KR20140029470A - 코팅 프로세스에서 가요성 기판을 패시베이팅하기 위한 디바이스들 및 방법들 - Google Patents
코팅 프로세스에서 가요성 기판을 패시베이팅하기 위한 디바이스들 및 방법들 Download PDFInfo
- Publication number
- KR20140029470A KR20140029470A KR1020137031669A KR20137031669A KR20140029470A KR 20140029470 A KR20140029470 A KR 20140029470A KR 1020137031669 A KR1020137031669 A KR 1020137031669A KR 20137031669 A KR20137031669 A KR 20137031669A KR 20140029470 A KR20140029470 A KR 20140029470A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- coating
- chamber
- flexible substrate
- separation element
- passivating
- Prior art date
Links
- 238000000576 coating method Methods 0.000 title claims abstract description 154
- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims abstract description 113
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 46
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims abstract description 146
- 238000000926 separation method Methods 0.000 claims abstract description 55
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 46
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 31
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 31
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 48
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 18
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 14
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 12
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 11
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 5
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 34
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 31
- 239000010408 film Substances 0.000 description 13
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 229910017107 AlOx Inorganic materials 0.000 description 5
- -1 polypropylene Polymers 0.000 description 5
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 4
- 239000005026 oriented polypropylene Substances 0.000 description 4
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 4
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 3
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 2
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 2
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 2
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 102100026189 Beta-galactosidase Human genes 0.000 description 1
- 229920002799 BoPET Polymers 0.000 description 1
- 108010059881 Lactase Proteins 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002318 adhesion promoter Substances 0.000 description 1
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 1
- 108010005774 beta-Galactosidase Proteins 0.000 description 1
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 1
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005025 cast polypropylene Substances 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000005137 deposition process Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000005566 electron beam evaporation Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 1
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 description 1
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116108 lactase Drugs 0.000 description 1
- 229910001092 metal group alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 239000011104 metalized film Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 230000003678 scratch resistant effect Effects 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002207 thermal evaporation Methods 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/02—Pretreatment of the material to be coated
- C23C14/024—Deposition of sublayers, e.g. to promote adhesion of the coating
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
- C23C16/22—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the deposition of inorganic material, other than metallic material
- C23C16/30—Deposition of compounds, mixtures or solid solutions, e.g. borides, carbides, nitrides
- C23C16/40—Oxides
- C23C16/403—Oxides of aluminium, magnesium or beryllium
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/20—Metallic material, boron or silicon on organic substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5846—Reactive treatment
- C23C14/5853—Oxidation
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- General Chemical & Material Sciences (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 장치는 가요성 기판을 코팅하기 위한 코팅 챔버, 챔버 분리 엘리먼트 ― 상기 챔버 분리 엘리먼트는 코팅 챔버를 추가의 챔버로부터 분리하도록 배열됨 ― , 코팅 드럼 ― 상기 코팅 드럼과 챔버 분리 엘리먼트는 갭을 형성함 ― ; 및 가스 주입구 ― 상기 가스 주입구는 갭 내로 산소를 공급하기 위해 상기 챔버 분리 엘리먼트 내에 배열됨 ― 를 포함한다.
Description
본 발명의 실시예들은 일반적으로 코팅 프로세스들에서의 디바이스들 및 가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하는 방법들에 관한 것이다. 특히, 실시예들은 웨브(web)의 알루미늄 코팅을 패시베이팅하기 위한 디바이스들 및 방법들에 관한 것이다. 몇몇 실시예들은 박막 태양 전지(thin-film solar cell) 생산시 웨브의 알루미늄 코팅을 패시베이팅하기 위한 디바이스들 및 방법들에 관한 것이고, 다른 실시예들은 가요성 디스플레이들의 생산시 웨브의 알루미늄 코팅을 패시베이팅하는 것에 관한 것이다.
박막 태양 전지들의 생산시 웨브와 같은 가요성 기판을 코팅하기 위한 장치들 및 방법들에서, 가요성 기판의 패시베이션(passivation)이 필요하다. 이는 이미 코팅된 웨브의 면(side) 상에서 롤러들과 코팅된 웨브스와의 직접적인 접촉(direct contact)이 코팅을 손상시킬 수 있다는 사실에 기인한 것일 수 있다. 패시베이션은 가요성 기판의 코팅된 면 상에서 가요성 기판이 롤러들에 의해 가이드(guide)될 수 있도록 가요성 기판을 보호한다.
결과적으로, 코팅을 보호하기 위해, 패시베이션 플라즈마 반응기들을 사용하는 디바이스들이 가요성 기판들 위의 새로 코팅된(fresh coated) 알루미늄 층들의 패시베이션을 위해 사용된다. 패시베이션은 테이크업 롤러(take-up roller) 위로 가요성 기판을 다시감는 단계(rewinding)에 선행한다. 패시베이션 플라즈마 반응기는 플라즈마 처리기(plasma treater) 및 가스 소스(gas source)를 포함한다.
그러나, 플라즈마 처리기들은 복잡한 디바이스들일 수 있다. 그러한 디바이스들을 동작시키기 위해서는 상당한 양의 에너지가 요구될 수 있다.
상기 사항을 고려하여, 본원에서 기술되는 가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 장치 및 가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 방법이 제공된다.
본원에 기술된 실시예들에 따르면, 가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 장치가 제공된다. 장치는 가요성 기판을 코팅하기 위한 코팅 챔버 및 챔버 분리 엘리먼트(chamber separation element)를 포함하며 챔버 분리 엘리먼트는 코팅 챔버를 추가의 챔버로부터 분리하도록 배열된다. 또한, 장치는 코팅 드럼을 포함하고, 코팅 드럼과 챔버 분리 엘리먼트가 갭(gap)을 형성하며, 여기서 가스 주입구(gas inlet)가 갭 내로 산소를 공급하기 위해 챔버 분리 엘리먼트 내에 배열된다.
본원에 기술된 추가의 실시예들에 따르면, 장치 내에서 가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 방법이 제공된다. 장치는, 가요성 기판을 코팅하기 위한 코팅 챔버; 챔버 분리 엘리먼트 ― 상기 챔버 분리 엘리먼트는 코팅 챔버를 추가의 챔버로부터 분리하도록 배열됨 ― ; 코팅 드럼 ― 상기 코팅 드럼과 챔버 분리 엘리먼트가 갭을 형성함 ― ; 및 가스 주입구 ― 상기 가스 주입구는 챔버 분리 엘리먼트 내에 배열됨 ― 를 포함한다. 산소가 가스 주입구를 통해 갭 내로 공급된다.
위의 실시예들과 결합될 수 있는 추가의 이점들, 피쳐들, 양상들 및 세부사항들은 종속 청구항들, 설명 및 도면들로부터 자명하다.
실시예들은 또한 개시된 방법들 각각을 수행하기 위한 장치들에 관한 것이며 각각의 기술된 방법 단계들을 수행하기 위한 장치 파트(part)들을 포함한다. 이 방법 단계들은 하드웨어 컴포넌트들에 의해, 적절한 소프트웨어로 프로그래밍된 컴퓨터에 의해, 이 둘의 임의의 조합에 의해 또는 임의의 다른 방식으로 수행될 수 있다. 더욱이, 실시예들은 또한 기술된 장치를 동작하게 하는 방법들 또는 기술된 장치를 제조하게 하는 방법들에 관한 것이다. 이는 장치의 기능들을 수행하기 위한 방법 단계들 또는 장치의 제조 파트들을 포함한다.
본 발명의 상기 열거된 특징들이 상세히 이해될 수 있는 방식으로 앞서 간략히 요약된 본 발명의 보다 구체적인 설명들이 실시예들을 참조로 하여 이루어질 수 있다. 첨부의 도면들은 본 발명의 실시예들에 관한 것이고 하기에서 기술된다.
도 1은 가스 주입구가 챔버 분리 엘리먼트 내에 배열된 전형적인 실시예의 개략적인 단면도이다.
도 2는 추가의 가스 주입구가 추가의 챔버 분리 엘리먼트 내에 배열된 추가의 전형적인 실시예의 개략적인 단면도이다.
도 3은 실시예에 따른 코팅의 층들의 적층된 배열의 개략적인 단면도이다. 그리고,
도 4는 실시예의 방법의 흐름도의 개략적인 표현이다.
도 1은 가스 주입구가 챔버 분리 엘리먼트 내에 배열된 전형적인 실시예의 개략적인 단면도이다.
도 2는 추가의 가스 주입구가 추가의 챔버 분리 엘리먼트 내에 배열된 추가의 전형적인 실시예의 개략적인 단면도이다.
도 3은 실시예에 따른 코팅의 층들의 적층된 배열의 개략적인 단면도이다. 그리고,
도 4는 실시예의 방법의 흐름도의 개략적인 표현이다.
이제 본 발명의 다양한 실시예들에 대한 참조가 상세히 이루어질 것이며, 본 발명의 하나 또는 그 초과의 예시들이 도면들에 도시된다. 도면들에 대한 하기의 설명에서, 동일한 참조 번호들은 동일한 컴포넌트를 지칭한다. 일반적으로, 개별 실시예들에 대해 차이점들만이 기술된다. 각각의 예시는 본 발명의 설명으로 제공되는 것이며 본 발명을 제한하려 의도된 것이 아니다. 또한, 하나의 실시예의 일부로서 예시되거나 기술된 피쳐들이, 다시 추가의 실시예를 산출하기 위해 다른 실시예들에서 또는 다른 실시예들과 함께 사용될 수 있다. 설명은 그러한 수정들 및 변형들을 포함하는 것으로 의도된 것이다.
몇몇 실시예들에 따르면, 기판들 상의(예를 들어, 가요성 기판들 상의) 코팅을 패시베이팅하기 위한 프로세스들 및 장치들이 제공된다. 그에 의해, 가요성 기판들은, 그 중에서도, 필름들, 포일들, 웨브들, 플라스틱 재료의 스트립들, 금속 또는 다른 재료들을 포함하는 것으로 고려될 수 있다. 전형적으로, 용어들 "웨브", "포일", "스트립", "기판", "가요성 기판" 등은 동의어로 사용된다. 몇몇 실시예들에 따르면, 본원에 기술된 실시예들에 따른 패시베이팅 프로세스들을 위한 컴포넌트들 및 패시베이팅 프로세스들을 위한 장치들이 상술된 가요성 기판들을 위해 제공될 수 있다. 그러나, 이 컴포넌트들 및 장치들은 또한, 증발 소스들로부터 반응성 증착 프로세스를 겪는 유리 기판들 등과 같은 비-가요성 기판들과 함께 제공될 수 있다. 전형적인 실시예들에서, 금속화된 필름의 제조 동안에 가요성 기판 상에 패시베이션이 수행된다. 전형적인 가요성 기판들은, 중합성(polymeric) 웨브와 같은 웨브들일 수 있다. 중합성 웨브는 전형적으로 폴리프로필렌, 폴리에틸렌 또는 폴리에스테르를 포함한다.
전형적인 제1 재료들은 금속들 또는 금속을 포함하는 합금들이다. 전형적인 실시예들에서, 알루미늄 또는 알루미늄 합금이 제1 재료로서 사용된다. 실시예들은 제1 재료의 코팅이 가요성 기판 위에 증착되는 종래의 인라인(inline) 진공 증착 프로세스들을 참조하여 기술된다. 본원에 기술된 실시예들에서, 알루미늄층들은 이 알루미늄층들이 리와인더(rewinder) 내에서 감겼을 때 필름의 후면(rear side)에 붙지(stick) 않도록 패시베이팅될 수 있다. 제1 재료의 층 스택, 예컨대, 알루미늄 및 패시베이팅된 최상부 층(top layer)이 보다 나은 배리어(barrier)를 제공한다. 패시베이팅된 최상부 층은 매우 스크래치 내성(scratch resistant)적이다.
용어 "패시베이션"은 맨 위층을 패시베이팅하기 위하여 금속성 재료를 처리하는 프로세스를 지칭한다. 패시베이션은 환경적 요인들, 특히 수분에의 노출로부터의 부식 또는 열화(deterioration)에 대한 민감성(susceptibility)을 변경한다. 예를 들어, 알루미늄이 코팅을 위해 사용된 재료일 때, 금속성 표면 위의 보호층은 Al2O3를 포함할 수 있다. 보호층은 패시베이션 프로세스에서 생산된다.
도 1은 가요성 기판(1)을 패시베이팅하기 위한 장치(100)를 도시한다. 장치는 코팅 챔버(102) 및 추가의 챔버(104)를 포함한다. 추가의 챔버(104)는 전형적으로, 가요성 재료가 감길 수 있는 와인딩 챔버(winding chamber)이다. 기판(1)은 코팅 드럼(108) 위에서 복수의 가이딩 롤러들(106)에 의해 가이드된다. 전형적인 실시예들에 따르면, 기판(1)이 코팅 드럼(108) 위에서 코팅 챔버(102)를 통과하는 동안에 기판(1)이 프로세싱(예컨대, 코팅)된다.
본원에 기술된 몇몇 실시예들에 따르면, 추가의 챔버는 코팅 드럼에 가요성 재료를 공급하고 추가의 프로세스 디바이스들로 가요성 재료를 이송하기 위한 공급 챔버로서 기능한다. 추가의 챔버 내에 배열된 가이딩 롤러(또한 피드 롤러로 지칭됨)는 가요성 재료를 코팅 드럼으로 지향시키기 위해 사용된다.
코팅 챔버(102)를 추가의 챔버(104)로부터 분리시키기 위하여 코팅 챔버(102)와 추가의 챔버(104) 사이에 챔버 분리 브라켓 또는 벤디드 시트(bended sheet)와 같은 챔버 분리 엘리먼트(110)가 배열된다. 챔버 분리 엘리먼트(110)는, 코팅 드럼(108)의 표면에 평행하게 배열되며 코팅 드럼(108)의 표면과 챔버 분리 엘리먼트(110) 사이에 갭을 형성하는 실드(112)를 포함한다. 실드(112) 내에는, 개구가 존재하여 가스 주입구(114)를 형성한다. 가스 주입구(114)는 산소를 갭 내로 지향시키도록 배열된다. 아르곤과 같은 비활성 가스(inert gas)들과 같은 추가의 가스들이 산소에 추가되어 가스 혼합물을 형성할 수 있다. 그에 의해, 산소의 양이 더욱 쉽게 제어될 수 있다.
본원에 기술된 전형적인 실시예들은 적어도 하나의 챔버 분리 엘리먼트를 포함한다. 챔버 분리 엘리먼트의 전형적인 예시들은 코팅 드럼의 표면에 적어도 부분적으로 평행하게 배열된 실드를 포함하며, 실드는 갭을 형성한다. 실드 내에는, 전형적으로 적어도 하나의 개구가 존재하여 가스 주입구를 형성한다. 몇몇 실시예들은 갭을 형성하는 실드와 관련하여 추가의 실드를 포함한다. 추가의 실드는 가스 주입구를 위한 가드(guard)를 형성할 수 있다. 실드는 고 반응성(highly reactive)의 증발된 제1 재료가 가스 주입구의 파트들에 도달하는 것을 방지한다. 전형적인 실시예들에서, 챔버 분리 엘리먼트는 브라켓으로서 형성되며, 브라켓의 일 파트가 코팅 챔버를 향해 배리어를 형성하고 브라켓의 추가의 파트가 추가의 챔버를 향해 배리어를 형성한다. 효과는, 가스 주입구가 적어도 부분적으로, 고 반응성의 증발된 알루미늄에 대비해 가스 주입구를 실딩(shielding)하는 챔버 분리 브라켓 내에, 캡슐화(encapsulate)될 수 있다는 것이다.
본원에 기술된 몇몇 전형적인 실시예들의 챔버 분리 엘리먼트는 시트 재료 또는 벤디드 시트 재료를 포함하거나 상기 시트 재료 또는 벤디드 시트 재료로 만들어진다. 사용되는 재료는 전형적으로 금속 합금 또는 스테인레스 스틸이다. 그에 의해, 가스 주입구에 대한 상당한 보호가 달성될 수 있다.
금속 필름을 포함하는 코팅의 손상을 방지하기 위하여, 금속층과 같은 제1 재료의 패시베이션은, 가요성 기판들 상에 코팅된 금속 필름들의 제조의 진공내(in-vacuum) 프로세스에서의 전형적인 단계이다. 가능한 손상들은 코팅의 부식 또는 필-오프(peel-off)를 포함할 수 있다. 필-오프는 가요성 기판이 테이크업 롤러로부터 풀릴 때 발생할 수 있다. 따라서, 패시베이션은 전형적으로, 가요성 웨브가 테이크업 롤러에 의해 테이크업되기 전에 진공 대기(vacuum atmosphere) 내에서 수행된다.
전형적인 실시예들은 코팅 챔버 내에서 0.01 mbar, 0.001 mbar의 최대 압력,또는 심지어 0.0005 mbar의 최대 압력을 갖는 진공을 가진다. 코팅 챔버 내의 최소 압력은 전형적으로 0.00001 mbar이다. 추가의 챔버 내에서, 동작 중의 압력은 전형적으로 0.1 mbar 미만 또는 0.05 mbar 미만이다. 코팅 챔버와 추가의 챔버 사이의 상이한 압력은, 공급된 산소가 갭 내에서 코팅 챔버를 향한 방향으로 압박(urge)되는 것을 보장한다. 한가지 효과는, 산소가 영역 내에 도입된다는 것이며, 여기서 코팅의 맨 위 재료층들은, 이 층들의 빌드-업(buid-up)이 이제 막 발생하였거나 심지어 여전히 진행 중이라는 사실로 인하여, 고 반응성이다. 제1 재료의 패시베이션을 향상시키기 위한 플라즈마 소스들, 스퍼터 캐쏘드들 또는 탑 코터(top coater)들과 같은 추가의 디바이스들은 필요하지 않다. 전형적인 실시예들은 플라즈마-소스-프리(plasma-source-free)인 장치를 포함한다. 본원에 기술된 전형적인 실시예들은 패시베이션 프로세스를 위한 추가적인 에너지 소스를 필요로하지 않으며, 단지 단순한 산소의 공급이 필요하다. 산소-플라즈마 디바이스를 생략함으로써 에너지 절약들이 달성될 수 있다. 패시베이션은 보통, 산소-플라즈마-프리(oxygen-plasma-free) 대기 내에서 프로세싱되며, 여기서 산소는 플라즈마를 생성하지 않고 공급된다.
가스 주입구(114)는 갭 내에서 추가의 챔버보다 코팅 챔버에 더 가까이 배열되도록 실드(112) 내에 형성된다. 갭을 따라 가스 주입구(114)로부터 추가의 챔버(104)까지의 거리는 코팅 챔버(102)까지의 거리보다 10 배 길다. 따라서, 산소의 대부분이 코팅 챔버에 도달하며, 여기서 산소가 제1 재료의 증기와 반응하고 패시베이션층이 생성된다.
본원에 기술된 전형적인 실시예들에서, 갭을 따라 가스 주입구로부터 추가의 챔버까지의 거리는, 추가의 챔버까지의 거리보다 적어도 5 배, 전형적으로 적어도 10 배, 또는 심지어 적어도 15 배 길다. 그에 의해, 산소는, 코팅 챔버를 향해, 증발된 알루미늄과 같은 제1 재료가 여전히 고 반응성인 영역 내로 공급된다. 본원에 기술된 실시예들 중 몇몇은 적어도 5 cm 길이 또는 적어도 10 cm 길이, 전형적으로 적어도 15 cm 길이의 갭을 포함한다. 코팅 드럼의 표면과 챔버 분리 엘리먼트 사이의 거리는 전형적으로 적어도 1 mm 또는 적어도 2 mm이다. 코팅 드럼의 표면과 챔버 분리 엘리먼트 사이의 거리는 전형적으로 10 mm를 초과하지 않거나 5 mm를 초과하지 않는다. 좁은 갭은 정밀한 산소 공급을 지원한다. 본원에 기술된 몇몇 실시예들은 갭 너비보다 적어도 10 배, 전형적으로 적어도 20 배 긴 길이를 가진 갭을 제공한다. 그에 의해, 산소가 가스 주입구를 통해 타겟-지향(target-orientate)되어 공급된다.
전형적인 실시예들에서, 가스 주입구는 가요성 기판이 가이딩 롤러 또는 테이크업 롤러(또한 가요성 기판을 감기 위한 와인딩 롤러로 지칭됨)와 같은 다른 롤러에 도달하기 전에 코팅의 패시베이션을 보장하기 위하여 코팅 드럼 근처에 배열된다. 용어 "코팅 드럼 근처"는 코팅 드럼 부근, 예컨대, 코팅 드럼의 표면까지 코팅 드럼의 반경 미만 또는 코팅 드럼의 반경의 20% 미만의 거리 내의 구역을 지칭한다. 코팅 드럼 부근의 가스 주입구는 제1 재료의 증착 직전 또는 직후에 제1 재료의 패시베이션을 가능하게 한다.
기판(1)은 가이딩 롤러들(106) 중 하나에 의해 코팅 드럼(108)을 향해 가이딩된다. 기판(1)은 추가의 챔버(104)로부터 코팅 챔버(102) 내로 통과하여 코팅 드럼(108)의 표면을 터치한다. 기판(1)은, 코팅 챔버(102)를 통과하는 기판(1)의 통로(passage) 상에서, 코팅 드럼(108)에 기대어 놓인다. 코팅 챔버(102) 내에서, 기판(1)은 알루미늄과 같은 제1 재료로 코팅된다.
본원에 기술된 전형적인 실시예들에서, 기판은 알루미늄을 포함하는, 또는 알루미늄으로 구성된 제1 재료로 코팅된다. 제1 재료로서 전형적으로 사용되는 다른 재료들은 주석, 아연, 이리듐, 비스무트 또는 은이다. 전형적인 실시예들에서 명명된 엘리먼트들 중 하나 또는 그 초과를 포함하는 합금들이 제1 재료로서 또한 사용된다.
코팅 챔버(102)를 떠나는 동안, 기판은 갭을 지나가 가스 주입구(114)를 통과한다. 가스 주입구(114) 근처에서, 기판(1)의 코팅이 패시베이팅된다. 패시베이션 후, 기판은 가이딩 롤러들(106) 중의 제2 가이딩 롤러와 접촉하게 된다. 패시베이션으로 인하여, 기판(1)이 가이딩 롤러들(106) 중의 제2 가이딩 롤러를 터치할 때, 기판(1)에 전혀 손상이 발생하지 않는다.
전형적인 실시예들에 따르면, 가요성 기판은, CPP 필름(즉, 캐스팅 폴리프로필렌(casting polypropylene) 필름), OPP 필름(즉, 오리엔티드 폴리프로필렌(oriented polypropylene) 필름), 또는 PET 필름(즉, 오리엔티드 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름)을 포함하지만, 이들로 한정되는 것은 아니다. 대안적으로, 가요성 기판은 예비-코팅된(pre-coated) 종이, 폴리프로필렌(PP) 필름, PEN 필름, 폴리 락타아제 아세테이트(PLA) 필름, 또는 PVC 필름일 수 있다. 전형적인 실시예들에 따르면, 가요성 기판은 50 ㎛, 더 구체적으로는 5 ㎛, 또는 심지어 더 구체적으로는 2 ㎛ 미만의 두께를 가진다. 예를 들어, 가요성 기판은 20 ㎛ OPP 기판이거나 12 ㎛ PET 기판일 수 있다. 본원에 기술된 실시예들은 또한, 가요성 기판이 2 ㎛, 또는 그 미만(예컨대, 0.7 ㎛)의 두께를 가지는 초박막인 것을 고려한다. 전형적인 실시예들에 따르면, 시스템의 엘리먼트들은, 기판이 본원에 기술된 바와 같이 프로세싱될 수 있도록, 가요성 기판에 따라 적절하게 구성된다. PET, OPP, CPP와 같은 가요성 기판들은 제1 재료(예컨대, 알루미늄)의 층과 기판 사이에 양호한 본딩을 제공한다. 패시베이팅된 층은 접착 촉진제(adhesions promoter)로서 사용될 수 있다. 이러한 목적을 위해, 예컨대, 코팅 챔버의 진입측(entry side)에 있는 챔버 분리 엘리먼트에서, 코팅 프로세스의 시작 전에 또는 코팅 프로세스의 시작 시에 산소가 공급된다.
본 발명의 실시예들의 추가의 양상이 도 2와 관련하여 예시된다. 앞서 도 1에서 도시된 바와 같이, 도 2는 가요성 기판을 패시베이팅하기 위한 장치(100)를 도시한다. 그러나, 도 2에 도시된 장치는 추가의 챔버 분리 엘리먼트(120)와 같은 추가적인 피쳐들을 포함한다. 추가의 챔버 분리 엘리먼트(120)는 코팅 챔버(120)와 추가의 챔버(104) 사이에 배열된다. 추가의 챔버 분리 엘리먼트(120)는 제1 챔버 분리 엘리먼트(110)에 미러링되어(mirrored) 코팅 드럼(108)의 대향 측에 배열된다.
추가의 챔버 분리 엘리먼트(120)는 추가의 실드(122)를 포함하는바, 추가의 가스 주입구(124)가 추가의 실드(122) 내에 배열된다. 추가의 챔버 분리 엘리먼트(120)는 코팅 드럼(108)과 함께 추가의 갭을 형성한다. 추가의 가스 주입구(124)에 산소를 공급함으로써, 기판(1) 상의 코팅의 하부 면(lower side)의 패시베이션이 달성된다.
추가의 챔버 분리 엘리먼트는 전형적으로, 챔버 분리 엘리먼트처럼 배열된다. 위에서 언급된 전형적인 갭 치수들이 추가의 갭에도 마찬가지로 적용된다. 본원에 기술된 전형적인 실시예들에 따르면, 추가의 가스 주입구는 추가의 챔버보다 코팅 챔버에 더 가까이 배열된다. 그에 의해, 증발된 알루미늄과 같은 고 반응성 제1 재료 갖는 영역 내로의 산소의 전달이 달성된다. 본원에 기술된 몇몇 실시예들은 코팅 드럼의 진입측에 챔버 분리 엘리먼트를 포함한다. 본원에 기술된 몇몇 추가의 실시예들은 코팅 드럼의 출구측(exit side)에 챔버 분리 엘리먼트를 포함한다. 심지어 추가의 실시예들은 두 개의 챔버 분리 엘리먼트들(그 중 하나가 진입측에 위치되고 그 중 다른 하나가 출구측에 위치되됨)을 포함한다. 그에 의해, 코팅의 2-면(two-side) 패시베이션이 달성될 수 있다. 두 개의 패시베이션 층들에 의해 샌드위치된 코팅 재료를 갖는 층 스택(예컨대, AlOx-Al-AlOx)이 단 하나의 코팅 챔버 또는 코팅 존(zone) 내에서 동시에 그리고 높은 웨브 속도로 생산될 수 있다. 여기서, 표현 "진입측"은, 전형적으로 챔버 분리 엘리먼트와 코팅 드럼에 의해 형성될 수 있는 갭을 통해, 기판이 코팅 챔버 내로 진입하는 구역을 지칭한다. 표현 "출구측"은, 전형적으로 챔버 분리 엘리먼트와 코팅 드럼에 의해 형성될 수 있는 갭을 통해, 기판이 코팅 챔버를 떠나는 구역을 지칭한다.
전형적인 실시예들에 따르면, 산소의 공급을 포함하는 패시베이션 단계가 가요성 기판 위로 제1 재료를 증착한 직후에 수행된다. 전형적으로, 가요성 기판 바로 옆의(next to) 제1 재료의 층을 패시베이팅하기 위하여, 가요성 기판 위로 제1 재료를 증착하기 직전에 산소가 추가적으로 공급될 수 있다. 코팅 단계 직전에 코팅 드럼 부근에 산소를 공급하는 것은 가요성 기판과 나머지 제1 재료 사이에 패시베이팅된 층을 제공한다. 이렇게 함으로써, 코팅과 가요성 재료 사이의 본딩이 향상될 수 있다.
도 2에 도시된 장치(100)는 추가의 챔버 내에 와인딩 롤러(130)를 포함한다. 따라서, 추가의 챔버(104)가 또한 와인딩 챔버로 지칭될 수 있다. 와이딩 롤러(130)는 기판(1)이 가스 주입구(114)를 통과하여 갭을 통해 코팅 챔버(102)를 떠난 후에 기판(1)을 테이크업한다. 갭과 와인딩 롤러(130) 사이에서, 기판이 가이딩 롤러들(106) 중 하나를 통과한다.
본원에 기술된 전형적인 실시예들은 추가의 챔버 내에 위치된 와인딩 디바이스로서 와인딩 롤러를 포함한다. 추가의 챔버는 따라서 와인딩 챔버로 지칭될 수 있다. 코팅 챔버 내에서의 코팅 프로세스 후에 가요성 기판의 간편한 처리(easy handling)을 위해 가요성 기판이 와인딩 롤러 위로 롤업(roll-up)된다.
도 2에 도시된 예시적인 실시예에서, 제1 재료를 포함하는 코팅으로 가요성 기판(1)을 코팅하기 위해 증발 소스(134)가 제공된다. 증발 소스는 가요성 기판(1)을 갖는 코팅 드럼(108)의 표면을 향해 지향되는 증발 빔(136)을 생성한다. 그에 의해, 가요성 기판(1)이 제1 재료(예컨대, 알루미늄)로 코팅되도록, 증발된 제1 재료가 가요성 기판(1)에 도입된다. 이동가능한 커버 플레이트(138)가 코팅 프로세스를 시작하기 전에 증발 소스를 덮기 위해 증발 소스(134) 위로 이동될 수 있다. 커버 플레이트(138)는 가요성 기판(1)이 코팅 드럼(108)의 표면 위에 존재하지 않을 때 코팅 드럼(108)을 보호한다.
본원에 기술된 몇몇 실시예들은 기판(1) 위의 패시베이션층의 두께를 측정하기 위한 측정 디바이스(140)를 포함한다. 측정 디바이스(140)는 전형적으로 추가의 챔버 내에서 기판(1)의 경로 근처에 배열된다. 그에 의해, 가스 주입구(114)를 통해 공급되는 산소의 양을 조정하기 위해, 패시베이션층의 측정된 두께가 디폴트 두께와 비교될 수 있다.
본원에 기술된 실시예들 중 임의의 실시예와 결합될 수 있는 상이한 실시예들에 따르면, 코팅은 열 증발(thermal evaporation) 또는 전자 빔 증발일 수 있다. 코팅 유닛은, 예를 들어, 코팅된 층의 개선된 균일성을 촉진하기 위하여, 스태거드 보트 증발기들(staggered boat evaporator)로 구성될 수 있다.
도 3에서, 실시예에 따른 코팅의 층들의 적층된 배열의 개략적인 단면도가 도시된다. 가요성 기판(1) 상의 코팅은 AlOx를 포함하는 제1 패시베이팅된 층(151), Al-층(152), 및 AlOx를 포함하는 제2 패시베이팅된 층(153)을 포함한다. 제1 패시베이팅된 층(151)은 가요성 기판(1) 근처에 있고 가요성 기판(1)에 코팅을 본딩하는 본딩층으로 지칭될 수 있다. 제2 패시베이팅된 층(153)은 기판(1)의 코팅을 보호한다. 도 3의 기판(1)은 도 2와 관련한 설명에 따른 장치를 사용하여, 단 하나의 코팅 챔버를 사용하여 단 하나의 코팅 프로세스에서 높은 밴드 속도로 생산될 수 있다. 그럼으로써, 에너지 및 시간이 절약될 수 있다.
전형적으로, 제1 패시베이팅된 층은, 산소가 증발 소스 위에서 증기에 혼합될 수 있도록 코팅 존의 시작부에서 추가의 가스 주입구를 통해 산소를 공급함으로써 생산된다. 제2 패시베이팅된 층은, 코팅 존의 단부(end)에서 가스 주입구를 통해 산소를 공급함으로써 생산된다. 코팅 존의 중간(즉, 증발 소스의 중간 영역 바로 위)에서, 순수한 제1 재료(예컨대, Al)가 적층된 층 배열(예컨대, AlOx-Al-AlOx)의 중간층을 형성한다.
또한 추가의 실시예들에 따르면, 장치를 동작시키는 방법들, 특히 코팅을 패시베이팅하는 방법이 제공된다. 예시적인 흐름 차트가 도 4에 개략적으로 도시된다. 본원에 기술된 예시적인 방법은 도 1에 도시된 장치를 사용하여 수행된다. 단계(202)에서, 기판 위에 증착될 재료가 증발되는 코팅 챔버 내에 가요성 기판이 도입된다. 코팅 존의 단부에서, 기판이 챔버 분리 엘리먼트와 코팅 드럼 사이의 갭 내로 진입한다. 단계(204)에서, 가스 주입구를 통해 갭 내로 산소가 공급된다. 따라서, 갭의 시작부에 있는 진입 영역에서, 패시베이션층(예컨대, AlOx)이 코팅 위에 형성되도록, 제1 재료(예컨대, 알루미늄)의 증기가 산소와 혼합된다. 단계(206)에서, 가요성 기판이 갭을 떠나 추가의 챔버로 진입한다. 단계(208)에서, 측정 디바이스를 사용하여 코팅의 패시베이션층의 두께가 측정된다. 단계(210)에서, 측정된 두께가 디폴트 두께와 비교된다. 단계(210)에서, 측정된 두께와 디폴트 두께의 비교에 따라 가스 주입구를 통해 공급되는 산소의 양이 제어된다. 그에 의해, 디폴트 두께에 따른 패시베이션층의 두께가 보장될 수 있다.
기판을 프로세싱하기 위한 시스템들 및 방법들의 예시적인 실시예들이 위에서 상세히 기술된다. 시스템들 및 방법들은 본원에 기술된 구체적인 실시예들로 한정되지 않으며, 오히려, 시스템들의 컴포넌트들 및/또는 방법들의 단계들이 본원에 기술된 다른 컴포넌트들 및/또는 단계들로부터 독립적으로 그리고 별도로 이용될 수 있다. 예를 들어, STS 롤러들 및 스프레더(spreader) 롤러들과 같은 웨브 가이딩 롤러들의 상이한 조합들이 제1 롤러와 프로세싱 드럽의 상류(upstream)에 배치될 수 있다.
챔버 내에서 진공 조건이 유지되는 동안에 챔버 내로 기판의 유입을 촉진하도록 적응된 입구(entrance)가 프로세싱 챔버 내의 진공 챔버 부분에 제공될 수 있다. 대안적으로, 언와인딩 및 와인딩 롤러들을 포함하는 전체적인 롤-투-롤(roll-to-rll) 시스템이 진공 챔버 내에 포함될 수 있다.
상술한 것은 본 발명의 실시예들에 관한 것이지만, 본 발명의 다른 및 추가 실시예들이 본 발명의 기본 범위를 벗어나지 않으면서 안출될 수 있고, 본 발명의 범위는 하기의 청구항들에 의해 결정된다.
Claims (15)
- 가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 장치로서,
- 상기 가요성 기판을 코팅하기 위한 코팅 챔버;
- 챔버 분리 엘리먼트 ― 상기 챔버 분리 엘리먼트는 상기 코팅 챔버를 추가의 챔버로부터 분리하도록 배열됨 ― ;
- 코팅 드럼 ― 상기 코팅 드럼과 상기 챔버 분리 엘리먼트는 갭을 형성함 ― ; 및
- 가스 주입구 ― 상기 가스 주입구는 상기 갭 내로 산소를 공급하기 위해 상기 챔버 분리 엘리먼트 내에 배열됨 ―
를 포함하는,
가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 가스 주입구는 상기 챔버 분리 엘리먼트 내에서 상기 추가의 챔버보다 상기 코팅 챔버에 더 가까이 배열되는,
가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 장치. - 선행하는 청구항들 중 임의의 한 항에 있어서,
상기 가스 주입구는, 동작 중에 제1 재료의 층 및 반응적으로 산화된 제1 재료의 산화물층을 포함하는 적층된 층들이 상기 가요성 기판 상에 형성되도록 배열되는,
가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 장치. - 선행하는 청구항들 중 임의의 한 항에 있어서,
상기 코팅 챔버는 증발 소스를 위한 지지부(support)를 포함하고, 상기 증발 소스는 상기 코팅 드럼의 증착 영역 내에서 상기 가요성 기판을 코팅하기 위해 상기 제1 재료의 증기를 제공하고, 상기 증착 영역은 상기 챔버 분리 엘리먼트 근처에 배열되는,
가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 장치. - 선행하는 청구항들 중 임의의 한 항에 있어서,
추가의 챔버 분리 엘리먼트를 포함하며, 상기 추가의 챔버 분리 엘리먼트는 상기 코팅 챔버와 상기 추가의 챔버 사이에 배열되고, 추가의 가스 주입구가 상기 추가의 챔버 분리 엘리먼트 내에 배열되는,
가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 장치. - 제 5 항에 있어서,
상기 코팅 드럼은 상기 챔버 분리 엘리먼트와 상기 추가의 챔버 분리 엘리먼트 사이에 배열되고, 상기 코팅 드럼과 상기 추가의 챔버 분리 엘리먼트가 추가의 갭을 형성하는,
가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 장치. - 선행하는 청구항들 중 임의의 한 항에 있어서,
갭 길이는 갭 폭의 적어도 10 배인,
가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 장치. - 선행하는 청구항들 중 임의의 한 항에 있어서,
상기 가스 주입구는 상기 추가의 챔버보다 상기 코팅 챔버에 적어도 5 배 더 가까이 배열되는,
가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 장치. - 선행하는 청구항들 중 임의의 한 항에 있어서,
상기 챔버 분리 엘리먼트는 브라켓으로서 형성되는,
가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 장치. - 선행하는 청구항들 중 임의의 한 항에 있어서,
상기 추가의 챔버는 상기 가요성 기판을 감기 위한 와인딩(winding) 장치를 포함하는,
가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 장치. - 선행하는 청구항들 중 임의의 한 항에 있어서,
가요성 재료가 웨브(web)인,
가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 장치. - 장치 내에서 가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 방법으로서,
상기 장치는, 상기 가요성 기판을 코팅하기 위한 코팅 챔버; 챔버 분리 엘리먼트 ― 상기 챔버 분리 엘리먼트는 상기 코팅 챔버를 추가의 챔버로부터 분리하도록 배열됨 ― ; 코팅 드럼 ― 상기 코팅 드럼과 상기 챔버 분리 엘리먼트는 갭을 형성함 ― ; 및 가스 주입구 ― 상기 가스 주입구는 상기 챔버 분리 엘리먼트 내에 배열됨 ― 를 포함하고;
- 상기 가스 주입구를 통해 상기 갭 내로 산소를 공급하는 단계를 포함하는,
장치 내에서 가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 방법. - 제 12 항에 있어서,
- 상기 코팅 드럼의 증착 영역 내에서 상기 가요성 기판을 코팅하기 위해 증발 소스로부터 제1 재료를 증발시키는 단계 ― 상기 증착 영역은 상기 챔버 분리 엘리먼트 근처에 배열됨 ―
를 더 포함하는,
장치 내에서 가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 방법. - 제 12 항 또는 제 13 항에 있어서,
- 상기 가요성 기판 상의 반응적으로 산화된 제1 재료의 형성된 산화물층의 두께를 결정하는 단계;
- 상기 결정된 두께를 디폴트 두께와 비교하는 단계; 및
- 상기 가스 주입구에 공급되는 산소의 양을 제어하는 단계
를 더 포함하는,
장치 내에서 가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 방법. - 제 13 항 내지 제 15 항 중 임의의 한 항에 있어서,
상기 제1 재료는 알루미늄을 포함하는,
장치 내에서 가요성 기판의 코팅을 패시베이팅하기 위한 방법.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| PCT/EP2011/056877 WO2012146310A1 (en) | 2011-04-29 | 2011-04-29 | Devices and methods for passivating a flexible substrate in a coating process |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| KR20140029470A true KR20140029470A (ko) | 2014-03-10 |
Family
ID=44626047
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| KR1020137031669A KR20140029470A (ko) | 2011-04-29 | 2011-04-29 | 코팅 프로세스에서 가요성 기판을 패시베이팅하기 위한 디바이스들 및 방법들 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20140178568A1 (ko) |
| EP (2) | EP2702187B1 (ko) |
| JP (1) | JP5964411B2 (ko) |
| KR (1) | KR20140029470A (ko) |
| CN (1) | CN103502506B (ko) |
| WO (1) | WO2012146310A1 (ko) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160141840A (ko) * | 2014-04-04 | 2016-12-09 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 가요성 기판을 프로세싱하기 위한 장치 및 그러한 장치의 프로세싱 챔버를 세정하기 위한 방법 |
| CN111108640A (zh) * | 2017-09-20 | 2020-05-05 | 应用材料公司 | 通过蒸发形成电化电池的元件的方法 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| GB2529649B (en) * | 2014-08-27 | 2016-07-27 | Bobst Manchester Ltd | Vacuum coaters and methods of operating a vacuum coater |
| GB2559685B (en) | 2015-03-10 | 2019-06-12 | Bobst Manchester Ltd | Vacuum Coater For Coating A Web |
| US10727073B2 (en) | 2016-02-04 | 2020-07-28 | Lam Research Corporation | Atomic layer etching 3D structures: Si and SiGe and Ge smoothness on horizontal and vertical surfaces |
| US10566212B2 (en) | 2016-12-19 | 2020-02-18 | Lam Research Corporation | Designer atomic layer etching |
| US10559461B2 (en) | 2017-04-19 | 2020-02-11 | Lam Research Corporation | Selective deposition with atomic layer etch reset |
| US10832909B2 (en) * | 2017-04-24 | 2020-11-10 | Lam Research Corporation | Atomic layer etch, reactive precursors and energetic sources for patterning applications |
| US10796912B2 (en) | 2017-05-16 | 2020-10-06 | Lam Research Corporation | Eliminating yield impact of stochastics in lithography |
| CN107177820B (zh) * | 2017-06-12 | 2019-05-24 | 哈尔滨光宇电源股份有限公司 | 高速连续卷绕式真空蒸镀锂设备及利用其实现基材蒸镀锂的方法 |
| JP7378838B2 (ja) | 2018-11-09 | 2023-11-14 | 星耀科技（深▲せん▼）有限公司 | エネルギー貯蔵素子の集電体及びエネルギー貯蔵素子の集電体の製造方法 |
| CN110055378B (zh) * | 2019-05-17 | 2023-04-21 | 东台艺新金属材料有限公司 | 锯条的回火工艺 |
| WO2024022578A1 (en) * | 2022-07-26 | 2024-02-01 | Applied Materials, Inc. | Processing apparatus for processing a flexible substrate and methods therefor |
Family Cites Families (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3615487A1 (de) * | 1986-05-07 | 1987-11-19 | Helmuth Schmoock | Vorrichtung zur gleichmaessigen metallisierung von folien |
| JP2623160B2 (ja) * | 1990-09-07 | 1997-06-25 | 富士写真フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| CH683776A5 (de) * | 1991-12-05 | 1994-05-13 | Alusuisse Lonza Services Ag | Beschichten einer Substratfläche mit einer Permeationssperre. |
| DE4203631C2 (de) * | 1992-02-08 | 2000-06-08 | Leybold Ag | Vorrichtung für die Behandlung einer Oxidschicht |
| DE4308632B4 (de) * | 1993-03-18 | 2007-10-04 | Applied Materials Gmbh & Co. Kg | Verfahren und Vorrichtung zum Nachbehandeln von Aluminium-beschichteten Kunststoff-Folien |
| DE19543781A1 (de) * | 1995-11-24 | 1997-05-28 | Leybold Ag | Vakuumbeschichtungsanlage mit einem in der Vakuumkammer angeordneten Tiegel zur Aufnahme von zu verdampfendem Material |
| US7291185B2 (en) * | 2001-06-08 | 2007-11-06 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | Method of manufacturing both-side metallized film with reduced blocking of metallized film and metallized film capacitor using the same |
| US7807232B2 (en) * | 2006-01-18 | 2010-10-05 | Sigma Laboratories Of Arizona, Llc | Inline passivation of vacuum-deposited aluminum on web substrate |
| DE10312658A1 (de) * | 2003-03-21 | 2004-09-30 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Beschichtung flexibler Substrate mit Aluminium |
-
2011
- 2011-04-29 KR KR1020137031669A patent/KR20140029470A/ko active Search and Examination
- 2011-04-29 CN CN201180070477.1A patent/CN103502506B/zh active Active
- 2011-04-29 US US14/114,516 patent/US20140178568A1/en not_active Abandoned
- 2011-04-29 JP JP2014506773A patent/JP5964411B2/ja active Active
- 2011-04-29 WO PCT/EP2011/056877 patent/WO2012146310A1/en active Application Filing
- 2011-04-29 EP EP11716575.3A patent/EP2702187B1/en active Active
- 2011-04-29 EP EP18196548.4A patent/EP3441503B1/en active Active
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20160141840A (ko) * | 2014-04-04 | 2016-12-09 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 가요성 기판을 프로세싱하기 위한 장치 및 그러한 장치의 프로세싱 챔버를 세정하기 위한 방법 |
| CN111108640A (zh) * | 2017-09-20 | 2020-05-05 | 应用材料公司 | 通过蒸发形成电化电池的元件的方法 |
| KR20200056418A (ko) * | 2017-09-20 | 2020-05-22 | 어플라이드 머티어리얼스, 인코포레이티드 | 증발에 의해 전기화학 셀의 컴포넌트를 형성하는 방법 |
| CN111108640B (zh) * | 2017-09-20 | 2023-08-18 | 应用材料公司 | 处理腔室及用于形成电化学能储存装置的元件的陶瓷层的方法、蒸发源 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2702187B1 (en) | 2018-11-14 |
| WO2012146310A1 (en) | 2012-11-01 |
| JP2014521829A (ja) | 2014-08-28 |
| EP3441503B1 (en) | 2023-08-23 |
| CN103502506A (zh) | 2014-01-08 |
| EP2702187A1 (en) | 2014-03-05 |
| US20140178568A1 (en) | 2014-06-26 |
| CN103502506B (zh) | 2016-06-08 |
| EP3441503C0 (en) | 2023-08-23 |
| EP3441503A1 (en) | 2019-02-13 |
| JP5964411B2 (ja) | 2016-08-03 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP3441503B1 (en) | Devices and methods for passivating a flexible substrate in a coating process | |
| JP5312351B2 (ja) | 帯材状の基板を真空処理するための処理装置 | |
| JP5774772B2 (ja) | 反応性堆積プロセスのためのガスシステム | |
| US7807232B2 (en) | Inline passivation of vacuum-deposited aluminum on web substrate | |
| US8425738B2 (en) | Method for depositing of barrier layers on a plastic substrate as well as coating device therefor and a layer system | |
| WO2005049883A1 (ja) | 巻取式真空蒸着方法及び巻取式真空蒸着装置 | |
| US20160045934A1 (en) | Method for processing a flexible substrate | |
| US20110274838A1 (en) | System and process for the continuous vacuum coating of a material in web form | |
| CN106893134B (zh) | 用于处理柔性基板的方法 | |
| US20170313046A1 (en) | Manufacturing method for laminated body | |
| US20110052891A1 (en) | Gas barrier film and method of producing the same | |
| WO2015170499A1 (ja) | 薄膜形成装置 | |
| JP2011519318A (ja) | 透明バリア層システム | |
| US10081866B2 (en) | Evaporation apparatus with gas supply | |
| SE536952C2 (sv) | Kontinuerlig rulle-till-rulle-anordning | |
| GB2559685B (en) | Vacuum Coater For Coating A Web | |
| EP2990502B1 (en) | Vacuum coaters and methods of operating a vacuum coater | |
| JP2009179837A (ja) | 巻取り式蒸着装置及び巻取り式蒸着方法並びにバリアフィルム | |
| JP2009275251A (ja) | 成膜装置および成膜方法 | |
| GB2571255A (en) | Film lamination process | |
| JP2014074221A (ja) | 真空成膜装置及び真空成膜方法 | |
| JP2010215957A (ja) | 巻取り式蒸着装置及び巻取り式蒸着方法並びにバリアフィルム | |
| WO2024022578A1 (en) | Processing apparatus for processing a flexible substrate and methods therefor | |
| JP6419428B2 (ja) | 差動排気システム | |
| KR20230051804A (ko) | 스퍼터링과 열증착을 이용한 롤투롤 진공 증착 장치 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| AMND | Amendment | ||
| AMND | Amendment | ||
| AMND | Amendment | ||
| A302 | Request for accelerated examination | ||
| E902 | Notification of reason for refusal | ||
| AMND | Amendment | ||
| E601 | Decision to refuse application | ||
| AMND | Amendment | ||
| J201 | Request for trial against refusal decision | ||
| J301 | Trial decision |
Free format text: TRIAL NUMBER: 2017101001606; TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20170403 Effective date: 20170722 |