JPH0536141A - 光磁気記録装置 - Google Patents

光磁気記録装置

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JPH0536141A
JPH0536141A JP3190143A JP19014391A JPH0536141A JP H0536141 A JPH0536141 A JP H0536141A JP 3190143 A JP3190143 A JP 3190143A JP 19014391 A JP19014391 A JP 19014391A JP H0536141 A JPH0536141 A JP H0536141A
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layer
recording
magneto
recording layer
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JP3190143A
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Kayoko Suzuki
佳世子 鈴木
Arikatsu Nakaoki
有克 中沖
Yoshihiro Muto
良弘 武藤
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Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 記録層の初期化の磁界の低減化と簡易化をは
かる。 【構成】 メモリ層と記録層とを有する光磁気記録媒体
20を用い、情報記録に際し、記録層に初期化の外部磁
界Hi を与えるに、垂直方向磁界HV と、面方向磁界H
H とをHV ≦HC2+HW2,HH >{(HC2+HW2)−H
V }×1.7(H C2は記録層の保磁力、HW2は交換結合
力)とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばレーザー光の光
強度変調によって繰返しオーバライトを可能にした光磁
気記録装置に係わる。
【0002】
【従来の技術】光磁気相互作用によって情報ビット(磁
区)の読み出しを行う光磁気記録再生方法において、情
報の書き換えすなわちオーバライト(over wri
te)を可能にした記録方法としては、光磁気記録媒体
に与える外部磁界を変調する磁界変調型と、記録用のヘ
ッドのほかに消去用のヘッドを設ける2ヘッド型とが一
般に知られている。
【0003】磁界変調型の記録は、例えば、特開昭60
−48806号公報に開示されているように、膜面に垂
直な磁化容易軸を有する非晶質フェリ磁性薄膜記録媒体
に対し、その記録を行う場合、例えばオーバライト部に
レーザー光を照射して此処を局部的に加熱し、記録情
報、例えば“0”,“1”に応じて極性が反転変調され
た磁界を磁性薄膜に垂直方向に与えて、その磁化による
記録を行うというものである。
【0004】ところが、この磁界変調型の記録による場
合、情報転送レートの高い高速記録を行おうとすると、
高い周波数で動作する電磁石が必要となり、作製上の問
題が生じてくると共に、消費電力、発熱の問題が生じて
くる。
【0005】一方、2ヘッド型記録は、オーバライトに
先立って消去ヘッドによっていわば記録媒体を初期化す
るものであり、この場合、2つのヘッドを離して設置す
ることからドライブシステムの組立製造の煩雑さ、大型
化、経済性に問題が生じて来る。
【0006】このような問題を解決するものとして、特
開昭63−52354号公報、特開昭63−26810
3号公報、及び特開平2−24801号公報に開示され
た熱(光)磁気記録方法の提案がある。
【0007】特開昭63−52354号公報に開示され
た記録方法は、図10にその基本的構造の断面図を示す
ように、基体11上に、それぞれ非晶質希土類−遷移金
属磁性薄膜の垂直磁化膜より成るメモリ層1と、記録層
2とが磁気的に結合して積層して成る磁気記録媒体20
を用いる。この場合、メモリ層1及び記録層2の各保磁
力HC1及びHC2は、HC1≫HC2とされ、各キュリー温度
C1及びTC2はTC1<TC2とされる。
【0008】そして、所要の外部磁界Hexの印加の下に
メモリ層1のほぼキュリー温度TC1以上でかつ記録層2
の副格子磁化の反転が生じない第1の温度T1 に加熱す
る第1の加熱状態と、温度TC1以上でかつ記録層2の副
格子磁化を反転させるに充分な第2の温度T2 に加熱す
る第2の加熱状態とを、記録しようとする情報例えば
“0”,“1”に応じて切換変調し、冷却過程で、メモ
リ層1及び記録層2間の交換結合力によりメモリ層1の
副格子磁化の向きを記録層2の副格子磁化の向きに揃え
て、例えば“0”,“1”の記録ビット(磁区)をメモ
リ層1に形成すると共に、記録層2に対する初期化外部
磁界Hi によって、記録層2の副格子磁化が初期化状態
での向き(以下この方向を正方向という)に反転するよ
うにして、オーバライトが可能な状態を得るようにする
ものである。
【0009】この場合消去のための特別の過程(時間)
を要することがなく高転送レート化をはかることができ
るとか、上述した2ヘッド方式、或いは外部磁界変調方
法による場合の諸問題を解決できるものである。
【0010】更に、特開平2−24801号公報に開示
の記録方法では、図11に基本的構造の断面図を示すよ
うに、図10で説明した特開昭63−52354号公報
に開示の記録方法において用いた記録媒体のメモリ層1
及び記録層2間に、両者間の磁壁エネルギーを制御する
中間層3を設けて、上述した記録層2の正方向への反転
を確実に行うことができるようにするものである。
【0011】上述したように、メモリ層1及び記録層2
を有する光磁気記録媒体に対する情報の記録は、図1に
示すように、上述したように少くともメモリ層1と記録
層2とを有する光磁気記録媒体20例えばディスクが駆
動モータ25によって回転するようになされ、その回転
途上に上述した第1及び第2の加熱温度T1 及びT2
与えるレーザー光Rの照射を行うヘッドと、例えば永久
磁石より成る外部磁界Hexを与える記録磁界発生手段2
1とを有する記録部が設けられると共に、その後段に例
えば永久磁石より成る記録層の初期化磁界Hi を与える
初期化磁界発生手段22が設けられる。
【0012】この場合、記録層に対する初期化磁界Hi
は、メモリ層1の保磁力HC1よりは小さく選ばれるもの
の、確実に記録層2を初期の状態(正方向)とすること
ができるように、つまり、その膜面に対し垂直方向でか
つ初期の正方向に向かしめるように、少くとも記録層2
の保磁力HC2と交換結合力HW2の和より大きくなる垂直
方向の磁界成分を与えるように、そのNS磁極方向が媒
体面と垂直方向になるように配置するのみならず、垂直
成分磁界を充分得られるだけの比較的大きい磁界強度を
発生する磁石を配置するとか、図示しないがこの磁石に
対して光磁気記録媒体20を挟んで高透磁率の補助磁極
または磁石を配置して、媒体20に対し効率良く強い垂
直磁界成分が与えられるようにするなどの方法が採られ
る。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うに補助磁極を、光磁気記録媒体に対向して設けること
は、装置の大型、複雑化、組立の煩雑化を招き、また補
助磁極を設けずに垂直磁界成分を大とすることは、他部
への漏洩磁束の問題、磁界発生手段の強力化を必要とす
るなどの諸問題が生じる。
【0014】本発明は、上述したように少くともメモリ
層と記録層とを有して成る光磁気記録媒体を用い、記録
層に対し、初期化磁界を必要とする光磁気記録装置にお
ける上述の諸問題の解決をはかる。
【0015】即ち、本発明においては、上述したような
メモリ層の記録層による磁化の助成の下に情報の記録を
行い、記録層に対する初期化の外部磁界を必要とするも
のにおいて、新しい事実の発見に基いて、上述した諸問
題の解決をはかるものである。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明は、例えば図10
または図11でその一例の略線的断面図を示すように、
それぞれ希土類−遷移金属磁性薄膜より成る少くともメ
モリ層1と記録層2とが直接的に磁気的に交換結合する
か中間層3を介して順次磁気的に交換結合する光磁気記
録媒体20に対し、記録層1に対する初期化磁界発生手
段22を具備する光磁気記録装置において、初期化磁界
発生手段22の磁極が光磁気記録媒体20の一方の面に
のみ対向して設けられ、光磁気記録媒体面に対する垂直
方向の磁界成分をHV とし、面(水平)方向の磁界成分
をHH とするとき、これらを下記数1及び数2に選定し
た垂直方向磁界HV 及び水平方向磁界HH を初期化磁界
発生手段22によって光磁気記録媒体20に与える。
【数1】HV ≦HC2+HW2
【数2】HH >{(HC2+HW2)−HV }×1.7 ここに、HC2は上記記録層の保磁力、HW2は交換結合力
である。尚、この交換結合力HW2とは、下記数3で与え
られるものを指称する。
【0017】
【数3】HW2=σw/2MS22 σwは、メモリ層1と記録層2とが直接的に積層されて
いる場合は、両者間の磁壁エネルギーであり、両者間に
中間層3が介在されている場合は、中間層3と記録層2
との間の磁壁エネルギーであり、MS2及びh2 はそれぞ
れ記録層2の飽和磁化及び厚さである。
【0018】
【作用】上述したように本発明では、積極的に上記数2
で示す水平(面内)磁界HH を与えることによって数1
で明らかなように、その垂直成分HV を従来に比し小さ
く、つまり、本来必要とされると思われていた記録層2
の保磁力HC2と交換結合力HW2との和よりむしろ小さく
できるものである。
【0019】このように垂直成分磁界の低減化がはから
れることから本発明においては、記録層2に対する初期
化磁界発生手段22を光磁気記録媒体20の一方の面側
にのみ配置し、構成の簡略化、小型化をはかることがで
きるのである。
【0020】
【実施例】本発明は、前述したように、例えば図2にそ
の一例の断面図を示すように、例えばガラス、アクリ
ル、ポリカーボネート等の光透過性基板より成る基体1
1上にそれぞれ非晶質希土類−遷移金属磁性薄膜より成
るメモリ層1と記録層2とが例えば中間層3を介して順
次磁気的に交換結合する光磁気記録媒体20例えば光磁
気ディスクを用いる。
【0021】実施例1 光磁気記録媒体20として、ポリカーボネート基板より
成る基体11上に保護膜または干渉膜となる透明のSi
N膜より成る誘電体層4を形成し、これの上にメモリ層
1、中間層3、記録層2を順次連続スパッタリングによ
って積層する。更にこれの上に非磁性金属膜或いは誘電
体膜より成る保護膜5を被着形成した光磁気ディスクを
構成した。
【0022】メモリ層1は、例えば厚さh1 を30nm
で、キュリー温度TC1=175℃、室温での保磁力HC1
=20kOe、飽和磁化MS1=100GのTb20 (Fe
91Co5 Cr4 80の垂直磁気異方性が大なる遷移金属
優勢膜によって構成する。
【0023】中間層3は、例えば厚さh3 =30nm、
キュリー温度TC3=250℃の垂直磁気異方性が小さ
く、飽和磁化MS3=300GのGd45(Fe91Co5
4 55によって構成する。
【0024】記録層2は、例えば、厚さh2 =70nm
で、キュリー温度TC2>370℃、補償温度Tcomp=1
95℃、室温での保磁力HC2=4kOe、飽和磁化MS
=130Gの(Gd75Tb2526(Fe66Co30
4 74の垂直磁気異方性が大なる希土類優勢膜によっ
て構成する。
【0025】一方、図1で示すように光磁気記録媒体2
0、この例では光磁気ディスクを駆動モータ25によっ
て回転させ、その回転途上に記録情報の例えば“0”,
“1”に応じて第1及び第2の加熱温度T1 及びT2
与えるレーザー光Rの照射を基体10側から行う光ヘッ
ドと、この照射部に記録磁界Hexを印加する永久磁石或
いは電磁石より成り、そのNS磁極が媒体20に対しほ
ぼ垂直方向とされた記録磁界発生手段21を設ける。
【0026】そして、媒体20の移行においてこの光ヘ
ッド及び記録磁界発生手段21より後段に、例えば永久
磁石或いは電磁石より成り一定の磁界を記録層2に与え
これに対する初期化を行う初期化磁界発生手段22を設
ける。
【0027】この初期化磁界発生手段22は、図3に模
式的にその光磁気記録媒体20に対する磁化状態を矢印
をもって示すように、積極的に前記数2の関係を満足す
る光磁気記録媒体20の面方向に沿う磁界HH が発生す
るように、媒体20の一方の面側にのみ配置し、反対側
に補助磁極或いは磁石等の配置はなされないようにす
る。
【0028】そして、手段21によって光磁気記録媒体
20の面に対し垂直方向に前記数1で示す関係、実際的
には1kOe〜0kOeの磁界HV を印加する。
【0029】つまり、実際的には、面方向磁界HH は、
前記数2において、HV の値とし、HV =1kOeとH
V =10kOeを代入した範囲内に選定することが望ま
しい。
【0030】上述した構造による光磁気記録媒体20に
対する記録は、特開平2−24801号公報に開示され
た方法と同様にして行われる。即ち、この場合、図4に
温度Tに対応して上述したメモリ層1及び記録層2にお
ける各磁化状態を各層中に、矢印を付して模式的に示す
ように、室温TR 下において、両磁性層1及び2の磁化
の向きが同一である状態Aと、互いに逆向きの状態Bと
の2態様によって例えば“0”,“1”の情報の記録が
なされる。そして、これら記録は、外部磁界(記録磁界
と略称する)Hexの印加と、レーザー光の低パワーPL
照射による第1の加熱温度T1 と高パワーPH による第
2の加熱温度T2 とによる加熱によって行われる。
【0031】まず例えば状態Aにある部位に対してレー
ザー光を照射して、このレーザー光のパワーPH 及びP
L を記録信号に応じて変調制御してその加熱温度Tを、
メモリ層1のほぼキュリー温度TC1以上でかつ所要の外
部磁場Hexによって記録層2に磁化反転の生じない第1
の加熱温度T1 に加熱する。このような加熱を行うとメ
モリ層1は磁化を失う状態Cを示すが、この加熱が終了
してメモリ層1及び記録層2の積層膜が温度TC1以下に
下がるとメモリ層1に磁化が生じる。このとき、メモリ
層2との交換結合力が支配的となるようになされてい
て、これによってメモリ層1の磁化の向きは、記録層2
と同一の向きとされる。つまり状態Aを生じさせて、例
えば“0”の情報の記録を行う。
【0032】一方、加熱温度Tを、上述の温度T1 以上
でかつ記録層2の磁化を外部磁場H exにより反転させる
に充分な第2の加熱温度T2 に加熱する。このような加
熱を行うとメモリ層1は磁化を失い、記録層2の磁化が
反転した状態Dが生じるが、この加熱が終了して両層1
及び2の積層膜が温度TC1に下がるとメモリ層1に記録
層2による交換結合力によって状態E、即ち元の初期状
態とその磁化の向きが逆の状態が形成されるが、このと
き外部磁場Hi の印加によって室温TR 近傍で記録層2
の磁化の向きを反転させ両層1及び2の間には中間層3
によって磁壁エネルギーの制御によって所要の磁壁が生
じた磁化状態B、つまり磁化状態Aとはメモリ層1の磁
化の向きのみが反転した状態Bを生じさせて例えば
“1”の情報の記録を行う。
【0033】このような状態A及び状態Bにより情報
“0”,“1”の記録がなされるものである。そして、
この場合これら状態A及び状態Bのいずれにおいてもこ
れの上に光強度変調オーバライトが可能である。即ちい
ずれの状態A、状態Bからも温度T1 及びT2 の加熱を
行う場合、状態Cの過程を経ることによって前述したと
同様に温度T1 及びT2 の選定によって初期の状態が状
態Aであるか状態Bであるかを問わず情報“0”及び
“1”によって次の状態A及び状態Bのオーバライトが
可能となる。
【0034】そして、この光磁気記録媒体20からの情
報の読み出しは、情報書き込みのレーザー光より充分パ
ワーの小さいレーザー光照射によって、光磁気相互作
用、即ちカー効果、ないしはファラデー効果による直線
偏光の偏光面の回転を光強度の変化として、これを電気
的出力に変換して検出する。
【0035】そして上述した実施例1の光磁気記録媒体
20について記録層2の初期化が可能なHV とHH との
関係を測定したところ、図5に示す直線aより右側領域
(斜線で示す側)で記録層2の初期化が良好になされ
た。そして、この図5の直線aは、HC2+HW2の値に応
じて平行移動するものであり、数2の関係が見出され
た。
【0036】尚、実用的には、HV は1kOe〜10k
Oeが好ましい。これは1kOe未満では確実に記録層
2の初期化を行うに問題が生じる場合があり、10kO
eを超えるとメモリ層1の磁化状態に不安定性が生じる
場合があることに因る。
【0037】次に、図3の本発明装置による初期化磁界
の印加態様と、図5に示すように、光磁気記録媒体20
を挟んで、対の磁界発生用の磁石22を配置して、殆ん
ど垂直磁界成分HV のみを与える構成を採る場合(以下
従来例という)のエラーレートを測定した結果を図6に
示す。横軸は記録/読み出し繰返し回数、縦軸にバイト
エラーレートの測定結果を示す。□印は図5で示した従
来例による場合、○印は上述の実施例1による場合で、
この場合、記録パワーPH を1.8mW,PL を5.5
mWとし、磁界Hex=300(Oe)とした場合で、図
5の構成の従来例では初期化磁界を4.0kOe、本発
明においては2.5kOeとした。この図6をみると、
エラーレートの増加は実質的に問題が生じない程度であ
る。また、本発明実施例と従来例の上述の第1の温度T
1 及びT2 による、即ちレーザーパワーPH とPL とオ
ーバライト可能な領域を測定した結果をそれぞれ図7及
び図8に斜線を付して示す。これらを比較して明らかな
ようにオーバライトに関するPH 及びPL の各マージン
も殆んど遜色がない。
【0038】尚、上述した例では、光磁気記録媒体20
の磁性層が、メモリ層1と中間層3と記録層2との3層
の積層構造による場合について示したが、メモリ層1及
び記録層2の一方、若しくは双方の特性の選定から、こ
れらを更に2層以上の多層構造とする場合や、中間層3
を省略した構造などメモリ層と記録層とを有する種々の
構成を採るものに適用できる。
【0039】
【発明の効果】上述したように本発明においては、少く
ともメモリ層1と、記録層2とを有する光磁気記録媒体
を用い、記録層2に対する初期化を必要とする記録装置
において、その初期化磁界として積極的に水平(面方
向)磁界成分HH を、垂直磁界成分HV との関係におい
て数2で示した所定の関係に選定することによって、磁
界HV の格段的低減化がはかられ、これにより、発生手
段22を、光磁気記録媒体20の一方の面側のみに配置
でき、かつこのような配置を持って構成の簡略化、占有
面積の縮小化、更に、磁界Hi の低減化によって強い磁
石等を用いることが回避でき、磁束漏洩の低減化もはか
ることができるなど多くの利益を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の説明に供する光磁気記録装置の一例の
構成図である。
【図2】本発明装置で用いる光磁気記録媒体の一例の断
面図である。
【図3】本発明における記録層の初期化磁束分布図であ
る。
【図4】本発明装置の一例の説明に供する磁化状態図で
ある。
【図5】記録層の初期化可能領域を示す図である。
【図6】従来例における記録層の初期化磁束分布図であ
る。
【図7】エラーレートの測定結果を示す図である。
【図8】本発明装置のオーバライト可能領域の測定結果
を示す図である。
【図9】従来例のオーバライト可能領域の測定結果を示
す図である。
【図10】光磁気記録媒体の断面図である。
【図11】光磁気記録媒体の断面図である。
【符号の説明】
1 メモリ層 2 記録層 3 中間層 20 光磁気記録媒体 21 記録磁界発生手段 22 記録層の初期化磁界発生手段

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 それぞれ希土類−遷移金属磁性薄膜より
    成る少くともメモリ層と記録層とが直接的に磁気的に交
    換結合するか中間層を介して順次磁気的に交換結合する
    光磁気記録媒体に対し、上記記録層に対する初期化磁界
    発生手段を具備する光磁気記録装置において、 上記初期化磁界発生手段の磁極が上記光磁気記録媒体の
    面にのみ対向して設けられ、 上記磁気記録媒体面に対する垂直方向の磁界成分をHV
    とし、面方向の磁界成分をHH とするとき、 HV ≦HC2+HW2H >{(HC2+HW2)−HV }×1.7 (ここに、HC2は上記記録層の保磁力、HW2は交換結合
    力)の各垂直方向磁界成分及び面方向磁界成分を上記初
    期化磁界発生手段によって上記光磁気記録媒体に与える
    ようにしたことを特徴とする光磁気記録装置。
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