JPH05302168A - 担体上に施された酸化物コーティングの処理装置 - Google Patents

担体上に施された酸化物コーティングの処理装置

Info

Publication number
JPH05302168A
JPH05302168A JP4248072A JP24807292A JPH05302168A JP H05302168 A JPH05302168 A JP H05302168A JP 4248072 A JP4248072 A JP 4248072A JP 24807292 A JP24807292 A JP 24807292A JP H05302168 A JPH05302168 A JP H05302168A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
oxide coating
treating
carrier
coating according
cathode
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP4248072A
Other languages
English (en)
Other versions
JP3263142B2 (ja
Inventor
Thomas Kruck
トーマス・クルック
Klemens Ruebsam
クレメンス・リュープザム
Andreas Meier
アンドレアス・マイヤー
Gerhard Steiniger
ゲルハルト・シュタイニガー
Mitsuru Kano
満 加納
Noboru Sasaki
昇 佐々木
Takashi Miyamoto
隆司 宮本
Mamoru Sekiguchi
守 関口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Balzers und Leybold Deutschland Holding AG
Toppan Inc
Original Assignee
Leybold AG
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Family has litigation
First worldwide family litigation filed litigation Critical https://patents.darts-ip.com/?family=6451216&utm_source=google_patent&utm_medium=platform_link&utm_campaign=public_patent_search&patent=JPH05302168(A) "Global patent litigation dataset” by Darts-ip is licensed under a Creative Commons Attribution 4.0 International License.
Application filed by Leybold AG, Toppan Printing Co Ltd filed Critical Leybold AG
Publication of JPH05302168A publication Critical patent/JPH05302168A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3263142B2 publication Critical patent/JP3263142B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14Metallic material, boron or silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/562Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58After-treatment
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58After-treatment
    • C23C14/5826Treatment with charged particles
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/58After-treatment
    • C23C14/5846Reactive treatment
    • C23C14/5853Oxidation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)
  • Coating Of Shaped Articles Made Of Macromolecular Substances (AREA)
  • Oxygen, Ozone, And Oxides In General (AREA)
  • Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Chemical Treatment Of Metals (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は、フィルムなどの担体上に施された酸
化物コーティングの処理装置を提供することを目的とす
る。 【構成】SiOx の如き酸化物をコーティングしたフィ
ルムがプラズマにさらされ、この酸化物コーティングに
変化を与えるようになっている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、担体上に施された酸化
物コーティングの処理装置に関する。
【0002】
【従来の技術】合成樹脂物質、特に透明な合成樹脂物質
に薄いコーティングを施すことがしばしば行われる。こ
れは合成樹脂物質の欠点を補い、または新たな特性を付
与するために行われる。
【0003】この合成樹脂フィルムの欠点は、ガスや、
水蒸気を透過させることである。この合成樹脂フィルム
は一見、非透過性に思えるが、実際には可なりの量の分
子が透過する。このような合成樹脂フィルムを食品の包
装材料として用いた場合は、酸素が内部に透過し、食品
の香りが逃げてしまうという問題を生じさせる。
【0004】O2 、H2 O、食品の香りの拡散を防止す
るため、合成樹脂フィルムにバリアーを施すことがすで
に知られている(T. Krug, K. Rubsa
m:Die neue “glaserne” Leb
ensmittelverpackung in “n
eue verpackung”, Huthig−V
erlag, 1991)。このマイクロ波に対して透
過性を有する透明バリアーは酸化シリコンの蒸着により
達成されている。
【0005】しかし、このコーティングの欠点は、約4
50nm以下の波長の光で僅かに黄色味を帯びることで
ある。この黄色味の着色は、多くの包装された食品に対
し、食欲を失うわせることになる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明は基材
のコーティングを処理し、所望の特性を付与することを
目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するため、担体を移送させるための移送手段と、処理さ
れるべき担体の酸化物コーティングの反対側に配置され
たグローカソードと、該グローカソードと該担体との間
に設けられた反応性ガス機構とを具備してなることを特
徴とする担体上に施された酸化物コーティングの処理装
置を提供するものである。
【0008】
【作用】この発明で達成される利点は、透明フィルムの
コーティングが450nm以下の波長の光の透過性を増
大し、かつ酸素、水、香りに対するSiOコーティング
のバリアー効果が損なわれないことである。さらに、こ
の発明はフィルムに対する他のコーティング、例えばM
gOまたはAl2 3 とともに、酸素の化学量論量未満
に基づく着色効果を除去することを可能とするものであ
る。
【0009】
【実施例】以下、本発明を図示の実施例を参照して説明
する。
【0010】図1はSiOコーティングがなされた合成
樹脂フィルムを後に処理するための装置1を模式的に示
すものであって、吸引ポート2により約10-2ないし1
-3ミリバールに排気された容器1に、偏向ローラ3が
配置されている。この偏向ローラ3は区域5において供
給ローラ(図示しない)から送られるフィルム4を下方
に偏向させるものである。この区域からフィルムは再び
上方に偏向され、外部に排出させるため巻取りローラ
(図示しない)に供給される。区域5の反対側にカソー
ド7が配置され、これはdc電圧源8の負極に接続され
ている。dc電圧源8から電極7への電気供給ライン9
は容器1内の絶縁部10を介して案内されている。電極
7の下方には接地された暗室シールディング(50)が
設けられていて、カソード7と容器1との間にプラズマ
が発生するのを防止している。
【0011】もし、カソード7がマイナス電位に接続さ
れていると、区域5とカソード7との間にプラズマ11
が発生する。このプラズマ11は入り口12を介して容
器1内に導入された酸素/アルゴン混合物または水素/
アルゴン混合物からなる。単純なカソード7の代わりに
マグネトロンカソードを用いることもできる。
【0012】フィルム4に施された薄いSiOコーティ
ングは、プラズマ11の影響を受け、xの値が1ないし
2の間、好ましくは1ないし1.5の間にあるSiOx
層が形成される。このコーティングに対する作用および
後の変化はプラズマ11からのイオン化または励起され
た原子または電子の衝撃によりもたらされる。これによ
り、酸素が層中に導入され、この構造に影響をもたら
す。特にイオン化または励起された酸素はSiOコーテ
ィング層中に拡散することができる。
【0013】MgOまたはAl2 3 層をSiOx 層の
代わりにフィルム4に施してもよい。もし、酸素/アル
ゴン混合物をポート12を介して容器1内に導入した場
合は、この層は例え化学量論量未満に基づく着色効果が
あったとしても、明るみをもたらすことができる。
【0014】図2にはフィルムが最初にSiOx でコー
ティングされ、後に図1に基づく装置による処理がなさ
れる機構を示している。ここで、ハウジング20は2つ
チャンバー21、22に壁23を介して分割されてい
る。上部のチャンバー21には供給ローラ24が配置さ
れいて、ここから未だコーティングされていない帯状の
フィルム25が、偏向ローラ26、27およびスプレッ
ダーローラ28を介してコーティングローラ29に供給
されるようになっている。
【0015】コーティングローラ29の反対側にはルツ
ボ30が設けられていて、これにコーティング物質、例
えばSiOが収容されている。このSiOはオーブンま
たは電子ビームにより気化され、フィルム25上に薄い
SiOx 層として堆積される。SiOx (x=1)を
1.51.7の範囲に酸化させるのに必要な酸素
量は未コーティングフィルムからコーティング源30の
熱により熱分解された水分の離脱により供給される。ル
ツボ30とコーティングローラ29との空間に、さらに
マイクロ波を導入し、コーティング31の特性を改良す
ることもできる。
【0016】フィルム25がコーティングされたのち、
フィルム25はチャンバー21に配置されたカソード7
を通過する。このカソード7とコーティングされたフィ
ルム25との間にプラズマ11が存在し、これによりフ
ィルム25のコーティング層が後処理される。この場
合、上部チャンバー21の圧力は約10-2ミリバールで
あり、下部チャンバー22の圧力は約10-4ないし10
-3ミリバールである。偏向ローラ32〜35およびスプ
レッダローラ38の上方にて処理されたフィルム31が
巻取りローラ46により巻き取られる。
【0017】カソード7は符号7´で表された他方の部
位に配置させることもできる。偏向ローラ34、35の
間に配置されたこのカソード7´はそれ用のハウジング
36で囲繞させ、これにガスを導入させてもよい。この
場合、ハウジング36内は10-2ミリバールの圧力で維
持させればよい。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係わる金属酸化物でコーティングされ
たフィルムの処理装置を模式的に示す断面図。
【図2】フィルムをコーティングし、後にプラズマで処
理するための装置を模式的に示す断面図。
【符号の説明】
1…容器 3…偏向ローラ 4…フィルム 5…区域 6…巻取りローラ 7、7´…カソード 8…dc電圧源 9…電気供給ライン 10…絶縁部 11…プラズマ 20…ハウジング 21、22…チャンバー 24…供給ローラ 25…フィルム 26、27…偏向ローラ 28…スプレッダーローラ 29…コーティングローラ 30…ルツボまたはコーティング源 32〜35…偏向ローラ 38…スプレッダローラ 46…巻取りローラ46
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 トーマス・クルック ドイツ連邦共和国、デー − 6450 ハナ ウ 1、ヒルシュシュトラーセ 19 (72)発明者 クレメンス・リュープザム ドイツ連邦共和国、デー − 6485 ヨス グルント、シュールシュトラーセ 16 (72)発明者 アンドレアス・マイヤー ドイツ連邦共和国、デー − 7417 プフ リンゲン、ザイテンハルデ 123/1 (72)発明者 ゲルハルト・シュタイニガー ドイツ連邦共和国、デー − 6451 ロネ ブルク、フェルトシュトラーセ 8 (72)発明者 加納 満 東京都新宿区神楽坂6丁目56番301号 (72)発明者 佐々木 昇 埼玉県北葛飾郡杉戸町清地2丁目1番9号 (72)発明者 宮本 隆司 埼玉県北葛飾郡杉戸町清地2丁目1番9号 (72)発明者 関口 守 埼玉県川口市東川口2丁目6番12号

Claims (18)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 (a)担体(4、25)を移送させるた
    めの移送手段(3、24〜29,32〜35,38)
    と、(b)処理されるべき担体(4、25)の酸化物コ
    ーティング(13)の反対側に配置されたグローカソー
    ド(7、7´)と、(c)該グローカソード(7、7
    ´)と該担体(4、25)との間に設けられた反応性ガ
    ス機構と、を具備してなる担体上に施された酸化物コー
    ティングの処理装置。
  2. 【請求項2】 該酸化物コーティングがSiOx
    (1.51.7)である請求の範囲1記載の酸化
    物コーティングの処理装置。
  3. 【請求項3】 該担体(4、25)が合成樹脂フィルム
    である請求の範囲1記載の酸化物コーティングの処理装
    置。。
  4. 【請求項4】 該反応性ガスが不活性ガスを含む請求の
    範囲1記載の酸化物コーティングの処理装置。
  5. 【請求項5】 該反応性ガスが酸素である請求の範囲1
    記載の酸化物コーティングの処理装置。
  6. 【請求項6】 該反応性ガスがH2 である請求の範囲1
    記載の酸化物コーティングの処理装置。
  7. 【請求項7】 該不活性ガスがアルゴンである請求の範
    囲4記載の酸化物コーティングの処理装置。
  8. 【請求項8】 該反応性ガスまたは反応性ガスとアルゴ
    ンとの混合物が10-1ないし10-3ミリバールの圧力下
    に置かれている請求の範囲1ないし4のいづれかに記載
    の酸化物コーティングの処理装置。
  9. 【請求項9】 該グローカソード(7、7´)が金属カ
    ソードである請求の範囲1に記載の酸化物コーティング
    の処理装置。
  10. 【請求項10】 該グローカソード(7、7´)がマグ
    ネトロンカソードである請求の範囲1または9に記載の
    酸化物コーティングの処理装置。
  11. 【請求項11】 移送手段がフィーダーローラ(24)
    と、巻取りローラ(46)とを有する請求の範囲1また
    は3に記載の酸化物コーティングの処理装置。
  12. 【請求項12】 フィーダーローラ(24)と、巻取り
    ローラ(46)との間に、偏向ローラ(32ないし3
    5)が設けられ、これにフィルム(25)が案内され、
    該グローカソード(7)が該フィルムの反対側に配置さ
    れている請求の範囲11に記載の酸化物コーティングの
    処理装置。
  13. 【請求項13】 該担体(25)に酸化物コーティング
    (31)が施される他の装置(29、30)を有する請
    求の範囲1に記載の酸化物コーティングの処理装置。
  14. 【請求項14】 該他の装置が、 (a)蒸発されるべき物質を収容した容器(30)と、 (b)容器(30)内に収容された該物質を蒸発させる
    ための蒸発機構と、 (c)蒸発されるべき物質から離間させて設けられた被
    コーティング物質(25)と、を具備してなる請求の範
    囲13に記載の酸化物コーティングの処理装置。
  15. 【請求項15】 蒸発されるべき物質と被コーティング
    物質(25)との間の空間にマイクロ波を伝達するため
    のマイクロ波トランスミッタが設けられている請求の範
    囲14に記載の酸化物コーティングの処理装置。
  16. 【請求項16】 該担体(4、25)が収容されたハウ
    ジング(1、21)と該グローカソード(7)との間に
    接地された暗室シールディング(50)が設けられてい
    る請求の範囲1に記載の酸化物コーティングの処理装
    置。
  17. 【請求項17】 該グローカソード(7´)が2つの偏
    向ローラ(34,35)の間、担体(31)の反対側に
    設けられている請求の範囲12に記載の酸化物コーティ
    ングの処理装置。
  18. 【請求項18】 該グローカソード(7´)がハウジン
    グ(36)により囲まれ、その内部が所定の圧力に保た
    れている請求の範囲17に記載の酸化物コーティングの
    処理装置。
JP24807292A 1992-02-08 1992-09-17 担体上に施された酸化物コーティングの処理装置 Expired - Lifetime JP3263142B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4203631:3 1992-02-08
DE4203631A DE4203631C2 (de) 1992-02-08 1992-02-08 Vorrichtung für die Behandlung einer Oxidschicht

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05302168A true JPH05302168A (ja) 1993-11-16
JP3263142B2 JP3263142B2 (ja) 2002-03-04

Family

ID=6451216

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24807292A Expired - Lifetime JP3263142B2 (ja) 1992-02-08 1992-09-17 担体上に施された酸化物コーティングの処理装置

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5286531A (ja)
EP (1) EP0555518B1 (ja)
JP (1) JP3263142B2 (ja)
AT (1) ATE147443T1 (ja)
DE (2) DE4203631C2 (ja)
DK (1) DK0555518T3 (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008075164A (ja) * 2006-09-25 2008-04-03 Toppan Printing Co Ltd 巻取式真空蒸着方法及び装置

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4342463C2 (de) * 1993-12-13 1997-03-27 Leybold Ag Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von optischen Linsen mit Schutzschichten und mit optischen Schichten im Vakuum
DE19539986A1 (de) * 1995-10-27 1997-04-30 Leybold Ag Vakuumbeschichtungsanlage mit einem in der Vakuumkammer angeordneten Tiegel zur Aufnahme von zu verdampfendem Material
DE19543781A1 (de) * 1995-11-24 1997-05-28 Leybold Ag Vakuumbeschichtungsanlage mit einem in der Vakuumkammer angeordneten Tiegel zur Aufnahme von zu verdampfendem Material
DE19845268C1 (de) * 1998-10-01 2000-01-05 Fraunhofer Ges Forschung Verfahren zum Bedampfen bandförmiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid
GB2361244B (en) * 2000-04-14 2004-02-11 Trikon Holdings Ltd A method of depositing dielectric
DE10255822B4 (de) * 2002-11-29 2004-10-28 Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. Verfahren zum Bedampfen bandförmiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid
DE102006047472A1 (de) * 2006-10-05 2008-04-10 Fhr Anlagenbau Gmbh Verfahren und Vorrichtung zur oberflächennahen Behandlung von flächigen Substraten
DE102006060083B3 (de) * 2006-12-19 2007-11-22 Wiberg Gmbh Lebensmittelverpackungsfolie
DE102007003766B4 (de) * 2006-12-23 2008-09-11 Hvb Hoch-Vakuum-Beschichtungs Gmbh High Vacuum Coating Transparente Barrierefolien für die Verpackungsindustrie
DE102008029379A1 (de) * 2008-06-23 2009-08-13 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Anordnung zum Beschichten bandförmiger Foliensubstrate
KR20140029470A (ko) * 2011-04-29 2014-03-10 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 코팅 프로세스에서 가요성 기판을 패시베이팅하기 위한 디바이스들 및 방법들
DE102012202086B4 (de) * 2012-02-13 2015-05-21 Fhr Anlagenbau Gmbh Prozesswalze zur Aufnahme und Führung von bandförmigen Substraten in Vakuum-Beschichtungsanlagen

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3172124D1 (en) * 1980-06-10 1985-10-10 Matsushita Electric Ind Co Ltd A method of vacuum depositing a layer on a plastics film substrate
US4874631A (en) * 1986-06-23 1989-10-17 Minnesota Mining And Manufacturing Company Multi-chamber deposition system
DE3641718A1 (de) * 1986-12-06 1988-06-16 Leybold Ag Verfahren zum herstellen von wickeln aus im vakuum leitfaehig beschichteten isolierstoff-folien
JPH0361366A (ja) * 1989-07-28 1991-03-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd レーザースパッタリング装置
CA2040638A1 (en) * 1990-04-20 1991-10-21 Gedeon I. Deak Barrier materials useful for packaging

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008075164A (ja) * 2006-09-25 2008-04-03 Toppan Printing Co Ltd 巻取式真空蒸着方法及び装置

Also Published As

Publication number Publication date
DK0555518T3 (da) 1997-03-17
EP0555518A1 (de) 1993-08-18
DE59207851D1 (de) 1997-02-20
EP0555518B1 (de) 1997-01-08
ATE147443T1 (de) 1997-01-15
DE4203631A1 (de) 1993-08-12
DE4203631C2 (de) 2000-06-08
US5286531A (en) 1994-02-15
JP3263142B2 (ja) 2002-03-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4395440A (en) Method of and apparatus for manufacturing ultrafine particle film
JP3263142B2 (ja) 担体上に施された酸化物コーティングの処理装置
US5055319A (en) Controlled high rate deposition of metal oxide films
US5849162A (en) Sputtering device and method for reactive for reactive sputtering
US5585148A (en) Process for forming a deposited film using a light transmissive perforated diffusion plate
US11584982B2 (en) Reactive sputter deposition of dielectric films
US4867859A (en) Apparatus for forming a thin film
CA2673302A1 (en) Antimicrobial material and method for producing an antimicrobial material
JPH05279843A (ja) 真空塗布装置
EP0113555B1 (en) Packaging
Scheffel et al. Reactive high-rate deposition of titanium oxide coatings using electron beam evaporation, spotless arc and dual crucible
JP2000076989A (ja) ガス放電パネルの製造方法およびガス放電パネル
JP4142765B2 (ja) 昇華性金属化合物薄膜形成用イオンプレーティング装置
JPS5489983A (en) Device and method for vacuum deposition compound
Harada et al. High rate deposition of TiO2 and SiO2 films by radical beam assisted deposition (RBAD)
JP3775851B2 (ja) 蒸着装置、保護膜製造方法
JPH0314906B2 (ja)
EP0656430B2 (en) Process and apparatus for the codeposition of metallic oxides on plastic films.
JP2001098358A (ja) カーボン薄膜の成膜装置、及びカーボン薄膜製造方法
JPH09165674A (ja) 真空被覆装置
JP2872773B2 (ja) 化合物の高速蒸着方法及び装置
JPH0372069A (ja) 化合物の金属帯への連続蒸着法
JP3388837B2 (ja) プラズマcvd装置
Holland et al. The reduction of Ag2S and treatment of paper in a magnetron glow discharge
JPH0693447A (ja) 蒸着フィルムの製造装置

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

S533 Written request for registration of change of name

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071221

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20071221

Year of fee payment: 6

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20081221

Year of fee payment: 7

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20091221

Year of fee payment: 8

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101221

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20101221

Year of fee payment: 9

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111221

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111221

Year of fee payment: 10

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121221

Year of fee payment: 11

EXPY Cancellation because of completion of term
FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121221

Year of fee payment: 11