JPH04203300A - 真空発生用ユニット - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野コ 本発明は、吸着用パッド等の作業機器に負圧を供給する
真空発生用ユニットに関する。

［従来の技術］ 従来より、吸着用パッドや真空パックの動力源として真
空発生用ユニットが利用されている。

この種の真空発生用ユニットは、−船釣に負圧を発生さ
せるエゼクタあるいは真空ポンプと、吸着用パッド等の
作業機器に連通している真空ポートと、前記エゼクタや
真空ポートに圧力流体を送給しあるいは遮断する弁機構
部と、前記吸着用パッドから吸入される空気の汚れを除
去するフィルタ部とを備える。

以上のように構成された従来技術に係る真空発生用ユニ
ットの動作について説明する。

真空発生用ユニットは、単独で、あるいはマニホールド
によって連結されて複数個で使用される。真空発生用ユ
ニットが単独で使用される際には、圧力流体は弁機構部
に設けられた複数のポートによって、圧力流体供給源か
ら弁機構部に送り込まれる。

一方、真空発生用ユニットがマニホールドに連結されて
複数個で使用される際には、圧力流体は、マニホールド
に設けられた通路を介して圧力流体供給源から弁機構部
に送り込まれる。

吸着用パッドを用いて、ワークを吸着搬送する場合は以
下のように行う。先ず、ワークを吸着するために吸着用
パッドから空気を吸引する際、圧力流体を弁機構部を介
してエゼクタに送給し、負圧を生じさせ、あるいは、真
空ポンプを作動させる。吸着用パッドから吸引される空
気は、真空ポートより真空発生用ユニットに吸入され、
フィルタ部で吸入空気の塵埃、油等の汚れが除去され、
前記真空発生用ユニット内部の通路を通り、外部へと排
出される。

その際、負圧を検出して吸着用パッドの吸着搬送を制御
するための信号を発する。

吸着用パッドの負圧状態を解除する場合には、圧力流体
が弁機構部から吸着用パッドに直接送り込まれ、所謂、
真空破壊が行われて、吸着用パッドの負圧状態が解除さ
れる。

［発明が解決しようとする課題］ しかしながら、上記の従来の技術では、マニホールドに
よって真空発生用ユニットが複数個配設された場合、以
下に述べるような問題がある。

真空発生用ユニットの全てにマニホールドから圧力流体
、例えば圧縮空気を供給している。

その際、１つの真空発生用ユニットが弁機構部のポート
を使用して別の圧力流体、例えば窒素を利用して作業を
行おうとすると、マニホールドから該真空発生用ユニッ
トを取り外さなければならい。窒素を用いる真空発生用
ユニットをマニホールドに装着している状態では、圧縮
空気と窒素が混合する可能性があり所定の目的を達成で
きないという理由に基づく。

また、１つの真空発生用ユニットにおいて、単一の圧力
流体、例えば圧縮空気を使用する場合には、弁機構部内
部の流体回路を変更してマニホールドの１つの通路から
当該真空発生用ユニットに供給し、次いで、夫々の通路
に分岐させた方が効率的である。しかしながら、使用す
る圧力流体の種類に応じて、最も効率的な流体回路を有
する弁機構部を製造するのは構造が多岐にわたるため個
々の真空発生用ユニットとしての製造コストが極めて高
くなる不都合がある。

本発明は、この種の問題を解決するものであり、真空発
生用ユニットがマニホールドによって連設されている場
合に、異なる圧力流体を使用する特定の真空発生用ユニ
ットをマニホールドから取り外すことなく、従って、各
真空発生用ユニットが個別に多種の圧力流体を使用でき
、圧力流体の種類に応じて最も効率的な流体回路に変更
可能な真空発生用ユニットを提供することを目的とする
。

［課題を解決するための手段］ 上記の課題を解決するために、本発明は、真空ポートに
吸着用パッド等の作業機器を連通して物品の保持あるい
は搬送等を行うた必の真空発生用ユニットにおいて、 該ユニットは少なくとも圧力空気供給通路、排気通路等
の複数の通路が画成されたブロック体を有し、 前記ブロック体に対して前記複数の通路のいずれかを選
択的に流路変更するとともに該流路の遮断を行うプレー
トを装着することを特徴とする。

［作用］ 上記の本発明に係る真空発生用ユニットでは、内部に画
成されている複数の通路のいずれかをプレートによって
選択的に流路変更するとともに該流路の遮断を行うため
、単にプレートを交換するだけで最も効率的な流体回路
に容易に変更できる。

［実施例］ 本発明に係る真空発生用ユニットについて好適な実施例
を挙げ、添付の図面を参照しながら以下詳細に説明する
。

第１図および第２図において、参照符号１０は、本実施
例に係る真空発生用ユニットを示す。

真空発生用ユニット１０は、基本的に電磁弁部１２、弁
機構部１４、ファンクションプレート１６ａ、遮断プレ
ート１８ａ、マニホールド２０、エゼクタ２２、検出部
２４、フィルタ部２６、真空ポート部２８から構成され
る。

矩形体からなる弁機構部１４には、その上部に電磁弁部
１２を螺子によって装着し、前記弁機構部１４にはファ
ンクションプレート１６ａの一側面部が当接する。前記
弁機構部１４には、さらに下部より空気供給ポート３０
、パイロット弁供給ポート３２、真空破壊ポート３４、
パイロット弁排気ポート３６が画成されている。

前記パイロット弁供給ポート３２と真空破壊ポート３４
の近傍には螺孔が形成され、この螺孔に実質的に流量調
節弁を構成する弁体３８を螺合する。前記弁機構部１４
の内部には、軸方向が図面と直交する方向に延在する２
ポ一ト２位置型の空気供給弁４０、真空破壊弁４２を配
設し、前記空気供給弁４０、真空破壊弁４２、ポート３
０乃至３６、電磁弁部１２およびファンクションプレー
）１６ａを相互に連通ずる通路が画成されている。

また、パイロット弁供給ポート３２と後述するマニホー
ルド２０のパイロット弁供給通路７２がら空気供給弁４
０および真空破壊弁４２に連通ずる通路上にはチエツク
弁４３．４５が設けられている（第４図参照）。前記チ
エツク弁４３．４５は、コンプレッサ、配管等の事故に
より供給されなくなった場合に供給圧力を保持して、パ
イロット弁として機能する電磁弁部１２の誤作動を防止
する。すなわち、ワークの落下等を阻止し、安全性を増
大させるためである。

前記弁機構部１４の上部に設けられる電磁弁部１２は、
前記弁機構部１４を構成する空気供給弁４０および真空
破壊弁４２のオン／オフ動作を行う５ポ一ト２位置弁か
らなる第１電磁弁４４、第２電磁弁４６、第３電磁弁４
８を有する。

板状のファンクションプレート１６ａは、−側面を弁機
構部１４に当接し、他側面を遮断プレー）１８ａに当接
している。第３図ａ乃至Ｃに前記ファンクションプレー
ト１６ａの正面図（弁機構部１４側）、縦断面図および
背面図（マニホールド２０側）を示す。ここでは、第３
図ａ乃至Ｃを参照してファンクションプレート１６ａに
ついて一層詳細に説明する。

板状のファンクションプレート１６ａは、その両面をパ
ツキン５０ａ、５０ｂによって大きく７つの空間に区分
されており、その中の６つの空間、すなわち、第１室５
２、第２室５４、第３室５６、第４室５８、第５室６０
、第６室６２から構成されている。パツキン５０ａ、５
０ｂは、それぞれの空間相互の流体の逆流を阻止すると
ともに、ファンクションプレート１６ａと他の部材との
間隙から流体が漏洩するのを防ぐ。第１室５２の遮断プ
レート側には、パツキン５０ｂと一体的に形成されたチ
エツク弁６３を備える。本実施例においては、第３室５
６、第４室５８および第５室６０は、それぞれの室を隔
絶しているパツキン５０ａが一部欠落しており、第３室
５６乃至第５室６０は連通している（第３図ａ参照）。

板状の遮断プレート１８ａは、−側面をファンクション
プレート１６ａに当接し、他側面をマニホールド２０に
当接している。ここでは、第４図を参照して遮断プレー
ト］、　３　ａについて説明する。

遮断プレート１８ａには、空気供給弁４０とエゼクタ２
２を連通させる第１孔部６４、真空破壊弁４２と後述す
る真空ポート９８を連通させる第２孔部６５、後述する
マニホールド２０の空気供給通路７０と空気供給弁４０
を連通させる第３孔部６６、マニホールド２０のパイロ
ット弁排気通路７６とパイロット弁を連通させる第４孔
部６７、弁機構部１４からマニホールド２０まで送入さ
れる螺子付スフラド用の６つの第５孔部６８が形成され
ている。マニホールド２０側の面には、マニホールド２
０の６つの通路７０乃至８０を通流する流体が漏洩しな
いようにパツキンが取り付けられている。

矩形体からなるマニホールド２０は、−側面を遮断プレ
ー）　１．８　ａに当接し、他側面をエゼクタ２２に当
接している。前記マニホールド２０の内部には、下部か
ら図面と直交する方向に空気供給通路７０、パイロット
弁供給通路７２、真空破壊通路７４、パイロット弁排気
通路７６が形成され、一方、図面の紙面の延在方向に沿
って空気供給弁４０とエゼクタ２２を連通ずる通路７８
、真空破壊弁４２ど真空ポート９８を連通ずる通路８０
を有する。

前記マニホールド２０の側面部は、前記エゼクタ２２の
一側面部が当接するように配設されている。前記エゼク
タ２２は矩形体からなり、その内部に所定の口径のノズ
ル部８２とこのノズル部８２に連接されるデイフユーザ
部８４を有し、前記デイフユーザ部８４は真空発生部８
６に連通している。前記デイフユーザ部８４はマニホー
ルド２０のパイロット弁排気通路７６に連通し、その途
中にはザイレンサ８８が装着されている。

前記エゼクタ２２の他側面部には、検出部２４および真
空ポート部２８が装着されている。

前記検出部２４は箱型形状を呈し、その内部に真空スイ
ッチ９０が設けられている。この真空スイッチ９０は、
好ましくは、半導体圧カセンザで構成され、真空発生部
８６で発生する負圧を後述する真空ポート９８に連通ず
る通路９２を介して検出し、吸着用パッドの負圧力を制
御するだめの信号を発する。

また、検出部２４の内部にある基板、例えば、フレキシ
ブル基板には、マイクロコンピュータ、もしくはワンチ
ップマイコンを用い、電子式圧カセンザの出力信号を得
て、圧力設定、調整、警報、オン／オフ、ヒシテリシス
、モード切換、真空発生用ユニットの内部状態モニター
の故障予知機能等を備え、真空発生用ユニット全体の作
動状況を含めて制御する事が可能である。さらに、ファ
ジィ理論を用いて吸着状態の予測制御も可能である。ま
た、上記機能に関して図示しない液晶（ＬＣＤ）　、発
光ダイオード（ＬＥＤ）等のデジタル表示装置を有する
。

真空ポート部２８は、矩形体形状で、エゼクタ２２側の
一側面部から可撓性部材で形成されたチエツク弁９４、
フィルタ部２６へ連通ずる通路９６と他側面部に設けら
れた真空ポート９８とを有し、前記真空ポート９８から
検出部２４へ指向する通路９２を画成している。前記通
路９２と検出部２４側にはフィルタ９９が設けられてい
る。

フィルタ部２６は、検出部２４に隣接し、この検出部２
４と真空ポート部２８に対して固定される。フィルタ部
２６は透明な蓋部材１００によってフィルタ本体１０２
を閉塞している。

フィルタ部２６の内部には、フィルタ本体１０２が配設
されるとともに、このフィルタ部２６は先端部に螺子溝
を形成したスフラド１．０４を有する摘み１０６で真空
ポート部２８に固着している。従って、前記摘み１．０
６を螺回することにより前記フィルタ本体１０２を交換
することが可能である。

次に、上記のように構成される真空発生用ユニットの動
作を第１図、第３図乃至第５図を参照して説明する。

本実施例では、先ず、供給される圧力流体は一種類に限
定している。そこで、圧力流体を、例えば、圧縮空気と
すると、この圧縮空気をマニホールド２０の空気供給通
路７０から供給し、マニホールド２０のパイロット弁排
気通路７６から排気する。従って、弁機構部１４の各ポ
ート３０乃至３６も螺子で閉塞される（第５図参照）。

このような状態で、吸着用パッドによりワークを吸着搬
送する場合、最初に図示しないコンプレッサ等の圧縮空
気供給源が付勢され、圧縮空気はマニホールド２０の空
気供給通路７Ｏに供給され、遮断プレート１８ａの第３
孔部６６を介してファンクションプレート１６ａの第３
室５６に達する。ファンクションプレート１６ａは、パ
ツキン５０ａが一部欠落しているため、第３室５６から
第５室６０まで連通している（第３図ａ参照）。そのた
め、圧縮空気はファンクションプレート１．６　ａの第
３室５６から第４室５８へ達し、第１電磁弁４４が付勢
されることにより、前記圧縮空気が空気供給弁４０を開
成する。そこで、チエツク弁６３が開成しく第１図およ
び第３図すの破線参照）、圧縮空気供給源とエゼクタ２
２が連通して前記エゼクタ２２に圧縮空気が供給される
（第５図参照）。

こうしてエゼクタ２２のノズル部８２からデイフユーザ
部８４に圧縮空気が流れることによって真空発生部８６
で負圧が発生しく第１図参照）、吸着用パッドの空気を
吸引する。すなわち、前記負圧によって破線で示すよう
にチエツク弁９４が開成し、真空ポート９８側の空気は
、塵埃を除去するフィルタ部２６、通路９６、真空発生
部８６を介して、デイフユーザ部８４に吸引される。

その際、真空ポート９８から検出部２４に連通している
通路９２により、検出部２４の真空スイッチ９０は真空
ポート９８における負圧を測定し、その出力信号で吸着
用パッドを制御する。

一方、真空ポート９８より吸引された空気およびノズル
部８２より噴出された圧縮空気は、前記デイフユーザ部
８４からその空気の汚れを取るザイレンザ８８を介して
マニホールド２０のパイロット弁排気通路７６より外部
に排出される。

なお、吸着用パッドにがかる負圧を解除する場合、第２
電磁弁４６が付勢され、ファンクションプレー）１６ａ
の第３室５６から第４室５８を経て圧縮空気が空気供給
弁４０を変位させる。その際、第１室５２のチエツク弁
６３は閉塞し、マニホールド２０のパイロット弁排気通
路７６からエゼクタ２２を介して空気供給弁４Ｄ方向に
他の真空発生用ユニットの排気が流入する。ずなわぢ、
他の真空発生用ユニットのフィルタを介して排気された
空気が供給されるためにこの空気供給弁４０が汚染され
ることなく、従って、その性能低下を防ぐ。一方、圧縮
空気は、マニホールド２０の空気供給通路７０から遮断
プレー）１８ａの第３孔部６６を介してファンクション
プレート１６ａの第３室５６へ流入し、ファンクション
プレートの第３室５６から第４室５８へ達し、第３電磁
弁４８が付勢されることにより真空破壊弁４２を開成す
る（第５図参照）。圧縮空気供給源はファンクションプ
レー）１６ａの第３室５６から第５室６０まで連通して
いるため、第５室６０から真空破壊弁４２、通路８０を
介して真空ポート９８と直接連通し、吸着用パッドの負
圧が解除される。

このように、ファンクションプレート１６ａを真空発生
用ユニット１０に挿入することにより、弁機構部１４の
内部構造を変えることなく流体回路を変更可能である。

また、遮断プレート１８ａを挿入したため、使用しない
マニホールド２０の通路に圧縮空気が流入することもな
い。蓋し、本実施例では、マニホールド２０のパイロッ
ト弁供給通路７２および真空破壊通路７４と弁機構部１
４が遮断プレート１８ａにより遮断されているからであ
る。このため、同一の圧力流体を用いる場合は、供給側
を単一のもので済ませることが可能であるために、効果
的である。

次に、第２の実施例について説明する。この場合、第１
の実施例と同一の構成要素には同一の参照符号を付し、
その詳細な説明を省略し、以下同様である。本実施例は
、ファンクションプレー）１６ｂおよび遮断プレート１
８ｂのみが第１の実施例と異なる。

本実施例はワークの汚染を回避すべく、すなわち負圧を
解除するのに乾燥空気、あるいは窒素を用いている。そ
の際、パイロット弁とエゼクタ２２には圧縮空気を供給
する。ここで、圧縮空気は、マニホールド２０の空気供
給通路７０のみに供給し、窒素あるいは乾燥空気はマニ
ホールド２０の真空破壊通路７４に供給する。

弁機構部１４の各ポート３０乃至３６は螺子で閉塞され
ている。

ファンクションプレート１６ｂはパツキン１０８ａの一
部が欠落し、第３室５６と第４室５８が連通している（
第６図ａ参照）。

遮断プレート１８ｂは、第１孔部６４乃至第５孔部６８
以外にもマニホールド２０の真空破壊通路７４と真空破
壊弁４２を連通させる第６の孔部１１０が画成されてい
る（第７図参照）。

この真空発生用ユニットを作動させる際に、先ず圧縮空
気供給源を付勢し、その圧縮空気はマニホールド２０の
空気供給通路７０に流入し、ファンクションプレート１
６ｂの第３室５６から第４室５８へ流れる。そこで、第
１電磁弁４４が付勢されることにより、前記圧縮空気が
空気供給弁４０を開成する。そのため、チエツク弁６３
が開成し、圧縮空気供給源とエゼクタ２２が連通して負
圧が発生し、吸着用パッドの空気を吸引する（第８図参
照）。

なお、吸着用パッドにがかる負圧を解除する場合、第２
電磁弁４６が付勢され、圧縮空気は、マニホールド２０
の空気供給通路７０から遮断プレー）１８ｂの第３孔部
６６を介してファンクションプレート１６ｂに流入し、
ファンクションプレート１６ｂの第３室５６から第４室
５８を経て圧縮空気が空気供給弁４０を閉塞する。

一方、圧縮空気は、第３電磁弁４８が付勢されることに
より、真空破壊弁４２を開成する（第８図参照）。その
ため、乾燥空気あるいは窒素はマニホールド２０の真空
破壊通路７４から遮断プレー）１８ｂの第６孔部１１０
、ファンクションプレート１６ｂの第５室６０を経て、
通路８０を介して真空ポート９８と直接連通し、吸着用
パッドの負圧を解除する。

本実施例も第１の実施例と同様の効果が得られる。

次に、第３の実施例について説明する。本実雄側では、
エゼクタ２２０代わりに真空ポンプを利用している点、
ファンクションプレート１５ｃおよび遮断プレート１８
ｂの構成が第１の実施例と異なる。

本実施例は真空ポンプを使用した場合、すなわち、真空
ポンプがマニホールド２０の空気供給通路７０に接続さ
れている構造のものであって、吸着用パッドの負圧解除
とパイロット弁には圧縮空気を用いる。ここで、圧縮空
気の供給は、マニホールド２０の真空破壊通路７４のみ
を用いて行い、弁機構部１４の各ポート３０乃至３６は
螺子で閉塞されている。

ファンクションプレート１６Ｃは、第９図ａに示すよう
に、パツキン１１２ａの一部が欠落し、第４室５８と第
５室６０が連通している。

また、第１の実施例と通路７８の流体の流れ方向が逆に
なるため、第３図ｂＳｃ並びに第６図ｂＳｃに示したチ
エツク弁は設けられていない。

そのため、マニホールド２０の真空破壊通路７４から流
入した圧縮空気は、遮断プレート１８ｂの第６孔部１１
０を介してファンクションプレート１６Ｃの第５室６０
から第４室５８へ流れ、第１電磁弁４４が付勢されるこ
とにより、前記圧縮空気が空気供給弁４０を開成する。

そのため、真空ポンプと真空ポート９８が遮断プレート
１８ｂの第３孔部６６およびファンクションプレート１
６Ｃの第３室５６を介して連通し、前記真空ポート９８
から真空ポンプに空気が吸引される（第１０図参照）。

こうして吸着用パッドの空気を吸引する。

一方、吸着用パッドにかかる負圧を解除する場合、第２
電磁弁４６が付勢され空気供給弁４０を閉塞し、次いで
、圧縮空気は、マニホールド２０の真空破壊通路７４か
ら遮断プレート１８ｂの第６孔部１１０、ファンクショ
ンプレート１６Ｃの第５室６０に流入し、ファンクショ
ンプレートの第５室６０から第４室５８へ達し、第３電
磁弁４８が付勢されることにより、真空破壊弁４２を開
成するく第１０図参照）。そのため、圧縮空気の供給源
は真空破壊通路７４から遮断プレー）１８ｂの第６孔部
１１０１ファンクションプレート１６Ｃの第５室６０に
流入し、通路８０を介して真空ポート９８と直接連通し
、吸着用パッドの負圧を解除する。

本実施例も第１の実施例と同様の効果が得られる。

さらに、第４の実施例について説明する。本実施例は、
遮断プレー）１８ｃの構成が第１の実施例と異なる。

本実施例はマニホールドと連結したままで、１つの真空
発生用ユニット１０をマニホールド２０に流れる圧力流
体と異なる圧力流体で作動させる場合に利用する。ここ
で、圧力流体の供給は、弁機構部１４の空気供給ポー）
３０のみを用いて行い、弁機構部１４のパイロット弁供
給ポート３２および真空破壊ポート３４は螺子で閉塞さ
れる。

遮断プレー）１８ｃは、第１孔部６４および第２孔部６
５のみである（第１１図参照）。このため、マニホール
ド２０の空気供給通路７０、パイロット弁供給通路７２
、真空破壊通ｖ！ｆ！？４、パイロット弁排気通路７６
は該真空発生用ユニット１０の弁機構部１４と遮断され
る（第１２図参照）。このような状態で、吸着用パッド
によりワークを吸着搬送する場合、圧力流体が弁機構部
１４の空気供給ポート３０から供給され、ファンクショ
ンプレー）１６ａの１３室５６に達する（第３図並びに
第１２図参照）。圧力流体はファンクションプレート１
６ａの第３室５６から第４室５８へ達し、第１電磁弁４
４が付勢されることにより、前記圧力流体が空気供給弁
４０を開成する。そのため、分岐した圧力流体が空気供
給弁４０からエゼクタ２２に達して負圧を発生する。

一方、吸着用パッドにかかる負圧を解除する場合、第２
電磁弁４６が付勢され空気供給弁４０を閉塞し、圧力流
体が、弁機構部１４の空気供給ポート３０からファンク
ションプレート１６ａの第３室５６に流入し、ファンク
ションプレー）１６ａの第３室５６から第４室５８へ達
する。第３電磁弁４８が付勢されることにより、真空破
壊弁４２を開成する（第１２図参照）。

そのため、圧力流体は空気供給ポート３０からファンク
ションプレート１６Ｃの第３室５６に達し、ファンクシ
ョンプレート１６ｃの第３室５６から第５室６０へ指向
し、真空破壊弁４２および通路８０を介して真空ポート
９８と直接連通し、吸着用パッドの負圧を解除する。

本実施例においては、ファンクションプレート１６ａの
孔部により、圧力流体が遮断プレート１８Ｃ側に達する
が、ファンクションプレート１６ａのパツキン５０ｂに
よって漏洩することはない（第３図Ｃ参照）。

本実施例も第１の実施例と同様の効果が得られるととも
に、真空発生用ユニット１０を一々マニホールド２０か
ら取り外さなくて済む。

本発明は、このように種々のファンクションプレー）１
６ａ乃至１６Ｃと遮断プレート１８ａ乃至１８ｃとの組
み合わせや遮断プレート１８ａ、１８ｂ、１８ｃ単独の
使用も可能であるし、またマニホールド２０から取り外
した状態でファンクションプレート１．６ａ、１６ｂ、
１６Ｃ単独で真空発生用ユニットを使用することも可能
である。

「発明の効果」 以上のように、本発明に係る真空発生用ユニットでは、
次のような効果乃至利点を有する。

ずなわぢ、ファンクションプレートおよび遮断プレート
を利用することにより、弁機構部内部の構造を変えるこ
となく、使用する圧力流体の種類に応じて、最も効率的
な流体回路に変更できる。プレートは弁機構部の構造を
変更することより製造コストも低く、スペースもとらな
いので多種頌揃えたとしてもユーザー側の負担はさほど
に上昇しない。

また、プレートを２枚採用しているために、その組み合
わせにより、１枚に全ての機能を盛り込んだものよりも
少数の種類で対応できる効果もある。

【図面の簡単な説明】 第１図は本発明に係る真空発生用ユニットの第１実施例
の縦断面図、 第２図は本発明に係る真空発生用ユニットの第１実施例
の斜視図、 第３図ａは本発明に係る真空発生用ユニットの第１実施
例のファンクションプレートの弁機構部側正面図、 第３図すは本発明に係る真空発生用ユニットの第１実施
例のファンクションプレートのＡ−Ａ線断面図、 第３図Ｃは本発明に係る真空発生用ユニットの第１実施
例のファンクションプレートのマニホールド側背面図、 第４図は本発明に係る真空発生用ユニットの第１実施例
の遮断プレートの斜視図、 第５図は本発明に係る真空発生用ユニットの第１実施例
の流体回路説明図、 第６図ａは本発明に係る真空発生用ユニットの第２実施
例のファンクションプレートの弁機構部側正面図、 第６図すは本発明に係る真空発生用ユニットの第２実施
例のファンクションプレートのＢ−Ｂ線断面図、 第６図Ｃは本発明に係る真空発生用ユニットの第２実施
例のファンクションプレートのマニホールド側背面図、 第７図は本発明に係る真空発生用ユニットの第２実施例
の遮断プレートの斜視図、 第８図は本発明に係る真空発生用ユニットの第２実施例
の流体回路説明図、 第９図ａは本発明に係る真空発生用ユニットの第３実施
例のファンクションプレートの弁機構部側正面図、 第９図すは本発明に係る真空発生用ユニットの第３実施
例のファンクションプレートのＣ−Ｃ線断面図、 第９図Ｃは本発明に係る真空発生用ユニットの第３実施
例のファンクションプレートのマニホールド側背面図、 第１０図は本発明に係る真空発生用ユニットの第３実施
例の流体回路説明図、 第１１図は本発明に係る真空発生用ユニットの第４実施
例の遮断プレートの斜視図、第１２図は本発明に係る真
空発生用ユニットの第４実施例の流体回路説明図である
。 １０・・・真空発生用ユニット １２・・・電磁弁部 １４・・・弁機構部 １６８〜１６Ｃ・・・ファンクションプレート１８３〜
１８Ｃ・・・遮断プレート ２０・・・マニホールド ２２・・・エゼクタ ２４・・・検出部 ２６・・・フィルタ部 ２８・・・真空ポート部

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 （１）真空ポートに吸着用パッド等の作業機器を連通し
   て物品の保持あるいは搬送等を行うための真空発生用ユ
   ニットにおいて、 該ユニットは少なくとも圧力空気供給通路、排気通路等
   の複数の通路が画成されたブロック体を有し、 前記ブロック体に対して前記複数の通路のいずれかを選
   択的に流路変更するとともに該流路の遮断を行うプレー
   トを装着することを特徴とする真空発生用ユニット。 （２）請求項１記載の真空発生用ユニットにおいて、 真空発生用ユニットは圧力流体の供給および遮断を行う
   方向制御弁を有する弁機構部を備え、前記真空発生用ユ
   ニットを共通に流体の供給あるいは排気を行うマニホー
   ルドに複数個配設することを特徴とする真空発生用ユニ
   ット。 （４）請求項３記載の真空発生用ユニットにおいて、 前記真空発生用ユニットは交換することによって弁機構
   部とマニホールドとを結ぶ流体回路を変更可能なプレー
   トを有することを特徴とする真空発生用ユニット。 （５）請求項３記載の真空発生用ユニットにおいて、 前記真空発生用ユニットは交換することによって弁機構
   部とマニホールドとを結ぶ流体回路を遮断可能なプレー
   トを有することを特徴とする真空発生用ユニット。