JPH05337865A - 半導体実装装置とこれを用いた実装方法 - Google Patents

半導体実装装置とこれを用いた実装方法

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JPH05337865A
JPH05337865A JP17735792A JP17735792A JPH05337865A JP H05337865 A JPH05337865 A JP H05337865A JP 17735792 A JP17735792 A JP 17735792A JP 17735792 A JP17735792 A JP 17735792A JP H05337865 A JPH05337865 A JP H05337865A
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JP
Japan
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collet
semiconductor element
semiconductor
shaft
head
Prior art date
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JP17735792A
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English (en)
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Koichi Maeda
浩一 前田
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 正確な位置に半導体素子を実装できる半導体
実装装置とこれを用いた実装方法を提供すること。 【構成】 半導体実装装置1は、下端側に半導体素子1
0を吸着するコレット3が設けられ、上端側に半導体素
子10を圧接させる荷重部材4が設けられたコレット軸
2をコレットヘッド5に上下動自在に保持し、荷重部材
4に半導体素子10の圧接状態を開放する引き上げ部材
6を装備する。これを用いた実装方法は、半導体素子1
0を基台11上に圧接した後、コレット軸2のみを上昇
してコレット3と半導体素子10とを引き離し、その後
コレットヘッド5を上昇する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体素子をパッケー
ジの基台等に実装するための半導体実装装置とこれを用
いた実装方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】集積回路やレーザダイオード等の半導体
素子は、1枚のウエハに多数形成されおり、これを切断
することで一つのチップ状にしている。このチップ状の
半導体素子を所定のパッケージや基台に搭載し、電気的
な配線を施して半導体装置を形成する。近年、このチッ
プ状の半導体素子を基台に搭載するには、半導体実装装
置を用いて自動的に行っており、生産性の向上が図られ
ている。このため、半導体素子を破損することなく、し
かも正確な位置に実装できる半導体実装装置が要求され
る。
【0003】従来の半導体実装装置とこれを用いた実装
方法を図に基づいて説明する。図7は従来の半導体実装
装置と実装方法を工程順に説明する側断面図である。こ
の半導体実装装置1は、半導体素子10を吸着するため
のコレット3がコレット軸2の下端側に設けられてお
り、このコレット軸2がコレットヘッド5に上下動自在
に保持されたものである。コレット軸2の上端側には、
おもり等の荷重部材4が設けられており、その重力でコ
レット軸2を下方に押し下げている。また、コレット軸
2の長さは、コレットヘッド5の高さよりも長いため、
コレットヘッド5の下方にコレット軸2が突出した状態
となっている。
【0004】次に、この半導体実装装置1を用いた実装
方法を工程順に説明する。先ず、吸着工程として図7
(a)に示すように、コレット3の真空作用を利用して
半導体素子10をコレット3に吸着する。そして、圧接
工程として図7(b)に示すように、半導体実装装置1
または基台11を所定の位置に移動して、コレットヘッ
ド5およびコレット軸2を下降させる。この下降により
半導体素子10が基台11の上面に接触する。この位置
からさらに下降を続けると、コレット軸2はそのままで
コレットヘッド5のみが下降して、荷重部材4とコレッ
トヘッド5との間に隙間hができる。
【0005】これにより、コレット軸2は荷重部材4の
重さおよびコレット軸2の自重で垂設することになり、
半導体素子10をこれらの重さで圧接することになる。
そして、半導体素子10を基台11上に実装した後、コ
レット3の真空作用を解除する。
【0006】その後、上昇工程として図7(c)に示す
ように、コレットヘッド5を上昇する。この上昇により
隙間hが無くなり、コレットヘッド5がコレット軸2を
引き上げることになる。これにより、コレット3と半導
体素子10が引き離れ、半導体素子10の実装が終了す
る。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな半導体実装装置とこれを用いた実装方法には、次の
ような問題がある。すなわち、この半導体実装装置で
は、コレットヘッドが下降して半導体素子と基台との接
触が得られた後、コレットヘッドのみが下降してコレッ
トヘッドと荷重部材との間に隙間が生じる。このため、
コレットの真空作用を解除して半導体素子とコレットと
を引き離す場合、コレットヘッドが上昇してコレット軸
を引き上げるまで、この隙間量に相当する時間が生じ
る。したがって、このような半導体実装装置を用いて半
導体素子を実装する場合、コレットヘッドの上昇工程で
この時間中にコレットヘッドの移動による振動や力がコ
レット軸に伝わり、さらにはコレットと接触している半
導体素子に伝わってしまう。この振動等により、半導体
素子の実装位置にズレが発生し、正確な実装位置に配置
するのが困難となる。よって、本発明は基台への実装に
おいて、正確な位置に半導体素子を実装できる半導体実
装装置とこれを用いた実装方法を提供することを目的と
する。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明はこのような課題
を解決するために成された半導体実装装置とこれを用い
た実装方法である。すなわち、この半導体実装装置は、
コレット軸の下端側に半導体素子を吸着するためのコレ
ットを設け、上端側に半導体素子を基台上に圧接させる
ためのおもりやバネから成る荷重部材を設け、コレット
ヘッドに所定のストローク長のコレット軸を上下動自在
に保持し、さらに荷重部材に、半導体素子の圧接状態を
開放するための引き上げ部材を装備したものである。
【0009】この半導体実装装置を用いた実装方法は、
コレット軸の下端側に設けられたコレットに半導体素子
を吸着し、このコレット軸を保持するコレットヘッドを
基台上方の所定位置に移動し、次いでこのコレットヘッ
ドを下降することで半導体素子を基台に接触させ、コレ
ット軸の上端側に設けられた荷重部材の押し付け力によ
り半導体素子を基台上に圧接する。そして、コレットの
吸着を解除した後、コレット軸のみを上昇してコレット
と半導体素子とを引き離し、その後、コレットヘッドを
上昇してコレット軸を次の位置に移動するようにしたも
のである。
【0010】
【作用】荷重部材の下側に引き上げ部材が装備されてい
るため、荷重部材による半導体素子への圧接が終了した
後、コレットヘッドを動かすことなく半導体素子への圧
接状態を開放することができる。すなわち、この半導体
実装装置を用いた実装方法において、コレットヘッドの
上昇工程の前に、コレット軸のみの上昇を行うため、コ
レットヘッドの移動に伴う不要な振動や力を半導体素子
に与えることなくコレットからの引き離しを行うことが
できる。
【0011】
【実施例】以下に、本発明の半導体実装装置とこれを用
いた実装方法を図に基づいて説明する。先ず始めに半導
体実装装置の説明を図1の側断面図を用いて行う。この
半導体実装装置1は、コレット軸2の下端側に半導体素
子10を吸着するためのコレット3と、上端側におもり
から成る荷重部材4が設けられており、このコレット軸
2がベアリング21を介してコレットヘッド5の貫通孔
51に嵌合されている。コレット軸2の長さは、コレッ
トヘッド5の高さよりも長いため、コレットヘッド5の
下方にコレット軸2が突出しており、しかもコレット軸
2は、このベアリング21の作用により貫通孔51内を
上下動可能な状態となっている。この突出した長さがコ
レット軸2の最大ストローク長となっている。
【0012】荷重部材4の下側でコレットヘッド5の上
面との間には、例えば略L字型の引き上げ部材6がコレ
ットヘッド5およびコレット軸2から独立した状態に装
備されている。コレットヘッド5が上昇している場合に
は、荷重部材4およびコレット軸2の自重によりコレッ
ト軸2は下方に下がっており、荷重部材4とコレットヘ
ッド5との間にこの引き上げ部材6が引っ掛かった状態
となっている。
【0013】このような半導体実装装置1のコレット3
に半導体素子10を吸着し、コレットヘッド5を下降す
ることで、突出したコレット軸2が基台11に突き当た
り、荷重部材4の力により半導体素子10を基台11上
に圧接して実装する。また、この引き上げ部材6により
圧接状態を開放することができる。
【0014】次に、この半導体実装装置1を用いた実装
方法を図1〜図4の側断面図に基づいて工程順に説明す
る。先ず、吸着工程として図1に示すように、コレット
3の真空作用を利用して半導体素子10をコレット3に
吸着する。そして、基台11上の所定位置に半導体素子
10が配置されるように、コレットヘッド5または基台
11を移動する。
【0015】次に、圧接工程として図2に示すように、
コレットヘッド5を下降することで、コレットヘッド5
に引っ掛かっているコレット軸2が下降して、コレット
3に吸着された半導体素子10と基台11とが接触す
る。この状態からさらにコレットヘッド5を下降する
と、コレット軸2はそのままの位置で、コレットヘッド
5のみが下降することになる。すなわち、いままで接触
していたコレット軸2の上端側の荷重部材4と引き上げ
部材6との間に隙間hが形成され、荷重部材4の重さお
よびコレット軸2の自重が全て半導体素子10に加わ
る。これにより、半導体素子10を基台11上に押圧し
て、半導体素子10と基台11とを確実に圧接する。接
続が終了したらコレット3の真空作用を解除する。
【0016】そして、コレット軸2の上昇工程として図
3に示すように、引き上げ部材6を上方に引き上げ、荷
重部材4を引っ掛けるようにしてコレット軸2を上昇さ
せて圧接状態を開放する。この際、引き上げ部材6とコ
レット軸2との接触はなく、不要な振動や力がコレット
軸2に伝わることがない。このコレット軸2の上昇によ
り、コレット3が半導体素子10から引き離され、基台
11上の所定位置に半導体素子10が接続された状態と
なる。
【0017】最後に、コレットヘッド5の上昇工程とし
て図4に示すように、コレットヘッド5を上昇し、再び
コレット軸2をコレットヘッド5に引っ掛けた状態にす
る。この上昇の際、コレットヘッド5の移動による振動
や力がコレット軸2に伝わっても、すでにコレット3と
半導体素子10とが引き離されているため、半導体素子
10にこの振動や力が伝わることがない。このため、半
導体素子10の位置ズレが発生することなく実装を行う
ことができる。
【0018】次に、本発明の他の半導体実装装置1を説
明する。図5は、他の半導体実装装置1を説明する側断
面図である。この半導体実装装置1は、コレット軸2の
上端側に作用棒41が設けられており、作用棒41の先
端とコレットヘッド5の上面との間にバネ42が取り付
けられたものである。この作用棒41とコレットヘッド
5との間には、引き上げ部材6が設けられており、コレ
ットヘッド5と独立してコレット軸2を引き上げること
ができる。
【0019】この半導体実装装置1のコレット3に半導
体素子10を吸着した状態、すなわちコレットヘッド5
が上昇している場合には、バネ42の付勢により、作用
棒41がコレットヘッド5側に引き寄せられ、コレット
軸2が下方に押し下げられている。
【0020】この半導体実装装置1のコレットヘッド5
を下降すると、コレット軸2も下降して半導体素子10
が基台11上に接触する。この位置からさらにコレット
ヘッド5を下降すると、図6に示すようにコレット軸2
はそのままで、コレットヘッド5のみが下降する。これ
により、作用棒41とコレットヘッドとの間が隙間hだ
け広がることになる。この隙間hの広がりに応じてバネ
42の付勢が増加し、その分コレット軸2を下方に押圧
することになる。この圧力を利用して半導体素子10を
基台11上に圧接することができる。
【0021】半導体素子10を基台11上に接続した後
には、先に述べたように、引き上げ部材6を引き上げ
て、コレット軸2のみを上昇させ、コレット3から半導
体素子10を引き離す。この際、半導体素子10に振動
や力が加わることなくコレット3から引き離すことがで
きるため、半導体素子10が位置ズレを起こすことがな
い。
【0022】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の半導体実
装装置とこれを用いた実装方法によれば次のような効果
がある。すなわち、この半導体実装装置によれば、半導
体素子を基台上に実装した後、コレットヘッドを動かす
ことなくただちにコレット軸を上昇することができるた
め、不要な振動や力を半導体素子に与えることなくコレ
ットと半導体素子とを引き離すことができる。このた
め、コレットから半導体素子を引き離す際の半導体素子
の位置ズレが発生しない。したがって、この半導体実装
装置を用いた実装方法によれば、コレットヘッドの上昇
工程の前に、コレット軸のみの上昇工程があるため、コ
レットヘッドの上昇における振動や力が基台上に実装し
た半導体素子の位置ズレを起こすことなく精度良く実装
することができる。このように、本発明の半導体実装装
置とこれを用いた実装方法によれば、位置精度よく半導
体素子を実装できるため、高い位置精度を要求されるレ
ーザダイオード等の光学部品の製造において特に有効で
ある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の半導体実装装置を説明する側断面図で
ある。
【図2】半導体素子の圧接工程を説明する側断面図であ
る。
【図3】コレット軸の上昇工程を説明する側断面図であ
る。
【図4】コレットヘッドの上昇工程を説明する側断面図
である。
【図5】他の実施例を説明する側断面図である。
【図6】他の実施例の動作を説明する側断面図である。
【図7】従来の半導体実装装置と実装方法を説明する側
断面図で、(a)は吸着工程、(b)は圧接工程、
(c)は上昇工程である。
【符号の説明】
1 半導体実装装置 2 コレット軸 3 コレット 4 荷重部材 5 コレットヘッド 6 引き上げ部材 10 半導体素子 11 基台 21 ベアリング 51 貫通孔

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 下端側に半導体素子を吸着するためのコ
    レットが設けられ、上端側に前記半導体素子を基台上に
    圧接させるための荷重部材が設けられたコレット軸と、 前記コレット軸を所定のストローク長で上下動自在に保
    持するコレットヘッドとから成る半導体実装装置であっ
    て、 前記荷重部材には、前記半導体素子の圧接状態を開放す
    るための引き上げ部材が装備されていることを特徴とす
    る半導体実装装置。
  2. 【請求項2】 前記荷重部材として、おもりが用いられ
    ていることを特徴とする請求項1記載の半導体実装装
    置。
  3. 【請求項3】 前記荷重部材として、バネが用いられて
    いることを特徴とする請求項1記載の半導体実装装置。
  4. 【請求項4】 コレット軸の下端側に設けられたコレッ
    トに半導体素子を吸着し、前記コレット軸を保持するコ
    レットヘッドを基台上方の所定位置に移動する工程と、 前記コレットヘッドを下降することで、前記半導体素子
    を基台に接触させ、前記コレット軸の上端側に設けられ
    た荷重部材の押し付け力により前記半導体素子を前記基
    台上に圧接する工程と、 前記コレットの吸着を解除した後、前記コレット軸のみ
    を上昇して前記コレットと前記半導体素子とを引き離す
    工程と、 前記コレットヘッドを上昇して前記コレット軸を次の位
    置に移動する工程とから成ることを特徴とする半導体実
    装装置を用いた実装方法。
JP17735792A 1992-06-10 1992-06-10 半導体実装装置とこれを用いた実装方法 Pending JPH05337865A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2007074889A1 (ja) * 2005-12-28 2007-07-05 Kabushiki Kaisha Toyota Jidoshokki 半田付け方法及び半導体モジュールの製造方法並びに半田付け装置
JP2010027841A (ja) * 2008-07-18 2010-02-04 Precise Gauges Co Ltd 電子部品装着装置
JP2016171106A (ja) * 2015-03-11 2016-09-23 ファスフォードテクノロジ株式会社 ボンディング装置及びボンディング方法

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