JPH05298611A - 磁気ヘッド及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 摺動ノイズや隣接クロストークが発生するこ
となく、製造工数の低減化を図り得ることにある。 【構成】 フェライト等の強磁性体からなる一対のコア
ブロック（11）の内側面に、その内側面とほぼ直交する
側面（12a）を有する第１の溝（12）を一定の間隔でも
って刻設する工程と、上記コアブロック（11）の内側面
に高飽和磁束密度を有するセンダスト等の金属磁性膜
（13）を被着形成した上でガラスモールドする工程と、
上記コアブロック（11）の内側面の第１の溝（12）間
に、その内側面とほぼ直交する側面（15a）を有する第
２の溝（15）を刻設する工程と、一対のコアブロック
（11）をその内側面を突き合わせてガラス溶着により接
合一体化する工程とを含む。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は磁気ヘッド及びその製造
方法に関し、詳しくは、ＶＴＲ、Ｒ−ＤＡＴ装置等に搭
載されるＭＩＧ〔Ｍetal Ｉn Ｇap〕ヘッド及びその製
造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】例えば、ＶＴＲやＲ−ＤＡＴ装置等に搭
載される磁気ヘッドとして、高密度記録を実現したＭＩ
Ｇヘッドがある。この種のＭＩＧヘッドには種々のタイ
プがあり、その一つにＴＳＳ型がある。

【０００３】このＴＳＳ型のＭＩＧヘッドは、図10
（ａ）（ｂ）に示すようにフェライト等の強磁性体から
なる一対のコア（1）を接合一体化したコアチップ（2）
の媒体摺接面（3）に、高飽和磁束密度を有するセンダ
スト等の金属磁性膜（4）が両側に配置された磁気ギャ
ップｇを形成したものである。上記金属磁性膜（4）
は、媒体（m）が走行する方向〔図示矢印〕に対して傾
斜配置され、その媒体走行方向に沿う両側に非磁性体で
あるガラス（5）が配置されている。

【０００４】また、上記ＴＳＳ型のＭＩＧヘッドには、
フェライト等の強磁性体からなるコア（1）の代わり
に、図11に示すようにセラミック等の非磁性体（6）で
コアチップ（2）を構成したものもある。

【０００５】更に、ＴＳＳ型のＭＩＧヘッド以外に積層
ラミネート型ヘッドがあり、これは、図12に示すように
高飽和磁束密度を有するセンダスト等の金属磁性膜
（4）を積層したラミネート層（7）からなる一対のコア
（1）を接合一体化し、そのコアチップ（2）を媒体走行
方向に沿う両側からセラミック等の非磁性体（6）で挟
み込んだ構造で、その媒体摺接面（3）に磁気ギャップ
ｇを形成したものである。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところで、図10（ａ）
（ｂ）に示すＴＳＳ型のＭＩＧヘッドでは、媒体摺接面
（3）に強磁性体であるフェライトが露呈しており、特
に、磁気ギャップｇの近傍部位にフェライトが配置され
ているため、情報の再生時、フェライト特有の摺動ノイ
ズが発生するという問題があった。

【０００７】一方、図11に示すＴＳＳ型のＭＩＧヘッド
では、媒体摺接面（3）にフェライトが存在せず非磁性
体であるセラミックが露呈して磁気ギャップｇの近傍部
位に配置されているので、情報の再生時、摺動ノイズが
発生することはない。しかしながら、金属磁性膜（4）
が媒体走行方向に対して傾斜配置されているため、上記
再生時、磁気ギャップｇで情報を読み出している記録ト
ラックと隣接する記録トラックの情報も読み出してしま
いノイズが発生する〔隣接クロストーク〕という問題が
生じる。

【０００８】また、図12に示す積層ラミネート型ヘッド
では、媒体摺接面（3）にフェライトが存在せずセラミ
ックが露呈し、而も、ラミネート層（7）が媒体走行方
向に対して平行に配置されているので、上述したような
摺動ノイズや隣接クロストークの問題はない。しかしな
がら、上記積層ラミネート型ヘッドの製造においては、
工数が多く非常に手間がかかるという問題があった。

【０００９】そこで、本発明は上記問題点に鑑みて提案
されたもので、その目的とするところは、摺動ノイズや
隣接クロストークが発生することなく、製造工数の低減
化を図り得る磁気ヘッド及びその製造方法を提供するこ
とにある。

【００１０】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の技術的手段として、本発明に係る磁気ヘッドの製造方
法は、強磁性体からなる一対のコアブロックの内側面
に、その内側面とほぼ直交する側面を有する第１の溝を
一定の間隔でもって刻設する工程と、上記コアブロック
の内側面に高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を被着形
成した上でガラスモールドする工程と、上記コアブロッ
クの内側面の第１の溝間に、その内側面とほぼ直交する
側面を有する第２の溝を刻設する工程と、一対のコアブ
ロックをその内側面を突き合わせてガラス溶着により接
合一体化する工程とを含むことを特徴とする。

【００１１】また、上記製造方法において、コアブロッ
クの内側面に第２の溝を刻設する工程の後、コアブロッ
クを接合一体化する工程に先立って、第２の溝の内側面
に高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を被着形成する工
程を含むことも可能である。

【００１２】更に、本発明に係る磁気ヘッドは、強磁性
体からなる一対のコアを接合一体化したコアチップの媒
体摺接面に、高飽和磁束密度を有する金属磁性膜が両側
に配置された磁気ギャップを形成したものにおいて、上
記磁気ギャップ近傍の金属磁性膜が媒体走行方向に沿う
平行部を有し、その平行部の媒体走行方向両側に非磁性
体を配置したことを特徴とする。

【００１３】

【作用】本発明では、製造方法において、金属磁性膜を
形成するためにコアブロックの内側面に第１の溝を刻設
した上で、その第１の溝間に第２の溝を刻設するように
したから、第１及び第２の溝に充填されるガラスによ
り、コアチップの媒体摺接面における磁気ギャップ近傍
部位にフェライト等の強磁性体が存在しないので、摺動
ノイズが発生することはない。

【００１４】また、上記第１の溝はその側面がコアブロ
ックの内側面とほぼ直交する方向に形成され、その第１
の溝上に金属磁性膜が形成されるため、コアチップの媒
体摺接面において、磁気ギャップ近傍部位の金属磁性膜
が媒体走行方向に沿って平行に配置されるので、隣接ク
ロストークが発生することはない。

【００１５】更に、コアブロックに対する第１及び第２
の溝の刻設、金属磁性膜の被着形成、コアブロックの接
合一体化により、コアチップを製作することができるの
で、工数の低減化が図れる。

【００１６】

【実施例】本発明に係る磁気ヘッド及びその製造方法の
実施例を図１乃至図９に示して説明する。

【００１７】まず、本発明方法を詳述すると、図１に示
すようにフェライト等の強磁性体からなる一対のコアブ
ロック（11）を用意し、各コアブロック（11）の内側面
にダイサ等により第１の溝（12）を定ピッチで刻設す
る。この第１の溝（12）は、コアブロック（11）の内側
面に対してほぼ直交する側面（12a）を有する。次に、
図２に示すようにコアブロック（11）の内側面に、高飽
和磁束密度を有するセンダスト等の金属磁性膜（13）を
スパッタリングや蒸着等により被着形成し、その上で、
コアブロック（11）の内側面をガラスモールドして第１
の溝（12）にガラス（14）を充填する。そして、図３に
示すようにコアブロック（11）の内側面を金属磁性膜
（13）及びガラス（14）が第１の溝（12）のみに残存す
るまで鏡面研磨する。その後、図４に示すようにコアブ
ロック（11）の内側面の第１の溝（12）間に第２の溝
（15）を刻設する。この第２の溝（15）は、コアブロッ
ク（11）の内側面に対してほぼ直交する側面（15a）を
有する。第２の溝（15）の形成によりコアブロック（1
1）の内側面から強磁性体であるフェライトが削り込ま
れることになる。また、上記第２の溝（15）と隣接する
金属磁性膜（13）の内側端部の厚みが磁気ギャップのト
ラック幅となる。

【００１８】上述のようにして得られた一対のコアブロ
ック（11）を、第１の溝（12）と第２の溝（15）が対向
するようにその内側面を突き合わせてガラス溶着により
接合一体化する。図５に示すように接合一体化されたコ
アブロック（11）は第２の溝（15）にガラス（14）が充
填された状態となり、図中鎖線で示すように定ピッチで
スライスすることにより、図６（ａ）（ｂ）に示すコア
チップ（16）を得る。上記コアチップ（16）からなる磁
気ヘッドでは、その媒体摺接面（17）において、磁気ギ
ャップｇの近傍部位で金属磁性膜（13）の媒体走行方向
両側に非磁性体のガラス（14）が配置されてフェライト
等の強磁性体が存在せず、媒体摺接面（17）を走行する
媒体（m）とコア（18）を構成するフェライト等の強磁
性体との間にスペーシング（A）が存在するので、情報
の再生時、フェライト特有の摺動ノイズが発生すること
はない。また、上記磁気ギャップｇの媒体走行方向に沿
う近傍部位で金属磁性膜（13）がその媒体走行方向とほ
ぼ平行な平行部（19）を有するため、上記再生時、隣接
クロストークが発生することもない。更に、コアブロッ
ク（11）に対する第１及び第２の溝（12）（15）の刻
設、金属磁性膜（13）の被着形成、コアブロック（11）
の接合一体化により、コアチップ（16）を製作すること
ができるので、工数の低減化が図れる。

【００１９】上記コアチップ（16）で磁気ギャップｇの
トラック幅Ｔを大きく設定する場合には、上述した製造
方法において、第１の溝（12）に被着形成する金属磁性
膜（13）の膜厚を大きくする必要があるが、その膜厚を
大きくするには限度があり、而も、金属磁性膜（13）を
第１の溝（12）の側面に厚く形成することが困難である
ため、以下のような手段を採用する。

【００２０】即ち、コアブロック（11）に第２の溝（1
5）を刻設した段階〔図４参照〕で、図７に示すように
コアブロック（11）の内側面に金属磁性膜（13）を再度
被着形成する。これにより、第２の溝（15）の側面にも
金属磁性膜（13）が形成されることになる。その後、前
述した場合と同様、一対のコアブロック（11）をガラス
溶着により接合一体化し、図８の鎖線で示すように定ピ
ッチでスライスすることにより、図９に示すようなコア
チップ（16）を得る。このコアチップ（16）では、同図
に示すように大きなトラック幅Ｔ'を有する磁気ギャッ
プｇが媒体摺接面（17）に形成される。

【００２１】

【発明の効果】本発明によれば、媒体摺接面の磁気ギャ
ップ近傍部位にフェライト等の強磁性体が存在しないの
で、情報の再生時、フェライト特有の摺動ノイズが発生
することがない。また、上記磁気ギャップ近傍部位で
は、金属磁性膜が媒体走行方向に沿って平行に配置され
ているため、隣接クロストークが生じることもない。更
に、製造上、溝の刻設や金属磁性膜の被着形成等でコア
チップを製作することができるので、工数の低減化が図
れて製造工程の簡略化が実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明方法を説明するためのもので、コアブロ
ックに第１の溝を刻設した状態を示す部分平面図

【図２】図１のコアブロックに金属磁性膜を被着形成し
た上でガラスモールドした状態を示す部分平面図

【図３】図２のコアブロックを鏡面研磨した状態を示す
部分平面図

【図４】図３のコアブロックに第２の溝を刻設した状態
を示す部分平面図

【図５】図４の一対のコアブロックを接合一体化した状
態を示す部分平面図

【図６】（ａ）は本発明の磁気ヘッドを示す部分平面
図、（ｂ）は（ａ）のＩ−Ｉ線に沿う断面図

【図７】図４のコアブロックに金属磁性膜を再度被着形
成した状態を示す部分平面図

【図８】図７の一対のコアブロックを接合一体化した状
態を示す部分平面図

【図９】図８のコアブロックから得られたコアチップを
示すん部分平面図

【図10】（ａ）は従来のＴＳＳ型ＭＩＧヘッドの一例を
示す部分平面図、（ｂ）は（ａ）のII−II線に沿う断面
図

【図11】ＴＳＳ型ＭＩＧヘッドの他の例を示す部分平面
図

【図12】積層ラミネート型ヘッドの一例を示す部分平面
図

【符号の説明】

11 コアブロック 12 第１の溝 12a 第１の溝側面 13 金属磁性膜 14 非磁性体〔ガラス〕 15 第２の溝 15a 第２の溝側面 16 コアチップ 17 媒体摺接面 18 コア 19 平行部 ｇ 磁気ギャップ

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 強磁性体からなる一対のコアブロックの
   内側面に、その内側面とほぼ直交する側面を有する第１
   の溝を一定の間隔でもって刻設する工程と、上記コアブ
   ロックの内側面に高飽和磁束密度を有する金属磁性膜を
   被着形成した上でガラスモールドする工程と、上記コア
   ブロックの内側面の第１の溝間に、その内側面とほぼ直
   交する側面を有する第２の溝を刻設する工程と、一対の
   コアブロックをその内側面を突き合わせてガラス溶着に
   より接合一体化する工程とを含むことを特徴とする磁気
   ヘッドの製造方法。
2. 【請求項２】 コアブロックの内側面に第２の溝を刻設
   する工程の後、コアブロックを接合一体化する工程に先
   立って、第２の溝の内側面に高飽和磁束密度を有する金
   属磁性膜を被着形成する工程を含むことを特徴とする請
   求項１記載の磁気ヘッドの製造方法。
3. 【請求項３】 強磁性体からなる一対のコアを接合一体
   化したコアチップの媒体摺接面に、高飽和磁束密度を有
   する金属磁性膜が両側に配置された磁気ギャップを形成
   したものにおいて、上記磁気ギャップ近傍の金属磁性膜
   が媒体走行方向に沿う平行部を有し、その平行部の媒体
   走行方向両側に非磁性体を配置したことを特徴とする磁
   気ヘッド。