JPH0532355B2 - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0532355B2 JPH0532355B2 JP60175988A JP17598885A JPH0532355B2 JP H0532355 B2 JPH0532355 B2 JP H0532355B2 JP 60175988 A JP60175988 A JP 60175988A JP 17598885 A JP17598885 A JP 17598885A JP H0532355 B2 JPH0532355 B2 JP H0532355B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cvd
- base material
- film
- ceramic
- ceramic film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Producing Shaped Articles From Materials (AREA)
- Manufacturing Of Tubular Articles Or Embedded Moulded Articles (AREA)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60175988A JPS6236089A (ja) | 1985-08-09 | 1985-08-09 | セラミツクス製品の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60175988A JPS6236089A (ja) | 1985-08-09 | 1985-08-09 | セラミツクス製品の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6236089A JPS6236089A (ja) | 1987-02-17 |
| JPH0532355B2 true JPH0532355B2 (OSRAM) | 1993-05-14 |
Family
ID=16005735
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60175988A Granted JPS6236089A (ja) | 1985-08-09 | 1985-08-09 | セラミツクス製品の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6236089A (OSRAM) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003034867A (ja) * | 2001-07-27 | 2003-02-07 | Tokai Carbon Co Ltd | 管状SiC成形体およびその製造方法 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS63134585A (ja) * | 1986-11-25 | 1988-06-07 | 日本タングステン株式会社 | SiC被覆部材 |
| JPH0638121B2 (ja) * | 1987-02-20 | 1994-05-18 | 三井造船株式会社 | SiC質ミラ− |
| JP2001203190A (ja) * | 2000-01-20 | 2001-07-27 | Ibiden Co Ltd | 半導体製造装置用部品及び半導体製造装置 |
| CN109676776B (zh) * | 2019-03-01 | 2019-11-08 | 天津大学 | 一种孔径呈梯度分布的陶瓷膜及其制备方法 |
Family Cites Families (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS53147700A (en) * | 1977-05-30 | 1978-12-22 | Sharp Corp | Method of producing silicon carbide substrate |
| JPS5443200A (en) * | 1977-09-13 | 1979-04-05 | Sharp Corp | Production of silicon carbide substrate |
| JPS6045159B2 (ja) * | 1978-02-03 | 1985-10-08 | シャープ株式会社 | 炭化珪素結晶層の製造方法 |
| JPS5950629A (ja) * | 1982-09-16 | 1984-03-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 無線呼出統合電話方式 |
-
1985
- 1985-08-09 JP JP60175988A patent/JPS6236089A/ja active Granted
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003034867A (ja) * | 2001-07-27 | 2003-02-07 | Tokai Carbon Co Ltd | 管状SiC成形体およびその製造方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6236089A (ja) | 1987-02-17 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPS6169116A (ja) | シリコンウエハ−の連続cvdコ−テイング用サセプター | |
| JP2749759B2 (ja) | 静電チャック付セラミックスヒーター | |
| US20050123713A1 (en) | Articles formed by chemical vapor deposition and methods for their manufacture | |
| EP0763504B1 (en) | Silica glass member and method for producing the same | |
| EP1018567B1 (en) | Method of producing free standing articles | |
| TWI576472B (zh) | Graphite crucible for single crystal pulling device and method for manufacturing the same | |
| JPH03146672A (ja) | Cvd用サセプター | |
| JPH1012692A (ja) | ダミーウエハ | |
| JPH0532355B2 (OSRAM) | ||
| JP3547810B2 (ja) | ウエハー載置用ボートおよびそれを用いた気相成長装置 | |
| JP3756567B2 (ja) | 光学素子成形用型 | |
| JPH0692761A (ja) | CVD−SiCコートSi含浸SiC製品およびその製造方法 | |
| JPH05105523A (ja) | 熱分解窒化ほう素成形体の製造方法 | |
| JPH1067584A (ja) | 反応容器 | |
| JPH11335840A (ja) | 化学蒸着による精密な再現法 | |
| JP2006205558A (ja) | アルミナコーティング構造体およびその製造方法 | |
| JP2000273632A (ja) | 化学気相蒸着法により反りの無いフラットなセラミックバルク材料を製造する方法 | |
| JPH0647516B2 (ja) | プラズマcvd用黒鉛サセプター | |
| JPH0361617B2 (OSRAM) | ||
| JP3589429B2 (ja) | 熱分解窒化ホウ素被覆複層成形体及びその製造方法 | |
| JP2915750B2 (ja) | 静電チャック付セラミックスヒーター | |
| JP2549030B2 (ja) | 半導体用処理部材及びその製造方法 | |
| JP2569321B2 (ja) | 気相成長用トレ−及び気相成長方法 | |
| JPH0693453A (ja) | サセプタ | |
| JPH06100398A (ja) | 鏡面を有するダイヤモンド膜の製造方法 |