JPH05287008A - 光重合性組成物及びその重合方法 - Google Patents
光重合性組成物及びその重合方法Info
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- JPH05287008A JPH05287008A JP8713192A JP8713192A JPH05287008A JP H05287008 A JPH05287008 A JP H05287008A JP 8713192 A JP8713192 A JP 8713192A JP 8713192 A JP8713192 A JP 8713192A JP H05287008 A JPH05287008 A JP H05287008A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】反り、面振れ量及び面振れ加速度などの機械精
度に優れた光ディスク基板として好適な重合体の製造原
料である光重合性組成物及びその重合方法を提供する。 【構成】（ａ）ラジカル重合性単量体１００重量部、
（ｂ）吸収スペクトル中の３６５ｎｍ及び４０５ｎｍに
おけるモル吸光係数をそれぞれε365及びε405としたと
き、１．６≦ε365／ε405≦２．０を満足する光重合開
始剤０．１〜１０重量部を含んでなる光重合性組成物。
該光重合性組成物に、少なくとも３６５ｎｍ及び４０５
ｎｍにスペクトルを有する光を照射して重合する重合方
法。
度に優れた光ディスク基板として好適な重合体の製造原
料である光重合性組成物及びその重合方法を提供する。 【構成】（ａ）ラジカル重合性単量体１００重量部、
（ｂ）吸収スペクトル中の３６５ｎｍ及び４０５ｎｍに
おけるモル吸光係数をそれぞれε365及びε405としたと
き、１．６≦ε365／ε405≦２．０を満足する光重合開
始剤０．１〜１０重量部を含んでなる光重合性組成物。
該光重合性組成物に、少なくとも３６５ｎｍ及び４０５
ｎｍにスペクトルを有する光を照射して重合する重合方
法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、反り角、面振れ量及び
面振れ加速度などの機械精度に優れた重合体の製造原料
として好適な重合性組成物及びその重合方法に関するも
のである。
面振れ加速度などの機械精度に優れた重合体の製造原料
として好適な重合性組成物及びその重合方法に関するも
のである。
【０００２】
【従来の技術】光ディスク基板の製造方法として、少な
くとも一方が光透過性物質よりなる一対の成形型に光重
合性単量体を注入し、光透過性物質よりなる一方の型を
通して光を照射して重合させ、光ディスク基板を得る方
法がある。
くとも一方が光透過性物質よりなる一対の成形型に光重
合性単量体を注入し、光透過性物質よりなる一方の型を
通して光を照射して重合させ、光ディスク基板を得る方
法がある。
【０００３】この方法は、比較的低粘度の光重合性単量
体を無圧力下又は低圧力下で重合させるため、分子配向
が起こりにくく、光学的に均一であるが、基板の反り
角、面振れ量及び面振れ加速度などの機械精度に劣ると
いう問題がある。
体を無圧力下又は低圧力下で重合させるため、分子配向
が起こりにくく、光学的に均一であるが、基板の反り
角、面振れ量及び面振れ加速度などの機械精度に劣ると
いう問題がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】そこで、本発明の目的
は、反り角、面振れ量及び面振れ加速度などの機械精度
に優れた光ディスク基板の製造原料として好適な光重合
性組成物を提供することにある。
は、反り角、面振れ量及び面振れ加速度などの機械精度
に優れた光ディスク基板の製造原料として好適な光重合
性組成物を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の問
題について鋭意研究を重ねた結果、特定の光重合開始剤
を配合した光重合性組成物を使用することにより、上記
目的を達成することに成功し、本発明を提案するに至っ
た。
題について鋭意研究を重ねた結果、特定の光重合開始剤
を配合した光重合性組成物を使用することにより、上記
目的を達成することに成功し、本発明を提案するに至っ
た。
【０００６】すなわち、本発明は、 （ａ）ラジカル重合性単量体及び／又はその部分重合体 １００重量部 （ｂ）吸収スペクトル中の３６５ｎｍ及び４０５ｎｍにおけるモル吸光係数をそ れぞれε365及びε405としたとき、下記式 １．６≦ε365／ε405≦２．０ を満足する光重合開始剤 ０．１〜１０重量部 を含んでなる光重合性組成物である。
【０００７】本発明において用いられるラジカル重合性
単量体は、ラジカル重合性を示す公知の化合物を何等制
限なく用いることができる。例えば、スチレン、ｐ−メ
チルスチレン、α−メチルスチレン、クロロメチルスチ
レン、フルオロスチレン、ブロモスチレン、ブチルスチ
レン、trans−スチルベン、ジビニルベンゼンなどのス
チレン及びその誘導体；メチルメタクリレ−ト、エチル
メタクリレ−ト、ブチルメタクリレ−ト、フェニルメタ
クリレ−ト、シクロヘキシルメタクリレ−ト、ボルニル
メタクリレ−ト、イソボルニルメタクリレ−ト、トリシ
クロデカニルメタクリレ−ト、メチルアクリレ−ト、エ
チルアクリレ−ト、エチレングリコ−ルジメタクリレ−
ト、ブタンジオ−ルジアクリレ−ト、ビスフェノ−ルＡ
ジメタクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパントリメタク
リレ−ト、ペンタエリスリト−ルトリアクリレ−トなど
のメタクリル酸エステル及びアクリル酸エステル；無水
マレイン酸、フェニル無水マレイン酸などのマレイン酸
及びその誘導体；Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−フェニル
マレイミドなどのマレイミド誘導体；下記一般式（Ｉ）
で表される分子内に少なくとも２個以上のビニルフェニ
ル基を有する化合物（以下、ＶＰ化合物と略記する）な
どが挙げられる。
単量体は、ラジカル重合性を示す公知の化合物を何等制
限なく用いることができる。例えば、スチレン、ｐ−メ
チルスチレン、α−メチルスチレン、クロロメチルスチ
レン、フルオロスチレン、ブロモスチレン、ブチルスチ
レン、trans−スチルベン、ジビニルベンゼンなどのス
チレン及びその誘導体；メチルメタクリレ−ト、エチル
メタクリレ−ト、ブチルメタクリレ−ト、フェニルメタ
クリレ−ト、シクロヘキシルメタクリレ−ト、ボルニル
メタクリレ−ト、イソボルニルメタクリレ−ト、トリシ
クロデカニルメタクリレ−ト、メチルアクリレ−ト、エ
チルアクリレ−ト、エチレングリコ−ルジメタクリレ−
ト、ブタンジオ−ルジアクリレ−ト、ビスフェノ−ルＡ
ジメタクリレ−ト、トリメチロ−ルプロパントリメタク
リレ−ト、ペンタエリスリト−ルトリアクリレ−トなど
のメタクリル酸エステル及びアクリル酸エステル；無水
マレイン酸、フェニル無水マレイン酸などのマレイン酸
及びその誘導体；Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−フェニル
マレイミドなどのマレイミド誘導体；下記一般式（Ｉ）
で表される分子内に少なくとも２個以上のビニルフェニ
ル基を有する化合物（以下、ＶＰ化合物と略記する）な
どが挙げられる。
【０００８】
【化１】
【０００９】（但し、Ｒ1はｎ価の有機基であり、Ｒ2は
水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基であり、ｎは２
以上の整数である。）上記したラジカル重合性単量体
は、単独で用いても良いし、二種類以上を混合して用い
ても良い。また、上記したラジカル重合性単量体の部分
重合体を単独で、或いは、部分重合体とラジカル重合性
単量体とを混合して使用することもできる。本発明で使
用されるラジカル重合性単量体の部分重合体は、上記し
たラジカル重合性単量体を公知の方法で部分重合するこ
とによって得ることができる。
水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基であり、ｎは２
以上の整数である。）上記したラジカル重合性単量体
は、単独で用いても良いし、二種類以上を混合して用い
ても良い。また、上記したラジカル重合性単量体の部分
重合体を単独で、或いは、部分重合体とラジカル重合性
単量体とを混合して使用することもできる。本発明で使
用されるラジカル重合性単量体の部分重合体は、上記し
たラジカル重合性単量体を公知の方法で部分重合するこ
とによって得ることができる。
【００１０】本発明において、機械精度及び耐熱性に優
れ、また、複屈折及び吸水率が小さい光ディスク基板を
得るためには、特にスチレンまたはその誘導体を１０〜
５０重量％、一般式（Ｉ）で示されるＶＰ化合物を３０
〜７０重量％、及びアクリル酸エステルまたはメタクリ
ル酸エステルを０〜５０重量％よりなる単量体組成とす
ることが好ましい。
れ、また、複屈折及び吸水率が小さい光ディスク基板を
得るためには、特にスチレンまたはその誘導体を１０〜
５０重量％、一般式（Ｉ）で示されるＶＰ化合物を３０
〜７０重量％、及びアクリル酸エステルまたはメタクリ
ル酸エステルを０〜５０重量％よりなる単量体組成とす
ることが好ましい。
【００１１】次に、光重合開始剤は、吸収スペクトル中
の３６５ｎｍ及び４０５ｎｍにおけるモル吸光係数をそ
れぞれε365及びε405としたとき、次式（１） １．６≦ε365／ε405≦２．０ （１） を満足する化合物である。このような光重合開始剤を使
用することによって、光重合して得た重合体の反り角、
面振れ量及び面振れ加速度などの機械精度を向上させる
ことができる。上記のε365及びε405の関係は、さらに
機械制度の良好な重合体を得ようとすれば、１．６５≦
ε365／ε405≦１．９０を満足することが好ましい。
の３６５ｎｍ及び４０５ｎｍにおけるモル吸光係数をそ
れぞれε365及びε405としたとき、次式（１） １．６≦ε365／ε405≦２．０ （１） を満足する化合物である。このような光重合開始剤を使
用することによって、光重合して得た重合体の反り角、
面振れ量及び面振れ加速度などの機械精度を向上させる
ことができる。上記のε365及びε405の関係は、さらに
機械制度の良好な重合体を得ようとすれば、１．６５≦
ε365／ε405≦１．９０を満足することが好ましい。
【００１２】光重合開始剤は、一種で上記の特定の関係
を有する化合物を使用しても良く、また、一種で上記の
関係を満足できないときには、上記の関係を満たすよう
に二種以上の化合物を混合して使用してもよい。しか
し、現在のところ、一種で上記式の関係を満足する光重
合開始剤は見当らないために、一般には二種以上を混合
する方法が採用される。
を有する化合物を使用しても良く、また、一種で上記の
関係を満足できないときには、上記の関係を満たすよう
に二種以上の化合物を混合して使用してもよい。しか
し、現在のところ、一種で上記式の関係を満足する光重
合開始剤は見当らないために、一般には二種以上を混合
する方法が採用される。
【００１３】二種以上を混合することによって、上記の
関係を満たすことのできる光重合開始剤としては、例え
ば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイ
ソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類；ベンジル
ジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール等のベン
ジルケタール類；１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、４−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メ
チル−プロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル
−プロピオフェノン等のα−ヒドロキシアセトフェノン
類；２−メチル−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−
モノフォリノ−１−プロパノン等のα−アミノアセトフ
ェノン類；ベンジル等のα−ジカルボニル類；ベンゾフ
ェノン、アセトフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチ
ル等の芳香族ケトン類；チオキサントン、２，４−ジエ
チルチオキサントン等のチオキサントン類；４，４′−
ビスジメチルアミノベンゾフェノン、４，４′−ビスジ
エチルアミノベンゾフェノン、ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチル−
アミノ−アセトフェノン等の芳香族アミン類；ｐ−ｔ−
ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジク
ロロアセトフェノン等のクロロアセトフェノン類；２，
４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィ
ンオキシド、２，４−ジクロルベンゾイル−ジフェニル
フォスフィンオキシド、トルイル−ジフェニルフォスフ
ィンオキシド等のアシルフォスフィンオキシド類；Ｆｅ
−芳香族化合物等の光カチオン系開始剤などを挙げるこ
とができる。二種以上を混合することによって、上記の
関係を満たすことのできる光重合開始剤を使用する場合
には、上記の関係を満足するようにその混合比を適当に
選べばよい。
関係を満たすことのできる光重合開始剤としては、例え
ば、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイ
ソブチルエーテル等のベンゾインエーテル類；ベンジル
ジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール等のベン
ジルケタール類；１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニ
ルケトン、４−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メ
チル−プロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル
−プロピオフェノン等のα−ヒドロキシアセトフェノン
類；２−メチル−[４−（メチルチオ）フェニル]−２−
モノフォリノ−１−プロパノン等のα−アミノアセトフ
ェノン類；ベンジル等のα−ジカルボニル類；ベンゾフ
ェノン、アセトフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチ
ル等の芳香族ケトン類；チオキサントン、２，４−ジエ
チルチオキサントン等のチオキサントン類；４，４′−
ビスジメチルアミノベンゾフェノン、４，４′−ビスジ
エチルアミノベンゾフェノン、ｐ−Ｎ，Ｎ−ジメチル−
アミノ−アセトフェノン等の芳香族アミン類；ｐ−ｔ−
ブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジク
ロロアセトフェノン等のクロロアセトフェノン類；２，
４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィ
ンオキシド、２，４−ジクロルベンゾイル−ジフェニル
フォスフィンオキシド、トルイル−ジフェニルフォスフ
ィンオキシド等のアシルフォスフィンオキシド類；Ｆｅ
−芳香族化合物等の光カチオン系開始剤などを挙げるこ
とができる。二種以上を混合することによって、上記の
関係を満たすことのできる光重合開始剤を使用する場合
には、上記の関係を満足するようにその混合比を適当に
選べばよい。
【００１４】上記の光重合性開始剤の配合量は、ラジカ
ル重合性単量体及び／又はその部分重合体１００重量部
に対して０．１〜１０重量部であり、０．２〜５重量部
の範囲であることが好ましい。光重合性開始剤の配合量
が０．１重量部未満のときはラジカル重合性単量体及び
／又はその部分重合体の硬化速度が遅くなりすぎ、実用
的ではない。また、１０重量部をこえるときは得られた
重合体の耐熱性が低下したり、黄変したりするために好
ましくない。
ル重合性単量体及び／又はその部分重合体１００重量部
に対して０．１〜１０重量部であり、０．２〜５重量部
の範囲であることが好ましい。光重合性開始剤の配合量
が０．１重量部未満のときはラジカル重合性単量体及び
／又はその部分重合体の硬化速度が遅くなりすぎ、実用
的ではない。また、１０重量部をこえるときは得られた
重合体の耐熱性が低下したり、黄変したりするために好
ましくない。
【００１５】上記の光重合性組成物には、増感剤、酸化
防止剤、光安定剤、離型剤、帯電防止剤などを混合する
ことができる。
防止剤、光安定剤、離型剤、帯電防止剤などを混合する
ことができる。
【００１６】次に、上記光重合性組成物を少なくとも一
方が光透過性物質よりなる一対の成形型に注入し、光透
過性物質よりなる一方の型を通して、少なくとも３６５
ｎｍ及び４０５ｎｍにスペクトルを有する光を照射して
重合を行う。少なくとも３６５ｎｍ及び４０５ｎｍにス
ペクトルを有する光としては特に制限はないが、高圧水
銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、
クセノンランプなどの光源から発せられる光を好適に使
用することができる。
方が光透過性物質よりなる一対の成形型に注入し、光透
過性物質よりなる一方の型を通して、少なくとも３６５
ｎｍ及び４０５ｎｍにスペクトルを有する光を照射して
重合を行う。少なくとも３６５ｎｍ及び４０５ｎｍにス
ペクトルを有する光としては特に制限はないが、高圧水
銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、
クセノンランプなどの光源から発せられる光を好適に使
用することができる。
【００１７】また、成形型内での重合の条件は、特に制
限されるものではないが、通常は、温度２０〜１８０
℃、好ましくは４０〜１４０℃、圧力０．１〜１０ｋｇ
／ｃｍ2、好ましくは０．５〜５ｋｇ／ｃｍ2の条件を採
用することが好ましい。
限されるものではないが、通常は、温度２０〜１８０
℃、好ましくは４０〜１４０℃、圧力０．１〜１０ｋｇ
／ｃｍ2、好ましくは０．５〜５ｋｇ／ｃｍ2の条件を採
用することが好ましい。
【００１８】重合時間は、光重合性単量体の組成、光重
合開始剤の種類や量、重合温度及び光の強度等により異
なるが、通常１分〜６０分程度である。
合開始剤の種類や量、重合温度及び光の強度等により異
なるが、通常１分〜６０分程度である。
【００１９】さらに、成形型より取りだした重合体に光
又は放射線を照射して重合をさらに進めたり、熱により
常圧下、又は減圧下でアニ−リングを行ってもよい。
又は放射線を照射して重合をさらに進めたり、熱により
常圧下、又は減圧下でアニ−リングを行ってもよい。
【００２０】
【発明の効果】本発明の光重合成組成物を使用すること
により、反り角、面振れ量及び面振れ加速度などの機械
精度に優れた重合体を得ることができる。この重合体
は、機械精度に優れているために、光ディスク基板とし
て好適に使用できる。
により、反り角、面振れ量及び面振れ加速度などの機械
精度に優れた重合体を得ることができる。この重合体
は、機械精度に優れているために、光ディスク基板とし
て好適に使用できる。
【００２１】
【実施例】本発明をさらに具体的に説明するため、以下
実施例および比較例を掲げて説明するが、本発明はこれ
らの実施例に限定されるものではない。
実施例および比較例を掲げて説明するが、本発明はこれ
らの実施例に限定されるものではない。
【００２２】実施例１ スチレン２０重量部、１，１−ビス（４−ビニルベンジ
ルオキシフェニル）−１−フェニルエタン６０重量部及
びイソボルニルメタクリレ−ト２０重量部に、光重合開
始剤として２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン０．３２重量部及び２，４，６−トリメチルベン
ゾイン−ジフェニルフォスフィンオキシド０．６８重量
部を混合した。この時の光重合開始剤の３６５ｎｍ及び
４０５ｎｍにおけるモル吸光係数の比ε365／ε405は
１．６９であった。
ルオキシフェニル）−１−フェニルエタン６０重量部及
びイソボルニルメタクリレ−ト２０重量部に、光重合開
始剤として２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフ
ェノン０．３２重量部及び２，４，６−トリメチルベン
ゾイン−ジフェニルフォスフィンオキシド０．６８重量
部を混合した。この時の光重合開始剤の３６５ｎｍ及び
４０５ｎｍにおけるモル吸光係数の比ε365／ε405は
１．６９であった。
【００２３】上記混合物を５５℃に保たれた一方がパイ
レックスガラス製の可動金型で、もう一方がスタンパ−
を装着した金属製の固定金型からなる一対の成形金型に
注入し、パイレックスガラス製の可動金型の上方から５
００Ｗ超高圧水銀ランプにて光重合性組成物表面に６．
５ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を照射し、重合を開始した。照
射を開始して１分後、可動金型側から２ｋｇ／ｃｍ2の
圧力をかけ、１０分間重合を行った。その後、光ディス
ク基板を成形金型より取り出した。
レックスガラス製の可動金型で、もう一方がスタンパ−
を装着した金属製の固定金型からなる一対の成形金型に
注入し、パイレックスガラス製の可動金型の上方から５
００Ｗ超高圧水銀ランプにて光重合性組成物表面に６．
５ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を照射し、重合を開始した。照
射を開始して１分後、可動金型側から２ｋｇ／ｃｍ2の
圧力をかけ、１０分間重合を行った。その後、光ディス
ク基板を成形金型より取り出した。
【００２４】得られた光ディスク基板を光ディスク基板
機械特性測定装置にて、１８００ｒｐｍの速度で回転し
ながら機械特性を測定した。その結果、光ディスク基板
の反り角は１．２ｍｒａｄ、面振れ量は４９μｍ及び面
振れ加速度は１４ｍ／ｓ2であった。
機械特性測定装置にて、１８００ｒｐｍの速度で回転し
ながら機械特性を測定した。その結果、光ディスク基板
の反り角は１．２ｍｒａｄ、面振れ量は４９μｍ及び面
振れ加速度は１４ｍ／ｓ2であった。
【００２５】実施例２，３及び比較例１〜３ ２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンと
２，４，６−トリメチルベンゾイン−ジフェニルフォス
フィンオキシドの配合量を表１に示す値にした以外は実
施例１と同じ条件で光ディスク基板を成形した。得られ
た光ディスク基板の機械特性を表１に示した。
２，４，６−トリメチルベンゾイン−ジフェニルフォス
フィンオキシドの配合量を表１に示す値にした以外は実
施例１と同じ条件で光ディスク基板を成形した。得られ
た光ディスク基板の機械特性を表１に示した。
【００２６】
【表１】
【００２７】実施例４ 光重合開始剤を２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１
−（モルフィリノフェニル）−ブタン−１−オン０．４
重量部、２，４，６−トリメチルベンゾイン−ジフェニ
ルフォスフィンオキシド１．６重量部とした以外は実施
例１と同様にして光ディスク基板を成形した。なお、こ
の時の光重合開始剤の３６５ｎｍ及び４０５ｎｍにおけ
るモル吸光係数の比ε365／ε405は１．８８であった。
得られた基板の反り角は２．１ｍｒａｄ、面振れ量は８
２μｍ及び面振れ加速度は１９ｍ／ｓ2であった。
−（モルフィリノフェニル）−ブタン−１−オン０．４
重量部、２，４，６−トリメチルベンゾイン−ジフェニ
ルフォスフィンオキシド１．６重量部とした以外は実施
例１と同様にして光ディスク基板を成形した。なお、こ
の時の光重合開始剤の３６５ｎｍ及び４０５ｎｍにおけ
るモル吸光係数の比ε365／ε405は１．８８であった。
得られた基板の反り角は２．１ｍｒａｄ、面振れ量は８
２μｍ及び面振れ加速度は１９ｍ／ｓ2であった。
【００２８】実施例５ 光源として、メタルハライドランプを使用し、光重合性
組成物表面に１２ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を照射した以外
は実施例１と同様にして光ディスク基板を成形した。得
られた基板の反り角は１．８ｍｒａｄ、面振れ量は９２
μｍ及び面振れ加速度は１８ｍ／ｓ2であった。
組成物表面に１２ｍＷ／ｃｍ2の紫外線を照射した以外
は実施例１と同様にして光ディスク基板を成形した。得
られた基板の反り角は１．８ｍｒａｄ、面振れ量は９２
μｍ及び面振れ加速度は１８ｍ／ｓ2であった。
【００２９】実施例６ ラジカル重合性単量体として、スチレン４５重量部、
１，１−ビス（４−ビニルベンジルオキシフェニル）−
１−フェニルエタン５５重量部とした以外は実施例１と
同様にして、光ディスク基板を成形した。得られた基板
の反り角は１．２．ｍｒａｄ、面振れ量は８０μｍ及び
面振れ加速度は１９ｍ／ｓ2であった。
１，１−ビス（４−ビニルベンジルオキシフェニル）−
１−フェニルエタン５５重量部とした以外は実施例１と
同様にして、光ディスク基板を成形した。得られた基板
の反り角は１．２．ｍｒａｄ、面振れ量は８０μｍ及び
面振れ加速度は１９ｍ／ｓ2であった。
【００３０】実施例７ 実施例１で得られた基板を減圧乾燥器に入れ、１Ｔｏｒ
ｒの減圧下、１３５℃で４時間アニ−リングを行った。
得られた基板の反り角は２．４ｍｒａｄ、面振れ量は６
２μｍ及び面振れ加速度は１８ｍ／ｓ2であった。
ｒの減圧下、１３５℃で４時間アニ−リングを行った。
得られた基板の反り角は２．４ｍｒａｄ、面振れ量は６
２μｍ及び面振れ加速度は１８ｍ／ｓ2であった。
【００３１】比較例４ 光重合開始剤をアセトフェノン１．０重量部とし、光照
射を開始してから５分後に可動金型側から２ｋｇ／ｃｍ
2の圧力をかけ、３０分間重合を行った以外は、比較例
１と同様にして光ディスク基板を成形した。なお、この
ときの光重合開始剤の３６５ｎｍ及び４０５ｎｍにおけ
るモル吸光係数の比ε365／ε405は２．５０であった。
得られた基板の反り角は１１ｍｒａｄ、面振れ量は３４
２μｍ及び面振れ加速度は５６ｍ／ｓ2であった。
射を開始してから５分後に可動金型側から２ｋｇ／ｃｍ
2の圧力をかけ、３０分間重合を行った以外は、比較例
１と同様にして光ディスク基板を成形した。なお、この
ときの光重合開始剤の３６５ｎｍ及び４０５ｎｍにおけ
るモル吸光係数の比ε365／ε405は２．５０であった。
得られた基板の反り角は１１ｍｒａｄ、面振れ量は３４
２μｍ及び面振れ加速度は５６ｍ／ｓ2であった。
【００３２】比較例５ 比較例１で得られた基板を減圧乾燥器に入れ、１Ｔｏｒ
ｒの減圧下、１３５℃で４時間アニ−リングを行った。
得られた基板の反り角は７．８ｍｒａｄ、面振れ量は２
３７μｍ及び面振れ加速度は３４ｍ／ｓ2であった。
ｒの減圧下、１３５℃で４時間アニ−リングを行った。
得られた基板の反り角は７．８ｍｒａｄ、面振れ量は２
３７μｍ及び面振れ加速度は３４ｍ／ｓ2であった。
Claims (2)
- 【請求項１】（ａ）ラジカル重合性単量体及び／又はそ
の部分重合体 １００重量部 （ｂ）吸収スペクトル中の３６５ｎｍ及び４０５ｎｍに
おけるモル吸光係数をそれぞれε365及びε405としたと
き、下記式 １．６≦ε365／ε405≦２．０ を満足する光重合開始剤
０．１〜１０重量部 を含んでなる光重合性組成物。 - 【請求項２】請求項１記載の光重合性組成物に少なくと
も３６５ｎｍ及び４０５ｎｍにスペクトルを有する光を
照射することを特徴とする光重合性組成物の重合方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8713192A JPH05287008A (ja) | 1992-04-08 | 1992-04-08 | 光重合性組成物及びその重合方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8713192A JPH05287008A (ja) | 1992-04-08 | 1992-04-08 | 光重合性組成物及びその重合方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05287008A true JPH05287008A (ja) | 1993-11-02 |
Family
ID=13906414
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8713192A Pending JPH05287008A (ja) | 1992-04-08 | 1992-04-08 | 光重合性組成物及びその重合方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05287008A (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58171406A (ja) * | 1982-03-31 | 1983-10-08 | Matsushita Electric Works Ltd | 光硬化性樹脂組成物 |
| JPS59207903A (ja) * | 1983-05-06 | 1984-11-26 | チバ−ガイギ− アクチエンゲゼルシヤフト | 液状光開始剤混合物 |
| JPS60152505A (ja) * | 1984-01-20 | 1985-08-10 | Showa Denko Kk | 光硬化性組成物 |
| JPH021401A (ja) * | 1988-01-20 | 1990-01-05 | Thera G Fuer Patentverwert Mbh | 歯科材料 |
| JPH03160001A (ja) * | 1989-10-27 | 1991-07-10 | Ciba Geigy Ag | 光重合性組成物の製造方法 |
-
1992
- 1992-04-08 JP JP8713192A patent/JPH05287008A/ja active Pending
Patent Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS58171406A (ja) * | 1982-03-31 | 1983-10-08 | Matsushita Electric Works Ltd | 光硬化性樹脂組成物 |
| JPS59207903A (ja) * | 1983-05-06 | 1984-11-26 | チバ−ガイギ− アクチエンゲゼルシヤフト | 液状光開始剤混合物 |
| JPS60152505A (ja) * | 1984-01-20 | 1985-08-10 | Showa Denko Kk | 光硬化性組成物 |
| JPH021401A (ja) * | 1988-01-20 | 1990-01-05 | Thera G Fuer Patentverwert Mbh | 歯科材料 |
| JPH03160001A (ja) * | 1989-10-27 | 1991-07-10 | Ciba Geigy Ag | 光重合性組成物の製造方法 |
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