JP3263142B2 - 担体上に施された酸化物コーティングの処理装置 - Google Patents
担体上に施された酸化物コーティングの処理装置Info
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Description
物コーティングの処理装置に関する。
に薄いコーティングを施すことがしばしば行われる。こ
れは合成樹脂物質の欠点を補い、または新たな特性を付
与するために行われる。
水蒸気を透過させることである。この合成樹脂フィルム
は一見、非透過性に思えるが、実際には可なりの量の分
子が透過する。このような合成樹脂フィルムを食品の包
装材料として用いた場合は、酸素が内部に透過し、食品
の香りが逃げてしまうという問題を生じさせる。
るため、合成樹脂フィルムにバリアーを施すことがすで
に知られている(T. Krug, K. Rubsa
m:Die neue “glaserne” Leb
ensmittelverpackung in “n
eue verpackung”, Huthig−V
erlag, 1991)。このマイクロ波に対して透
過性を有する透明バリアーは酸化シリコンの蒸着により
達成されている。
50nm以下の波長の光で僅かに黄色味を帯びることで
ある。この黄色味の着色は、多くの包装された食品に対
し、食欲を失うわせることになる。
のコーティングを処理し、所望の特性を付与することを
目的とする。
するため、担体を移送させるための移送手段と、処理さ
れるべき担体の酸化物コーティングの反対側に配置され
たグローカソードと、該グローカソードと該担体との間
に設けられた反応性ガス機構とを具備してなることを特
徴とする担体上に施された酸化物コーティングの処理装
置を提供するものである。
コーティングが450nm以下の波長の光の透過性を増
大し、かつ酸素、水、香りに対するSiOコーティング
のバリアー効果が損なわれないことである。さらに、こ
の発明はフィルムに対する他のコーティング、例えばM
gOまたはAl2 O3 とともに、酸素の化学量論量未満
に基づく着色効果を除去することを可能とするものであ
る。
する。
樹脂フィルムを後に処理するための装置1を模式的に示
すものであって、吸引ポート2により約10-2ないし1
0-3ミリバールに排気された容器1に、偏向ローラ3が
配置されている。この偏向ローラ3は区域5において供
給ローラ(図示しない)から送られるフィルム4を下方
に偏向させるものである。この区域からフィルムは再び
上方に偏向され、外部に排出させるため巻取りローラ
(図示しない)に供給される。区域5の反対側にカソー
ド7が配置され、これはdc電圧源8の負極に接続され
ている。dc電圧源8から電極7への電気供給ライン9
は容器1内の絶縁部10を介して案内されている。電極
7の下方には接地された暗室シールディング(50)が
設けられていて、カソード7と容器1との間にプラズマ
が発生するのを防止している。
れていると、区域5とカソード7との間にプラズマ11
が発生する。このプラズマ11は入り口12を介して容
器1内に導入された酸素/アルゴン混合物または水素/
アルゴン混合物からなる。単純なカソード7の代わりに
マグネトロンカソードを用いることもできる。
ングは、プラズマ11の影響を受け、xの値が1ないし
2の間、好ましくは1ないし1.5の間にあるSiOx
層が形成される。このコーティングに対する作用および
後の変化はプラズマ11からのイオン化または励起され
た原子または電子の衝撃によりもたらされる。これによ
り、酸素が層中に導入され、この構造に影響をもたら
す。特にイオン化または励起された酸素はSiOコーテ
ィング層中に拡散することができる。
代わりにフィルム4に施してもよい。もし、酸素/アル
ゴン混合物をポート12を介して容器1内に導入した場
合は、この層は例え化学量論量未満に基づく着色効果が
あったとしても、明るみをもたらすことができる。
ティングされ、後に図1に基づく装置による処理がなさ
れる機構を示している。ここで、ハウジング20は2つ
チャンバー21、22に壁23を介して分割されてい
る。上部のチャンバー21には供給ローラ24が配置さ
れいて、ここから未だコーティングされていない帯状の
フィルム25が、偏向ローラ26、27およびスプレッ
ダーローラ28を介してコーティングローラ29に供給
されるようになっている。
ボ30が設けられていて、これにコーティング物質、例
えばSiOが収容されている。このSiOはオーブンま
たは電子ビームにより気化され、フィルム25上に薄い
SiOx 層として堆積される。SiOx (x=1)を
1.5<x<1.7の範囲に酸化させるのに必要な酸素
量は未コーティングフィルムからコーティング源30の
熱により熱分解された水分の離脱により供給される。ル
ツボ30とコーティングローラ29との空間に、さらに
マイクロ波を導入し、コーティング31の特性を改良す
ることもできる。
フィルム25はチャンバー21に配置されたカソード7
を通過する。このカソード7とコーティングされたフィ
ルム25との間にプラズマ11が存在し、これによりフ
ィルム25のコーティング層が後処理される。この場
合、上部チャンバー21の圧力は約10-2ミリバールで
あり、下部チャンバー22の圧力は約10-4ないし10
-3ミリバールである。偏向ローラ32〜35およびスプ
レッダローラ38の上方にて処理されたフィルム31が
巻取りローラ46により巻き取られる。
位に配置させることもできる。偏向ローラ34、35の
間に配置されたこのカソード7´はそれ用のハウジング
36で囲繞させ、これにガスを導入させてもよい。この
場合、ハウジング36内は10-2ミリバールの圧力で維
持させればよい。
たフィルムの処理装置を模式的に示す断面図。
理するための装置を模式的に示す断面図。
Claims (15)
- 【請求項1】 酸化物コーティングの色を変化させるた
めにフィルム上の酸化物コーティングを処理する方法で
あって、 a)フィルム上の酸化物コーティングに向き合った側に
グローカソードを配置し、 b)グローカソードに対してフィルムを移送し、 c)グローカソードとフィルムの酸化物コーティング層
との間に反応性ガスを供給し、 d)グローカソードによって反応性ガスを含むプラズマ
を発生させ、 e)プラズマによって酸化物コーティングを処理するこ
とを特徴とする方法。 - 【請求項2】 酸化物コーティング層がSiOX層
[1.5≦X≦1.7]である請求項1に記載の方法。 - 【請求項3】 フィルムがプラスチックフィルムである
請求項1に記載の方法。 - 【請求項4】 不活性ガスを反応性ガスに混合する請求
項1に記載の方法。 - 【請求項5】 反応性ガスが酸素である請求項1に記載
の方法。 - 【請求項6】 反応性ガスがH2である請求項1に記載の
方法。 - 【請求項7】 不活性ガスがアルゴンである請求項4に
記載の方法。 - 【請求項8】 反応性ガス又は不活性ガスと反応性ガス
との混合物が10-1〜10-3mbarの圧力下におかれ
ている請求項1又は4に記載の方法。 - 【請求項9】 グローカソードが金属カソードである請
求項1に記載の方法。 - 【請求項10】 グローカソードがマグネトロンカソー
ドである請求項1に記載の方法。 - 【請求項11】 フィルムの移送がフィーダーローラー
と巻取りローラーとによって行われる請求項1に記載の
方法。 - 【請求項12】 フィルムがフィーダーローラーと巻取
りローラーとの間を偏向ローラーによって案内される請
求項11に記載の方法。 - 【請求項13】 フィルムに所定の酸化物コーティング
が付与される機構を設けることを包含する請求項1に記
載の方法。 - 【請求項14】 a)蒸発させる物質を収容した容器、 b)容器内に収容された物質を蒸発させる蒸発機構、 c)蒸発させる物質から離間させた被コーティング物質
を設けることを包含する請求項1に記載の方法。 - 【請求項15】 蒸発させる物質と被コーティング物質
との間の空間にマイクロ波を伝達するマイクロ波トラン
スミッタが設けられている請求項14に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4203631A DE4203631C2 (de) | 1992-02-08 | 1992-02-08 | Vorrichtung für die Behandlung einer Oxidschicht |
| DE4203631:3 | 1992-02-08 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05302168A JPH05302168A (ja) | 1993-11-16 |
| JP3263142B2 true JP3263142B2 (ja) | 2002-03-04 |
Family
ID=6451216
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24807292A Expired - Lifetime JP3263142B2 (ja) | 1992-02-08 | 1992-09-17 | 担体上に施された酸化物コーティングの処理装置 |
Country Status (6)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5286531A (ja) |
| EP (1) | EP0555518B1 (ja) |
| JP (1) | JP3263142B2 (ja) |
| AT (1) | ATE147443T1 (ja) |
| DE (2) | DE4203631C2 (ja) |
| DK (1) | DK0555518T3 (ja) |
Families Citing this family (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE4342463C2 (de) * | 1993-12-13 | 1997-03-27 | Leybold Ag | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von optischen Linsen mit Schutzschichten und mit optischen Schichten im Vakuum |
| DE19539986A1 (de) * | 1995-10-27 | 1997-04-30 | Leybold Ag | Vakuumbeschichtungsanlage mit einem in der Vakuumkammer angeordneten Tiegel zur Aufnahme von zu verdampfendem Material |
| DE19543781A1 (de) * | 1995-11-24 | 1997-05-28 | Leybold Ag | Vakuumbeschichtungsanlage mit einem in der Vakuumkammer angeordneten Tiegel zur Aufnahme von zu verdampfendem Material |
| DE19845268C1 (de) * | 1998-10-01 | 2000-01-05 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zum Bedampfen bandförmiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid |
| GB2361244B (en) * | 2000-04-14 | 2004-02-11 | Trikon Holdings Ltd | A method of depositing dielectric |
| DE10255822B4 (de) | 2002-11-29 | 2004-10-28 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zum Bedampfen bandförmiger Substrate mit einer transparenten Barriereschicht aus Aluminiumoxid |
| JP4826907B2 (ja) * | 2006-09-25 | 2011-11-30 | 凸版印刷株式会社 | 巻取式真空蒸着方法及び装置 |
| DE102006047472A1 (de) * | 2006-10-05 | 2008-04-10 | Fhr Anlagenbau Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur oberflächennahen Behandlung von flächigen Substraten |
| DE102006060083B3 (de) * | 2006-12-19 | 2007-11-22 | Wiberg Gmbh | Lebensmittelverpackungsfolie |
| DE102007003766B4 (de) * | 2006-12-23 | 2008-09-11 | Hvb Hoch-Vakuum-Beschichtungs Gmbh High Vacuum Coating | Transparente Barrierefolien für die Verpackungsindustrie |
| DE102008029379A1 (de) * | 2008-06-23 | 2009-08-13 | Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh | Anordnung zum Beschichten bandförmiger Foliensubstrate |
| CN103502506B (zh) * | 2011-04-29 | 2016-06-08 | 应用材料公司 | 用于在涂覆工艺中钝化柔性基板的装置和方法 |
| DE102012202086B4 (de) * | 2012-02-13 | 2015-05-21 | Fhr Anlagenbau Gmbh | Prozesswalze zur Aufnahme und Führung von bandförmigen Substraten in Vakuum-Beschichtungsanlagen |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3172124D1 (en) * | 1980-06-10 | 1985-10-10 | Matsushita Electric Industrial Co Ltd | A method of vacuum depositing a layer on a plastics film substrate |
| US4874631A (en) * | 1986-06-23 | 1989-10-17 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Multi-chamber deposition system |
| DE3641718A1 (de) * | 1986-12-06 | 1988-06-16 | Leybold Ag | Verfahren zum herstellen von wickeln aus im vakuum leitfaehig beschichteten isolierstoff-folien |
| JPH0361366A (ja) * | 1989-07-28 | 1991-03-18 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | レーザースパッタリング装置 |
| CA2040638A1 (en) * | 1990-04-20 | 1991-10-21 | Gedeon I. Deak | Barrier materials useful for packaging |
-
1992
- 1992-02-08 DE DE4203631A patent/DE4203631C2/de not_active Expired - Fee Related
- 1992-07-31 EP EP92113074A patent/EP0555518B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-07-31 DK DK92113074.6T patent/DK0555518T3/da active
- 1992-07-31 DE DE59207851T patent/DE59207851D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1992-07-31 AT AT92113074T patent/ATE147443T1/de not_active IP Right Cessation
- 1992-08-03 US US07/924,318 patent/US5286531A/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-09-17 JP JP24807292A patent/JP3263142B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| DE4203631C2 (de) | 2000-06-08 |
| EP0555518B1 (de) | 1997-01-08 |
| EP0555518A1 (de) | 1993-08-18 |
| ATE147443T1 (de) | 1997-01-15 |
| DE4203631A1 (de) | 1993-08-12 |
| DK0555518T3 (da) | 1997-03-17 |
| JPH05302168A (ja) | 1993-11-16 |
| US5286531A (en) | 1994-02-15 |
| DE59207851D1 (de) | 1997-02-20 |
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