給装置

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JPH054185A
JPH054185A JP3159047A JP15904791A JPH054185A JP H054185 A JPH054185 A JP H054185A JP 3159047 A JP3159047 A JP 3159047A JP 15904791 A JP15904791 A JP 15904791A JP H054185 A JPH054185 A JP H054185A
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茂和 永井
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Abstract

(57)【要約】 【目的】配管作業が少なく、小型化が可能である真空供
給装置を提供することを目的とする。 【構成】機能別にユニット化されたバルブユニット1
0、接続プレート14a、エゼクタ16、フィルタユニ
ット20の組合せ体に、流体回路変更用のファンクショ
ンプレート12a、マニホールド22等を必要に応じて
装着、もしくは交換することにより、真空ポンプ仕様あ
るいはエゼクタ仕様等の所望の機能を有する真空供給装
置を小型に構成できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、真空供給装置に関し、
一層詳細には、真空供給装置の構成要素であるバルブ
部、真空部、フィルタ部、圧力検出部、マニホールド部
等をユニット化し、これらユニットを選択的に組み合わ
せ可能とした真空供給装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、吸着搬送機器として負圧を利用し
た吸着用パッドが工場の自動化、省力化を目的として広
汎に採用されている。
【0003】吸着搬送機器においては、圧縮空気を利用
して負圧を発生させるエゼクタ方式と、真空ポンプを駆
動して負圧を発生させる真空ポンプ方式が一般的に使用
される。この両方式に対して、電磁弁、もしくは電磁パ
イロット弁等を接続しているのが一般的である。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の技術では、以下に述べるような問題がある。
【0005】すなわち、エゼクタ方式と真空ポンプ方式
の組み換えをはじめ、用途に応じて電磁弁、もしくは電
磁パイロット弁等の構成機器が交換される。この際、前
記構成機器を各々配管により接続するため、配管作業が
極めて煩雑となる。また、多数設置するために小型化を
図る際にも障害となる。
【0006】本発明は、この種の問題を解決するために
配管作業が少なく、小型化が可能である真空供給装置を
提供することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】前記の目的を達成するた
めに、本発明は、吸着用パッド等の作業機器に連通して
物品の保持あるいは搬送等を行うための真空供給装置に
おいて、圧力流体および負圧の供給および遮断を行う方
向制御弁を有するバルブユニットと、前記作業機器に使
用する負圧を発生させる真空ユニットと、前記作業機器
から吸入される流体の汚れを除去するフィルタユニット
とからなり、前記ユニットの組合せ体に対して、吸着用
パッド等の作業機器に作用する圧力状態を検出する圧力
検出ユニットと、排気音等のノイズを低減させるサイレ
ンサユニットとを選択的に組み込むことを特徴とする。
【0008】
【作用】本発明に係る真空供給装置では、構成機器をそ
れぞれユニットに形成し、用途に応じて組み換え、それ
らを直接接続することにより、配管を簡略化するともに
小型化を可能とする。
【0009】
【実施例】本発明に係る真空供給装置について、好適な
実施例を挙げ、添付の図面を参照しながら以下詳細に説
明する。
【0010】先ず、図1を参照して本発明に係る真空供
給装置の組み合わせを概略的に説明し、その後で、それ
ぞれ組み合わされた真空供給装置の機能、および動作説
明を行う。
【0011】図1に示すように、本発明を構成するバル
ブユニット、真空ユニット、フィルタユニット等はそれ
ぞれの機能ごとにユニット化されている。圧力流体およ
び真空の供給および遮断を行うバルブユニットは、ダブ
ルソレノイド型バルブユニット10a、エアオペレート
型バルブユニット10b、ノルマルオープン型バルブユ
ニット10c等が互換性を有して備えられている。
【0012】前記バルブユニット10a乃至10cに
は、内部流体回路を変更する際にファンクションプレー
ト12aを装着する。また、隣接するユニットと気密に
接続するために接続プレート14aが使用される。さら
に真空ユニットとしてエゼクタ16が使用されることも
ある。
【0013】さらにまた圧力検出ユニット18と一体化
されたフィルタユニット20aとフィルタユニット20
b等が互換性を有すべく備えられる。
【0014】また、真空供給装置を複数個連設する場合
には、マニホールド22を使用してもよい。
【0015】これらの部材は、適宜用途に応じて組み合
わせ可能である。
【0016】続いて、実際に組み合わせた例を説明す
る。先ず、図1に示したダブルソレノイド型バルブユニ
ット10a、接続プレート14a、エゼクタ16と圧力
検出ユニット18とを一体化したフィルタユニット20
aから構成されたエゼクタ仕様の真空供給装置24aに
ついて説明する。この真空供給装置24aは、図2およ
び図3に示すように構成される。すなわち、バルブユニ
ット10aは、矩形体からなる弁機構部26を有し、そ
の上部に電磁パイロット弁部29がねじによって装着さ
れる。前記弁機構部26の一側面部には接続プレート1
4aが当接する。弁機構部26側には流体通路に対応し
てパッキンが装着されており、平板な接続プレート14
aに当接することで気密性を保つ。前記弁機構部26の
他側面部には、下部より供給ポート30、パイロット弁
供給ポート32、真空破壊ポート34、パイロット弁排
気ポート36が画成されている。前記パイロット弁供給
ポート32と真空破壊ポート34の近傍には螺孔が形成
され、この螺孔に実質的に流量調節弁を構成する弁体3
8を螺合している。前記弁機構部26の内部には、軸方
向が図面と直交する方向に延在する2ポート2位置型の
供給弁40、真空破壊弁42を配設し、前記供給弁4
0、真空破壊弁42、ポート30、32、34、および
36、電磁パイロット弁部29および接続プレート14
aを結ぶ通路が画成されている。パイロット弁供給ポー
ト32に連通する通路の両端部には、チェック弁43
a、43bを備える。チェック弁43a、43bは圧縮
空気の供給が停止した場合に、弁体への供給圧力保持時
間を延長させるためのものである。供給弁40の構造を
図4を参照して説明する。供給弁40は、弁体44と弁
座46からなる。弁体44の両端部の周溝48には、第
1と第2の可撓性リング体50、52が装着され、前記
弁体44の中間部には、傾斜面を有する第3の可撓性リ
ング体54が構成されている。このように構成された供
給弁40は、電磁パイロット弁部29から供給される流
体が第1パイロット室56あるいは第2パイロット室5
8に達して弁体44を変位させ、空間60、62を遮
断、もしくは連通する。真空破壊弁42も略同形状に構
成されている。
【0017】前記弁機構部26の上部に第1および第2
インタフェース27、28を挟んで設置される電磁パイ
ロット弁部29は、前記弁機構部26を構成する供給弁
40、および真空破壊弁42のON/OFF動作を行う
5ポート2位置型からなる第1電磁パイロット弁64、
第2電磁パイロット弁66、第3電磁パイロット弁68
を有する。
【0018】第1電磁パイロット弁64は、図5に示す
ように、基本的に電磁弁70a、着座部72a、パイロ
ット弁本体74a、エンドプレート76aから構成され
ている。着座部72aには、第1ポート78a乃至第5
ポート86aが設けられ、パイロット弁排気ポート3
6、供給弁40の第2パイロット室58、パイロット弁
供給ポート32、供給弁40の第1パイロット室56、
パイロット弁排気ポート36に各々連通している。
【0019】第2電磁パイロット弁66は、図6に示す
ように、基本的に第1電磁パイロット弁64と略同様に
構成されているが、パイロット弁本体74bは、固定さ
れているので第2ポート80bと第4ポート84bは閉
塞される。また、パイロット弁本体74bの内部に貫通
孔88を形成している。
【0020】第1電磁パイロット弁64と第2電磁パイ
ロット弁66のエンドプレート76aに設けられている
それぞれのパイロット室90a、90bは、孔部92に
よって連通している。
【0021】第3電磁パイロット弁68は、図7に示す
ように、基本的に第1電磁パイロット弁64と略同様の
構成をしているが、パイロット弁本体74cとエンドプ
レート76cが異っているのと、前記エンドプレート7
6cのパイロット室90cと着座部の通路130が連通
している点が異なっている。
【0022】板状の接続プレート14aは、一側面を弁
機構部26に当接し、他側面をエゼクタ16に当接して
いる。接続プレート14aには、図8に示すように、供
給弁40とエゼクタ16を連通させる第1孔部94、真
空破壊弁42と後述する真空ポート96を連通させる第
2孔部98、ねじ付スタッド用の6つの第3孔部100
が形成されている。
【0023】前記エゼクタ16は矩形体からなり、図2
に示すように、その内部に所定の口径のノズル部102
とこのノズル部102に連接されるディフューザ部10
4を有し、前記ディフューザ部104は真空発生部10
6に連通している。前記ディフューザ部104は臭いを
除去する活性炭を有するフィルタでサイレンサエレメン
トを構成したサイレンサ108を経て外部に連通してい
る。
【0024】前記エゼクタ16には、負圧を検出し、信
号を発して作業機器を制御する圧力検出ユニット18お
よび真空ポートユニット21が装着されている。前記圧
力検出ユニット18は箱型形状を呈し、その内部に真空
スイッチ110が設けられている。この真空スイッチ1
10は、好ましくは、抵抗型あるいは容量型半導体圧力
センサで構成され、真空発生部106で発生する負圧を
後述する真空ポート96に連通する通路112を介して
検出し、作業機器を制御するための信号を発する。ま
た、圧力検出ユニット18の内部にある基板、例えば、
フレキシブル基板には、マイクロコンピュータ、もしく
はワンチップマイコンを用い、電子式圧力センサの出力
信号を得て、圧力設定、圧力調整、警報発生・停止、O
N/OFF動作、ヒシテリシス除去、モード切換、真空
発生用ユニットの内部状態モニタの故障予知機能等を備
え、真空発生用ユニット全体の作動状況を含めて制御す
ることが可能である。予め自動的にプログラムに従って
プレ動作させON/OFF設定を自動設定し、また作動
後は他のセンサで検出される基準圧力の変動をフィード
バックし、設定値を自動的に変更させてもよい。さら
に、ファジイ理論を用いて吸着状態の予測制御も可能で
ある。また、上記機能に関して図示しない液晶(カラー
LCD)、発光ダイオード(LED)等のデジタル表示
装置を有することもできる。前記圧力検出ユニット18
と真空ポートユニット21との境界面にはフィルタ11
4が介装されている。
【0025】真空ポートユニット21は、矩形体形状
で、エゼクタ16側の一側面部から可撓性部材で形成さ
れたチェック弁116、フィルタユニット20aへ連通
する通路118と他側面部に設けられた真空ポート96
とを有し、前記真空ポート96から圧力検出ユニット1
8へ指向する通路112が画成されている。
【0026】フィルタユニット20aは、圧力検出ユニ
ット18に隣接し、この圧力検出ユニット18と真空ポ
ートユニット21に対して固定される。フィルタユニッ
ト20aは透明な蓋部材120によってフィルタ本体1
22を閉塞している。フィルタユニット20aの内部に
は、フィルタ本体122が配設されるとともに、このフ
ィルタユニット20aは先端部にねじ溝を形成したスタ
ッド124を有する摘み126で真空ポートユニット2
1に固着される。したがって、前記摘み126を螺回す
ることにより前記フィルタ本体122を交換することが
可能である。
【0027】また、前記フィルタ本体122およびフィ
ルタ114は、真空ポート96から流入する油分を取り
除く吸油エレメントや流入する水分を取り除く疎水性エ
レメント、フッ素樹脂メンブラン、中空糸等の水分分離
機能を有するエレメントを用いたり、また、これらを併
用することが可能である。これにより、弁、真空スイッ
チ、サイレンサ等を水分から保護できる。また、ドレン
手段を設けてその水分を排出することも可能である。
【0028】以上のように構成される真空供給装置24
aについて、次にその動作を説明する。
【0029】最初に図示しないコンプレッサ等の圧縮空
気供給源が付勢され、圧縮空気はバルブユニット10a
のパイロット弁供給ポート32を通り、弁機構部26の
内部の通路を経て第1電磁パイロット弁64の第3ポー
ト82aに達する。電磁弁70aが滅勢している状態で
は、第3ポート82aは、第4ポート84aに連通して
いる(図9参照)。したがって、圧力流体は第4ポート
84aから通路128を経て供給弁40の第1パイロッ
ト室56に達し、供給弁40を閉成している(図10参
照)。一方、圧力流体は、第3ポート82aから通路1
30、マニュアル用摘み132の周囲に画成された穴部
134を介して電磁弁70aの第1通路136に達して
いる。
【0030】そこで、吸着用パッドによってワークを吸
着搬送する場合には、電磁弁70aが付勢される。すな
わち、可動鉄心138が上部に変位し、着座部材140
が上方に変位して弁座142と離間する。したがって、
第1通路136は通路144、リング状の空間146を
介して、第3通路148に連通する(図5参照)。この
結果、圧縮空気は第3通路148に到達し、さらにマニ
ュアル用摘み132の穴部134の下部、開口部150
を経て、パイロット室152aに達してパイロット弁本
体74aを図面上右向きに変位させる(図5参照)。こ
の際、エンドプレート76aのパイロット室90aの空
気は、孔部92を介して第2電磁パイロット弁66のパ
イロット室90bに達する。さらに前記空気は、第2電
磁パイロット弁66のパイロット弁本体74bの貫通孔
88、マニュアル用摘み132の開口部150を経て電
磁弁70bの第3通路148に達し、第2通路154、
通路156、凹部158を介して第5ポート86bに到
達し、弁機構部26の内部の通路を経てパイロット弁排
気ポート36に排出される(図6参照)。
【0031】以上のようにして第1電磁パイロット弁6
4のパイロット弁本体74aが図面上右向きに変位し、
第3ポート82aは、第2ポート80aと連通し、第4
ポート84aは、第5ポート86aと連通する(図5参
照)。したがって、第3ポート82aに供給された圧力
流体は、第2ポート80aから通路160を介して第2
パイロット室58に達して供給弁40を図面上左方向に
変位させる(図10参照)。すなわち、弁体44が左方
向に変位して第3の可撓性リング体54を弁座46から
離し、空間60と空間62を連通して前記供給弁40を
開成する(図4参照)。その際、第1パイロット室56
の空気は、通路128を介して第4ポート84aに達
し、第5ポート86aからパイロット弁排気ポート36
に排出される(図5および図10参照)。
【0032】このようにして供給弁40が開成されるた
め、バルブユニット10aの供給ポート30とエゼクタ
16が連通して前記エゼクタ16に圧縮空気が供給され
る(図3参照)。こうしてエゼクタ16で負圧が発生
し、この負圧により可撓性部材で形成されたチェック弁
116が開き、吸着用パッドの空気を吸引してワークを
吸着する。すなわち、前記負圧によって、真空ポート9
6側の空気は、塵芥を除去するフィルタ本体122、通
路118を経てチェック弁116を開成し、真空発生部
106を介して、ディフューザ部104に吸引される。
【0033】その際、真空ポート96から圧力検出ユニ
ット18に連通している通路112を介して、圧力検出
ユニット18の真空スイッチ110は真空ポート96に
おける負圧を測定し、その出力信号で作業機器を制御す
る。
【0034】一方、ディフューザ部104に真空ポート
96より吸引された空気、およびノズル部102より噴
出された圧縮空気は、前記ディフューザ部104からサ
イレンサ108を経て外部に排出される(図2参照)。
【0035】次に、搬送後に吸着用パッドからワークを
離脱する場合には、以下に述べるように行う。すなわ
ち、第1電磁パイロット弁64の電磁弁70aを滅勢
し、第2電磁パイロット弁66の電磁弁70bと第3電
磁パイロット弁68の電磁弁70cを付勢する。第1電
磁パイロット弁64の電磁弁70aを滅勢すると可動鉄
心138は下部に変位する。したがって、上部の着座部
材140が弁座142と当接し、第2通路154と第3
通路148とが連通する(図9参照)。一方、第2電磁
パイロット弁66の電磁弁70bを付勢すると、電磁弁
70aと同様に、着座部72bの第3ポート82bから
通路130、穴部134を介して電磁弁70bの第1通
路136に達した圧縮空気は、第3通路148に達する
(図11参照)。さらに前記圧縮空気は、開口部150
を経て、パイロット弁本体74bの貫通孔88を経てエ
ンドプレート76のパイロット室90bから孔部92を
介して第1電磁パイロット弁64のエンドプレート76
のパイロット室90aに到達し、第1電磁パイロット弁
64のパイロット弁本体74aを図面上左方向に変位さ
せる(図9参照)。この変位に伴い第1電磁パイロット
弁64のパイロット室152aの空気(図5参照)は、
開口部150を経て電磁弁70aの第3通路148に到
達する。前記空気は、第3通路148と第2通路154
が連通しているため、第2通路154から通路156を
経て凹部158に達する。上記のようにして凹部158
に達した空気は、パイロット弁本体74aを左方向に維
持するとともに前記パイロット弁本体74aのチェック
シール162を介して、第5ポート86aからバルブユ
ニット10aのパイロット弁排気ポート36に排気され
る(図12参照)。
【0036】以上のようにして第1電磁パイロット弁6
4のパイロット弁本体74aが図面上左向きに変位し、
第3ポート82aは第4ポート84aと連通し、第2ポ
ート80aは第1ポート78aと連通する(図9参
照)。したがって、第3ポート82aに供給された圧力
流体は、第4ポート84aから通路128を介して第1
パイロット室56に達して供給弁40を閉成する(図1
0参照)。その際、第2パイロット室58の空気は、通
路160を介して第2ポート80aに達し、第1ポート
78aからバルブユニット10aのパイロット弁排気ポ
ート36へ達して排出される。したがって、エゼクタ1
6に圧縮空気が供給されず、負圧が吸着用パッドに供給
されることはない(図3参照)。
【0037】第3電磁パイロット弁68の電磁弁70c
を付勢すると、第1電磁弁70aと同様に、着座部72
cの第3ポート82cから通路130を介して電磁弁7
0cの第1通路136に達した圧縮空気は、第3通路1
48に達する(図7参照)。さらに前記圧縮空気は、マ
ニュアル用摘み132の開口部150を経て、パイロッ
ト室152cに到達する。一方、第3ポート82cから
供給される圧縮空気は、通路130を介してエンドプレ
ート76cのパイロット室90cに達する。上記のよう
にしてパイロット弁本体74cの両端に達した圧縮空気
は、前記パイロット弁本体74cの両端部の受圧面積の
差異(マニュアル用摘み132側>エンドプレート76
c側)により押圧力に差が生じ、第3電磁パイロット弁
68のパイロット弁本体74cを図面上右向きに変位さ
せる(図7参照)。
【0038】以上のようにして第3電磁パイロット弁6
8のパイロット弁本体74cが図面上右向きに変位し、
第3ポート82cは第2ポート80cと連通し、第4ポ
ート84cは第5ポート86cと連通する。したがっ
て、第3ポート82cに供給された圧力流体は、第2ポ
ート80cから通路164を介して第2パイロット室1
66に達して真空破壊弁42を開成する(図10参
照)。その際、第1パイロット室168の圧力流体は、
通路170を介して第4ポート84cに達し、第5ポー
ト86cからパイロット弁排気ポート36へ達して排出
される。したがって、圧縮空気は、バルブユニット10
aの真空破壊ポート34から真空破壊弁42を介して真
空ポート96に達し、吸着用パッドの負圧状態を素早く
解除してワークを離脱させる(図3参照)。
【0039】吸着用パッドがワークを離脱した後、再び
ワークを吸着するまでの間は、第3電磁パイロット弁6
8の電磁弁70cを滅勢する。電磁弁70aと同様に、
電磁弁70cの可動鉄心138は下部に変位する。これ
により、上部の着座部材140が弁座142と当接し、
第1通路136と第3通路148が遮断される(図13
参照)。また、下部のパッキン172も下部に変位する
ため、第2通路154と第3通路148とが連通する。
したがって、第3通路148から開口部150を経てパ
イロット室152に供給される圧縮空気はなく、着座部
72cの第3ポート82cから通路130を経てエンド
プレート76cのパイロット室90cに達する圧縮空気
により、パイロット弁本体74cは図面上左向きに変位
する(図13参照)。
【0040】以上のようにして第3電磁パイロット弁6
8のパイロット弁本体74cが図面上左向きに変位し、
第3ポート82cは第4ポート84cと連通し、第2ポ
ート80cは第1ポート78cと連通する。したがっ
て、第3ポート82cに供給された圧力流体は、第4ポ
ート84cから通路170を介して真空破壊弁42の第
1パイロット室168に達し、弁体を右方向に変位させ
て、真空破壊弁42を閉成する(図10参照)。その
際、第2パイロット室166の空気は、通路164を介
して第2ポート80cに達し、第1ポート78cからパ
イロット弁排気ポート36へ達して排出される。したが
って、真空破壊弁42が閉成しているため、圧力流体が
バルブユニット10aの真空破壊ポート34から真空ポ
ート96に達することはない(図3参照)。こうするこ
とにより、例えば、吸着用パッドがワークを離脱した後
に再びワークを吸着するまでの間に圧縮空気を無駄に使
うことを阻止できる。
【0041】また、第1電磁パイロット弁64と第2電
磁パイロット弁66をエンドプレート76aで連通して
ダブルソレノイド型としているため、停電時にもパイロ
ット弁本体74aは切り換わることなく、例えワークを
吸着搬送中に停電しても吸着状態が解除されて、吸着用
パッドからワークが落下するおそれはない。
【0042】次に第2実施例として、真空ポンプ仕様の
真空供給装置24bについて説明する。なお、第1実施
例と同一の構成要素には、同一の参照符号を付し、その
詳細な説明を省略する。
【0043】エゼクタ仕様の真空供給装置24aは、容
易に真空ポンプ仕様の真空供給装置24bに組み換え可
能である。すなわち、真空供給装置24aからエゼクタ
16を取り除き、バルブユニット10aの供給ポート3
0に真空ポンプを接続することにより真空ポンプ仕様の
真空供給装置24bとなる(図14および図15参
照)。
【0044】真空供給装置24bも真空供給装置24a
と同様に、パイロット弁供給ポート32から供給された
圧力流体が第1電磁パイロット弁64を経て、供給弁4
0を開成する。したがって、真空ポンプと真空ポート9
6が連通し、負圧が吸着用パッド等の作業機器に供給さ
れ、ワークを吸着する。吸入される空気は、フィルタ本
体122、通路118、チェック弁116を経て、供給
ポート30から真空ポンプに達する(図15参照)。他
の動作は、エゼクタ仕様の真空供給装置24aと全く同
様である。
【0045】このように構成される真空供給装置24
a、24bは、しばしばマニホールドによって、複数個
連設されて使用される。エゼクタ仕様、真空ポンプ仕様
それぞれのマニホールド対応型の真空供給装置24c、
24dを第3、第4実施例として説明する。
【0046】マニホールド22は、略矩形断面を呈し、
基本的には、マニホールドベース182と、このマニホ
ールドベース182の正面と背面の両端部に取着される
一組のエンドプレート184、186とからなる(図1
8参照)。
【0047】この場合、図16、17に示すように、マ
ニホールドベース182には、エンドプレート184、
186が取着される両端部を貫通する供給通路188、
パイロット弁供給通路190、真空破壊通路192、パ
イロット弁排気通路194がそれぞれ所定間隔離間して
画成されている。なお、パイロット弁供給通路190の
エンドプレート184、186部分にはチェック弁19
7a、197bを備えている。チェック弁197a、1
97bは圧縮空気の供給が停止した場合に弁体への供給
圧力保持時間を延ばすためのものである。
【0048】前記両端側のパイロット弁排気通路194
の上方および供給通路188の下方にはエンドプレート
184、186を取り付けるための雌ねじ195が設け
られている。
【0049】次に、マニホールド22の側面部の一方
は、接続プレート14bの一側面と当接し、他方は、エ
ゼクタ仕様の真空供給装置24aの場合にはエゼクタ1
6の一側面に、真空ポンプ仕様の真空供給装置24bの
場合には真空ポートユニット21に当接するよう配設さ
れている。
【0050】図16に示すように、接続プレート14b
と当接するマニホールド22の側面部には、第1から第
6までの連通口196、198、200、202、20
4、206が所定間隔離れて設けられており、その連通
口の周囲にパッキン溝208が刻設され、そこにパッキ
ンが装着される。その他、外部機器との取付用のねじ孔
210を備えている。
【0051】第3連通口200は供給通路188に、第
4連通口202はパイロット弁供給通路190に、第5
連通口204は真空破壊通路192に、第6連通口20
6はパイロット弁排気通路194にそれぞれ連通してい
る。また、第1連通口196および第2連通口198は
他端側の側面に貫通している。
【0052】図17に示すように、エゼクタ16と当接
するマニホールド22の側面部には、上方に第7連通口
212が設けられており、下方には、接続プレート14
b側の側面部から到達する第1および第2連通口19
6、198が開口している。そして、その周囲には、パ
ッキン溝208が配設されている。その他に取付用のね
じ孔210を複数画成している。
【0053】接続プレート14bは、図19に示すよう
に、接続プレート14aと同様に、第1乃至第3孔部9
4、98、100を有するとともに、マニホールド22
の第3乃至第6連通口200、202、204、206
に対応する第4乃至第7孔部214、216、218、
220を備える。
【0054】このように構成されるマニホールド対応型
の真空供給装置24c、24dでは、使用しないバルブ
ユニット10aの各ポート30、32、34、36をね
じで閉塞される(図20参照)。圧力流体、あるいは負
圧の供給は、各ポート30、32、34、36の代わり
にマニホールド22の各通路188、190、192、
194から第3乃至第6連通口200、202、20
4、206および接続プレート14bの第4乃至第7通
路214、216、218、220を介してバルブユニ
ット10aに行われる(図16、図19および図20参
照)。また、エゼクタ仕様の真空供給装置24cは、エ
ゼクタ16からの排気をチェック弁109を介してマニ
ホールド22のパイロット弁排気通路194に流れるよ
うに構成する(図20参照)。前記チェック弁109
は、エゼクタ仕様の真空供給装置24cが、複数個連設
された際に、作動中の真空供給装置24cから停止中の
真空供給装置24cへ排気が逆流し、真空ポート96か
ら噴出することを防止する。他の動作は、真空供給装置
24c、24dのそれぞれ真空供給装置24a、24b
と同様である。
【0055】このようなマニホールド対応型の真空供給
装置24c、24dは、複数個連設された際に夫々の真
空供給装置24の全てにマニホールド22から圧力流
体、例えば、圧縮空気あるいは負圧を供給している。そ
の際、一つの真空供給装置がバルブユニット10aのポ
ート30、32、34、36を使用して窒素を利用して
作業を行おうとすると、マニホールド22から該真空供
給装置を取り外さなければならない。窒素を用いる真空
供給装置24をマニホールド22に装着している状態で
は、圧縮空気と窒素が混合する可能性があり、所定の目
的を達成できないからである。このような場合に、第5
実施例として、接続プレート14bに換えて接続プレー
ト14aを使用する。接続プレート14aは、第1孔部
94、第2孔部98、第3孔部100のみ有するため、
マニホールド22の供給通路188、パイロット弁供給
通路190、真空破壊通路192、パイロット弁排気通
路194とバルブユニット10aを遮断する(図21参
照)。したがって、所望の真空供給装置24cをマニホ
ールド22に流れている圧力流体と異なる圧力流体で使
用することが可能となる。
【0056】さらに窒素が必要となるのは、真空破壊の
際に圧縮空気ではIC基板等のワークに塵埃等の不純物
が付着し、不良品となるのを阻止するためであるから真
空破壊用のみ窒素にすればよい。その方がコスト的にも
有利である。
【0057】第6実施例として、このような場合に使用
する接続プレート14cを説明する。接続プレート14
cは、図22に示すように、接続プレート14bの第6
孔部218を除いた構成となっている。すなわち、図2
3に示すように、真空供給装置24cのマニホールド2
2の真空破壊通路192とバルブユニット10aの真空
破壊弁とを遮断している。したがって、バルブユニット
10aの真空破壊ポート34を利用して窒素を使用す
る。一方、他のポート30、32、34は、ねじで閉塞
し、マニホールド22の通路188、190、194を
利用できる。
【0058】第5、並びに第6実施例では、エゼクタ仕
様の真空供給装置24cについて説明したが、もちろん
真空ポンプ仕様の真空供給装置24dでも同様に実現可
能である。また、ここに示した実施例に限らず必要に応
じて適当な接続プレートを装着可能である。
【0059】このように使用される真空供給装置24a
乃至24dにおいて、例えば、第1乃至第3電磁パイロ
ット弁64、66、68、および供給弁40、真空破壊
弁42の全てに圧縮空気を供給する場合、一つのポート
からのみ供給する方が配管も簡単であるし、効率的であ
る。しかしながら、弁機構部26を用途に応じて取り揃
えるのは、ユーザーにとってコスト上問題となる。そこ
で、例えば、ファンクションプレート12aを前記弁機
構部26と接続プレート14aの間に挿入し、流体回路
を変更する。
【0060】板状のファンクションプレート12aは、
一側面を弁機構部26に当接し、他側面を接続プレート
14aに当接している。図24乃至図26に前記ファン
クションプレート12aの正面図(バルブユニット10
a側)、縦断面図および背面図(真空ポートユニット2
1側)を示す。
【0061】板状のファンクションプレート12aは、
その両面をパッキン230a、230bによって大きく
7つの空間に区分されており、その中の孔部を有する6
つの空間、すなわち、第1室232、第2室234、第
3室236、第4室238、第5室240、第6室24
2から構成されている。パッキン230a、230b
は、それぞれの空間相互の流体の通流を阻止するととも
に、ファンクションプレート12aと他の部材との間隙
から流体が漏洩するのを防ぐ。本実施例においては、第
3室236、第4室238および第5室240は、それ
ぞれの室を隔絶しているパッキン230aが一部欠落し
ており、第3室236から第5室240まで連通してい
る(図24参照)。
【0062】次に、上記のように構成される真空供給装
置の動作を図24および図27を参照して説明する。
【0063】第7実施例では、先ず、供給される圧力流
体は一種類に限定し、エゼクタ仕様の真空供給装置24
aの場合について説明する。そこで、圧力流体を、例え
ば、圧縮空気とすると、この圧縮空気をバルブユニット
10aの供給ポート30から供給し、バルブユニット1
0aの弁機構部26のパイロット弁排気ポート36から
排気する。したがって、弁機構部26のパイロット弁供
給ポート32および真空破壊ポート34はねじで閉塞さ
れる(図27参照)。このような状態で、吸着用パッド
によりワーク等を吸着搬送する場合、最初に図示しない
コンプレッサ等の圧縮空気供給源が付勢され、圧縮空気
は弁機構部26の供給ポート30に供給され、ファンク
ションプレート12aの第3室236に達する。ファン
クションプレート12aは、パッキン230aが一部欠
落しているため、第3室236から第5室240まで連
通している(図24および図27参照)。そのため、圧
縮空気はファンクションプレート12aの第3室236
から第4室238および第5室240に達して真空破壊
弁42および第1乃至第3電磁パイロット弁64、6
6、68に供給される。したがって、ファンクションプ
レート12aを挿入するだけで、弁機構部26の流路変
更ができ、配管が効率的になる。
【0064】同様に第8実施例では、真空ポンプ仕様の
真空供給装置24bの場合について説明する。この場合
は、第7実施例と同様の目的でファンクションプレート
12bを挿入する。ファンクションプレート12bは、
図28に示すように、ファンクションプレート12aと
略同様の構成であるが、バルブユニット10a側のパッ
キン244aの一部が欠落して第4室238と第5室2
40が連通している。この場合もパイロット弁供給ポー
ト32をねじで閉塞することにより、配管が効率的にな
る(図29参照)。
【0065】さらにマニホールド対応型の真空供給装置
24c、24dは、接続プレートとファンクションプレ
ートの組み合わせで弁機構部26の流路変更が行われ
る。第9、並びに10実施例として真空供給装置24c
に対する例を示す。
【0066】第6実施例と同様にIC基板等のワークに
対しては窒素等が真空破壊用に使用され、その他には圧
縮空気が使用される。この際にファンクションプレート
12cを用いる。ファンクションプレート12cは、フ
ァンクションプレート12aと略同様の構成であるが、
バルブユニット10a側のパッキン246aの一部が欠
落して第3室236と第4室238が連通している(図
30参照)。マニホールド22の真空破壊通路192に
窒素が流れている場合には、接続プレート14dを挿入
する。接続プレート14dは、接続プレート14bの第
5孔部216を無くした形状をしている(図31参
照)。したがって、接続プレート14dは、マニホール
ド22のパイロット弁供給通路190とファンクション
プレート12cの第4室238とを遮断している(図3
2参照)。圧縮空気の供給は、マニホールド22の供給
通路188から供給弁40および第1乃至第3電磁パイ
ロット弁64、66、68に行われる。もちろん、使用
しない弁機構部26の各ポート30、32、34、36
はねじで閉塞される。さらに、マニホールド22の真空
破壊通路192に圧縮空気が流れている場合には、接続
プレート14eを挿入する。接続プレート14eは、接
続プレート14bの第5孔部216および第6孔部21
8を無くした形状をしている(図33参照)。したがっ
て、接続プレート14eは、マニホールド22のパイロ
ット弁供給通路190および真空破壊通路192と、フ
ァンクションプレート12cの第4室238および第5
室240とを遮断している(図34参照)。窒素の供給
は、弁機構部26の真空破壊ポート34から行われる。
使用しない弁機構部26の各ポート30、32、36は
ねじで閉塞される。もちろん、本実施例も真空ポンプ仕
様の真空供給装置24dでも実施可能である。
【0067】このように真空供給装置24a乃至24d
は、ファンクションプレート12a乃至12cおよび接
続プレート14a乃至14eを目的に応じて適宜組み合
わせて、あるいは接続プレート14a乃至14eを単独
で使用することにより、バルブユニット10aの弁機構
部26の内部流路もしくは弁機構部26に対する配管を
変更できる。もちろん、異なるバルブユニット10b、
10cにも対応可能である。
【0068】また、バルブユニット10は、弁機構部2
6と電磁パイロット弁部29の間に第1、第2インタフ
ェース27、28を挿入し、これらを適宜組み換えるこ
とにより、弁機構部26と電磁パイロット弁部29との
流路を変更して、パイロット弁のシステムを変更する。
したがって、第1インタフェース27、第2インタフェ
ース28を変更することにより、上部に搭載するパイロ
ット弁を変更し、エアオペレート型、ノルマルオープン
型のバルブユニット10b,10c等に変更できる。本
発明は、このように一つの真空供給装置24が、僅かな
組み換えでエゼクタあるいは、真空ポンプ仕様に変更で
き、さらにマニホールド22を装着することにより、複
数個連設することも可能となる。また、プレートを交換
することにより、バルブユニット10の弁機構部26を
変更することなく、流路変更または配管変更が行える。
【0069】
【発明の効果】本発明に係る真空供給装置によれば、以
下の効果が得られる。
【0070】すなわち、真空供給装置を機能別にユニッ
トを組み合わせて構成するため、最小限の組み換えでエ
ゼクタ仕様、真空ポンプ仕様あるいはマニホールド対応
型に変更できる。また、プレートをバルブユニットの弁
機構部と他の部材との間に挿入することにより、弁機構
部を交換することなく、流路変更や該弁機構部へ接続さ
れる配管変更を行える。したがって、ユーザーは、少量
のストックで使用目的に応じて簡便に様々な用途に小型
の状態で装置を変更可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る真空供給装置の組み合わせ説明図
である。
【図2】本発明に係る第1実施例のエゼクタ仕様の真空
供給装置の断面図である。
【図3】本発明に係る第1実施例のエゼクタ仕様の真空
供給装置の流体回路説明図である。
【図4】本発明に係る真空供給装置の供給弁の断面図で
ある。
【図5】本発明に係る真空供給装置の第1電磁パイロッ
ト弁の開成時の断面図である。
【図6】本発明に係る真空供給装置の第2電磁パイロッ
ト弁の閉成時の断面図である。
【図7】本発明に係る真空供給装置の第3電磁パイロッ
ト弁の開成時の断面図である。
【図8】本発明に係る真空供給装置の第1の接続プレー
トの斜視図である。
【図9】本発明に係る真空供給装置の第1電磁パイロッ
ト弁の閉成時の断面図である。
【図10】本発明に係る真空供給装置のバルブユニット
の一部断面図である。
【図11】本発明に係る真空供給装置の第2電磁パイロ
ット弁の開成時の断面図である。
【図12】本発明に係る真空供給装置の第1電磁パイロ
ット弁の閉成時の一部拡大断面図である。
【図13】本発明に係る真空供給装置の第3電磁パイロ
ット弁の閉成時の断面図である。
【図14】本発明に係る第2実施例の真空ポンプ仕様の
真空供給装置の断面図である。
【図15】本発明に係る第2実施例の真空ポンプ仕様の
真空供給装置の流体回路説明図である。
【図16】本発明に係る真空供給装置のマニホールドの
斜視図である。
【図17】本発明に係る真空供給装置のマニホールドの
斜視図である。
【図18】本発明に係る第3実施例のエゼクタ仕様のマ
ニホールド対応型の真空供給装置の斜視図である。
【図19】本発明に係る真空供給装置の第2の接続プレ
ートの斜視図である。
【図20】本発明に係る第3実施例のエゼクタ仕様のマ
ニホールド対応型の真空供給装置の流体回路説明図であ
る。
【図21】本発明に係る第5実施例のエゼクタ仕様のマ
ニホールド対応型の真空供給装置の流体回路説明図であ
る。
【図22】本発明に係る真空供給装置の第3の接続プレ
ートの斜視図である。
【図23】本発明に係る第6実施例のエゼクタ仕様のマ
ニホールド対応型の真空供給装置の流体回路説明図であ
る。
【図24】本発明に係る真空供給装置の第1のファンク
ションプレートの正面図である。
【図25】本発明に係る真空供給装置の第1のファンク
ションプレートのA−A線断面図である。
【図26】本発明に係る真空供給装置の第1のファンク
ションプレートの背面図である。
【図27】本発明に係る第7実施例のエゼクタ仕様の真
空供給装置の流体回路説明図である。
【図28】本発明に係る真空供給装置の第2のファンク
ションプレートの正面図である。
【図29】本発明に係る第8実施例の真空ポンプ仕様の
真空供給装置の流体回路説明図である。
【図30】本発明に係る真空供給装置の第3のファンク
ションプレートの正面図である。
【図31】本発明に係る真空供給装置の第4の接続プレ
ートの斜視図である。
【図32】本発明に係る第9実施例のエゼクタ仕様の真
空供給装置の流体回路説明図である。
【図33】本発明に係る真空供給装置の第5の接続プレ
ートの斜視図である。
【図34】本発明に係る第10実施例のエゼクタ仕様の
真空供給装置の流体回路説明図である。
【符号の説明】
10…バルブユニット 12…ファンクションプレート 14…接続プレート 16…エゼクタ 18…圧力検出ユニット 20…フィルタユニット 22…マニホールド 24…真空供給装置 26…弁機構部 27…第1インタフェース 28…第2インタフェース 29…電磁パイロット弁部 30…供給ポート 32…パイロット弁供給ポート 34…真空破壊ポート 36…パイロット弁排気ポート 40…供給弁 42…真空破壊弁
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年4月16日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0015
【補正方法】変更
【補正内容】
【0015】これらの部材は、金属射出による一体成
形、あるいは合成樹脂による一体成形として構成され
適宜用途に応じて組み合わせ可能である。なお、金属射
出で成形された部材は剛性が高く好適である。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0046
【補正方法】変更
【補正内容】
【0046】マニホールド22は、略矩形断面を呈し、
基本的には、マニホールドベース182と、このマニホ
ールドベース182の正面と背面の両端部に取着される
一組のエンドプレート184、186とからなる(図1
8参照)。前記マニホールド22は、図示していない取
付レールに取付けられるように、取付レール溝をマニホ
ールドベース182、エンドプレート184、186に
設ける構成としても良い。また、前記取付レール溝をバ
ルブユニット10a、真空ポートユニット21に設ける
構成としても良い。

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】吸着用パッド等の作業機器に連通して物品
    の保持あるいは搬送等を行うための真空供給装置におい
    て、圧力流体および負圧の供給および遮断を行う方向制
    御弁を有するバルブユニットと、前記作業機器に使用す
    る負圧を発生させる真空ユニットと、前記作業機器から
    吸入される流体の汚れを除去するフィルタユニットとか
    らなり、前記ユニットの組合せ体に対して、吸着用パッ
    ド等の作業機器に作用する圧力状態を検出する圧力検出
    ユニットと、排気音等のノイズを低減させるサイレンサ
    ユニットとを選択的に組み込むことを特徴とする真空供
    給装置。
  2. 【請求項2】請求項1記載の真空供給装置において、真
    空ユニットは、エゼクタであることを特徴とする真空供
    給装置。
  3. 【請求項3】請求項1記載の真空供給装置において、真
    空ユニットの代わりに、外部に真空ポンプを接続可能な
    ことを特徴とする真空供給装置。
  4. 【請求項4】請求項1、2または3のいずれかに記載の
    真空供給装置において、マニホールドにより複数個連設
    されていることを特徴とする真空供給装置。
  5. 【請求項5】請求項1、2、3または4のいずれかに記
    載の真空供給装置において、該バルブユニットは、圧力
    流体、あるいは負圧の供給および遮断を行う方向制御弁
    を有する弁機構部と、前記方向制御弁のパイロット弁を
    有するパイロット弁部と、前記弁機構部とパイロット弁
    部との間に装着され、前記弁機構部とパイロット弁部と
    を連通する流体通路を選択的に流路変更、並びに遮断す
    るプレートを備え、前記パイロット弁の方式を変更する
    際に、該パイロット弁および前記プレートを交換して弁
    機構部内部の流体通路は変更することなくパイロット弁
    の方式を変更可能に構成することを特徴とする真空供給
    装置。
  6. 【請求項6】請求項1、2、3または4のいずれかに記
    載の真空供給装置において、該バルブユニットは、圧力
    流体、あるいは負圧の供給および遮断を行う方向制御弁
    を備え、前記方向制御弁は弁座と弁体を備え、前記弁体
    の両端部に周溝を形成し、該周溝に第1、第2の可撓性
    リング体を装着するとともに、前記弁体の中間部に傾斜
    した一側面を有する第3の可撓性リング体を固着し、前
    記弁座に対し前記弁体が閉成する時に第3の可撓性リン
    グ体の傾斜面と前記弁座の突端とが当接することを特徴
    とする真空供給装置。
  7. 【請求項7】請求項1、2、3または4のいずれかに記
    載の真空供給装置において、前記バルブユニットは隣接
    する部材の間にプレートを装着し、前記プレートを交換
    することによって、前記バルブユニットと隣接する部材
    とを気密に接続するとともに前記バルブユニットと隣接
    する部材の間の複数の流体通路を選択的に遮断すること
    を特徴とする真空供給装置。
  8. 【請求項8】請求項1、2、3または4のいずれかに記
    載の真空供給装置において、前記バルブユニットと隣接
    する部材の間にプレートを装着し、前記プレートを交換
    することによって、前記バルブユニットと隣接する部材
    とを気密に接続し、前記バルブユニットと隣接する部材
    間の複数の流体通路を選択的に遮断するとともに、バル
    ブユニット内部の複数の流体通路を選択的に流路変更す
    ることを特徴とする真空供給装置。
  9. 【請求項9】請求項8記載の真空供給装置において、前
    記プレートは、前記バルブユニットと該バルブユニット
    に連通する流路を有する部材とを気密に接続し、交換す
    ることによって前記バルブユニットと前記部材間の複数
    の流体通路を選択的に遮断するプレートと、交換するこ
    とによってバルブユニット内部の複数の流体通路を選択
    的に流路変更するプレートとを備え、前記の両プレート
    の組み合わせで前記バルブユニットと前記部材間の複数
    の流体通路を選択的に遮断するとともに、バルブユニッ
    ト内部の複数の流体通路を選択的に流路変更することを
    特徴とする真空供給装置。
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