JPH0532213B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】

［産業上の利用分野］ 本発明は二軸配向ポリエステルフイルムに関す
るものである。 ［従来の技術］ 二軸配向ポリエステルフイルムとしては、ポリ
エステルにシリカ粒子などの粒子を含有せしめた
フイルムが知られている（たとえば特開昭59−
171623号公報）。 ［発明が解決しようとする課題］ しかし、上記従来の二軸配向ポリエステルフイ
ルムは、フイルムの加工工程、たとえば包装用途
における印刷工程、磁気媒体用途における磁性層
塗布・カレンダー工程、あるいは、できたビデオ
テープなどをダビング（記録の複写）してソフト
テープなどを製造する工程で、フイルムに傷がつ
くという欠点が問題となつてきている。また、ビ
デオテープにした時の画質、すなわち、Ｓ／Ｎ
（シグナル／ノイズ比）も上記ダビング時の画質
低下のために従来のものでは不十分という欠点が
問題となつてきている。 本発明はかかる問題点を改善し、フイルムの傷
つきにくさ（以下耐スクラツチ性という）に優
れ、しかもダビング時の画質低下の少ない（以下
耐ダビング性に優れるという）フイルムを提供す
ることを課題とする。 ［課題を解決するための手段］ 本発明は、ポリエステルと不活性粒子からなる
組成物を主たる成分とするフイルムであつて、該
フイルムの少なくとも片面の表面形態パラメータ
√（β／σ）が0.1〜0.7、摩擦係数ｙと該表面パ
ラメータ√（β／σ）の関係が下式(1)及び(2)を満
足し、かつ、突起の平均間隔が20μｍ以下である
ことを特徴とする二軸配向ポリエステルフイルム
に関するものである。 ｙ≧0.171・√（β／σ）＋0.15 ……(1) ｙ≦0.171・√（β／σ）＋0.25 ……(2) （ここで、σは突起高さ分布の標準偏差、βは突
起の平均扁平度である。） 本発明におけるポリエステルは、エチレンテレ
フタレート、エチレンα，β−ビス（２−クロル
フエノキシ）エタン−４，4′−ジカルボキシレー
ト、エチレン２，６−ナフタレート単位から選ば
れた少なくとも一種の構造単位を主要構成成分と
する。ただし、本発明を阻害しない範囲内、好ま
しくは10モル％以内であれば他成分が共重合され
ていてもよい。 本発明における不活性粒子は特に限定されない
が、コロイダルシリカに起因する実質的に球形の
シリカ、合成炭酸カルシウム、ルチル型の二酸化
チタン、サーマルタイプのカーボンブラツクが望
ましい。コロイダルシリカの場合は製造法とし
て、イオン交換法、アルコキシド法などが知られ
ているが、アルコキシド法の場合に摩擦係数と表
面パラメータ√（β／σ）の関係を本発明範囲と
しやすいので特に望ましい。粒子の平均粒径と含
有量は特に限定されないが、平均粒径ｄ（μｍ）
と含有量Ｃ（重量％）が下式の範囲の場合に、耐
スクラツチ性、耐ダビング性がより一層良好とな
るので特に望ましく、また、本発明範囲の平均突
起間隔を得るのに有効である。 0.1／ｄ≦Ｃ≦0.45／ｄ 粒子は２種類以上でも良いが、平均粒径の異な
るものを用いる場合は、それらの合計量と全体と
してみた時の平均粒径が上記の式を満足する場合
に耐スクラツチ性、耐ダビング性がより一層良好
となるので特に望ましい。それぞれの粒子につい
て特に好ましい平均粒径の範囲は、シリカ、カー
ボンブラツクは0.2〜0.5μｍ、炭酸カルシウム、
二酸化チタンは0.3〜0.7μｍである。 本発明フイルムは内部析出粒子を併用しても良
い。本発明における内部析出粒子とは、ポリエス
テル重合時に添加したカルシウム化合物、マグネ
シウム化合物、リチウム化合物の少なくとも一種
の化合物とポリエステル構成成分とが結合して生
成する粒子である。なお、本発明の内部析出粒子
には、本発明の目的を阻害しない範囲内で、リン
元素および微量の他の金属成分、たとえば、亜
鉛、コバルト、アンチモン、ゲルマニウム、チタ
ンなどが含まれていてもよい。内部析出粒子を併
用する場合の粒子の含有量は0.01〜0.3重量％と
した場合に耐スクラツチ性、耐ダビング性がより
一層良好となるので特に望ましい。 本発明フイルムは上記組成物を主要成分とする
が、本発明の目的を阻害しない範囲内で、他種ポ
リマをブレンドしてもよいし、また酸化防止剤、
熱安定剤、滑剤、紫外線吸収剤、核生成剤などの
無機または有機添加剤が通常添加される程度添加
されていてもよい。 本発明フイルムは上記組成物を二軸配向せしめ
たフイルムである。無配向あるいは、一軸配向フ
イルムでは、耐スクラツチ性、耐ダビング性が不
良となるので好ましくない。その配向の程度を示
す厚さ方向屈折率比は特に限定されないが、
0.935〜0.975、好ましくは、0.940〜0.970の範囲
である場合が特に望ましい。 本発明フイルムは、少なくとも片面について、
表面形態パラメータ√（β／σ）が0.1〜0.7、好
ましくは0.15〜0.65、さらに好ましくは0.25〜
0.62の範囲であることが必要である。（ここで、
σは表面突起の高さ分布の標準偏差、βは突起の
平均扁平度である）。両面ともの表面形態パラメ
ータ√（β／σ）が上記の範囲より小さいとダビ
ング性が不良となり、逆に大きいと耐スクラツチ
性が不良となるので好ましくない。 本発明フイルムは、少なくとも片面について、
摩擦係合ｙと該表面パラメータ√（β／σ）の関
係が下式(1)及び(2)を、好ましくは(3)及び(4)を、さ
らに好ましくは(5)及び(6)を満足することが必要で
ある（ここで、σは表面突起の高さ分布の標準偏
差、Ｂは突起の平均扁平度である）。 ｙ≧0.171・√（β／σ）＋0.15 ……(1) ｙ≦0.171・√（β／σ）＋0.25 ……(2) ｙ≧0.171・√（β／σ）＋0.16 ……(3) ｙ≦0.171・√（β／σ）＋0.24 ……(4) ｙ≧0.171・√（β／σ）＋0.17 ……(5) ｙ≦0.171・√（β／σ）＋0.23 ……(6) フイルムの両表面ともが、上記式において、摩
擦係数ｙが上記の範囲より小さい場合は耐ダビン
グ性が不良となり、逆に大きいと耐スクラツチ性
が不良となるので好ましくない。 本発明フイルムは、少なくとも片面について、
突起の平均間隔が20μｍ以下、好ましくは17μｍ
以下、さらに好ましくは15μｍ以下であることが
必要である。フイルムの両表面ともの突起の平均
間隔が上記の範囲より大きいと耐ステツチ性が不
良となるので好ましくない。突起の平均間隔の下
限値は特に限定されないが、１〜2μｍ程度が製
造上の限界である。 本発明フイルムは少なくとも片面のRzが60〜
190nｍ、好ましくは70〜160nｍ、さらに好まし
くは80〜150nｍである場合に耐スクラツチ性、
耐ダビング性により一層良好となるので特に望ま
しい。 本発明フイルムは少なくとも片面のRp／Ra比
（単位はともにｎｍ）が４〜25、好ましくは６〜
20、さらに好ましくは９〜15である場合に耐スク
ラツチ性、耐ダビング性より一層良好となるので
特に望ましい。 本発明フイルムは、少なくとも片面の表面突起
の有効空間体積が、１×10³〜５×10⁵、好ましく
は、５×10³〜５×10⁴の範囲である場合に耐スク
ラツチ性、耐ダビング性がより一層良好となるの
で望ましい。 本発明フイルムは、幅方向の屈折率が1.655〜
1.700、特に、1.675〜1.700の範囲の場合に、耐ス
クラツチ性、耐ダビング性がより一層良好となる
ので望ましい。 本発明フイルムは、少なくとも片面の表面突起
について、突起高さの平均値Ｈ（単位ｎｍ）と不
活性粒子の平均粒径ｄ（単位ｎｍ）の比（Ｈ／ｄ）
が0.1〜0.5、特に、0.1〜0.4の範囲の場合に、耐
スクラツチ性、耐ダビング性がより一層良好とな
るので望ましい。 本発明フイルムは、少なくとも片面の表面突起
について、突起高さの平均値が40〜130nｍ、特
に50〜120nｍ、さらに50〜100nｍの場合に耐ス
クラツチ性、耐ダビング性がより一層良好となる
ので望ましい。 次に本発明フイルムの製造方法について説明す
る。 まず、所定のポリエステルに不活性粒子を含有
せしめる方法としては、重合前、重合中、重合後
のいずれに添加してもよいが、ポリエステルのジ
オール成分であるエチレングリコールに、スラリ
ーの形で混合、分散せしめて添加する方法、さら
にスラリー段階で絶対濾過精度が0.5〜4.5μｍ、
好ましくは1.5〜3μｍのフイルターで濾過した後
重合に供する方法が本発明範囲の表面パラメータ
√（β／σ）および表面パラメータ√（β／σ）と
摩擦係数の関係を得るのにきわめて有効である。
また、粒子の含有量を調節する方法としては、高
濃度のマスターペレツト、好ましくは１〜５重量
％の粒子濃度のマスターペレツトを製膜時に稀釈
する方法が本発明範囲の表面パラメータ√（β／
σ）、表面パラメータ√（β／σ）と摩擦係数の関
係および突起の平均間隔、望ましい範囲の突起高
さの平均値、Ra、Rpを得るのに有効である。ま
た、粒子がコロイダルシリカに起因する実質的に
球形のシリカ粒子の場合、エチレングリコールの
スラリーを140〜200℃、特に180〜200℃の温度で
30分〜５時間、特に１〜３時間熱処理する方法
が、マスタペレツトの結晶化パラメータΔTcgを
好ましい範囲とし、本発明範囲の表面パラメータ
√（β／σ）、表面パラメータ√（β／σ）と摩擦
係数の関係および突起の平均間隔、望ましい範囲
の突起高さの平均値、Ra、Rpを得るのに有用で
ある。また、この時、スラリー中のナトリウム含
有量を粒子に対して0.5重量％以下、好ましくは
0.2重量％以下とし、かつ、該ゾルのPHを７〜10
の範囲にしておくことが、マスタペレツトの結晶
化パラメータΔTcgを好ましい範囲とし、本発明
範囲の表面パラメータ√（β／σ）、表面パラメー
タ√（β／σ）と摩擦係数の関係および突起の平
均間隔、望ましい範囲の突起高さの平均値、Ra、
Rpを得るのに特に有効である。また、粒子が炭
酸カルシウム、二酸化チタンなどシリカ以外の場
合は、粒子量に対し0.5〜20重量％のリン酸アン
モニウム塩を添加する方法がマスタペレツトの結
晶化パラメータΔTcgを好ましい範囲とし、本発
明範囲の表面パラメータ√（β／σ）、表面パラメ
ータ√（β／σ）と摩擦係数の関係および突起の
平均間隔、望ましい範囲の突起高さの平均値、
Ra、Rpを得るのに有効である。また、いずれの
粒子の場合でも高濃度、好ましくは１〜５重量％
のマスターペレツトの固有粘度、共重合成分を調
整して、結晶化パラメータΔTcgを65〜95℃、特
に75〜90℃にしておき、製膜前にこのマスタペレ
ツトよりも結晶化パラメータΔTcgの小さい、好
ましくは結晶化パラメータΔTcgが55〜80℃の実
質的に不活性粒子を含有しないポリエステルのペ
レツトで希釈して粒子の含有量を調節すること
が、本発明範囲の表面パラメータ√（β／σ）、表
面パラメータ√（β／σ）と摩擦係数の関係およ
び突起の平均間隔、望ましい範囲の突起高さの平
均値、Ra、Rpを得るのにきわめて有効である。
この場合の共集合成分としてはイソフタル酸成
分、シクロヘキシレンジメタノール成分、特にシ
クロヘキシレンジメタノール成分が好適である。 内部析出粒子の生成方法は次の方法が有効であ
る。すなわち、(1)所定のジカルボン酸とエチレン
グリコールとの直接エステル化を経て重縮合する
過程、あるいは、(2)所定のジカルボン酸のジメチ
ルエステルとエチレングリコールとのエステル交
換反応を経て重縮合を行なう過程において、グリ
コールに可溶性のカルシウム化合物、マグネシウ
ム化合物、マンガン化合物、リチウム化合物の少
なくとも一種と、好ましくは、リンの酸および／
またはエステル化合物を添加することによつて生
成される。ここで使用しうるカルシウム、マグネ
シウム、マンガン、リチウムの化合物としては、
ハロゲン化物、硝酸塩、硫酸塩などの無機酸塩、
酢酸塩、シユウ酸塩、安息香酸塩などの有機酸
塩、水素化物および酸化物などのグリコール可溶
性の化合物がもつとも好ましく使用されるが、二
種以上併用してもよい。また、リン化合物として
はリン酸塩、亜リン酸、ホスホン酸およびこれら
のエステル類、部分エステル類の一種以上が用い
られる。 かくして、所定量の不活性粒子を含有するペレ
ツト（高濃度のマスタペレツトと実質的に粒子を
含有しないポリエステルペレツトの混合物）を十
分乾燥したのち、公知の溶融押出機に供給し、
270〜330℃でスリツト状のダイからシート状に押
出し、キヤステイングロール上で冷却固化せしめ
て未延伸フイルムを作る。この場合、未延伸フイ
ルムに押出し成形する時の、口金スリツト間隙／
未延伸フイルム厚さの比を５〜30、好ましくは８
〜20の範囲にすることが、本発明範囲の表面パラ
メータ√（β／σ）、表面パラメータ√（β／σ）
と摩擦係数の関係および突起の平均間隔、望まし
い範囲の突起高さの平均値、Ra、Rpを得るのに
きわめて有効である。 次にこの未延伸フイルムを二軸延伸し、二軸配
向せしめる。延伸方法としては、逐次二軸延伸法
または同時二軸延伸法を用いることができる。た
だし、最初に長手方向、次に幅方向の延伸を行な
う逐次二軸延伸法を用い、長手方向の延伸を、３
段階、好ましくは４段階以上に分けて、長手方向
の総延伸倍率を3.5〜5.5倍で行なう方法は本発明
範囲の表面パラメータ√（β／σ）、表面パラメー
タ√（β／σ）と摩擦係数の関係および突起の平
均間隔、望ましい範囲の突起高さの平均値、Ra、
Rpを得るのにきわめて有効である。また、１段
目の長手方向の延伸温度を（ポリマのガラス転移
点−20℃）〜（ポリマのガラス転移点＋５℃）の
範囲とし、それ以降の延伸温度をこの範囲以上と
するのが本発明範囲の表面パラメータ√（β／
σ）、表面パラメータ√（β／σ）と摩擦係数の関
係および突起の平均間隔を得るのに有効である。
延伸速度は5000〜50000％／分の範囲が好適であ
る。幅方向の延伸方法としてはステンタを用いる
方法が一般的である。延伸倍率は、3.0〜5.0倍の
範囲が適当である。幅方向の延伸速度は、1000〜
20000％／分の範囲が好適である。次にこの延伸
フイルムを熱処理する。この場合の熱処理温度は
170〜220℃、時間は0.5〜60秒の範囲が適当であ
る。さらに、熱処理時に幅方向に1.05〜1.3倍、
特に1.05〜1.2倍の延伸を行なうのが、本発明範
囲の突起間隔、望ましい範囲の表面突起の有効空
間体積を得るのに有効である。 ［物性の測定方法ならびに効果の評価方法］ 本発明の特性値の測定方法並びに効果の評価方
法は次の通りである。 (1) 粒子の平均粒径 フイルムからポリエステルをプラズマ灰化処
理法あるいは０−クロルフエノール溶解法など
で除去し、これをエタノールに分散させ、遠心
沈降法（堀場製作所、CAPA500使用）で測定
した体積平均径である。 (2) 粒子の含有量 ポリエステル100ｇに０−クロルフエノール
1.0リツトルを加え120℃で３時間加熱した後、
日立工機(株)製超遠心機55P−72を用い、
30000rpmで40分間遠心分離を行ない、得られ
た粒子を100℃で真空乾燥する。微粒子を走査
型差動熱量計にて測定した時、ポリマに相当す
る溶解ピークが認められる場合には微粒子に０
−クロルフエノールを加え、加熱冷却後再び遠
心分離操作を行なう。溶解ピークが認められな
くなつた時、微粒子を析出粒子とする。通常遠
心分離操作は２回で足りる。かくして分離され
た粒子の全体重量に対する比率（重量％）をも
つて粒子含有量とする。 (3) 結晶化パラメータΔTcg パーキンエルマー社製のDSC（示差走査熱量
計）型を用いて測定した。DSCの測定条件
は次の通りである。すなわち、試料10mgを
DSC装置にセツトし、300℃の温度で５分間溶
融した後、液体窒素中に急冷する。この急冷試
料を10℃／分で昇温し、ガラス転移点Tgを検
知する。さらに昇温を続け、ガラス状態からの
結晶化発熱ピーク温度をもつて冷結晶温度Tcc
とした。ここでTccとTgの差（Tcc−Tg）を
結晶化パラメータΔTcgと定義する。 (4) 突起の有効空間体積Φ 小坂研究所高精度薄膜段差測定機ET−10を
用い、触針先端半径0.5μｍ、カツトオフ0.08
mm、測定長1.0mm、縦倍率20万倍、横倍率2000
倍で、フイルムの表面粗さ曲線を測定する。こ
の粗さ曲線の平均線（中心線）の上側で平行に
0.005μｍごとにピークカウントレベルを設け、
平均線を曲線が交又する２点間において、上記
のピークカウントレベルを１回以上交又する点
が存在するとき、これを１ピークとし、このピ
ーク数を測定長さ間において求める。各ピーク
カウントレベルについて、このピーク数を求め
平均線からｎ番目のピークカウントレベルにつ
いて求めたピークをPC（ｎ）と定義する。測定
長さ間でピーク数が始めてゼロになるピークカ
ウントレベルが平均線からｍ番目としたとき、
有効空間体積Φは、 Φ＝_n-1 Σⁿ⁼¹ ［n³｛PC（ｎ）−PC（ｎ＋１）｝］ で表わされ、場所を変えて50回測定した平均値
を用いる。 (5) 屈折率 ナトリウムＤ線（589nｍ）を光源として、
アツベ屈折率計を用いて測定した。マウント液
にはヨウ化メチレンを用い、25℃、65％RHに
て測定した。 (6) 厚さ方向屈折率比 フイルムの厚差方向屈折率Ａおよびそのフイ
ルムを310℃で溶解、プレスし、液体窒素中に
急冷した実質的に無配向のフイルムの厚さ方向
屈折率Ｂを上記(5)の方法で測定し、Ａ／Ｂをも
つて厚さ方向屈折率比とした。 (7) Ra、Rz、Rp、突起の平均間隔Ｓｍ 小坂研究所製の高精度薄膜段差測定器ET−
10を用いて測定した。条件は下記のとおりであ
り、20回の測定の平均値をもつて値とした。 ●触針先端半径：0.5μｍ ●触針荷重：５mg ●測定長：１mm ●カツトオフ値：0.08mm なお、Ra、Rz、Rp、突起の平均間隔Ｓｍの
定義は公知の文献、たとえば、奈良治郎著「表
面粗さの測定・評価法」（総合技術センター、
1983）に示されているものである。 (8) 表面突起の平均高さＨ、高さ分布の標準偏差
σ、突起扁平度β ２検出器方式の走査型電子顕微鏡［ESM−
3200、エリオニクス(株)製］と断面測定装置
［PMS−１、エリオニクス(株)製］においてフイ
ルム表面の平坦面の高さを０として走査した時
の突起の高さ測定値を256諧調のグレー値とし
て画像処理装置［IBAS2000、カールツアイス
(株)製］に送り、このグレー値を元にIBAS2000
上にフイルム表面突起画像を再構築する。次
に、この表面突起画像で10階調以上のものを２
値化して得られた個々の突起の面積から円相当
径を求めこれをその突起の平均径とする。ま
た、この２値化された個々の突起部分の中で最
も高い値をその突起の高さとし、これを個々の
突起について求める。この測定を場所をかえて
500回繰返し、測定された高さ40nｍ以上の突
起についてその高さ分布を正規分布（高さ０の
点を中心とする正規分布）とみなして最小２乗
法で近似して平均高さＨ、平均突起径Ｄ、およ
び高さ分布の標準偏差σを求めた。この平均突
起径Ｄ／突起高さＨの比を突起扁平度とした。
また１階調の高さは、任意設定値Ｈを256で割
つた値であり、任意設定値Ｈは、通常測定する
フイルム表面のRa（単位：μｍ）に30を乗じた
値を用いる。また走査型電子顕微鏡の倍率は、
2000〜8000倍の間の値を選択し、フイルム表面
のRaに応じて変更する。 (9) 摩擦係数ｙ テープ走査性試験機TBT−300型（(株)横浜シ
ステム研究所製）を使用し、20℃、60％RH雰
囲気で走行させ、初期の摩擦係数を下記の式よ
り求めた（フイルム幅は1/2インチとした）。 ｙ＝0.733log（T₂／T₁） ここでT₁は入側張力、T₂出側張力である。
ガイド径は６mmφであり、ガイド材質は
SUS27（表面粘度0.2S）、巻き付け角は180°、走
行速度は3.3cm／秒である。 (10) 固有粘度［η］（単位はdl／ｇ） オルソクロルフエノール中、25℃で測定した
溶液粘度から下記式から計算され値を用いる。
すなわち、 η_SP／Ｃ＝［η］＋Ｋ［η］²・Ｃ ここでη_SP＝（溶液粘度／溶媒粘度）−１、Ｃ
は溶媒100mlあたりの溶解ポリマ重量（ｇ／100
ml、通常1.2）、Ｋはハギンス定数（0.343）と
する。また、溶液粘度、溶媒粘膜はオストワル
ド粘度計を用いて測定した。 (11) 耐ダビング性 フイルムに下記組成の磁性塗料をグラビヤロ
ールにより塗布し、磁気配向させ、乾燥させ
る。さらに、小型テストカレンダー装置（スチ
ールロール／ナイロンロール、５段）で、温
度：70℃、線圧：200Kg／cmでカレンダー処理
した後、70℃、48時間キユアリングする。上記
テープ原反を1/2インチにスリツトし、パンケ
ーキを作成した。このパンケーキから長さ250
ｍの長さをVTRカセツトに組み込みVTRカセ
ツトテープとした。 （磁性塗料の組成） ●Co含有酸化鉄（BET値50m²／ｇ）
：100重量部 ●エスレツクＡ（積水化学製塩化ビニル／酢酸
ビニル共重合体 ：10重量部 ●ニツポラン2304（日本ポリウレタン製ポリウ
レタンエラストマ） ：10重量部 ●コロネートＬ（日本ポリウレタン製ポリイソ
シアネート） ：５重量部 ●レシチン ：１重量部 ●メチルエチルケトン ：75重量部 ●メチルイソブチルケトン ：75重量部 ●トルエン ：75重量部 ●カーボンブラツク ：２重量部 ●ラウリン酸 ：1.5重量部 このテープに家庭用VTRを用いてシバソク
製のテレビ試験波形発生器（TG7／U706）に
より100％クロマ信号を記録し、その再生信号
からシバソク製カラービデオノイズ測定器
（925D／１）でクロマＳ／Ｎを測定しＡとし
た。また上記と同じ信号を記録したテープのパ
ンケーキを磁界転写方式のビデオソフト高速プ
リントシステム（たとえばソニーマグネスケー
ル(株)製のスプリンタ）を用いて同じ種類のテー
プ（未記録）のパンケーキへダビングした後の
テープのクロマＳ／Ｎを上記と同様にして測定
し、Ｂとした。このダビングによるクロマＳ／
Ｎの低下（Ａ−Ｂ）が4.0dB未満の場合は耐ダ
ビング性良好、4.0dB以上の場合は耐ダビング
性不良と判定した。 (12) 耐スクラツチ性 上記のテープを高速型テープ走行性試験機を
使用して繰返し走行させる（走行速度800ｍ／
分、、走行回数10パス）。この時、フイルムに入
つた傷を顕微鏡で観察し、ほとんど傷がない場
合は耐スクラツチ性良好、傷が、テープ幅あた
り３本以上入つた場合耐スクラツチ性不良と判
定した。 ［実施例］ 本発明を実施例に基づいて説明する。 実施例 １ 平均粒径0.3μｍのコロイダルシリカを含有する
エチレングリコールゾル（スラリー）を調整し、
ナトリウム含有量を粒子に対し0.1重量％とした。
このエチレングリコールスラリーを190℃で1.5時
間熱処理した後、テレフタル酸ジメチルとエステ
ル交換反応後、絶対濾過精度が3μｍのフイルタ
ーで濾過したスラリーを用いて重縮合し、コロイ
ダルシリカに起因するシリカ粒子を１重量％含有
するポリエチレンテレフタレートの粒子マスター
ペレツトを作つた。この時、重縮合時間を調節し
固有粘度を0.80とした。このマスタペレツトの結
晶化パラメータΔTcgは80℃であつた。また、常
法によつて、固有粘度0.62の実質的に粒子を含有
しないポリエチレンテレフタレート製造し（結晶
化パラメータΔTcgは70℃）、上記のコロイダル
シリカに起因するシリカ粒子を１重量％含有する
ポリエチレンテレフタレートの粒子マスターペレ
ツトと混合しシリカ粒子の含有量が0.5重量％と
なるようにした。次にこの混合ペレツトを180℃
で３時間減圧乾燥（3Torr）した。このペレツト
を押出機に供給し、300℃で溶融し静電印加キヤ
スト法を用いて表面温度の30℃のキヤステイン
グ・ドラムに巻きつけて冷却固化し未延伸フイル
ムを作つた。この時、口金スリツト間隙／未延伸
フイルム厚さの比を10として未延伸フイルムを作
つた。この未延伸フイルムを長手方向に4.5倍延
伸した。この延伸は２組ずつのロールの周速差
で、４段階で行なつた（延伸温度は１／２／３／
４段階それぞれ70／110／100／120℃であつた）。
この一軸延伸フイルムをステンタを用いて延伸速
度2000％／分で100℃で幅方向に4.0倍延伸し、幅
方向に1.07倍の延伸をかけながら190℃にて５秒
間熱処理し、厚さ15μｍの二軸配向フイルムを得
た。このフイルムの本発明のパラメータは第１表
に示したとおり本発明範囲内であり、耐スクラツ
チ性、耐ダビング性は第１表に示したとおり、い
ずれも良好であつた。なおこのフイルムの片面、
反対面の表面パラメータは同じであつた。 実施例２〜５、比較例１〜７ 平均粒径の異なるいくつかの種類の無機粒子を
含有するエチレングリコールスラリーを調整し
た。これらのエチレングリコールスラリーを絶対
濾過精度が異なるフイルターで濾過した後、テレ
フタル酸ジメチルとエステル交換反応後、重縮合
し、粒子を１重量％含有するポリエチレンテレフ
タレートの粒子マスターペレツトを作つた。これ
らのマスターペレツトの共重合成分の比率を調節
し、粒子マスターペレツトを作つた（第２表）。
これらの粒子マスターペレツトを第２表のように
組み合わせて、実質的に無機粒子を含有しないポ
リエチレンテレフタレートのペレツト（結晶化パ
ラメータΔTcgは70℃）と混合し所定の濃度に調
整した。これらの混合ペレツトを180℃で３時間
減圧乾燥（3Torr）した後、押出機に供給し、
300℃で溶融押出し、口金スリツト間隙／未延伸
フイルム厚さの比を種々変更して、静電印加キヤ
スト法を用いて表面温度30℃のキヤステイング・
ドラムに巻きつけて冷却固化し未延伸フイルムを
作つた。この未延伸フイルムを延伸の段数および
温度を種々変更して長手方向に5.0倍延伸した。
この一軸延伸フイルムをステンタを用いて幅方向
に4.0倍延伸した。この時の温度は、100℃、速度
は5000％／分であつた。さらに、幅方向に1.05倍
延伸しながら200℃にて５秒間熱処理し、厚さ
15μｍの二軸配向フイルムを得た。これらのフイ
ルムの耐スクラツチ性、耐ダビング性は第１表に
示したとおりであり、各種表面パラメータが本発
明範囲内の場合は耐スクラツチ性、耐ダビング性
ともに優れたものであつたが、そうでない場合は
耐スクラツチ性、耐ダビング性を両立するフイル
ムは得られなかつた。なお、第１表における実験
例では、フイルムの表、裏で表面パラメータは同
じであつた。

【表】

【表】 ［発明の効果］ 本発明はフイルム表面の突起の高さ分布と扁平
度からなるパラメータを特定範囲とし、さらに該
パラメータと摩擦係数の関係および突起間隔を特
定範囲としたので耐スクラツチ性、耐ダビング性
がともに優れたフイルムが得られたものであり、
高速で走行してもフイルムに傷がつきにくいた
め、各用途でのフイルム加工速度の増大に対応で
きるものであり、また、ビデオテープとした時、
ダビングしてもＳ／Ｎ、すなわち、画質が低下し
にくいフイルムが得られたものである。本発明フ
イルムの用途は特に限定されないが、加工工程で
のフイルム表面の傷が製品性能上特に問題となる
磁気記録媒体用ベースフイルム、さらに今後ビデ
オソフトの普及によりダビングする機会が多くな
りつつあるビデオテープ用として特に有用であ
る。また、本発明フイルムのうちフイルムの片面
のみの表面パラメータが本発明範囲のものは本発
明範囲の表面パラメータを有する面が走行面（磁
気記録媒体用では磁性層を塗布しない面、その他
の用途では印刷やラミネートなどの塗布などの処
理が施されない面）として用いることが必要であ
る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ ポリエステルと不活性粒子からなる組成物を
   主たる成分とするフイルムであつて、該フイルム
   の少なくとも片面の表面形態パラメータ√（β／
   σ）が0.1〜0.7、摩擦係数ｙと該表面パラメータ
   √（β／σ）の関係が下式(1)及び(2)を満足し、か
   つ、突起の平均間隔が20μｍ以下であることを特
   徴とする二軸配向ポリエステルフイルム。 ｙ≧0.171・√（β／σ）＋0.15 ……(1) ｙ≦0.171・√（β／σ）＋0.25 ……(2) （ここで、σは突起高さ分布の標準偏差、βは突
   起の平均扁平度である。）