JP2623160B2 - 磁気記録媒体 - Google Patents
磁気記録媒体Info
- Publication number
- JP2623160B2 JP2623160B2 JP2238325A JP23832590A JP2623160B2 JP 2623160 B2 JP2623160 B2 JP 2623160B2 JP 2238325 A JP2238325 A JP 2238325A JP 23832590 A JP23832590 A JP 23832590A JP 2623160 B2 JP2623160 B2 JP 2623160B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- metal thin
- magnetic recording
- ferromagnetic metal
- recording medium
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
- 230000005291 magnetic effect Effects 0.000 title claims description 62
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 61
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 57
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 57
- 230000005294 ferromagnetic effect Effects 0.000 claims description 37
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 16
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 16
- 229910018916 CoOOH Inorganic materials 0.000 claims description 11
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 11
- 238000002233 thin-film X-ray diffraction Methods 0.000 claims description 6
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 32
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 20
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 20
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 14
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 11
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000010408 film Substances 0.000 description 11
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 10
- -1 fatty acid esters Chemical class 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 8
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 8
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 8
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 6
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 5
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 5
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 5
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 4
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 4
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 4
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 4
- 230000002829 reductive effect Effects 0.000 description 4
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 4
- 229910020630 Co Ni Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910002440 Co–Ni Inorganic materials 0.000 description 3
- MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N Dioxygen Chemical compound O=O MYMOFIZGZYHOMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 3
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N Nitrous Oxide Chemical compound [O-][N+]#N GQPLMRYTRLFLPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MVLVMROFTAUDAG-UHFFFAOYSA-N ethyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC MVLVMROFTAUDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 125000005313 fatty acid group Chemical class 0.000 description 2
- BXWNKGSJHAJOGX-UHFFFAOYSA-N hexadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCO BXWNKGSJHAJOGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 2
- 230000005415 magnetization Effects 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N octadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCO GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 2
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 2
- DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N (R)-(-)-Propylene glycol Chemical group C[C@@H](O)CO DNIAPMSPPWPWGF-GSVOUGTGSA-N 0.000 description 1
- LDVVTQMJQSCDMK-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydroxypropan-2-yl formate Chemical compound OCC(CO)OC=O LDVVTQMJQSCDMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910020599 Co 3 O 4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020598 Co Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000531 Co alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910002519 Co-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910020707 Co—Pt Inorganic materials 0.000 description 1
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- 229910003271 Ni-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 1
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 1
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 1
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- 239000000443 aerosol Substances 0.000 description 1
- 150000008431 aliphatic amides Chemical group 0.000 description 1
- 125000000217 alkyl group Chemical class 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 1
- 238000003421 catalytic decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229960000541 cetyl alcohol Drugs 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 150000001869 cobalt compounds Chemical class 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000000356 contaminant Substances 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- TUTWLYPCGCUWQI-UHFFFAOYSA-N decanamide Chemical compound CCCCCCCCCC(N)=O TUTWLYPCGCUWQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000005347 demagnetization Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N dodecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(N)=O ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004991 fluoroalkenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 1
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 1
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 1
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 1
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N n-heptadecyl alcohol Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCO GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004767 nitrides Chemical class 0.000 description 1
- 239000001272 nitrous oxide Substances 0.000 description 1
- LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N octadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 238000006385 ozonation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000002161 passivation Methods 0.000 description 1
- MOQRZWSWPNIGMP-UHFFFAOYSA-N pentyl octadecanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCCCCC MOQRZWSWPNIGMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical class [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 1
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 150000004671 saturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000003441 saturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000000682 scanning probe acoustic microscopy Methods 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N tetradecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC[14C](O)=O TUNFSRHWOTWDNC-HKGQFRNVSA-N 0.000 description 1
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/0021—Reactive sputtering or evaporation
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/08—Oxides
- C23C14/085—Oxides of iron group metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
- C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
- C23C14/20—Metallic material, boron or silicon on organic substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/584—Non-reactive treatment
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/58—After-treatment
- C23C14/5846—Reactive treatment
- C23C14/5853—Oxidation
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/64—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent
- G11B5/65—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition
- G11B5/658—Record carriers characterised by the selection of the material comprising only the magnetic material without bonding agent characterised by its composition containing oxygen, e.g. molecular oxygen or magnetic oxide
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/84—Processes or apparatus specially adapted for manufacturing record carriers
- G11B5/85—Coating a support with a magnetic layer by vapour deposition
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10S428/90—Magnetic feature
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12493—Composite; i.e., plural, adjacent, spatially distinct metal components [e.g., layers, joint, etc.]
- Y10T428/12771—Transition metal-base component
- Y10T428/12861—Group VIII or IB metal-base component
- Y10T428/12931—Co-, Fe-, or Ni-base components, alternative to each other
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/26—Web or sheet containing structurally defined element or component, the element or component having a specified physical dimension
- Y10T428/263—Coating layer not in excess of 5 mils thick or equivalent
- Y10T428/264—Up to 3 mils
- Y10T428/265—1 mil or less
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は磁気記録媒体、特に耐蝕性を向上せしめた高
出力の強磁性金属薄膜型磁気記録媒体に関するものであ
る。
出力の強磁性金属薄膜型磁気記録媒体に関するものであ
る。
（従来の技術） 磁気記録媒体としては、非磁性支持体上に粉末磁性材
料を有機バインダー等と共に塗布し、乾燥して磁性層を
形成せしめた、いわゆる塗布型磁気記録媒体が広く使用
されてきた。
料を有機バインダー等と共に塗布し、乾燥して磁性層を
形成せしめた、いわゆる塗布型磁気記録媒体が広く使用
されてきた。
しかしながら、近年、高密度記録への要求が高まって
おり、従来の塗布型磁気記録媒体ではその要求に充分に
対応することができなくなってきている。
おり、従来の塗布型磁気記録媒体ではその要求に充分に
対応することができなくなってきている。
そこで、高密度記録用の磁気記録媒体として、真空蒸
着法やスパッタ法等の真空成膜法によって非磁性支持体
上に強磁性金属薄膜を形成してなる、いわゆる金属薄膜
型磁気記録媒体が開発され、その実用化が促進されてい
る。
着法やスパッタ法等の真空成膜法によって非磁性支持体
上に強磁性金属薄膜を形成してなる、いわゆる金属薄膜
型磁気記録媒体が開発され、その実用化が促進されてい
る。
金属薄膜型磁気記録媒体は抗磁力や角形比が大きく、
短波長記録における電磁変換特製に優れ、また磁性層の
厚さが極めて薄いために記録減磁や再生時の厚み損失が
少ない等、高密度記録用の磁気記録媒体として優れた特
性を有している。
短波長記録における電磁変換特製に優れ、また磁性層の
厚さが極めて薄いために記録減磁や再生時の厚み損失が
少ない等、高密度記録用の磁気記録媒体として優れた特
性を有している。
その中でもCo系合金を磁性層とする金属薄膜型磁気記
録媒体は磁気記録特性が良好であり、好ましいものであ
る。特に、Co80Ni20合金をO2で斜め蒸着して得られる金
属薄膜型磁気記録媒体はいわゆる「蒸着テープ」として
知られ、広く用いられている。
録媒体は磁気記録特性が良好であり、好ましいものであ
る。特に、Co80Ni20合金をO2で斜め蒸着して得られる金
属薄膜型磁気記録媒体はいわゆる「蒸着テープ」として
知られ、広く用いられている。
また、Co−CoO系磁性薄膜に垂直磁化異方性を付与せ
しめた金属薄膜型磁気記録媒体も高密度の記録方式とし
て有望な垂直磁気記録用媒体として鋭意実用化が検討さ
れている。
しめた金属薄膜型磁気記録媒体も高密度の記録方式とし
て有望な垂直磁気記録用媒体として鋭意実用化が検討さ
れている。
しかしながら、Co系合金を磁性層とする金属薄膜型磁
気記録媒体は、Coが耐蝕性の充分な元素でないために、
その薄膜の表面が結露したり、あるいは腐蝕性ガスを含
んだ雰囲気中に置かれたりすると錆が発生して磁気特性
が劣化したり、また走行中にヘッド目詰まりを起こした
りした。この問題を改良するためにNiやCrなどの元素を
添加することにより、あるいは酸化物を混入せしめるこ
とにより、耐蝕性の向上を図ることが試みられてきた。
しかしながら、未だにその効果は充分なものではなく、
特に、前記添加物による耐蝕性の改良は磁気特性の劣化
を伴いやすく、電磁変換特性との両立は困難であった。
例えば、初期の蒸着テープは大気中に自然放置しておく
だけで錆が発生したり、一年程度の経時で磁束量が約半
分に減少してしまうといった問題があり、記録保存性と
いう観点において実用性が懸念されるものであった。
気記録媒体は、Coが耐蝕性の充分な元素でないために、
その薄膜の表面が結露したり、あるいは腐蝕性ガスを含
んだ雰囲気中に置かれたりすると錆が発生して磁気特性
が劣化したり、また走行中にヘッド目詰まりを起こした
りした。この問題を改良するためにNiやCrなどの元素を
添加することにより、あるいは酸化物を混入せしめるこ
とにより、耐蝕性の向上を図ることが試みられてきた。
しかしながら、未だにその効果は充分なものではなく、
特に、前記添加物による耐蝕性の改良は磁気特性の劣化
を伴いやすく、電磁変換特性との両立は困難であった。
例えば、初期の蒸着テープは大気中に自然放置しておく
だけで錆が発生したり、一年程度の経時で磁束量が約半
分に減少してしまうといった問題があり、記録保存性と
いう観点において実用性が懸念されるものであった。
金属薄膜型磁気記録媒体の耐蝕性を向上させる手段と
して、非磁性支持体上に形成された磁性層中の全構成原
子中に占める酸素原子の割合を規定し、磁性層あるいは
磁性層を形成する柱状粒子の表面を酸化被膜で保護しよ
うとする試みが特開昭56−15014号、特開昭57−179951
号等に提案されている。
して、非磁性支持体上に形成された磁性層中の全構成原
子中に占める酸素原子の割合を規定し、磁性層あるいは
磁性層を形成する柱状粒子の表面を酸化被膜で保護しよ
うとする試みが特開昭56−15014号、特開昭57−179951
号等に提案されている。
他の手段としては、強磁性金属薄膜表面に非晶質コバ
ルト化合物の不動態膜を生成させると耐蝕性が改善され
ることが特開昭62−275316号に開示されている。また、
強磁性金属薄膜表面にCo3O4の不動態膜を形成する方法
が特開昭60−160027号に提案されている。
ルト化合物の不動態膜を生成させると耐蝕性が改善され
ることが特開昭62−275316号に開示されている。また、
強磁性金属薄膜表面にCo3O4の不動態膜を形成する方法
が特開昭60−160027号に提案されている。
しかしながら、これら従来の技術では金属薄膜の耐蝕
性を充分に改善することはできないか、あるいは充分な
効果を挙げるためにはこれらの非磁性層を厚くせねばな
らず、スペーシングロスの増大をもたらし、電磁変換特
性が劣化したりした。また、腐食による磁性層の変化に
ついても明確に認識されていなかった。
性を充分に改善することはできないか、あるいは充分な
効果を挙げるためにはこれらの非磁性層を厚くせねばな
らず、スペーシングロスの増大をもたらし、電磁変換特
性が劣化したりした。また、腐食による磁性層の変化に
ついても明確に認識されていなかった。
一方、「日本応用磁気学会誌」1990年第14号No.2に
は、磁性薄膜表面に存在するCoOとCo（OH）２が酸素と
反応してCo（OH）２とCoOOHに変化することにより腐食
が進行すると報告されている。しかしながら、腐食に関
与すると推測されるCo（OH）２とCoOOHの量を制御しよ
うとする試みは従来なされていない。
は、磁性薄膜表面に存在するCoOとCo（OH）２が酸素と
反応してCo（OH）２とCoOOHに変化することにより腐食
が進行すると報告されている。しかしながら、腐食に関
与すると推測されるCo（OH）２とCoOOHの量を制御しよ
うとする試みは従来なされていない。
（発明が解決しようとする課題） 本発明の目的は、上記従来技術の問題点に鑑み、耐蝕
性に優れたCo系合金を磁性層とする高出力の金属薄膜型
磁気記録媒体を提供することにある。
性に優れたCo系合金を磁性層とする高出力の金属薄膜型
磁気記録媒体を提供することにある。
（課題を解決するための手段） 本発明者等は上記目的を達成するべく、Co系合金薄膜
型磁気記録媒体の表面酸化物の組成、特にCo（OH）２と
CoOOHの量につき鋭意研究を重ねた結果、薄膜Ｘ線回折
法によって求められる強磁性金属薄膜中のCoOOHの存在
量と強磁性金属薄膜の耐蝕性との間に相関性を見出し、
本発明に至った。
型磁気記録媒体の表面酸化物の組成、特にCo（OH）２と
CoOOHの量につき鋭意研究を重ねた結果、薄膜Ｘ線回折
法によって求められる強磁性金属薄膜中のCoOOHの存在
量と強磁性金属薄膜の耐蝕性との間に相関性を見出し、
本発明に至った。
すなわち、本発明の金属薄膜型磁気記録媒体は非磁性
支持体および該非磁性支持体上に設けられたCoを主成分
とする強磁性金属薄膜を有するものであって、この強磁
性金属薄膜の薄膜Ｘ線回折法によって求められるCoOOH
の130面の面積比率がCoOの111面に対して0.003以上0.1
未満であることを特徴とするものである。
支持体および該非磁性支持体上に設けられたCoを主成分
とする強磁性金属薄膜を有するものであって、この強磁
性金属薄膜の薄膜Ｘ線回折法によって求められるCoOOH
の130面の面積比率がCoOの111面に対して0.003以上0.1
未満であることを特徴とするものである。
本発明において、「薄膜Ｘ線回折法」とは薄膜に対す
るＸ線の入射角を１゜以下にして行う通常の薄膜Ｘ線回
折法を意味する。
るＸ線の入射角を１゜以下にして行う通常の薄膜Ｘ線回
折法を意味する。
本発明において用いられるCoを主成分とする強磁性金
属薄膜はCo単体からなるものであってもCoを含む合金で
あってもよい。合金としては、Co−Ni,Co−Pt,Co−Ni−
Pt,Co−Fe,Co−Ni−Fe等が使用できる。さらに、これら
の組成中にAl,B,Cr等を加えることもできる。また、こ
れらの組成は酸化物、窒化物等を含むものであってもよ
い。Coと合金を形成する元素の添加量はCoの結晶構造
（FCC）を維持できる程度である。
属薄膜はCo単体からなるものであってもCoを含む合金で
あってもよい。合金としては、Co−Ni,Co−Pt,Co−Ni−
Pt,Co−Fe,Co−Ni−Fe等が使用できる。さらに、これら
の組成中にAl,B,Cr等を加えることもできる。また、こ
れらの組成は酸化物、窒化物等を含むものであってもよ
い。Coと合金を形成する元素の添加量はCoの結晶構造
（FCC）を維持できる程度である。
したがって、本発明において「CoOOHの130面」および
「CoOの111面」と称されるものは他の成分をも含み得る
ものである。例えば、80at％のCoと20at％のNiとからな
る組成の金属薄膜を有する磁気記録媒体において、本発
明の「CoOの111面」とはCoNiO（Co:Ni＝80:20）の111面
を意味する。
「CoOの111面」と称されるものは他の成分をも含み得る
ものである。例えば、80at％のCoと20at％のNiとからな
る組成の金属薄膜を有する磁気記録媒体において、本発
明の「CoOの111面」とはCoNiO（Co:Ni＝80:20）の111面
を意味する。
本発明においては、強磁性金属薄膜中の酸素含有量が
15at％以上であると特に優れた耐蝕性および磁気記録特
性が得られる。
15at％以上であると特に優れた耐蝕性および磁気記録特
性が得られる。
本発明における強磁性金属薄膜は蒸着法によって形成
することが好ましい。水平磁化方式の記録用の磁気記録
媒体の製造にはよく知られている斜め蒸着法を採用する
のが普通であるが、この場合、入射角度が大きすぎると
蒸着効率が低下して製造コスト上問題となり、入射角度
が小さすぎると抗磁力、角型比等の磁気特性が低下する
ため、その最低入射角度θminは好ましくは20〜60゜、
より好ましくは25〜50゜の範囲とする。
することが好ましい。水平磁化方式の記録用の磁気記録
媒体の製造にはよく知られている斜め蒸着法を採用する
のが普通であるが、この場合、入射角度が大きすぎると
蒸着効率が低下して製造コスト上問題となり、入射角度
が小さすぎると抗磁力、角型比等の磁気特性が低下する
ため、その最低入射角度θminは好ましくは20〜60゜、
より好ましくは25〜50゜の範囲とする。
また、酸素雰囲気中でCo合金を非磁性支持体に対して
ほぼ垂直に入射してCo−CoO系の垂直磁化薄膜とするこ
ともできる。
ほぼ垂直に入射してCo−CoO系の垂直磁化薄膜とするこ
ともできる。
強磁性金属薄膜の膜厚は好ましくは500〜5000Å、よ
り好ましくは1000〜3000Åの範囲である。
り好ましくは1000〜3000Åの範囲である。
強磁性金属薄膜の表面には走行性や耐久性を改良する
ために各種の潤滑剤を塗布することができる。潤滑剤と
しては、例えば、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸アミ
ド、金属石鹸、脂肪族アルコール、パラフィン、シリコ
ーン等、従来公知のものを使用することができる。より
具体的には、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン
酸、ステアリン酸等の炭素数12以上の飽和もしくは不飽
和脂肪酸、ステアリン酸エチル、ステアリン酸モノグリ
セド、ステアリン酸アミル等の脂肪酸エステル、カプリ
ン酸アミド、ラウリン酸アミド、ステアリン酸アミド等
の脂肪酸アミド、前記脂肪酸のZn,Pb,Ni,Co,Al,Mg,Cu等
との塩である金属石鹸、セチルアルコール、ステアリル
アルコール等の脂肪族アルコール、水素がアルキル基ま
たはフェニル基で部分置換されたポリシクロヘキサンお
よびそれらを脂肪族、脂肪族アルコール、脂肪族アミド
で変成したシリコーン等を使用することができる。
ために各種の潤滑剤を塗布することができる。潤滑剤と
しては、例えば、脂肪酸、脂肪酸エステル、脂肪酸アミ
ド、金属石鹸、脂肪族アルコール、パラフィン、シリコ
ーン等、従来公知のものを使用することができる。より
具体的には、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン
酸、ステアリン酸等の炭素数12以上の飽和もしくは不飽
和脂肪酸、ステアリン酸エチル、ステアリン酸モノグリ
セド、ステアリン酸アミル等の脂肪酸エステル、カプリ
ン酸アミド、ラウリン酸アミド、ステアリン酸アミド等
の脂肪酸アミド、前記脂肪酸のZn,Pb,Ni,Co,Al,Mg,Cu等
との塩である金属石鹸、セチルアルコール、ステアリル
アルコール等の脂肪族アルコール、水素がアルキル基ま
たはフェニル基で部分置換されたポリシクロヘキサンお
よびそれらを脂肪族、脂肪族アルコール、脂肪族アミド
で変成したシリコーン等を使用することができる。
また、各種の含フッ沿化合物は潤滑剤として優れてい
る。例えば、パーフルオロポリエーテル末端を極性基、
脂肪族基、芳香族基で変成したパーフルオロポリエーテ
ル、フルオロアルキルまたはフルオロアルケニル基を有
する脂肪酸エステルフッ素置換脂肪酸、その塩およびア
ミド、フッ素置換脂肪酸基と親水性基を側部に有するオ
リゴマー界面活性剤、フッ素置換脂肪酸基と親油性基を
側部に有するオリゴマー界面活性剤等が優れた潤滑剤で
ある。
る。例えば、パーフルオロポリエーテル末端を極性基、
脂肪族基、芳香族基で変成したパーフルオロポリエーテ
ル、フルオロアルキルまたはフルオロアルケニル基を有
する脂肪酸エステルフッ素置換脂肪酸、その塩およびア
ミド、フッ素置換脂肪酸基と親水性基を側部に有するオ
リゴマー界面活性剤、フッ素置換脂肪酸基と親油性基を
側部に有するオリゴマー界面活性剤等が優れた潤滑剤で
ある。
本発明における非磁性支持体としては、ポリエチレン
テレフタレート等のポリエステル類、ポリエチレン、ポ
リプロピレン等のポリオレフィン類、セルロース誘導
体、ビニル系樹脂、ポリカーボネート、ポリイミド等を
フィルム、シート、ディスク等の形態で使用することが
できる。
テレフタレート等のポリエステル類、ポリエチレン、ポ
リプロピレン等のポリオレフィン類、セルロース誘導
体、ビニル系樹脂、ポリカーボネート、ポリイミド等を
フィルム、シート、ディスク等の形態で使用することが
できる。
走行性を改良するために非磁性支持体の磁性薄膜とは
反対側の面にカーボンブラック等の非磁性微粉末と結合
剤樹脂とを主成分とするバックコート層を設けることも
できる。
反対側の面にカーボンブラック等の非磁性微粉末と結合
剤樹脂とを主成分とするバックコート層を設けることも
できる。
（発明の作用および効果） 本発明によれば、薄膜Ｘ線回折法によって求められる
CoOOHの130面の面積比率がCoOの111面に対して0.003以
上0.1未満となる強磁性金属薄膜を設けたことにより、
耐蝕性に優れた高出力の金属薄膜型磁気記録媒体を得る
ことが可能である。
CoOOHの130面の面積比率がCoOの111面に対して0.003以
上0.1未満となる強磁性金属薄膜を設けたことにより、
耐蝕性に優れた高出力の金属薄膜型磁気記録媒体を得る
ことが可能である。
特に、強磁性金属薄膜中の酸素含有量を15at％以上と
すると優れた耐蝕性および磁気記録特性が得られる。
すると優れた耐蝕性および磁気記録特性が得られる。
従来知られていたCo系合金を磁性薄膜とする金属薄膜
型磁気記録媒体の磁性薄膜中における薄膜Ｘ線回折法に
よって求められるCoOOHの130面の面積比率はCoOの111面
に対して0.1以上であり、本発明のような耐蝕性と高出
力とを同時に満足するような媒体は得られなかった。
型磁気記録媒体の磁性薄膜中における薄膜Ｘ線回折法に
よって求められるCoOOHの130面の面積比率はCoOの111面
に対して0.1以上であり、本発明のような耐蝕性と高出
力とを同時に満足するような媒体は得られなかった。
従来技術では得られなかった耐蝕性に優れた高出力の
金属薄膜型磁気記録媒体を得ることができる本発明はそ
の産業上の利用価値が極めて高いものである。
金属薄膜型磁気記録媒体を得ることができる本発明はそ
の産業上の利用価値が極めて高いものである。
（実 施 例） 以下、図面を参照して本発明の実施例を説明する。
本発明の金属薄膜型磁気記録媒体は第１図にその要部
の断面図を示した巻取蒸着装置を用いて以下のような方
法で製造することができる。
の断面図を示した巻取蒸着装置を用いて以下のような方
法で製造することができる。
送出巻取室１内の送出ロール５から非磁性支持体６を
送り出し、搬送ロール17により搬送し、隔壁18の近傍を
経て、冷却キャン７に這うようにして成膜室２に通した
後、隔壁19近傍を経て、搬送ロール21により搬送し、巻
取ロール８に巻き取る。
送り出し、搬送ロール17により搬送し、隔壁18の近傍を
経て、冷却キャン７に這うようにして成膜室２に通した
後、隔壁19近傍を経て、搬送ロール21により搬送し、巻
取ロール８に巻き取る。
一方、排気口３および４から排気を行い、送出巻取室
１および成膜室２内を所定の真空度にする。
１および成膜室２内を所定の真空度にする。
成膜室２内にはルツボ12を設け、この中に蒸着材料と
してCo系の強性金属13を入れる。電子銃14から電子ビー
ム15を放射して強磁性金属13を加熱、溶融、蒸発させ、
その蒸気流16を非磁性支持体６上に向ける。蒸気流16の
低入射角側は防着板９により切り取る。
してCo系の強性金属13を入れる。電子銃14から電子ビー
ム15を放射して強磁性金属13を加熱、溶融、蒸発させ、
その蒸気流16を非磁性支持体６上に向ける。蒸気流16の
低入射角側は防着板９により切り取る。
非磁性支持体６上には、蒸気流16と同時に、蒸気流16
の低入射角側である防着板９の上方に設けられたガス導
入口10および高入射角側に設けられたガス導入口11より
酸化性ガスを導入する。なお、ここでいう「入射角」と
は冷却キャン７に立てた法線と蒸気流16のなす角度であ
る。
の低入射角側である防着板９の上方に設けられたガス導
入口10および高入射角側に設けられたガス導入口11より
酸化性ガスを導入する。なお、ここでいう「入射角」と
は冷却キャン７に立てた法線と蒸気流16のなす角度であ
る。
酸化性ガスとしては、酸素、亜酸化窒素、オゾンまた
はこれらにアルゴン、窒素等の不活性ガスを混合したガ
ス等を使用することができ、酸素とアルゴンまたは窒素
との混合ガスを用いることが特に好ましい。
はこれらにアルゴン、窒素等の不活性ガスを混合したガ
ス等を使用することができ、酸素とアルゴンまたは窒素
との混合ガスを用いることが特に好ましい。
酸化性ガスの導入量は使用する非磁性支持体の幅や搬
送速度によって異なるが、多すぎても少なすぎても磁気
特性の低下を招くことがある。
送速度によって異なるが、多すぎても少なすぎても磁気
特性の低下を招くことがある。
ガス導入口11から導入される酸化性ガスの導入方向
は、その延長線と冷却キャン７の法線のなす角度が蒸気
流16の最大入射角（θmax）と最小入射角（θmin）の中
央値（（θmax＋θmin）/2）よりも大となるようにする
ことが好ましい。
は、その延長線と冷却キャン７の法線のなす角度が蒸気
流16の最大入射角（θmax）と最小入射角（θmin）の中
央値（（θmax＋θmin）/2）よりも大となるようにする
ことが好ましい。
こうして得た強磁性金属薄膜を酸化、不動態化等の目
的で表面処理することもできる。特に好ましい処理は強
磁性金属薄膜をオゾン含有雰囲気と接触させるオゾン処
理である。
的で表面処理することもできる。特に好ましい処理は強
磁性金属薄膜をオゾン含有雰囲気と接触させるオゾン処
理である。
オゾン処理においては、強磁性金属薄膜を保持する温
度、雰囲気のオゾン濃度、処理時間等を制御する必要が
ある。
度、雰囲気のオゾン濃度、処理時間等を制御する必要が
ある。
強磁性金属薄膜を保持する温度に関しては、その効果
に対する臨界点というようなものは特にないが、例え
ば、室温ではより高濃度のオゾン雰囲気でより長時間の
処理が必要となり、効率的ではない。
に対する臨界点というようなものは特にないが、例え
ば、室温ではより高濃度のオゾン雰囲気でより長時間の
処理が必要となり、効率的ではない。
耐蝕性向上の観点のみによれば温度は高いほど好まし
いが、140℃以上になるとポリエチレンテレフタレート
等、非磁性支持体の材料に悪影響が生じる可能性があ
る。また、140℃以上になるとテープの逆カッピングが
大きくなり、ヘッド当りが不良となることもある。
いが、140℃以上になるとポリエチレンテレフタレート
等、非磁性支持体の材料に悪影響が生じる可能性があ
る。また、140℃以上になるとテープの逆カッピングが
大きくなり、ヘッド当りが不良となることもある。
これらの点を考慮するとオゾン処理時の強磁性金属薄
膜を保持する温度は80〜140℃の範囲とすることが好ま
しい。
膜を保持する温度は80〜140℃の範囲とすることが好ま
しい。
また、雰囲気のオゾン濃度と処理時間については前者
をxppm、後者をｙ秒とした時にxyの積が150000以上とな
るようにすると強磁性金属薄膜の塩害に対する耐性を高
める上で特に効果的である。
をxppm、後者をｙ秒とした時にxyの積が150000以上とな
るようにすると強磁性金属薄膜の塩害に対する耐性を高
める上で特に効果的である。
オゾン処理に先立って、強磁性金属薄膜の表面は清浄
にしておく必要がある。強磁性金属薄膜の表面が汚染さ
れているとオゾンの一部が汚染物の除去に費やされ、オ
ゾン処理本体の効果が充分に得られないものと思われ
る。したがって、強磁性金属薄膜の表面の清浄度は例え
ば水の接触角で管理し、接触角60゜以下の表面状態を保
った上でオゾン処理を施すことが好ましい。
にしておく必要がある。強磁性金属薄膜の表面が汚染さ
れているとオゾンの一部が汚染物の除去に費やされ、オ
ゾン処理本体の効果が充分に得られないものと思われ
る。したがって、強磁性金属薄膜の表面の清浄度は例え
ば水の接触角で管理し、接触角60゜以下の表面状態を保
った上でオゾン処理を施すことが好ましい。
オゾン含有雰囲気としては、乾燥空気中にオゾンを含
有させた雰囲気、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性
ガス中にオゾンを含有させた雰囲気等を用いることがで
きる。
有させた雰囲気、窒素、アルゴン、ヘリウム等の不活性
ガス中にオゾンを含有させた雰囲気等を用いることがで
きる。
オゾン処理は強磁性金属薄膜をオゾナイザ等のオゾン
発生源で生成されたオゾンが導入されている処理室に一
定時間入れることによって行うことができ、バッチ処理
でも連続処理でもよい。
発生源で生成されたオゾンが導入されている処理室に一
定時間入れることによって行うことができ、バッチ処理
でも連続処理でもよい。
例えば、第２図にその要部の断面図を示すバッチ処理
装置では、ケーシング104と基板107で囲まれた処理室内
のホットプレート106上に処理試料105（非磁性支持体上
に強磁性金属薄膜を設けてなる金属薄膜型磁気記録媒
体）を強磁性金属薄膜が上を向くように固定し、ホット
プレート106からの熱によって一定温度に保持する。一
方、酸素ボンベ100からオゾナイザ102へ酸素を導入し、
オゾンを生成し、一部がオゾン化された酸素ガスを導入
管103を通じて処理試料105上に供給することによって、
強磁性金属薄膜のオゾン処理を行う。一部がオゾン化さ
れた酸素ガスは排気管108を通って触媒分解装置109に入
り、そこで分解される。
装置では、ケーシング104と基板107で囲まれた処理室内
のホットプレート106上に処理試料105（非磁性支持体上
に強磁性金属薄膜を設けてなる金属薄膜型磁気記録媒
体）を強磁性金属薄膜が上を向くように固定し、ホット
プレート106からの熱によって一定温度に保持する。一
方、酸素ボンベ100からオゾナイザ102へ酸素を導入し、
オゾンを生成し、一部がオゾン化された酸素ガスを導入
管103を通じて処理試料105上に供給することによって、
強磁性金属薄膜のオゾン処理を行う。一部がオゾン化さ
れた酸素ガスは排気管108を通って触媒分解装置109に入
り、そこで分解される。
実施例１ 第１図に示した巻取蒸着装置の排気口３および４から
排気を行い、成膜室２内の初期真空度を１×10-5Torrに
した後、送出ロール５から非磁性支持体６として厚さ10
μｍ、幅100mmのポリエチレンテレフタレートフィルム
を15m/分の速度で送り出した。ルツボ12内の強磁性金属
13としてCo:Ni＝80:20（原子比）のCo−Ni系合金を用
い、これを電子ビーム15で加熱し、蒸気流16を形成し
た。これと同時に、ガス導入口10からは600ml/分、ガス
導入口11からは1200ml/分の導入量で酸素ガスを導入
し、膜厚0.17μｍのCo−Ni系合金強磁性金属薄膜を非磁
性支持体６上に形成した。この際、蒸気流16の最低入射
角は35゜とした。
排気を行い、成膜室２内の初期真空度を１×10-5Torrに
した後、送出ロール５から非磁性支持体６として厚さ10
μｍ、幅100mmのポリエチレンテレフタレートフィルム
を15m/分の速度で送り出した。ルツボ12内の強磁性金属
13としてCo:Ni＝80:20（原子比）のCo−Ni系合金を用
い、これを電子ビーム15で加熱し、蒸気流16を形成し
た。これと同時に、ガス導入口10からは600ml/分、ガス
導入口11からは1200ml/分の導入量で酸素ガスを導入
し、膜厚0.17μｍのCo−Ni系合金強磁性金属薄膜を非磁
性支持体６上に形成した。この際、蒸気流16の最低入射
角は35゜とした。
こうして得た磁気記録媒体を80mm角の試料とし、第２
図に示したバッチ式オゾン処理装置を用いてオゾン処理
を施し、最終試料を得た。この際、処理室内のオゾン濃
度は28000ppmとし、ホットプレート106によって試料の
温度を120℃にした。オゾン処理時間は30秒であった。
図に示したバッチ式オゾン処理装置を用いてオゾン処理
を施し、最終試料を得た。この際、処理室内のオゾン濃
度は28000ppmとし、ホットプレート106によって試料の
温度を120℃にした。オゾン処理時間は30秒であった。
実施例２ バッチ式オゾン処理装置のホットプレート106の温度
を140℃とした以外は実施例１と同一の条件で最終試料
を得た。
を140℃とした以外は実施例１と同一の条件で最終試料
を得た。
実施例３ バッチ式オゾン処理装置の処理室内のオゾン濃度を98
000ppmとし、処理時間を10秒とした以外は実施例１と同
一の条件で最終試料を得た。
000ppmとし、処理時間を10秒とした以外は実施例１と同
一の条件で最終試料を得た。
比較例１ オゾン処理を施さなかった以外は実施例１と同一の条
件で最終試料を得た。
件で最終試料を得た。
比較例２ バッチ式オゾン処理装置のホットプレート106の温度
を50℃とした以外は実施例１と同一の条件で最終試料を
得た。
を50℃とした以外は実施例１と同一の条件で最終試料を
得た。
比較例３ バッチ式オゾン処理装置の処理室内のオゾン濃度を50
00ppmとし、処理時間を10秒とした以外は実施例１と同
一の条件で最終試料を得た。
00ppmとし、処理時間を10秒とした以外は実施例１と同
一の条件で最終試料を得た。
比較例４ バッチ式オゾン処理装置の処理室内のオゾン濃度を98
000ppmとし、ホットプレート106の温度を140℃とし、処
理時間を３分とした以外は実施例１と同一の条件で最終
試料を得た。
000ppmとし、ホットプレート106の温度を140℃とし、処
理時間を３分とした以外は実施例１と同一の条件で最終
試料を得た。
比較例５ 巻取蒸着装置のガス導入口10からの酸素導入量を250m
l/分、ガス導入口11からの酸素導入量を500ml/分とした
以外は実施例１と一の条件で最終試料を得た。
l/分、ガス導入口11からの酸素導入量を500ml/分とした
以外は実施例１と一の条件で最終試料を得た。
以上のようにして得た試料について、強磁性金属薄膜
中の結晶比率および酸素含有量の測定、酸素耐蝕性の評
価ならびにＹ−出力の測定を行った。
中の結晶比率および酸素含有量の測定、酸素耐蝕性の評
価ならびにＹ−出力の測定を行った。
CoOOH130面の面積比率の測定法 リガク（株）製Ｘ線回折装置に薄膜用アタッチメント
を取り付け、薄膜に対するＸ線の入射角を１゜として、
２θが35.0゜であるCoOOHの130面および２θが36.5゜で
あるCoOの111面の面積強度を測定し、以下の式より面積
強度比を算出した。
を取り付け、薄膜に対するＸ線の入射角を１゜として、
２θが35.0゜であるCoOOHの130面および２θが36.5゜で
あるCoOの111面の面積強度を測定し、以下の式より面積
強度比を算出した。
面積強度比＝a/b ただし、ここでａはCoOOHの130面の面積強度、ｂはCo
Oの111面の面積強度である。
Oの111面の面積強度である。
測定条件は以下の通りであった。
Ｘ線源:Cu Anode 50kV,180mA スキャンスピード:1/4 deg/min Time Constant:10sec 酸素含有量の測定 オージェ電子分光法により測定した。
耐蝕性の評価方法 作製した最終試料の強磁性金属薄膜上に５重量％の食
塩水をエアゾールにして３分間吹き付け、次いで60℃、
80％RHの雰囲気に２日間放置し、放置後の強磁性金属薄
膜表面の状態を肉眼観察および光学顕微鏡観察（倍率:5
0倍）して、錆の発生状況から以下のように評価点をつ
けた。
塩水をエアゾールにして３分間吹き付け、次いで60℃、
80％RHの雰囲気に２日間放置し、放置後の強磁性金属薄
膜表面の状態を肉眼観察および光学顕微鏡観察（倍率:5
0倍）して、錆の発生状況から以下のように評価点をつ
けた。
１点…ほぼ全面にわたり錆の発生が確認できる。（肉
眼） ２点…錆の発生が肉眼で確認できる。
眼） ２点…錆の発生が肉眼で確認できる。
３点…肉眼では錆の確認ができないが、光学顕微鏡で観
察するとかなりの錆の発生が確認できる。
察するとかなりの錆の発生が確認できる。
４点…肉眼では錆の確認ができないが、光学顕微鏡で観
察すると錆の発生がいくらか認められる。
察すると錆の発生がいくらか認められる。
５点…肉眼では錆は認められず、また光学顕微鏡でも錆
は殆ど認められない。
は殆ど認められない。
Ｙ−出力の測定方法 最終試料を8mm幅に裁断し、その前後にリーダーテー
プを設け、富士写真フイルム（株）製8mmVTR、FUJIX−
８を改造した装置にかけ、記録周波数7MHzにおけるＹ−
出力をスペクトル・アナライザにより測定した。この測
定においては比較例１のＹ−出力を0dBとした。測定結
果を第１表に示す。
プを設け、富士写真フイルム（株）製8mmVTR、FUJIX−
８を改造した装置にかけ、記録周波数7MHzにおけるＹ−
出力をスペクトル・アナライザにより測定した。この測
定においては比較例１のＹ−出力を0dBとした。測定結
果を第１表に示す。
第１図は本発明の実施例で用いられる巻取蒸着装置の要
部を示す断面図、 第２図は本発明の実施例で用いられるバッチ式オゾン処
理装置の要部を示す断面図である。 １……送出巻取室、２……成膜室 3,4……排気口、５……送出ロール ６……非磁性支持体、７……冷却キャン ８……巻取ロール、９……防着板 10,11……ガス導入口、12……ルツボ 13……強磁性金属、14……電子銃 15……電子ビーム、16……蒸気流、20……ヒータ 100……酸素ボンベ、102……オゾナイザ 105……処理試料、106……ホットプレート
部を示す断面図、 第２図は本発明の実施例で用いられるバッチ式オゾン処
理装置の要部を示す断面図である。 １……送出巻取室、２……成膜室 3,4……排気口、５……送出ロール ６……非磁性支持体、７……冷却キャン ８……巻取ロール、９……防着板 10,11……ガス導入口、12……ルツボ 13……強磁性金属、14……電子銃 15……電子ビーム、16……蒸気流、20……ヒータ 100……酸素ボンベ、102……オゾナイザ 105……処理試料、106……ホットプレート
Claims (2)
- 【請求項１】非磁性支持体および該非磁性支持体上に設
けられたCoを主成分とする強磁性金属薄膜を有する金属
薄膜型磁気記録媒体において、前記強磁性金属薄膜の薄
膜Ｘ線回折法によって求められるCoOOHの130面の面積比
率がCoOの111面に対して0.003以上0.1未満であることを
特徴とする金属薄膜型磁気記録媒体。 - 【請求項２】前記強磁性金属薄膜中の酸素含有量が15at
％以上であることを特徴とする請求項１記載の金属薄膜
型磁気記録媒体。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2238325A JP2623160B2 (ja) | 1990-09-07 | 1990-09-07 | 磁気記録媒体 |
| US07/755,937 US5322733A (en) | 1990-09-07 | 1991-09-06 | Magnetic recording medium |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2238325A JP2623160B2 (ja) | 1990-09-07 | 1990-09-07 | 磁気記録媒体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04119516A JPH04119516A (ja) | 1992-04-21 |
| JP2623160B2 true JP2623160B2 (ja) | 1997-06-25 |
Family
ID=17028534
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2238325A Expired - Fee Related JP2623160B2 (ja) | 1990-09-07 | 1990-09-07 | 磁気記録媒体 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5322733A (ja) |
| JP (1) | JP2623160B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06111272A (ja) * | 1992-08-14 | 1994-04-22 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
| WO2006123619A1 (ja) * | 2005-05-17 | 2006-11-23 | Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. | 多層情報記録媒体及びその製造方法 |
| JP5416188B2 (ja) * | 2011-01-17 | 2014-02-12 | 富士フイルム株式会社 | 磁気記録媒体 |
| EP2702187B1 (en) * | 2011-04-29 | 2018-11-14 | Applied Materials, Inc. | Devices and methods for passivating a flexible substrate in a coating process |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6033289B2 (ja) * | 1979-07-18 | 1985-08-02 | 松下電器産業株式会社 | 金属薄膜型磁気記録媒体 |
| JPS5779951A (en) * | 1980-11-06 | 1982-05-19 | Canon Inc | Developer |
| JPS59203238A (ja) * | 1983-04-30 | 1984-11-17 | Tdk Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| US4567116A (en) * | 1983-08-06 | 1986-01-28 | Canon Kabushiki Kaisha | Magnetic recording medium |
| JPS60160027A (ja) * | 1984-01-31 | 1985-08-21 | Sony Corp | 磁気記録媒体 |
| KR890004257B1 (ko) * | 1984-10-29 | 1989-10-28 | 니뽕 빅터 가부시끼가이샤 | 자기 기록매체 및 그 제조법 |
| JP2662777B2 (ja) * | 1985-04-15 | 1997-10-15 | 日立マクセル株式会社 | 磁気記録媒体およびその製造方法 |
-
1990
- 1990-09-07 JP JP2238325A patent/JP2623160B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1991
- 1991-09-06 US US07/755,937 patent/US5322733A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04119516A (ja) | 1992-04-21 |
| US5322733A (en) | 1994-06-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2623160B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2662777B2 (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| US4801500A (en) | Magnetic recording medium | |
| US4873154A (en) | Magnetic recording medium containing Fe, Co, N and O | |
| US4876113A (en) | Method for producing magnetic recording media | |
| JP2787790B2 (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JP2714698B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0475577B2 (ja) | ||
| JPH0582652B2 (ja) | ||
| JP2000195035A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH03201217A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS58220244A (ja) | 磁気記録媒体及びその製造方法 | |
| JP3787086B2 (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP3491942B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2861450B2 (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH04283912A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2959110B2 (ja) | 磁気テープの製造方法 | |
| JP2002269724A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS62219223A (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体 | |
| JPS63136319A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS6390032A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JPS59175031A (ja) | 磁気記録媒体の製造方法 | |
| JP2002146375A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JP2004310967A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS63241719A (ja) | 磁気記録媒体 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20080411 Year of fee payment: 11 |
|
| R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090411 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090411 Year of fee payment: 12 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100411 Year of fee payment: 13 |
|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |