JPH05347366A - ガラスセラミック基板を用いた気密電子部品 - Google Patents

ガラスセラミック基板を用いた気密電子部品

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JPH05347366A
JPH05347366A JP4153387A JP15338792A JPH05347366A JP H05347366 A JPH05347366 A JP H05347366A JP 4153387 A JP4153387 A JP 4153387A JP 15338792 A JP15338792 A JP 15338792A JP H05347366 A JPH05347366 A JP H05347366A
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JP
Japan
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glass
substrate
ceramic substrate
electronic component
glass ceramic
Prior art date
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Pending
Application number
JP4153387A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirokazu Funato
裕和 船戸
Shinji Ishii
信次 石井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Taiheiyo Cement Corp
Original Assignee
Nihon Cement Co Ltd
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Filing date
Publication date
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    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
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    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
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    • H01L2924/161Cap
    • H01L2924/1615Shape
    • H01L2924/16195Flat cap [not enclosing an internal cavity]

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  • Ceramic Products (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 低温焼成ガラスセラミックを用いて製造され
る、気密性及び耐久性に優れた気密電子部品を提供す
る。 【構成】 気密収納するべき電子部品チップ4を保持す
る低温焼成ガラスセラミック基板1と、気密封止するた
めの蓋部8とを有し、基板1中に含まれるガラス成分と
同質のガラスまたは低融点ガラスを接着剤7として用い
て該蓋部8を該基板1に接着する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、ガラスセラミックパッ
ケージ基板とハーメチックシールを用い、水晶振動子お
よびFET、LSI等の半導体ベアチップを気密容器に
納めた電子部品に関する。
【0002】水晶振動子や、FET、LSI等の半導体
ベアチップは、通常、ガラスセラミック基板を利用した
気密容器に収納されて、一個の電子部品として回路基板
上に取り付けられる。
【0003】
【従来の技術】従来、セラミック基板として、1500
℃程度の高温焼成により製造されるアルミナ多層セラミ
ック焼成体が用いられてきた。このとき、気密用の蓋が
置かれる部分には、基板となるアルミナセラミックのグ
リーンシート上にタングステンまたはMo−Mn合金等
の導体を塗布し、基板と同時に焼成する。その後、この
導体上にニッケルまたは金のメッキを施す。次いで基板
の凹部に半導体ベアチップ等を置き、必要な配線を行っ
た後、コバール(Fe−Ni−Coアロイ)、Fe−N
i42アロイ、セラミック等の蓋を前記のニッケルまた
は金のメッキの上にろう付け接着して気密封止する。
【0004】このような高温焼成基板に対して、近年に
なって、低温焼成ガラスセラミック基板が利用されるよ
うになった。このような基板は、抵抗、コンデンサを内
蔵させて複合化し、同時焼成することが可能となるとい
う利点がある。また、850℃程度の比較的低温で焼成
するため、高導電率の金や銀といった導体をその内部配
線等に使用することができる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】このような低温焼成基
板を用いて電子部品用気密容器を作るためには、ガラス
セラミック基板上にスクリーン印刷法により、Au、A
gPd、Ag、Cu系などの導体膜を形成して、その上
に上記と同様の蓋をろう付けにより接着することが考え
られる。しかしながら、この印刷法により導体膜を作成
すると、印刷用の溶剤、バインダー等の混ぜ物が蒸発す
るため、導体膜がポーラスなものとなり、気密性および
接合強度の点で劣ることが問題となる。
【0006】本発明は、上記の課題を解決し、気密電子
部品の製造に低温焼成基板を用いることを可能にする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、気密収納する
べき電子部品チップを保持する低温焼成ガラスセラミッ
ク基板と、これを気密封止するための蓋部とを有し、該
蓋部を、基板中に含まれるガラス成分と同質のガラスま
たは低融点ガラスを接着剤として用いて上記基板に接着
したことを特徴とするガラスセラミック基板を用いた気
密電子部品を提供する。
【0008】本発明において使用できる低温焼成ガラス
セラミック基板としては、たとえば、アルミナガラス系
セラミック基板がある。このガラスセラミック基板に
は、水晶振動子や、FET等の半導体ベアチップを納め
るための凹部がある。このガラスセラミック基板には、
ソリッドなセラミック基板のほか、回路および配線を立
体的に配したセラミック多層配線基板を使用することが
でき、回路の高密度化をはかることができる。この基板
の大きさとしては、10mm2 から150mm2程度の
ものを用いることができる。また、基板の厚さは、特に
限定されないが、通常、0.8mmから2.0mm程度
である。
【0009】また、本発明において使用できる蓋部とし
ては、たとえば、96%アルミナのガラスセラミックと
いった各種セラミック、Fe−Ni42アロイ、フェル
ニコの一種であるコバール等のものがある。その形状は
特に限定されないが、平面的形状または基板の凹部に対
応する凸部を有する形状が一般的に使用される。蓋部の
厚さは、通常、0.635mmから1.2mm程度であ
る。
【0010】さらに、接着剤として使用されるガラスま
たは低融点ガラスとしては、B2 5 +SiO2 +Pb
Oがある。このようなガラスをアクリル系またはセルロ
ース系バインダとテルピン油、テレビン油などの有機溶
剤と混練することにより、ペースト状にし、例えば、デ
ィスペンサにより塗布したり、スクリーン印刷したりし
て、接着部位に広げることができる。その後、接着剤を
塗布した面の上に上記の蓋部をおいて、必要な乾燥また
は焼成の工程を経て、気密部品を完成させることができ
る。乾燥工程は、120〜150℃で10〜30分程度
乾燥炉に放置して行う。本発明の気密電子部品は、内部
部品の同時焼成や、高導電率導体の使用が可能であると
いった低温焼成セラミック基板の利点を生かしながら、
気密性、接合強度並びに耐久性に優れているという特徴
を有する。また、ろう付けの工程を省略することができ
る。さらに、基板と蓋部との接着工程は単純なものであ
るので、製造コストの低減をはかることができる。
【0011】
【実施例】以下に、図1を参照しつつ本発明の一実施例
を説明する。
【0012】図1には、本発明の一実施例による気密電
子部品の断面を示す。半導体ベアチップ等を納めるガラ
スセラミック基板上1の凹部は2段となっており、最底
部および一段目には電極2、3がすでに取り付けられて
いる。このガラスセラミック基板の大きさは、例えば、
10mm角から30mm角程度である。最底部の電極2
の上にベアチップ4をおき、ベアチップ4の上面から
は、ワイヤボンディングにより一段高い電極3へと配線
5が引き出される。これらの電極から基板外への引き出
しは、基板1内の水平または垂直の配線6によりするこ
とができる。
【0013】低融点ガラスのペースト7を基板の頂面に
塗布した後、厚さ0.635〜1.2mm程度のセラミ
ックの平板8を置き、低融点ガラスを乾燥させて、焼成
する。乾燥は、120〜150℃で10〜30分程度、
焼成は300〜500℃で1分から10分程度、焼成炉
内にある時間が30分から60分程度で行う。このよう
にして、気密電子部品を完成することができる。
【0014】
【発明の効果】本発明によれば、内部部品の同時焼成
や、高導電率導体の使用が可能であるといった低温焼成
セラミック基板の利点を生かし、さらに、気密性、接合
強度並びに耐久性に優れた気密電子部品を提供すること
ができる。また、製造工程の簡略化により製造コストの
低減をはかることができる。従って、本発明は、電子部
品及び半導体製造業の分野において広く利用することが
できるものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の気密電子部品の一実施例の断面図を示
す。
【符号の説明】
1 ガラスセラミック基板 2、3 電極 4 ベアチップ 5 配線 6 ガラスペースト(接着剤) 7 コバールの平板(蓋部)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 気密収納するべき電子部品チップを保持
    する低温焼成ガラスセラミック基板と、これを気密封止
    するための蓋部とを有し、該蓋部を、基板中に含まれる
    ガラス成分と同質のガラスまたは低融点ガラスを接着剤
    として用いて上記基板に接着したことを特徴とするガラ
    スセラミック基板を用いた気密電子部品。
JP4153387A 1992-06-12 1992-06-12 ガラスセラミック基板を用いた気密電子部品 Pending JPH05347366A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009537985A (ja) * 2006-05-19 2009-10-29 ソルインドラ,インコーポレーテッド 気密密閉非平面太陽電池
JP2012243845A (ja) * 2011-05-17 2012-12-10 Tcst Tech Co Ltd 電子部品を封止するために用いる高密度ltccパッケージ構造及びその高密度ltcc材料

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009537985A (ja) * 2006-05-19 2009-10-29 ソルインドラ,インコーポレーテッド 気密密閉非平面太陽電池
JP2013243403A (ja) * 2006-05-19 2013-12-05 Solyndra Inc 気密密閉非平面太陽電池
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