JPH05302168A - 担体上に施された酸化物コーティングの処理装置 - Google Patents
担体上に施された酸化物コーティングの処理装置Info
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Abstract
化物コーティングの処理装置を提供することを目的とす
る。 【構成】SiOx の如き酸化物をコーティングしたフィ
ルムがプラズマにさらされ、この酸化物コーティングに
変化を与えるようになっている。
Description
物コーティングの処理装置に関する。
に薄いコーティングを施すことがしばしば行われる。こ
れは合成樹脂物質の欠点を補い、または新たな特性を付
与するために行われる。
水蒸気を透過させることである。この合成樹脂フィルム
は一見、非透過性に思えるが、実際には可なりの量の分
子が透過する。このような合成樹脂フィルムを食品の包
装材料として用いた場合は、酸素が内部に透過し、食品
の香りが逃げてしまうという問題を生じさせる。
るため、合成樹脂フィルムにバリアーを施すことがすで
に知られている(T. Krug, K. Rubsa
m:Die neue “glaserne” Leb
ensmittelverpackung in “n
eue verpackung”, Huthig−V
erlag, 1991)。このマイクロ波に対して透
過性を有する透明バリアーは酸化シリコンの蒸着により
達成されている。
50nm以下の波長の光で僅かに黄色味を帯びることで
ある。この黄色味の着色は、多くの包装された食品に対
し、食欲を失うわせることになる。
のコーティングを処理し、所望の特性を付与することを
目的とする。
するため、担体を移送させるための移送手段と、処理さ
れるべき担体の酸化物コーティングの反対側に配置され
たグローカソードと、該グローカソードと該担体との間
に設けられた反応性ガス機構とを具備してなることを特
徴とする担体上に施された酸化物コーティングの処理装
置を提供するものである。
コーティングが450nm以下の波長の光の透過性を増
大し、かつ酸素、水、香りに対するSiOコーティング
のバリアー効果が損なわれないことである。さらに、こ
の発明はフィルムに対する他のコーティング、例えばM
gOまたはAl2 O3 とともに、酸素の化学量論量未満
に基づく着色効果を除去することを可能とするものであ
る。
する。
樹脂フィルムを後に処理するための装置1を模式的に示
すものであって、吸引ポート2により約10-2ないし1
0-3ミリバールに排気された容器1に、偏向ローラ3が
配置されている。この偏向ローラ3は区域5において供
給ローラ(図示しない)から送られるフィルム4を下方
に偏向させるものである。この区域からフィルムは再び
上方に偏向され、外部に排出させるため巻取りローラ
(図示しない)に供給される。区域5の反対側にカソー
ド7が配置され、これはdc電圧源8の負極に接続され
ている。dc電圧源8から電極7への電気供給ライン9
は容器1内の絶縁部10を介して案内されている。電極
7の下方には接地された暗室シールディング(50)が
設けられていて、カソード7と容器1との間にプラズマ
が発生するのを防止している。
れていると、区域5とカソード7との間にプラズマ11
が発生する。このプラズマ11は入り口12を介して容
器1内に導入された酸素/アルゴン混合物または水素/
アルゴン混合物からなる。単純なカソード7の代わりに
マグネトロンカソードを用いることもできる。
ングは、プラズマ11の影響を受け、xの値が1ないし
2の間、好ましくは1ないし1.5の間にあるSiOx
層が形成される。このコーティングに対する作用および
後の変化はプラズマ11からのイオン化または励起され
た原子または電子の衝撃によりもたらされる。これによ
り、酸素が層中に導入され、この構造に影響をもたら
す。特にイオン化または励起された酸素はSiOコーテ
ィング層中に拡散することができる。
代わりにフィルム4に施してもよい。もし、酸素/アル
ゴン混合物をポート12を介して容器1内に導入した場
合は、この層は例え化学量論量未満に基づく着色効果が
あったとしても、明るみをもたらすことができる。
ティングされ、後に図1に基づく装置による処理がなさ
れる機構を示している。ここで、ハウジング20は2つ
チャンバー21、22に壁23を介して分割されてい
る。上部のチャンバー21には供給ローラ24が配置さ
れいて、ここから未だコーティングされていない帯状の
フィルム25が、偏向ローラ26、27およびスプレッ
ダーローラ28を介してコーティングローラ29に供給
されるようになっている。
ボ30が設けられていて、これにコーティング物質、例
えばSiOが収容されている。このSiOはオーブンま
たは電子ビームにより気化され、フィルム25上に薄い
SiOx 層として堆積される。SiOx (x=1)を
1.5<x<1.7の範囲に酸化させるのに必要な酸素
量は未コーティングフィルムからコーティング源30の
熱により熱分解された水分の離脱により供給される。ル
ツボ30とコーティングローラ29との空間に、さらに
マイクロ波を導入し、コーティング31の特性を改良す
ることもできる。
フィルム25はチャンバー21に配置されたカソード7
を通過する。このカソード7とコーティングされたフィ
ルム25との間にプラズマ11が存在し、これによりフ
ィルム25のコーティング層が後処理される。この場
合、上部チャンバー21の圧力は約10-2ミリバールで
あり、下部チャンバー22の圧力は約10-4ないし10
-3ミリバールである。偏向ローラ32〜35およびスプ
レッダローラ38の上方にて処理されたフィルム31が
巻取りローラ46により巻き取られる。
位に配置させることもできる。偏向ローラ34、35の
間に配置されたこのカソード7´はそれ用のハウジング
36で囲繞させ、これにガスを導入させてもよい。この
場合、ハウジング36内は10-2ミリバールの圧力で維
持させればよい。
たフィルムの処理装置を模式的に示す断面図。
理するための装置を模式的に示す断面図。
Claims (18)
- 【請求項1】 (a)担体(4、25)を移送させるた
めの移送手段(3、24〜29,32〜35,38)
と、(b)処理されるべき担体(4、25)の酸化物コ
ーティング(13)の反対側に配置されたグローカソー
ド(7、7´)と、(c)該グローカソード(7、7
´)と該担体(4、25)との間に設けられた反応性ガ
ス機構と、を具備してなる担体上に施された酸化物コー
ティングの処理装置。 - 【請求項2】 該酸化物コーティングがSiOx 層
(1.5<x<1.7)である請求の範囲1記載の酸化
物コーティングの処理装置。 - 【請求項3】 該担体(4、25)が合成樹脂フィルム
である請求の範囲1記載の酸化物コーティングの処理装
置。。 - 【請求項4】 該反応性ガスが不活性ガスを含む請求の
範囲1記載の酸化物コーティングの処理装置。 - 【請求項5】 該反応性ガスが酸素である請求の範囲1
記載の酸化物コーティングの処理装置。 - 【請求項6】 該反応性ガスがH2 である請求の範囲1
記載の酸化物コーティングの処理装置。 - 【請求項7】 該不活性ガスがアルゴンである請求の範
囲4記載の酸化物コーティングの処理装置。 - 【請求項8】 該反応性ガスまたは反応性ガスとアルゴ
ンとの混合物が10-1ないし10-3ミリバールの圧力下
に置かれている請求の範囲1ないし4のいづれかに記載
の酸化物コーティングの処理装置。 - 【請求項9】 該グローカソード(7、7´)が金属カ
ソードである請求の範囲1に記載の酸化物コーティング
の処理装置。 - 【請求項10】 該グローカソード(7、7´)がマグ
ネトロンカソードである請求の範囲1または9に記載の
酸化物コーティングの処理装置。 - 【請求項11】 移送手段がフィーダーローラ(24)
と、巻取りローラ(46)とを有する請求の範囲1また
は3に記載の酸化物コーティングの処理装置。 - 【請求項12】 フィーダーローラ(24)と、巻取り
ローラ(46)との間に、偏向ローラ(32ないし3
5)が設けられ、これにフィルム(25)が案内され、
該グローカソード(7)が該フィルムの反対側に配置さ
れている請求の範囲11に記載の酸化物コーティングの
処理装置。 - 【請求項13】 該担体(25)に酸化物コーティング
(31)が施される他の装置(29、30)を有する請
求の範囲1に記載の酸化物コーティングの処理装置。 - 【請求項14】 該他の装置が、 (a)蒸発されるべき物質を収容した容器(30)と、 (b)容器(30)内に収容された該物質を蒸発させる
ための蒸発機構と、 (c)蒸発されるべき物質から離間させて設けられた被
コーティング物質(25)と、を具備してなる請求の範
囲13に記載の酸化物コーティングの処理装置。 - 【請求項15】 蒸発されるべき物質と被コーティング
物質(25)との間の空間にマイクロ波を伝達するため
のマイクロ波トランスミッタが設けられている請求の範
囲14に記載の酸化物コーティングの処理装置。 - 【請求項16】 該担体(4、25)が収容されたハウ
ジング(1、21)と該グローカソード(7)との間に
接地された暗室シールディング(50)が設けられてい
る請求の範囲1に記載の酸化物コーティングの処理装
置。 - 【請求項17】 該グローカソード(7´)が2つの偏
向ローラ(34,35)の間、担体(31)の反対側に
設けられている請求の範囲12に記載の酸化物コーティ
ングの処理装置。 - 【請求項18】 該グローカソード(7´)がハウジン
グ(36)により囲まれ、その内部が所定の圧力に保た
れている請求の範囲17に記載の酸化物コーティングの
処理装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4203631:3 | 1992-02-08 | ||
DE4203631A DE4203631C2 (de) | 1992-02-08 | 1992-02-08 | Vorrichtung für die Behandlung einer Oxidschicht |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05302168A true JPH05302168A (ja) | 1993-11-16 |
JP3263142B2 JP3263142B2 (ja) | 2002-03-04 |
Family
ID=6451216
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP24807292A Expired - Lifetime JP3263142B2 (ja) | 1992-02-08 | 1992-09-17 | 担体上に施された酸化物コーティングの処理装置 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5286531A (ja) |
EP (1) | EP0555518B1 (ja) |
JP (1) | JP3263142B2 (ja) |
AT (1) | ATE147443T1 (ja) |
DE (2) | DE4203631C2 (ja) |
DK (1) | DK0555518T3 (ja) |
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---|---|---|---|---|
JP2008075164A (ja) * | 2006-09-25 | 2008-04-03 | Toppan Printing Co Ltd | 巻取式真空蒸着方法及び装置 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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- 1992-02-08 DE DE4203631A patent/DE4203631C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-07-31 EP EP92113074A patent/EP0555518B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-07-31 DK DK92113074.6T patent/DK0555518T3/da active
- 1992-07-31 DE DE59207851T patent/DE59207851D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-07-31 AT AT92113074T patent/ATE147443T1/de not_active IP Right Cessation
- 1992-08-03 US US07/924,318 patent/US5286531A/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-09-17 JP JP24807292A patent/JP3263142B2/ja not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DK0555518T3 (da) | 1997-03-17 |
EP0555518A1 (de) | 1993-08-18 |
DE59207851D1 (de) | 1997-02-20 |
EP0555518B1 (de) | 1997-01-08 |
ATE147443T1 (de) | 1997-01-15 |
DE4203631A1 (de) | 1993-08-12 |
DE4203631C2 (de) | 2000-06-08 |
US5286531A (en) | 1994-02-15 |
JP3263142B2 (ja) | 2002-03-04 |
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