JPH053994B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は印鑑を彫る彫刻機に関するものであ
る。

（従来の技術） 印材を垂直に支持して水平面内をＸ軸及びＹ軸
方向にスライドするスライド台及び昇降可能な錐
状回転カツターを具えた彫刻機と、入力された印
章の文字図形情報に基づいてスライド台及び錐状
カツターに制御信号を発するコンピユータとを組
合せ、印材の印面を水平に保ち水平面内にて移動
させながら、カツターを繰り返し昇降せしめて自
動的に印鑑を彫ることが行なわれている。

従来の彫刻機は第７図の如く、基台１上にＸ軸
及びＹ軸方向にスライド可能にスライド台１２を
配備し、スライド台１２の上方に昇降位置決め装
置２に連繋して昇降及び位置決め可能に昇降台４
６を配備している。

昇降台４６には錐状カツター６を回転自由に支
持したホルダー５が取り付けられ、ホルダー５上
にはカツター回転駆動モータ５３が配備されてい
る。

上記昇降位置決め装置２は、パルスモータ３５
によつて回転するネジ軸２６に昇降台４６を螺合
し、パルスモータ３５をコンピユータ制御してネ
ジ推力により昇降台４６を昇降させ、印材７への
彫りの深さを制御している。

印材７はスライド台１２上のクランプ部材１
３，１３に垂直に保持され、予めコンピユータに
入力された図形情報通りにスライド台１２と一体
に移動し、第４図に示す如く、印材７には錐状カ
ツターによつて文字７１の仮想輪郭に沿つて、連
続した線７３が浅く彫られ、次で斜線で囲まれた
部分が深く彫られる。

上記の如く、文字の輪郭だけを浅く彫るのは、
第５図に示す如く、この部分を深く彫ると、錐状
カツターのテーパ部が文字面７４に食込んで文字
面の縁部が潰れるからである。

又、深く彫る際は、第６図に２点鎖線で示す如
く、印材７をＸ軸方向に等速で移動させ、カツタ
ー６が印材７の端部に対応すれば、印材をＹ軸方
向に僅かずらして、前記とは逆向きにＸ軸方向に
移動させ、この動作を繰り返す。この間、深く彫
る部分ではカツター６を下降させ、彫り残す部分
ではカツター６を印面よりも上昇させる。即ち、
カツター６の昇降を繰り返して彫るのである。

（発明が解決しようとする課題） 従来の彫刻機は前記の如く、パルスモータ３５
によつてネジ軸２６を回転させ、ネジ推力にて昇
降台４６を昇降せしめるため、カツター６の昇降
に要する時間が長く掛り、それに対応して印材を
支持するスライド台１２のスライド速度を遅くし
なければならず、作業能率が悪い問題があつた。

本発明はカツター６の高さ変化の反応時間を短
くして、印材７への彫刻能率を高めることのでき
る彫刻機を明らかにするものである。

（課題を解決する手段） 本発明の彫刻機は、基台１に昇降位置決め装置
２に連繋し昇降及び位置決め可能に配備した昇降
台４６上に、カツター回転駆動モータ５３に連繋
して回転可能に錐状カツター６を配備し、昇降位
置決め装置２によりカツター６を上下動せしめて
彫り深さを制御する彫刻機に於て、昇降位置決め
装置２は昇降台４６を上昇方向或は下降方向に付
勢する付勢手段及び該付勢手段に抗して下降或は
上昇させるソレノイド２０と、基台１上の定位置
に設けたネジ部２４に螺合され昇降台４６或は該
台と一体に昇降する部材の下降路に位置し、モー
タ３４に連繋されて回転することによりネジ部２
４の螺旋に沿つて高さ位置を変化させて昇降台４
６及びカツター６の下降高さを制御する彫り深さ
規制部材３とで構成される。

（作用及び効果） 付勢手段とソレノイド２０とによつてカツター
６を昇降させるため、従来のネジ推力にてカツタ
ー６を昇降させるものに比べて動作時間が短縮さ
れ、彫刻能率を高めることができる。

（実施例） 基台１上に、Ｘ軸及びＹ軸方向にスライド可能
にスライド台１２が配備され、スライド台１２は
公知の如く、印章を表わす文字図形が入力された
コンピユータ（図示せず）によつて動作する駆動
装置（図示せず）に連繋されている。

スライド台１２は印材７を垂直に支持するクラ
ンプ部材１３，１３を具えている。

基台１の後部に柱状の取付部１１を突設し、該
取付部１１に基準高さ位置調節装置１５に連繋し
て高さ位置調節台１４を配備している。

高さ位置調節装置１５は、後記する錐状カツタ
ー６の高さを前記スライド台１２の印面高さに設
定するためにのものであり、ウオームとウオーム
ギヤとの組合せ等、種々の機構で実施可能であ
る。

高さ位置調節台１４に上下端が閉塞した筒状の
ソレノイド収容体２１を固定し、該ソレノイド収
容体２１内の底部にソレノイド２０を固定配備す
る。

ソレノイド収容体２１の上面中央に開設した貫
通孔２５にガイド部材２２を螺合し、ロツクナツ
ト２８にて緩み止めを画つている。

ガイド部材２２の上部に外ネジ部２４を形成
し、該ネジ部２４に厚手の円板状の彫り深さ規制
部材３を螺合する。

高さ位置調節台１４、ソレノイド収容体２１、
ソレノイド２０、ガイド部材２２及び彫り深さ規
制部材３の夫々の軸心を上下にスライド可能に貫
通して昇降軸４を配備し、該昇降軸の下端に昇降
台４６を取り付ける。

ソレノイド収容体２１内にて昇降軸４にはソレ
ノイドに吸着される吸着板４０が固定される。

彫り深さ規制部材３の上方に臨出した昇降軸４
の上端にスリーブ４２を螺合し、該スリーブ４２
にキヤツプ４３を被せて止めネジ４５にて係止す
る。

スリーブ４２とキヤツプ４３と彫り深さ規制部
材３の間にスリーブ４２、キヤツプ４３及び昇降
軸４を介して昇降台４６を上向き付勢するバネ４
４を介装する。

前記彫り深さ規制部材３の周面は歯面３０に形
成され、２つの中間歯車３１，３２及びタイミン
グベルト３３を介してモータ３４に連繋されてい
る。

モータ３４はパルスモータであつて、制御回路
を介して前記スライド台１２の駆動制御を行なう
コンピユータに連繋されている。

パルスモータの回転により、彫り深さ規制部材
３とキヤツプ４３との間の隙間幅が変化して、キ
ヤツプ４３従つて昇降台４６の昇降ストロークを
変化させることができる。

昇降台４６に、スライド台１２の上方に施さる
腕片４７を水平に突設し、該腕片に筒状ホルダー
５を着脱可能に取り付ける。該ホルダー５の軸心
に回転自由にスピンドル５２を支持し、該スピン
ドルの下端に錐状カツター６を取り付ける。ホル
ダー５の上端にスピンドル５２を介してカツター
６を回転駆動するカツター駆動モータ５３を配備
する。

然して、印材７をスライド台１２上のクランプ
部材１３に保持せしめ、予めプログラムされた通
りにスライド台１２を移動せしめる。第４図の如
く、印材７は文字の輪郭に沿う様に移動し、カツ
ター６によつて文字の輪郭に沿つて連続した線が
浅く彫られる。

次で、印材７は第６図の如く、位置をずらしつ
つ平行に連続移動し、その間深く彫る部分ではソ
レノイド２０に通電してバネ４４に抗して吸着板
４０を下向きに引き寄せて昇降台４６及びカツタ
ー６を下降させて彫りを深くする。

彫り残し部分では、ソレノイド２０への通電を
遮断してカツター６をバネ４４力で引上げる。ソ
レノイド２０への通電はコンピユータによつて制
御されている。

上記の如く、カツター６を付勢手段とソレノイ
ド２０によつて上下に動作させるため、従来のネ
ジ推力にてカツター６を上下動させるものに比べ
て反応時間が短くなり、彫刻能率を高めることが
できる。

第３図は、彫り深さ規制部材３をギヤモータ８
で駆動する他の実施例を示している。

ギヤモータ８の回転駆動軸には、回転角度検出
用円板８１とスタート位置検出用円板８２との２
つの円板と、ギヤプーリ８３とを具えている。

回転角度検出用円板８１の外周部には15個のス
リツト孔８４が等間隔で開設され、該検出板がス
リツト孔の１ピツチ分回転すると、彫り深さ規制
部材３も1/15回転して前記ネジ部２３のリード角
に沿つて上又は下に0.1mm移動する。

スタート位置検出用円板８２には１個のスリツ
ト孔８５が開設されている。

両円板８１，８２の外周部に光電スイツチ８
６，８７が配備され、両光電スイツチ及びギヤモ
ータ８は制御盤９を介して前記スライド台１２を
制御するコンピユータ（図示せず）に連繋されて
いる。

制御盤９には彫り深さを設定する複数のスイツ
チ、実施例では２つのスイツチ９１，９２が配備
されている。

第１スイツチ９１で文字の輪郭に沿う線の深さ
を設定し、第２スイツチ９２で線で囲まれる部分
の深さを設定できる。

例えば、文字の輪郭を0.3mm深さ、他の部分を
0.5mmに設定する場合、第１スイツチ９１を0.3に
第２スイツチ９２を0.2にセツトする。

最初にギヤモータ８は回転角度検出用円板８１
のスリツト孔８４の３ピツチ分回転して、彫り深
さ規制部材３を0.3mm下降させ、彫り深さ規制部
材３の上面とキヤツプ４３との下端との間隔を
0.3mmとする。

上記状態でソレノイド２０に通電されることに
より、キヤツプ４３従つて昇降台４６が0.2mm下
降して、印材７に0.3mm深さで彫刻できる。

文字の輪郭を彫り終えると、ギヤモータ８が回
転角度検出用円板８１のスリツト孔８４の２ピツ
チ分回転して、彫り深さ規制部材３を更に0.2mm
下降させ、この下降分だけカツター６も下降して
0.5mm深さで彫刻できる。

１つの印鑑を彫り終えるとギヤモータ８が逆転
してスタート位置検出用円板８２のスリツト８５
が光電スイツチ８７に対応する元位置に復帰す
る。

尚、本発明の実施に際し、昇降台４６をバネ力
で常時押し下げ、ソレノイドで上昇させることが
できる等、本発明は上記実施例の構成に限定され
ることはなく、特許請求の範囲に記載の範囲で
種々の変形が可能である。

【図面の簡単な説明】

第１図は彫刻機の斜面図、第２図は彫刻機の一
部を断面で表わした正面図、第３図は昇降位置決
め装置の他の実施例を示す斜面図、第４図は印面
の正面図、第５図は彫り深さを２段にする説明
図、第６図は印材のスライド動作説明図、第７図
は従来例の断面図である。 ２……昇降位置決め装置、２０……ソレノイ
ド、３……彫り深さ規制部材、４６……昇降台、
６……カツター。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. １ 基台１に昇降位置決め装置２に連繋し昇降及
   び位置決め可能に配備した昇降台４６上に、カツ
   ター回転駆動モータ５３に連繋して回転可能に錐
   状カツター６を配備し、昇降位置決め装置２によ
   りカツター６を上下動せしめて彫り深さを制御す
   る彫刻機に於て、昇降位置決め装置２は昇降台４
   ６を上昇方向或は下降方向に付勢する付勢手段及
   び該付勢手段に抗して下降或は上昇させるソレノ
   イド２０と、基台１上の定位置に設けたネジ部２
   ４に螺合され昇降台４６或は該台と一体に昇降す
   る部材の下降路に位置し、モータ３４に連繋され
   て回転することによりネジ部２４の螺旋に沿つて
   高さ位置を変化させて昇降台４６及びカツター６
   の下降高さを制御する彫り深さ規制部材３とで構
   成された彫刻機。